JP2005097350A - 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 - Google Patents
封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005097350A JP2005097350A JP2003329676A JP2003329676A JP2005097350A JP 2005097350 A JP2005097350 A JP 2005097350A JP 2003329676 A JP2003329676 A JP 2003329676A JP 2003329676 A JP2003329676 A JP 2003329676A JP 2005097350 A JP2005097350 A JP 2005097350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- fine particles
- kneaded
- molding material
- resin molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【課題】 エポキシ樹脂成形材料の製造方法において、圧縮成形前の混練粉砕品が保管中に凝集するのを防いで供給を容易にし、凝集物によるタブレットの不具合、該タブレットで封止した電子部品装置の不具合を低減する。
【解決手段】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有し、
前記無機質微粒子の添加工程として、前記混練粉砕品を得る工程と混合する工程との間に前記微粒子を添加する工程(A)、冷却物を得る工程と粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程(B)、冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程(C)の内のいずれか一つを設けた封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
【選択図】 なし
【解決手段】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有し、
前記無機質微粒子の添加工程として、前記混練粉砕品を得る工程と混合する工程との間に前記微粒子を添加する工程(A)、冷却物を得る工程と粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程(B)、冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程(C)の内のいずれか一つを設けた封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
【選択図】 なし
Description
本発明は、封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置に関する。
一般に、半導体など電子部品装置の封止用エポキシ樹脂成形材料は、電気特性、耐熱性、量産性等に優れるエポキシ樹脂とその硬化剤、触媒、離型剤、難燃剤、着色剤等の添加剤及び、組成比で70〜97重量%を占める充填剤から構成されている。最近の電子、電気機器の高性能、小型薄型化の動向に対しパッケージの小型薄型化、面付け実装方式が主流となってきており、パッケージの耐リフロークラック性の向上が求められるようになった。そこでリードフレームとチップとの接着性向上、低吸湿化そして高強度化を図るため、エポキシ樹脂の低分子化、フィラーの高充填化が行われるようになってきている(特許文献1参照。)。
一般に、封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法としては、次のような工程がとられている。まず、樹脂成形材料を構成する成分を所定量配合し、混合後、ロール、1軸混練機、1軸混練機とロールの組み合わせ、または2軸混練機により混練して混練物を得る。この溶融した混練物をシート状に圧延し、冷却固化させて冷却物を得る。この冷却物を粉砕した後、円柱状のタブレットに圧縮成形する。
タブレットへの圧縮成形工程はタブレットの重量、密度などの仕様により、能力が大きく変化するため、その前の混練、冷却及び粉砕工程と直結することは好ましくなく、通常、圧縮成形工程前には一時保管の工程が組込まれる。保管量としては、ハンドリングの手間から考えると量が多いほどよく、又、ロットの管理をするため配合のバッチに合せて、数百kg〜数トンの単位で保管することが多い。
特開平09−003167号公報
しかしながら、前述のエポキシ樹脂の低分子化により、この一時保管の際、冷却後に粉砕された混練物(以下、混練粉砕品という。)は付着し易くなっており、容器に数百kg〜数トンの規模で保管された混練粉砕品は保管中にその自重で凝集してしまうという生産上の問題を発生するようになった。凝集が発生すると、容器からの自然排出が困難となるため、手作業により、容器内の凝集物を解砕しながら次工程に供給しなければならない。また、凝集を防止するため、混練粉砕品に加わる自重を軽減するため、20L程度の小容器に混練粉砕品を抜取り、これを一つずつ次工程に供給するという大変な手間がかかっていた。さらに、小容器で供給しても凝集は皆無とはならず、わずかな凝集物がタブレットの圧縮成形工程での容積計量を狂わせタブレットの重量バラツキを発生させ、これがこのタブレットを用いて封止する電子部品装置にも封止樹脂の欠損があるボイドなどの不具合を発生させていた。
本発明は、エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤等の原材料を混練後、冷却粉砕して圧縮成形する封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法において、混練、冷却後の粉砕工程と、タブレットへの圧縮成形工程との間の一時保管工程における、混練後に冷却粉砕して得られる混練粉砕品の凝集を防止し、これの次工程への供給を容易にすると共に、凝集物によるタブレットの不具合、このタブレットで封止された電子部品装置の不具合を防止することを目的とする。
本発明は、以下のものに関する。
(1) エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有する封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法であって、
前記無機質微粒子を添加する工程として、前記混練粉砕品を得る工程と混合する工程との間に前記微粒子を添加する工程(A)、
冷却物を得る工程と冷却物を粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程(B)、
冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程(C)のうちのいずれか一つが設けられる封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(1) エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有する封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法であって、
前記無機質微粒子を添加する工程として、前記混練粉砕品を得る工程と混合する工程との間に前記微粒子を添加する工程(A)、
冷却物を得る工程と冷却物を粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程(B)、
冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程(C)のうちのいずれか一つが設けられる封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(2) 前記工程(A)で、混練粉砕品を攪拌しながら、無機質微粒子を添加する上記(1)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(3) 前記工程(A)で、混練粉砕品と無機質微粒子を容器に充填し、次いでこの容器を動かすことによりこれらを混合する上記(1)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(4) 混練粉砕品と無機質微粒子とを18℃以下で容器に充填する工程と、この容器を18℃以下で保管する工程とを含む上記(1)〜(3)のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(3) 前記工程(A)で、混練粉砕品と無機質微粒子を容器に充填し、次いでこの容器を動かすことによりこれらを混合する上記(1)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(4) 混練粉砕品と無機質微粒子とを18℃以下で容器に充填する工程と、この容器を18℃以下で保管する工程とを含む上記(1)〜(3)のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
(5) 上記(1)〜(4)のいずれかに記載の方法で製造された封止用エポキシ樹脂成形材料。
(6) 無機質微粒子がシリカである上記(5)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(7) 無機質微粒子の添加量が全体の0.5重量%以下である上記(5)または(6)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(8) 充填剤が無機充填剤であって、無機充填剤の配合量が樹脂成形材料全体の70〜97重量%である上記(5)〜(7)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(9) 上記(5)〜(8)のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて封止された素子を備える電子部品装置。
(6) 無機質微粒子がシリカである上記(5)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(7) 無機質微粒子の添加量が全体の0.5重量%以下である上記(5)または(6)記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(8) 充填剤が無機充填剤であって、無機充填剤の配合量が樹脂成形材料全体の70〜97重量%である上記(5)〜(7)のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
(9) 上記(5)〜(8)のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて封止された素子を備える電子部品装置。
本発明によれば、封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法における、混練、冷却後の粉砕工程と、タブレットへの圧縮成形工程との間の一時保管工程において、混錬粉砕品が凝集するのを防止し、圧縮成形装置への供給を容易にすると共に、一時保管中に発生する凝集物によるタブレットの不具合、このタブレットで封止された電子部品装置の不具合を防止できる。
まず本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料に含まれる原材料について説明する。
本発明で用いられるエポキシ樹脂としては、封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているエポキシ樹脂が挙げられる。
例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換のビスフェノール等のジグリシジルエーテル、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸などのポリアミンとエピクロロヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、ナフトール・アラキル樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸などの過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂肪族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明で用いられるエポキシ樹脂としては、封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているエポキシ樹脂が挙げられる。
例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換のビスフェノール等のジグリシジルエーテル、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸などのポリアミンとエピクロロヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、ナフトール・アラキル樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸などの過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂肪族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、上記エポキシ樹脂の硬化剤としては、封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されている硬化剤が挙げられる。
例えば、フェノール、クレゾール、レジルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類、これらのフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン、ジヒドロキシビフェニルなどの多種多価フェノ−ル化合物、分子中にビフェニル誘導体および/またはナフタレン誘導体を含むノボラック構造のフェノール樹脂、下記一般式(I)で表されるフェノール化合物等のフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ビフェニル・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とシクロペンタジエンから共重合により合成される、シクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等のシクロペンタジエン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、
無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられる。
(ただし、一般式(I)中、Rは炭素数1〜4のアルキル基、nは0以上の整数を示す。)
尚、これらの硬化剤は単独または2種以上併用して用いることができる。エポキシ樹脂に対する硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂中のエポキシ基数/硬化剤中の水酸基の比を0.7〜1.3の範囲に設定することが好ましい。
例えば、フェノール、クレゾール、レジルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類、これらのフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン、ジヒドロキシビフェニルなどの多種多価フェノ−ル化合物、分子中にビフェニル誘導体および/またはナフタレン誘導体を含むノボラック構造のフェノール樹脂、下記一般式(I)で表されるフェノール化合物等のフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂、ビフェニル・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とシクロペンタジエンから共重合により合成される、シクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等のシクロペンタジエン型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、
無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられる。
尚、これらの硬化剤は単独または2種以上併用して用いることができる。エポキシ樹脂に対する硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂中のエポキシ基数/硬化剤中の水酸基の比を0.7〜1.3の範囲に設定することが好ましい。
本発明で用いられる充填剤としては、特に限定はないが、無機充填剤が好ましく、溶融シリカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ、ジルコン、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア等の粉体、またはこれらを球形化したビーズ、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナ等の単結晶繊維、ガラス繊維等を1種類以上配合して用いることができる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛等が挙げられ、これらを単独または併用して用いることができる。尚、無機充填剤の配合量は、吸湿性、線膨張係数の低減の点から成形材料全体の70〜97重量%であることが好ましく、より好ましくは80〜95重量%である。
また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には、必要に応じて2−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7などの3級アミン化合物、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、トリ(アセチルアセトナト)アルミニウムなどの有機金属化合物およびトリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィンなどの有機ホスフィン化合物などの硬化促進剤を用いることができる。
また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には、必要に応じてブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂などのブロム化エポキシ樹脂、ブロム化ポリカーボネート樹脂、ブロム化ポリスチレン樹脂、ブロム化ポリフェニレンオキサイド樹脂、テトラブロモビスフェノールA、デカブロモジフェニルエーテルなどの難燃剤を用いることができる。また、酸化マグネシウム、酸化カルシウム等の金属酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物や、2種以上の金属酸化物・水酸化物の複合体である複合金属水酸化物、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等の金属化合物、含窒素化合物、含リン化合物なども難燃剤として使用できる。
また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には、樹脂成分と充填剤との接着性を高めるために、必要に応じてエポキシシラン、アミノシラン、メルカプトシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などのカップリング剤を用いることができる。
また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には、必要に応じて本発明の効果が達成できる範囲内で、離型剤、着色剤、シリコーン系応力緩和剤あるいはイオントラップ剤等の各種添加剤を用いることができる。離型剤としては、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の酸化型又は非酸化型のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。
また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には、必要に応じて本発明の効果が達成できる範囲内で、離型剤、着色剤、シリコーン系応力緩和剤あるいはイオントラップ剤等の各種添加剤を用いることができる。離型剤としては、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の酸化型又は非酸化型のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。
本発明に用いる無機質微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコン、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ酸、ベリリア、ジルコニア等が挙げられ、純度が高いこと、熱的、化学的に安定していることから、シリカを用いることが好ましい。
また、本発明で使用される無機質微粒子の平均粒径としては、効率良く、混練粉砕品の粒子を覆い、凝集を防止するため50nm以下であることが必要で、20nm以下のものが好ましい。さらに耐湿信頼性など封止用エポキシ樹脂成形材料としての特性に悪影響を及ぼさず、混練粉砕品の凝集を防止するには無機質微粒子の添加量が全体の0.5重量%以下であることが好ましく、0.3重量%以下であることがより望ましい。なお、本発明における平均粒径とは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、5万倍の倍率により1000個の粒子を観察し、それぞれの粒子の外形の最も離れた2点間の距離を画面上のミクロンマーカの長さをもとに測定し、平均した値である。
また、本発明で使用される無機質微粒子の平均粒径としては、効率良く、混練粉砕品の粒子を覆い、凝集を防止するため50nm以下であることが必要で、20nm以下のものが好ましい。さらに耐湿信頼性など封止用エポキシ樹脂成形材料としての特性に悪影響を及ぼさず、混練粉砕品の凝集を防止するには無機質微粒子の添加量が全体の0.5重量%以下であることが好ましく、0.3重量%以下であることがより望ましい。なお、本発明における平均粒径とは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、5万倍の倍率により1000個の粒子を観察し、それぞれの粒子の外形の最も離れた2点間の距離を画面上のミクロンマーカの長さをもとに測定し、平均した値である。
次に本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法について説明する。
本発明の製造方法においては、エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む上述したような原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有する。
まず、封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法として一般的に知られている方法で、エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤等の原材料を所定量の組成比で配合し、ミキサー等によって十分均一に混合後、混練し、溶融した混練物をシート状に圧延後、冷却固化する。これを適当な大きさに粉砕して混練粉砕品を得ることができる。混練、冷却、粉砕を連続工程で行ってもよい。
混錬には、ロール、1軸混練機、1軸混練機とロールの組み合わせ、または2軸混練機等の装置を使用できる。また冷却物の粉砕に使用できる装置は、ハンマーミル(奈良機械製作所製)等が挙げられる。
本発明の製造方法においては、エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む上述したような原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有する。
まず、封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法として一般的に知られている方法で、エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤等の原材料を所定量の組成比で配合し、ミキサー等によって十分均一に混合後、混練し、溶融した混練物をシート状に圧延後、冷却固化する。これを適当な大きさに粉砕して混練粉砕品を得ることができる。混練、冷却、粉砕を連続工程で行ってもよい。
混錬には、ロール、1軸混練機、1軸混練機とロールの組み合わせ、または2軸混練機等の装置を使用できる。また冷却物の粉砕に使用できる装置は、ハンマーミル(奈良機械製作所製)等が挙げられる。
本発明の第1の製造方法として、このように得られる混練粉砕品に平均粒径50nm以下の無機質微粒子を添加する工程を設けることが挙げられる。次いで両者を混合して混練粉砕品と無機質微粒子との混合品(以下、混合品ともいう。)を得る。混練粉砕品に対し無機質微粒子を混ぜることにより混練粉砕品の粒子の外周に無機質微粒子を付着させることにより、混練粉砕品同士の凝集を防止する。
本発明の第1の製造方法の一つの実施形態として、無機質微粒子の添加(供給)は混練粉砕品をあらかじめ攪拌しながら行う。これは、混合機内のデッドスペースへの詰まりや混合部品への付着などにより無機質微粒子が偏在し、これが混合後離脱して混練粉砕品と無機質微粒子との混合品に混入するのを防止するためである。
混合機としては商品名レーディゲミキサー((株)マツボー社製)など商業的に入手可能なものを用いることが出来る。無機質微粒子の供給装置は、粉体の供給ができるものであれば特に限定されるものではなく公知の粉体供給装置を用いることができる。ダイアフラム方式を採用した商品名ウィルデンダブルダイアフラムポンプ((株)ウィルデン社製)など、商業的に入手可能なものである。
混合機としては商品名レーディゲミキサー((株)マツボー社製)など商業的に入手可能なものを用いることが出来る。無機質微粒子の供給装置は、粉体の供給ができるものであれば特に限定されるものではなく公知の粉体供給装置を用いることができる。ダイアフラム方式を採用した商品名ウィルデンダブルダイアフラムポンプ((株)ウィルデン社製)など、商業的に入手可能なものである。
次の実施形態として、混練粉砕品と無機質微粒子を容器に充填して、次いでこの容器を動かすことによりこれらを混合する。この場合容器の全ての空間を混練粉砕品と無機質微粒子との混合物が移動する事から混合機内のデッドスペースが無くなる。これにより、無機質微粒子が偏在したり、これが混合後離脱し混合品に混入したりすることが防止できる。これに用いる容器と混合機としては商品名トートビン((株)古河アルテック社製)と商品名タンブラーブレンダ((株)古河アルテック社製)など、商業的に入手可能なものである。
さらに、混練粉砕品と無機質微粒子との混合品のなかへの無機質微粒子の凝集、偏在を防止するには、冷却物を得る工程と冷却物を粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程を設ける製造方法(以下、第2の製造方法という。)及び、
冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程を設ける製造方法(以下、第3の製造方法という。)が挙げられる。
冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程を設ける製造方法(以下、第3の製造方法という。)が挙げられる。
第2の製造方法における前記無機質微粒子を添加する工程の後、無機質微粒子の添加された冷却物の粉砕を行って無機質微粒子の添加された混練粉砕品を得られる。
第3の製造方法における粉砕しながら前記無機質微粒子を添加する工程により、無機質微粒子の添加された混練粉砕品が得られる。
第3の製造方法における粉砕しながら前記無機質微粒子を添加する工程により、無機質微粒子の添加された混練粉砕品が得られる。
粉砕機の攪拌効果により、無機質微粒子の凝集は解砕され、偏在が起こらず、その後の混合工程で混練粉砕品外周に均一に分散する。さらにこの第2及び第3の製造方法は、混練粉砕品と無機質微粒子との混合工程前の保管時に、混練粉砕品粒子間に分散が不十分とはいえ、無機質微粒子が存在することにより、混練粉砕品の凝集を防止する。第2及び第3の製造方法で得られた無機質微粒子が添加された混練粉砕品を混合する工程も、第1の製造方法で述べた混合機や容器を用いて行うことができる。
さらに本発明においては混練粉砕品と無機質微粒子とを18℃以下で容器に充填するのが好ましい。例えば、第1の製造方法において容器内で混合する場合の混練粉砕品及び無機質微粒子、第2及び第3の製造方法における無機質微粒子の添加された混練粉砕品または混合工程後の混合品を、18℃以下の低温で容器に充填することが好ましい。
また、この容器を18℃以下で、次の工程である、圧縮成形工程または混合工程まで保管することが望ましい。
より好ましくは10℃以下である。このような低温とすることにより、樹脂の軟化が軽減できる。好ましくは、粉砕工程〜充填工程も同様の低温で行う。また、無機質微粒子及び混練粉砕品の混合工程も同様に低温であるのが好ましい。
また、この容器を18℃以下で、次の工程である、圧縮成形工程または混合工程まで保管することが望ましい。
より好ましくは10℃以下である。このような低温とすることにより、樹脂の軟化が軽減できる。好ましくは、粉砕工程〜充填工程も同様の低温で行う。また、無機質微粒子及び混練粉砕品の混合工程も同様に低温であるのが好ましい。
例えば無機質微粒子が添加された混練粉砕品を保管する場合、具体的には、冷凍機およびユニットクーラで作製した18℃以下の冷風を無機質微粒子が添加された混練粉砕品と共に保管容器に供給し、18℃以下の雰囲気に保たれた低温室で混合し、保管を行う。さらに無機質微粒子が添加された混練粉砕品に10℃以下の冷風を供給する場合は、混合品の吸湿防止のために除湿機により除湿された空気を用いることが望ましい。これには商品名乾式除湿機ハニカム(ムンタース(株)製)など、商業的に入手可能な除湿機を用いることができる。
上記混合品を、圧縮成形する工程により、各種タブレット形状のエポキシ樹脂成形材料を製造することができる。
圧縮成形は、通常のタブレット成形用の装置及び条件を適用することができ、例えば(株)菊水製作所製ロータリー型成形機(機械名:BAR PRESS CORRECT)など、商業的に入手可能な成形機を用いることができる。
圧縮成形は、通常のタブレット成形用の装置及び条件を適用することができ、例えば(株)菊水製作所製ロータリー型成形機(機械名:BAR PRESS CORRECT)など、商業的に入手可能な成形機を用いることができる。
上記本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法により製造して、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料が得られる。具体的には、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、エポキシ樹脂、硬化剤及び充填剤を含む混練粉砕品と、平均粒径50nm以下の無機質微粒子との混合品が圧縮成形されてなる。
本発明で得られる封止用エポキシ樹脂成形材料により素子を封止して電子部品装置が得られる。例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した電子部品装置などが挙げられる。
このような電子部品装置としては、具体的には、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いてトランスファ成形などにより封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、配線板接続用の端子を形成した有機基板に素子を搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有機基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)などが例示される。また、プリント回路板にも本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は有効に使用できる。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。
このような電子部品装置としては、具体的には、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いてトランスファ成形などにより封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、配線板接続用の端子を形成した有機基板に素子を搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有機基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)などが例示される。また、プリント回路板にも本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は有効に使用できる。
本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。
以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が以下の実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。
(1)エポキシ樹脂成形材料用中間サンプルの調製
エポキシ樹脂として、エポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹種(ジャパン・エポキシ・レジン株式会社製の商品名YX−4000H)4.3重量部、
難燃剤として、エポキシ等量75、軟化点80℃、臭素含量48重量%のビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(住友化学工業株式会社製の商品名ESB−400T)0.8重量部、
硬化剤として、軟化点80℃のフェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−1)4.8重量部、
硬化促進剤として、トリフェニルホスフィン0.2重量部、
充填剤として、平均粒径17.5μm、比表面積3.8m2/gの球状溶融シリカ88重量部、
難燃剤として、三酸化アンチモン0.3重量部、
離型剤として、モンタン酸エステル(クラリアント社製)0.2重量部、
着色剤として、カーボンブラック(三菱化学株式会社製の商品名MA−100)0.2重量部、
及びカップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシランカップリング剤)0.5重量部
を混合(ドライブレンド)してエポキシ樹脂成形材料用中間サンプルを調製した。
エポキシ樹脂として、エポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹種(ジャパン・エポキシ・レジン株式会社製の商品名YX−4000H)4.3重量部、
難燃剤として、エポキシ等量75、軟化点80℃、臭素含量48重量%のビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(住友化学工業株式会社製の商品名ESB−400T)0.8重量部、
硬化剤として、軟化点80℃のフェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−1)4.8重量部、
硬化促進剤として、トリフェニルホスフィン0.2重量部、
充填剤として、平均粒径17.5μm、比表面積3.8m2/gの球状溶融シリカ88重量部、
難燃剤として、三酸化アンチモン0.3重量部、
離型剤として、モンタン酸エステル(クラリアント社製)0.2重量部、
着色剤として、カーボンブラック(三菱化学株式会社製の商品名MA−100)0.2重量部、
及びカップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシシランカップリング剤)0.5重量部
を混合(ドライブレンド)してエポキシ樹脂成形材料用中間サンプルを調製した。
(2)混錬〜冷却〜粉砕〜充填、無機質微粒子添加、混合
上記で調製した中間サンプルを、2軸混練機を用いて吐出量約200kg/hで混練を行って混錬物を得た。この混練物をシート状に圧延し、次いで18℃まで冷却して冷却物を得た。その後冷却物を(株)ダルトン社製のパワーミルを用いて粉砕し、得られた混練粉砕品を保管容器である容量約1.5m3 (株)古河アルテック社製のトートビンに1トン充填した。粉砕〜充填工程の雰囲気温度は16〜18℃とした。
次にその成分がシリカで平均粒径が16nmである無機質微粒子(日本アエロジル(株)製の製品名R972CF)5kgを保管容器内の混練粉砕品に添加し、(株)古河アルテック社製のタンブラーブレンダで17℃で20分間混合して混合品を得た。次に72時間16〜18℃で保管した後、タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
上記で調製した中間サンプルを、2軸混練機を用いて吐出量約200kg/hで混練を行って混錬物を得た。この混練物をシート状に圧延し、次いで18℃まで冷却して冷却物を得た。その後冷却物を(株)ダルトン社製のパワーミルを用いて粉砕し、得られた混練粉砕品を保管容器である容量約1.5m3 (株)古河アルテック社製のトートビンに1トン充填した。粉砕〜充填工程の雰囲気温度は16〜18℃とした。
次にその成分がシリカで平均粒径が16nmである無機質微粒子(日本アエロジル(株)製の製品名R972CF)5kgを保管容器内の混練粉砕品に添加し、(株)古河アルテック社製のタンブラーブレンダで17℃で20分間混合して混合品を得た。次に72時間16〜18℃で保管した後、タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
粉砕〜充填工程に、露点が−10℃以下に除湿した8〜10℃の冷風を供給した以外は実施例1と同様にして、中間サンプルから混練、圧延、冷却、粉砕工程を実施し、保管容器に1トン充填した。
次に実施例1で用いた無機質微粒子3kgを容器内の混練粉砕品に添加し、9℃で20分間混合して混合品を得た。次に72時間8〜10℃で保管した後、タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
次に実施例1で用いた無機質微粒子3kgを容器内の混練粉砕品に添加し、9℃で20分間混合して混合品を得た。次に72時間8〜10℃で保管した後、タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
中間サンプルから実施例1と同様にして冷却物を得た。粉砕〜充填工程に、露点が−10℃以下に除湿した8〜10℃の冷風を供給しながら、実施例1で用いた無機質微粒子3kgをウィルデンダブルダイアフラムポンプにより約1kg/時間で連続添加しながら1トンの冷却物の粉砕を実施し、実施例1と同様に保管容器に充填した。
次に容器内の無機質微粒子及び混錬粉砕物を、9℃で混合時間10分間とした以外は実施例1と同様に混合して混合品を得た。次に72時間8〜10℃で保管した後タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
(比較例1)
次に容器内の無機質微粒子及び混錬粉砕物を、9℃で混合時間10分間とした以外は実施例1と同様に混合して混合品を得た。次に72時間8〜10℃で保管した後タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
(比較例1)
中間サンプルから、無機質微粒子の添加・混合工程を除いて、実施例1と同様に混錬〜充填を行った後、実施例1と同様に72時間16〜18℃で保管した後タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
(比較例2)
(比較例2)
中間サンプルから実施例1と同様にして混錬粉砕品を容器に1トン充填した。
次にその成分がシリカで平均粒径が500nmである無機質微粒子((株)アドマテックス製の製品名アドマファインSO−25H)5kgを添加し、実施例1と同様のブレンダで20分間混合して混合品を得た。次に実施例1と同様に72時間16〜18℃で保管した後タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
次にその成分がシリカで平均粒径が500nmである無機質微粒子((株)アドマテックス製の製品名アドマファインSO−25H)5kgを添加し、実施例1と同様のブレンダで20分間混合して混合品を得た。次に実施例1と同様に72時間16〜18℃で保管した後タブレット圧縮成形工程への供給を実施した。
[評価方法]
作製した合計5種類の実施例及び比較例の封止用エポキシ樹脂成形材料用混合品を、次の各評価方法により評価した。
(混練粉砕品と無機質微粒子との混合品の凝集状況)
実施例1〜3及び比較例2は、混合品の保管後に、比較例1は混練粉砕品の保管後に、容器からタブレット圧縮成形工程に供給するときに目視で観察して混錬粉砕品の凝集物を摘出した。次に凝集物を内包する球の径(凝集物の外形の最も離れた2点間の距離)をノギスで測定し、凝集物が複数個ある場合は最大値を採用し、10mm以下のものを凝集小、10mmを超えるものを凝集大、凝集物の無いものを凝集無しとした。
作製した合計5種類の実施例及び比較例の封止用エポキシ樹脂成形材料用混合品を、次の各評価方法により評価した。
(混練粉砕品と無機質微粒子との混合品の凝集状況)
実施例1〜3及び比較例2は、混合品の保管後に、比較例1は混練粉砕品の保管後に、容器からタブレット圧縮成形工程に供給するときに目視で観察して混錬粉砕品の凝集物を摘出した。次に凝集物を内包する球の径(凝集物の外形の最も離れた2点間の距離)をノギスで測定し、凝集物が複数個ある場合は最大値を採用し、10mm以下のものを凝集小、10mmを超えるものを凝集大、凝集物の無いものを凝集無しとした。
(タブレットの重量不良)
保管後にタブレット圧縮成形工程に供給された混合品を(株)菊水製作所製ロータリー型成形機(機械名:BAR PRESS CORRECT)を用い、φ13mm、平均重量が3.7gになるようにタブレットを成形した。得られたタブレット重量が3.5g〜3.9gの範囲に入っていないタブレットを重量不良とし、成形したタブレットの合計重量に対する重量不良のタブレットの合計重量を百分率で示した。
保管後にタブレット圧縮成形工程に供給された混合品を(株)菊水製作所製ロータリー型成形機(機械名:BAR PRESS CORRECT)を用い、φ13mm、平均重量が3.7gになるようにタブレットを成形した。得られたタブレット重量が3.5g〜3.9gの範囲に入っていないタブレットを重量不良とし、成形したタブレットの合計重量に対する重量不良のタブレットの合計重量を百分率で示した。
(耐湿信頼性)
実施例1〜3については上記と同様に成形したタブレットを、金型温度180℃、成形圧力70kgf/cm2、硬化時間90秒の条件でトランスファ成形機を用い、半導体装置(SOP−28ピン)を10個成形し、ポストキュア(175℃/5h)後、85℃/85RH%72時間吸湿+215℃/90秒(VPS)の前処理後、PCT(121℃/2気圧)に所定時間放置して、アルミパット配線腐食による断線不良を調べ、不良パッケージ数/測定パッケージ数で評価した。比較例1、2については凝集物を解砕したうえで、実施例と同様にタブレットを成形し試験を行った。
実施例1〜3については上記と同様に成形したタブレットを、金型温度180℃、成形圧力70kgf/cm2、硬化時間90秒の条件でトランスファ成形機を用い、半導体装置(SOP−28ピン)を10個成形し、ポストキュア(175℃/5h)後、85℃/85RH%72時間吸湿+215℃/90秒(VPS)の前処理後、PCT(121℃/2気圧)に所定時間放置して、アルミパット配線腐食による断線不良を調べ、不良パッケージ数/測定パッケージ数で評価した。比較例1、2については凝集物を解砕したうえで、実施例と同様にタブレットを成形し試験を行った。
(無機質微粒子の凝集物有無)
無機質微粒子の凝集物有無の評価は、比較例1以外の、混練粉砕品と無機質微粒子との混合工程の10分が終了したとき、容器内を目視で観察し、無機質微粒子が確認できた実施例1、2、比較例2についてはさらに10分混合を行った。容器から混合品をタブレット圧縮成形工程に供給するときにも目視で観察し、無機質微粒子が確認できるものを凝集有り、確認できないものを凝集無しとした。
評価結果を実施条件と共に表1に示す。
無機質微粒子の凝集物有無の評価は、比較例1以外の、混練粉砕品と無機質微粒子との混合工程の10分が終了したとき、容器内を目視で観察し、無機質微粒子が確認できた実施例1、2、比較例2についてはさらに10分混合を行った。容器から混合品をタブレット圧縮成形工程に供給するときにも目視で観察し、無機質微粒子が確認できるものを凝集有り、確認できないものを凝集無しとした。
評価結果を実施条件と共に表1に示す。
[評価結果]
実施例1:
無機質微粒子を添加した実施例1は、短い混合時間では無機質微粒子の凝集物が確認され、また、実施例2に比較して若干耐湿信頼性で悪化したものの、実用上の支障はなく、混合品の凝集を著しく低減できた。
実施例2:
実施例2においては、実施例1に比較し、無機質微粒子の添加量を0.3重量%と少なくしたことにより耐湿信頼性は向上した。また、充填保管温度を10℃以下とすることにより、混合品の凝集は皆無となった。
実施例3:
実施例3においては、冷却物を粉砕しながら無機質微粒子を供給することにより、混合時間を長くする必要がなく、耐湿信頼性、混合品の凝集も問題がなくなった。
実施例1:
無機質微粒子を添加した実施例1は、短い混合時間では無機質微粒子の凝集物が確認され、また、実施例2に比較して若干耐湿信頼性で悪化したものの、実用上の支障はなく、混合品の凝集を著しく低減できた。
実施例2:
実施例2においては、実施例1に比較し、無機質微粒子の添加量を0.3重量%と少なくしたことにより耐湿信頼性は向上した。また、充填保管温度を10℃以下とすることにより、混合品の凝集は皆無となった。
実施例3:
実施例3においては、冷却物を粉砕しながら無機質微粒子を供給することにより、混合時間を長くする必要がなく、耐湿信頼性、混合品の凝集も問題がなくなった。
比較例1:
無機質微粒子を添加していないため、混合品に凝集が発生し、タブレット成形が不可能であった。
比較例2:
無機質微粒子の平均粒径が500nmでは、混合品の凝集の改善は見られず、耐湿信頼性も無機質微粒子を添加していない比較例1からさらに悪化した。
無機質微粒子を添加していないため、混合品に凝集が発生し、タブレット成形が不可能であった。
比較例2:
無機質微粒子の平均粒径が500nmでは、混合品の凝集の改善は見られず、耐湿信頼性も無機質微粒子を添加していない比較例1からさらに悪化した。
Claims (9)
- エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤を含む原材料を混練して混練物を得る工程、該混練物を冷却して冷却物を得る工程、冷却物を粉砕して混練粉砕品を得る工程、該混練粉砕品を平均粒径50nm以下の無機質微粒子と混合して混合品を得る工程、該混合品を圧縮成形する工程を有する封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法であって、
前記無機質微粒子を添加する工程として、前記混練粉砕品を得る工程と混合する工程との間に前記微粒子を添加する工程(A)、
冷却物を得る工程と冷却物を粉砕する工程との間に前記微粒子を添加する工程(B)、
冷却物を粉砕しながら前記微粒子を添加する工程(C)のうちのいずれか一つが設けられることを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。 - 前記工程(A)で、混練粉砕品を攪拌しながら、無機質微粒子を添加する請求項1記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
- 前記工程(A)で、混練粉砕品と無機質微粒子を容器に充填し、次いでこの容器を動かすことによりこれらを混合する請求項1記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
- 混練粉砕品と無機質微粒子とを18℃以下で容器に充填する工程と、この容器を18℃以下で保管する工程とを含む請求項1〜3のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の方法で製造されたことを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料。
- 無機質微粒子がシリカである請求項5記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
- 無機質微粒子の添加量が全体の0.5重量%以下である請求項5または6記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
- 充填剤が無機充填剤であって、無機充填剤の配合量が樹脂成形材料全体の70〜97重量%である請求項5〜7のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。
- 請求項5〜8のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて封止された素子を備えることを特徴とする電子部品装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003329676A JP2005097350A (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003329676A JP2005097350A (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005097350A true JP2005097350A (ja) | 2005-04-14 |
Family
ID=34458862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003329676A Withdrawn JP2005097350A (ja) | 2003-09-22 | 2003-09-22 | 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005097350A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007269884A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂成形材料、薄肉成形品および燃料電池用シールド部品 |
JP2012025845A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物ワニスの製造方法、プリプレグ、積層板 |
-
2003
- 2003-09-22 JP JP2003329676A patent/JP2005097350A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007269884A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂成形材料、薄肉成形品および燃料電池用シールド部品 |
JP2012025845A (ja) * | 2010-07-23 | 2012-02-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物ワニスの製造方法、プリプレグ、積層板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI388620B (zh) | 半導體密封用環氧樹脂組成物及半導體裝置 | |
JP2006216899A (ja) | コンプレッション成形用成形材料及び樹脂封止型半導体装置 | |
JP6389382B2 (ja) | 半導体封止用樹脂シート及び樹脂封止型半導体装置 | |
JP2011148959A (ja) | 半導体封止用樹脂シートおよび樹脂封止型半導体装置 | |
JP2007077333A (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 | |
JP6315368B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 | |
TWI663203B (zh) | 樹脂片及半導體裝置、以及半導體裝置之製造方法 | |
JP2013067694A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 | |
JP2005097350A (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法、封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 | |
JP4325000B2 (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 | |
JP2001002895A (ja) | 半導体用封止材の製造法及び樹脂封止型半導体装置 | |
KR20210021049A (ko) | 플레이크 형상 밀봉용 수지 조성물, 및 반도체 장치 | |
JP2004137397A (ja) | 樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2002080694A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH05299537A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2000204139A (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 | |
JP2005146141A (ja) | 封止用樹脂組成物および樹脂封止型半導体装置 | |
JPH0521651A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 | |
JP2003327792A (ja) | 封止用樹脂組成物および半導体封止装置 | |
JPH1135797A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2000017052A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2000026707A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JPH05206330A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP2009298961A (ja) | 封止用エポキシ樹脂組成物およびその製造方法 | |
JP2001064363A (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050119 |