JP2005097154A - アルキルアリールケトン誘導体の製造法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 例えばホスホジエステラーゼ(PDE)−IV阻害剤などの医薬品として、またはその合成中間体として有用なアルキルアリールケトン誘導体を高収率で得ることができる簡便な製造法を提供すること。
【解決手段】
【化20】
(式中、R1は低級アルコキシなどを表し、R4は低級アルキルを表し、X1、X2およびX3は同一または異なってハロゲンを表し、nは1〜3の整数を表し、R2およびR3は同一または異なって水素原子などを表す)
上記一般式(I)で表される化合物を、上記一般式(II)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩などの塩基存在下、反応させることにより上記一般式(III)で表される化合物を得て、該一般式(III)で表される化合物を、上記一般式(IV)で表される化合物と反応させることを特徴とする上記一般式(V)で表されるアルキルアリールケトン誘導体の製造法などを提供する。
【選択図】なし
【解決手段】
【化20】
(式中、R1は低級アルコキシなどを表し、R4は低級アルキルを表し、X1、X2およびX3は同一または異なってハロゲンを表し、nは1〜3の整数を表し、R2およびR3は同一または異なって水素原子などを表す)
上記一般式(I)で表される化合物を、上記一般式(II)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩などの塩基存在下、反応させることにより上記一般式(III)で表される化合物を得て、該一般式(III)で表される化合物を、上記一般式(IV)で表される化合物と反応させることを特徴とする上記一般式(V)で表されるアルキルアリールケトン誘導体の製造法などを提供する。
【選択図】なし
Description
本発明は、医薬品としてまたはその合成中間体として有用なアルキルアリールケトン誘導体の製造法に関する。
後述の一般式(V)で表されるアルキルアリールケトン誘導体(以下、化合物(V)と称する)は、例えばホスホジエステラーゼ(PDE)−IV阻害剤などの医薬品として、またはその合成中間体として有用であることが知られている(特許文献1参照)。
化合物(V)のひとつである5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン[化合物(V−i)]およびその中間体の合成法として、下記の方法が知られている(特許文献1、非特許文献1、非特許文献2参照)。
化合物(V)のひとつである5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン[化合物(V−i)]およびその中間体の合成法として、下記の方法が知られている(特許文献1、非特許文献1、非特許文献2参照)。
すなわち、3−メトキシカテコール[化合物(I−i)]の4位をアセチル化することにより4−アセチル−3−メトキシカテコール[化合物(VI)]を得て、続いて4−アセチル−3−メトキシカテコールを1,2−ジブロモエタンと反応させることにより5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンを得る方法が知られている。しかし、上記の方法は、(1)各工程における単離収率がそれぞれ46%および50%と低いこと、(2)非常に高温での反応が必要であることなど、工業的製造法としては課題を有している。
また、化合物(V−i)の別の合成法として、8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンの5位をアセチル化する方法が知られている(非特許文献3参照)。しかし、上記の方法における原料である8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンの合成法として3−メトキシカテコールから合成する方法が知られているが、その収率は61%と低い(非特許文献4参照)。すなわち、8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンを経由する方法も、工業的製造法としては課題を有している。
以上のことから、目的とするアルキルアリールケトン誘導体を工業的に大量供給する場合、上記の課題を解決することが求められる。
国際公開第02/059105号パンフレット
「ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ(J. Chem. Soc.)」、1934年、p.1681-1684
「ケミッシェ・ベリヒテ(Chem. Ber.)」、1972年、105巻、p.3301-3305
「キミヤ・ゲテロツクリシュスキー・ソーディネニ(Khimiya Geterotsiklicheskikh Soedineni)」、1978年、11巻、p.1465-1471
「ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー(J. Heterocyclic Chem.)」、1989年、26巻、p.193-197
本発明の目的は、例えばPDE−IV阻害剤などの医薬品として、またはその合成中間体として有用なアルキルアリールケトン誘導体を高収率で得ることができる簡便な製造法を提供することにある。
本発明は、以下の(1)〜(8)に関する。
(1) 一般式(I)
(1) 一般式(I)
(式中、R1はハロゲンまたは低級アルコキシを表す)で表される化合物を、
一般式(II)
一般式(II)
(式中、nは1〜3の整数を表し、
X1およびX2は同一または異なってハロゲンを表し、
(i)nが1であるとき、R2およびR3は水素原子を表すか、またはR2およびR3が隣接する炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成し、
(ii)nが2または3であるとき、複数あるR2およびR3は同一または異なって、水素原子を表すか、複数あるR2およびR3の中で同一炭素原子上に存在する2つの基がその炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成するか、複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって飽和炭素環を形成するか、または複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が一緒になって結合を表す)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、反応させることにより一般式(III)
X1およびX2は同一または異なってハロゲンを表し、
(i)nが1であるとき、R2およびR3は水素原子を表すか、またはR2およびR3が隣接する炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成し、
(ii)nが2または3であるとき、複数あるR2およびR3は同一または異なって、水素原子を表すか、複数あるR2およびR3の中で同一炭素原子上に存在する2つの基がその炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成するか、複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって飽和炭素環を形成するか、または複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が一緒になって結合を表す)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、反応させることにより一般式(III)
(式中、n、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同義である)で表される化合物を得て、該一般式(III)で表される化合物を、一般式(IV)
(式中、R4は低級アルキルを表し、X3はハロゲンを表す)で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式(V)
(式中、n、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ前記と同義である)で表されるアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(2) 塩基が炭酸アルカリ金属塩である上記(1)記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(3) 塩基が炭酸カリウムである上記(1)記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(4) R2およびR3が水素原子である上記(1)〜(3)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(2) 塩基が炭酸アルカリ金属塩である上記(1)記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(3) 塩基が炭酸カリウムである上記(1)記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(4) R2およびR3が水素原子である上記(1)〜(3)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(5) nが1である上記(1)〜(4)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(6) R1がメトキシである上記(1)〜(5)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(7) R4がメチルである上記(1)〜(6)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(8) 一般式(I)
(6) R1がメトキシである上記(1)〜(5)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(7) R4がメチルである上記(1)〜(6)のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
(8) 一般式(I)
(式中、R1は前記と同義である)で表される化合物を、
一般式(II)
一般式(II)
(式中、n、X1、X2、R2およびR3はそれぞれ前記と同義である)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、反応させることを特徴とする一般式(III)
(式中、n、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同義である)で表される化合物の製造法。
以下、一般式(I)、(II)、(III)、(IV)および(V)で表される化合物をそれぞれ化合物(I)、化合物(II)、化合物(III)、化合物(IV)および化合物(V)という。
以下、一般式(I)、(II)、(III)、(IV)および(V)で表される化合物をそれぞれ化合物(I)、化合物(II)、化合物(III)、化合物(IV)および化合物(V)という。
本発明により、例えばPDE−IV阻害剤などの医薬品として、またはその合成中間体として有用なアルキルアリールケトン誘導体を高収率で得ることができる簡便な製造法が提供される。
一般式(I)、(II)、(III)、(IV)および(V)の各基の定義において、
低級アルキルおよび低級アルコキシの低級アルキル部分としては、例えば直鎖または分枝状の炭素数1〜8のアルキルがあげられ、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどがあげられる。
低級アルキルおよび低級アルコキシの低級アルキル部分としては、例えば直鎖または分枝状の炭素数1〜8のアルキルがあげられ、より具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどがあげられる。
nが1であるときのR2およびR3が隣接する炭素原子と一緒になって形成されるスピロ飽和炭素環、同一炭素原子上に存在する2つの基がその炭素原子と一緒になって形成されるスピロ飽和炭素環および隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基がそれぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって形成される飽和炭素環としては、例えば炭素数3〜10のシクロアルカンがあげられ、より具体的にはシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカンなどがあげられる。
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の各原子を意味する。
以下、本発明の製造法の一例を説明する。
<製造法1>
化合物(V)は、以下の工程により製造することができる。
工程1:化合物(III)は、以下の方法により製造することができる。
以下、本発明の製造法の一例を説明する。
<製造法1>
化合物(V)は、以下の工程により製造することができる。
工程1:化合物(III)は、以下の方法により製造することができる。
(式中、n、X1、X2、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同義である)
化合物(I)を、化合物(I)に対して1〜100当量、好ましくは1〜10当量の化合物(II)と、溶媒中、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、−78℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは−10℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、5分間〜24時間反応させることにより、化合物(III)を得ることができる。
化合物(I)を、化合物(I)に対して1〜100当量、好ましくは1〜10当量の化合物(II)と、溶媒中、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、−78℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは−10℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、5分間〜24時間反応させることにより、化合物(III)を得ることができる。
塩基としては、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基であればいずれでもよく、具体的には下記のものがあげられ、これら塩基は単独でまたは2種以上の混合物として用いられる。
炭酸アルカリ金属塩としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどがあげられる。
炭酸アルカリ金属塩としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどがあげられる。
金属アルコキシドとしては、例えば炭素数1〜10の金属アルコキシドなどがあげられ、より具体的にはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムn−ブトキシド、ナトリウムsec−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムn−ブトキシド、カリウムsec−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムn−ブトキシド、リチウムsec−ブトキシド、リチウムtert−ブトキシドなどがあげられる。
水素化アルカリ金属塩または水素化アルカリ土類金属塩としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム、水素化カルシウムなどがあげられる。
有機塩基としては1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)などがあげられる。
有機塩基としては1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)などがあげられる。
上記の塩基の中でも炭酸アルカリ金属塩が好ましく、さらには炭酸カリウムがより好ましい。
溶媒としては、反応において不活性な溶媒であれば特に限定はされないが、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノールなどの炭素数1〜6の低級アルコール系溶媒、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素などの極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘプタン、オクタン、シクロオクタン、ノナン、シクロノナン、デカン、シクロデカンなどの炭素数5〜10の炭化水素系非極性溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの含ハロゲン炭化水素系溶媒、水などがあげられ、これらは単独でまたは混合して用いられる。中でも極性溶媒または極性溶媒と水の混合溶媒が好ましく、さらにはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンまたはこれらと水の混合溶媒がより好ましい。また、水を単独でまたは他の溶媒と混合して用いる場合、例えばアルキルアンモニウムハライドなどの相関移動触媒を共存させることもできる。
溶媒としては、反応において不活性な溶媒であれば特に限定はされないが、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノールなどの炭素数1〜6の低級アルコール系溶媒、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素などの極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘプタン、オクタン、シクロオクタン、ノナン、シクロノナン、デカン、シクロデカンなどの炭素数5〜10の炭化水素系非極性溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの含ハロゲン炭化水素系溶媒、水などがあげられ、これらは単独でまたは混合して用いられる。中でも極性溶媒または極性溶媒と水の混合溶媒が好ましく、さらにはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンまたはこれらと水の混合溶媒がより好ましい。また、水を単独でまたは他の溶媒と混合して用いる場合、例えばアルキルアンモニウムハライドなどの相関移動触媒を共存させることもできる。
塩基は、化合物(I)に対して好ましくは1〜100当量、より好ましくは1〜10当量用いられ、溶媒は、化合物(I)に対して好ましくは1〜1000容量/重量、より好ましくは1〜50容量/重量の範囲で用いられる。
原料化合物(I)は、市販品としてまたは例えばジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ(J. Chem. Soc.)、1934年、p.1681-1684などに記載の方法もしくはそれらに準じた方法により得ることができ、化合物(II)は、通常市販品として得ることができる。
工程2:化合物(V)は、以下の方法により製造することができる。
原料化合物(I)は、市販品としてまたは例えばジャーナル・オブ・ケミカル・ソサエティ(J. Chem. Soc.)、1934年、p.1681-1684などに記載の方法もしくはそれらに準じた方法により得ることができ、化合物(II)は、通常市販品として得ることができる。
工程2:化合物(V)は、以下の方法により製造することができる。
(式中、n、X3、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ前記と同義である)
工程1で得られる化合物(III)を、化合物(III)に対して1〜100当量、好ましくは1〜10当量の化合物(IV)と、溶媒中、ルイス酸存在下、−78℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは−10℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、5分間〜24時間反応させることにより、化合物(V)を得ることができる。
工程1で得られる化合物(III)を、化合物(III)に対して1〜100当量、好ましくは1〜10当量の化合物(IV)と、溶媒中、ルイス酸存在下、−78℃から用いる溶媒の沸点の間の温度、好ましくは−10℃から用いる溶媒の沸点の間の温度で、5分間〜24時間反応させることにより、化合物(V)を得ることができる。
ルイス酸としては、例えば塩化アルミニウム、塩化ホウ素、塩化ガリウム、塩化亜鉛、塩化チタン、臭化亜鉛、ジメチルアルミニウムクロリド、イッテリビウムトリフラート、スカンジウムトリフラート、三フッ化ホウ素エーテラートなどがあげられ、中でも塩化アルミニウム、塩化亜鉛または臭化亜鉛が好ましい。
溶媒としては、反応において不活性なものであれば特に限定はされないが、例えばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素などの極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘプタン、オクタン、シクロオクタン、ノナン、シクロノナン、デカン、シクロデカンなどの炭素数5〜10の炭化水素系非極性溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの含ハロゲン炭化水素系溶媒などがあげられ、これらは単独でまたは混合して用いられる。中でも極性溶媒または含ハロゲン炭化水素系溶媒が好ましく、さらにはニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼンまたはベンゾトリフルオリドがより好ましい。
溶媒としては、反応において不活性なものであれば特に限定はされないが、例えばアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素などの極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ペンタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘプタン、オクタン、シクロオクタン、ノナン、シクロノナン、デカン、シクロデカンなどの炭素数5〜10の炭化水素系非極性溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの含ハロゲン炭化水素系溶媒などがあげられ、これらは単独でまたは混合して用いられる。中でも極性溶媒または含ハロゲン炭化水素系溶媒が好ましく、さらにはニトロメタン、ニトロベンゼン、二硫化炭素、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、クロロベンゼン、フルオロベンゼンまたはベンゾトリフルオリドがより好ましい。
ルイス酸は、化合物(III)に対して好ましくは1〜100当量、より好ましくは1〜10当量用いられ、溶媒は、化合物(I)に対して好ましくは1〜1000容量/重量、より好ましくは1〜50容量/重量の範囲で用いられる。
化合物(IV)は、通常市販品として得ることができる。
上記製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される分離精製法、例えば、洗浄、乾燥、再結晶などに付して単離精製することもできる。また、中間体においては特に精製することなく次の反応に供することも可能である。化合物(III)または(V)は、塩の形態や水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの塩や付加物についても本発明によって製造することができる。
化合物(IV)は、通常市販品として得ることができる。
上記製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される分離精製法、例えば、洗浄、乾燥、再結晶などに付して単離精製することもできる。また、中間体においては特に精製することなく次の反応に供することも可能である。化合物(III)または(V)は、塩の形態や水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これらの塩や付加物についても本発明によって製造することができる。
化合物(III)または(V)の塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などの無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、クエン酸塩などの有機酸塩、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩、アンモニウム、テトラメチルアンモニウム、モルホリン、ピペリジン、グリシン、フェニルアラニン、リジン、アスパラギン酸、グルタミン酸などの付加塩などがあげられる。
本発明の製造法によれば、例えばPDE−IV阻害剤などの医薬品として、またはその合成中間体として有用なアルキルアリールケトン誘導体を、穏和な反応条件で、簡便な方法により高収率で製造することができる。
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は実施例に何ら限定されるものではない。
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は実施例に何ら限定されるものではない。
5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシンの製造
工程1:
窒素雰囲気下、3−メトキシカテコール(25.3 g、180 mmol)をジメチルホルムアミド(100 mL)に溶解し、炭酸カリウム(104.5 g、751 mmol)と1,2−ジブロモエタン(74.4 g、396mmol)を加え、60℃で6時間撹拌した。反応液に、水、酢酸エチルおよびヘキサンを加えて分液した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で3回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮することにより、5−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(25.4 g、収率 85%)を得た。
1H-NMR (CDCl3,δ, ppm) 6.77 (dd, J = 8.4, 8.1 Hz, 1H), 6.54 (dd, J = 8.4, 1.5 Hz, 1H), 6.49 (dd, J = 8.1, 1.5 Hz, 1H), 4.34-4.24 (m, 4H), 3.88 (s, 3H).
MS (m/z) 167(M+H)+.
IR (KBr, cm-1) 2963, 2876, 1595, 1497, 1477, 1331, 1285, 1238, 1211, 1113, 1051, 952, 885, 768, 718.
工程1:
窒素雰囲気下、3−メトキシカテコール(25.3 g、180 mmol)をジメチルホルムアミド(100 mL)に溶解し、炭酸カリウム(104.5 g、751 mmol)と1,2−ジブロモエタン(74.4 g、396mmol)を加え、60℃で6時間撹拌した。反応液に、水、酢酸エチルおよびヘキサンを加えて分液した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で3回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮することにより、5−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(25.4 g、収率 85%)を得た。
1H-NMR (CDCl3,δ, ppm) 6.77 (dd, J = 8.4, 8.1 Hz, 1H), 6.54 (dd, J = 8.4, 1.5 Hz, 1H), 6.49 (dd, J = 8.1, 1.5 Hz, 1H), 4.34-4.24 (m, 4H), 3.88 (s, 3H).
MS (m/z) 167(M+H)+.
IR (KBr, cm-1) 2963, 2876, 1595, 1497, 1477, 1331, 1285, 1238, 1211, 1113, 1051, 952, 885, 768, 718.
工程2:
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム(12.0 g、180 mmol)をニトロメタン(200 mL)に溶解させ、氷冷下、アセチルクロリド(5.57mL、78 mmol)を加えた。反応混合物に、工程1で得られた5−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(10.0 g、60 mmol)のニトロメタン(100 mL)溶液を40分かけて滴下した。同温度で3時間撹拌した後、1mol/L塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣にイソプロピルアルコール(25 mL)を加え、70℃で溶解させた後、室温まで放冷し、さらに氷冷下、3時間撹拌して晶析することにより、5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(10.1 g、収率 81%)を淡黄色固体として得た。
融点 81℃
1H-NMR (CDCl3,δ, ppm) 7.42 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 6.54 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 4.39-4.32 (m, 4H), 3.91 (s, 3H), 2.56 (s, 3H).
MS (m/z) 209(M+H)+.
IR (KBr, cm-1) 2982, 1676, 1597, 1501, 1468, 1441, 1373, 1356, 1281, 1207, 1178, 1136, 1113, 1069, 1042, 976, 935, 800, 746, 677, 633, 594, 546.
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム(12.0 g、180 mmol)をニトロメタン(200 mL)に溶解させ、氷冷下、アセチルクロリド(5.57mL、78 mmol)を加えた。反応混合物に、工程1で得られた5−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(10.0 g、60 mmol)のニトロメタン(100 mL)溶液を40分かけて滴下した。同温度で3時間撹拌した後、1mol/L塩酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣にイソプロピルアルコール(25 mL)を加え、70℃で溶解させた後、室温まで放冷し、さらに氷冷下、3時間撹拌して晶析することにより、5−アセチル−8−メトキシ−2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシン(10.1 g、収率 81%)を淡黄色固体として得た。
融点 81℃
1H-NMR (CDCl3,δ, ppm) 7.42 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 6.54 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 4.39-4.32 (m, 4H), 3.91 (s, 3H), 2.56 (s, 3H).
MS (m/z) 209(M+H)+.
IR (KBr, cm-1) 2982, 1676, 1597, 1501, 1468, 1441, 1373, 1356, 1281, 1207, 1178, 1136, 1113, 1069, 1042, 976, 935, 800, 746, 677, 633, 594, 546.
Claims (8)
- 一般式(I)
(式中、R1はハロゲンまたは低級アルコキシを表す)で表される化合物を、一般式(II)
(式中、nは1〜3の整数を表し、
X1およびX2は同一または異なってハロゲンを表し、
(i)nが1であるとき、R2およびR3は水素原子を表すか、またはR2およびR3が隣接する炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成し、
(ii)nが2または3であるとき、複数あるR2およびR3は同一または異なって、水素原子を表すか、複数あるR2およびR3の中で同一炭素原子上に存在する2つの基がその炭素原子と一緒になってスピロ飽和炭素環を形成するか、複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になって飽和炭素環を形成するか、または複数あるR2およびR3の中で隣接する2つの炭素原子上に存在する2つの基が一緒になって結合を表す)で表される化合物と、炭酸アルカリ金属塩、金属アルコキシド、水素化アルカリ金属塩、水素化アルカリ土類金属塩および有機塩基からなる群より選ばれる塩基存在下、反応させることにより一般式(III)
(式中、n、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同義である)で表される化合物を得て、該一般式(III)で表される化合物を、一般式(IV)
(式中、R4は低級アルキルを表し、X3はハロゲンを表す)で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式(V)
(式中、n、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ前記と同義である)で表されるアルキルアリールケトン誘導体の製造法。 - 塩基が炭酸アルカリ金属塩である請求項1記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
- 塩基が炭酸カリウムである請求項1記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
- R2およびR3が水素原子である請求項1〜3のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
- nが1である請求項1〜4のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
- R1がメトキシである請求項1〜5のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
- R4がメチルである請求項1〜6のいずれかに記載のアルキルアリールケトン誘導体の製造法。
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JP2003331510A JP2005097154A (ja) | 2003-09-24 | 2003-09-24 | アルキルアリールケトン誘導体の製造法 |
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-
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- 2003-09-24 JP JP2003331510A patent/JP2005097154A/ja not_active Withdrawn
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