JP2005082418A

JP2005082418A - 施釉ブース

Info

Publication number: JP2005082418A
Application number: JP2003313814A
Authority: JP
Inventors: Koji Taniguchi; 浩司谷口
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2003-09-05
Filing date: 2003-09-05
Publication date: 2005-03-31

Abstract

【課題】吹きつけにより施釉体ａに施釉する際の釉薬のミストの飛散を防止することにより、作業環境の改善を図り、同時に吹き付けた余剰の釉薬をより効率で回収可能とする。
【解決手段】施釉ブースは、ハウジング１内に形成され、ハウジング１の前面に設けた開口部３からテーブル４上に置いた施釉体ａに釉薬ｃを塗布する施釉作業空間２と、前記開口部３に対して施釉作業空間２の奥に張られた内部フィルタ７と、この内部フィルタ７を水洗する上部水槽８と、この洗浄水を回収する下部水槽９と、前記開口部３から施釉作業空間２と内部フィルタ７を通してハウジング１の外部に空気を排気する排気ファン１５とを有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、陶器や磁器等の焼成物を、その焼成前の成形体に釉薬を塗布するときに、作業場に釉薬が飛散するのを防止すると共に、成形体に付着しなかった釉薬のミストを回収し、再利用出来るようにした施釉ブースに関する。

近年の焼き物の消費志向として、登り窯や穴窯で焼成した製品が好まれる傾向にあり、いわゆる「灰かぶり」のように、より古来趣向に近いものが多く生産されるようになっている。このような状況の中で、焼き物業界における焼成前の製品への釉薬の塗装作業が多く行われるようになっている。

釉薬は陶磁器の素地の表面を覆う薄いガラス質層、いわゆる「釉」を形成させるための調合物である。この釉の層は素地への液体の浸透を防ぎ、器物表面の平滑性や美観を与える等のほか、素地の強度を増大させる等の効果が期待される。釉薬に配合するガラス成分には、長石、ケイ石、カオリン、石灰石などや種々の原料が使用され、これらが湿式微粉砕された微粉末として配合される。この場合、水に可溶性の成分はあらかじめ石英粉末などと一諸に溶融してから急冷し、安定なガラス、いわゆるフリットにしてから配合する。
また、色釉の中には、コバルト、クロム、マンガン、ニッケルなどが使用されており、古来の釉薬の中にも、銅や鉄、炭酸リチウム、炭酸バリウムなどを使用しているものが数多くある。さらに、木灰などから作られる灰釉は吹き付け作業に多く使用されている。

釉薬は泥しょう状のものであるが、これを陶磁器の素地に塗付し、施釉する。施釉は素焼きか締焼きした素地に対して行なうのが普通であるが、大型の焼き物等では乾燥した生素地に行なうこともある。施釉の方法としては浸し掛け、流し掛け、振掛け、塗り掛け、吹付けなどがある。

比較的小形の陶磁器で、器物等のように、非定形的な陶磁器製品については、吹き付けによる施釉が多く行われる。吹き付けによる施釉は、調合した釉薬をポンプにより圧送しながら、作業者がスプレーガンを操作し、素焼きの製品に釉薬を吹き付けることにより行う。

この釉薬の吹き付けによる施釉は、通常屋内の作業場においてなされるのが一般的であり、そのため、釉薬のミストが作業場に飛散し、作業場の環境の悪化が問題となる。釉薬の吹き付け作業においては、特に吹き付け作業に従事する者が、肺気腫や場合によっては珪肺などの呼吸器疾患を引き起こす可能性がある。釉薬の中には石の微粉末のほかに金属の微粉末も含まれており、これらを人が吸い込むと疾病の原因になるものと考えられる。また、釉薬に含まれる灰は、非常に軽く一度空気中に漂うと長時間滞留し続ける。そして、地面に落ちたあとも乾燥すると再び拡散しやすい性質を有する。

さらに、吹き付けた釉薬のうち、一部の余剰の釉薬は、パネル等により吹き付け位置の下方に流して、容器等により回収されるものの、ミストとして飛散した釉薬の回収は困難であり、屋外排気しているのが現状である。そのため、釉薬の歩留まりが低いという課題もある。
特開平０９−０３０８７６特開平０６−１４４９６２

本発明は、吹きつけにより製品に施釉する際の釉薬のミストの飛散を防止することにより、作業環境の改善を図り、同時に吹き付けた余剰の釉薬をより効率で回収可能とするものであり、そのために作業場に簡易に設置出来る施釉ブースを提供することを目的とする。

本発明では、前記の目的を達成するため、釉薬の吹き付けをハウジング１に囲まれた施釉作業空間２で行い、この施釉作業空間２で発生した余剰のミストをその施釉作業空間２の奥に設けた内部フィルタ７で捕捉し、ハウジング１の外部に飛散しないようにした。さらに、内部フィルタ７はその上に設けた上部水槽８から常に洗浄水を流して水洗し、この洗浄水を下部水槽９に回収して釉薬を湿式で回収出来るようにした。

すなわち本発明による施釉ブースは、ハウジング１内に形成され、ハウジング１の前面に設けた開口部３からテーブル４上に置いた施釉体ａに釉薬ｃを塗布する施釉作業空間２と、前記開口部３に対して施釉作業空間２の奥に張られた内部フィルタ７と、この内部フィルタ７を水洗する上部水槽８と、この洗浄水を回収する下部水槽９と、前記開口部３から施釉作業空間２と内部フィルタ７を通してハウジング１の外部に空気を排気する排気ファン１５とを有するものである。

このような施釉ブースでは、排気ファン１５により、ハウジング１の前面に設けた開口部３から施釉作業空間２と内部フィルタ７を通してハウジング１の外部に空気を排気することにより、施釉作業空間２を常に負圧とした状態で開口部３から釉薬の吹き付けをすることが出来るので、釉薬のミストが外部に飛散しない。さらに、この釉薬のミストは、内部フィルタ７により捕捉されるが、内部フィルタ７は常に上部水槽８から流される洗浄水により水洗されるため、フィルタ７の目詰まりを防止し、フィルタ７としての濾過機能を常時維持出来る。さらに、内部フィルタ７を水洗した洗浄水は、下部水槽９に回収されるが、この下部水槽９では水と釉薬との比重差により釉薬が下部水槽９の下に溜まるので、釉薬のミストからの釉薬の回収も極めて容易である。

このように、本発明による施釉ブースでは、吹き付け施釉時の釉薬のミストを外部に拡散させることが無く、良好な作業環境の維持が可能となる。さらに、釉薬のミストを捕捉する内部フィルタ７を常に洗浄することで、内部フィルタ７のフィルタとしての濾過機能を常時維持出来る。加えて、内部フィルタ７で捕捉した釉薬のミストを洗浄水と共に下部水槽９に回収し、この下部水槽９から沈殿物として釉薬を回収することが出来るので、釉薬を容易に回収することが出来、釉薬の回収率を向上させることが出来る。釉薬を効率的に回収することによって、その原材料の節約はもちろんのこと、良好な作業環境の維持が図れ、作業者の健康維持に役立つものである。

本発明では、負圧に維持したハウジング１内の施釉作業空間２で吹き付け施釉することが出来るようにすると共に、施釉作業空間２から排気される方向に配置した内部フィルタ７を常に水洗してその機能の維持を図ると共に、洗浄水と共に内部フィルタ７で捕捉された釉薬を回収するようにした。
以下、このような本発明の実施例について、図面を参照しながら具体例を挙げて詳細に説明する。

図１に示すように、金属製の箱状のハウジング１が構成され、その図１において左側の前面の上部に開口部３が設けられている。ハウジング１の開口部３の奥は施釉作業空間２となっており、この施釉作業空間２の底面を形成するようにテーブル４が設けられている。
ハウジング１の開口部３の上には、テーブル４上の作業エリアを照らすための照明５が設けられている。

施釉作業空間２の奥には、背面パネル６が張られており、施釉作業空間２と背面パネル６より奥の空間とが仕切られている。背面パネル６とテーブル４の間には、隙間が明いている。背面パネル６のテーブル４の奥に当たる部分に内部フィルタ７が張られている。この内部フィルタ７は、耐水性の樹脂繊維等からなるフィルタで、背面パネル６の窓枠状の部分に着脱自在に取り付けられている。

背面パネル８の上には、洗浄水を貯留し、背面パネル６をつたって内部フィルタ７に洗浄水を洗い流す上部水槽８が設けられている。他方、施釉作業空間２の下、具体的にはテーブル４の下に、下部水槽９が置かれる。この下部水槽９の背後にポンプ１０が設置され、このポンプ１０により、下部水槽９の上澄み水が前記上部水槽８に戻される。

施釉作業空間２の奥側には、ハウジング１の上部から前記下部水槽に向けて下方に傾斜するような勾配を有する洗浄水ガイド１１が設けられている。背面パネル６の奥であって洗浄水ガイド１１の中間からパネル状の排気ガイド１２が起立している。
さらに、ハウジング１の背面壁の上部であって、洗浄水ガイド１１の上側には、排気口１３が設けられており、この排気口１３には排気フィルタ１４が張られている。この排気口１３の排気フィルタ１４の手前には、モータで駆動される排気ファン１５が設けられ、この排気ファン１５の駆動により、ハウジング１の内部の空気が強制排気される。

次に、この施釉ブースの動作について説明する。
まず、施釉作業空間２内のテーブル４の上に素焼きの焼き物等の施釉体ａを載せる。この施釉体ａは、例えば手板ｂに載せられた状態でテーブル４の上に載せられる。この状態で、スプレーガン等により、施釉体ａに釉薬ｃを吹き付ける。このとき、手板ｂをテーブル４の上で回転しながら吹き付けることにより、釉薬ｃを施釉体ａの外周に均一に塗布することが出来る。

このような施釉作業中には、前述した排気ファン１５が駆動しており、これによりハウジング１の内部の空気が絶えず排気されるため、ハウジング１の内部では、その開口部３から施釉作業空間２及び内部フィルタ７を通して排気口１３に抜ける空気の流れが形成される。このため、施釉作業空間２の内部は絶えず大気圧に対して負圧に維持され、スプレーガン等から施釉体ａに吹き付けられる釉薬のミストが外部に漏れない。

施釉作業空間２で施釉体ａに吹き付けられた釉薬の一部は、施釉体ａに付着し、施釉されるが、それ以外の釉薬はミストとなって内部フィルタ７側に飛来する。前記の空気の流れにより、これらの釉薬のミストの大半は背面パネル６に付着し、主として内部フィルタ７により捕捉される。

この背面パネル６に付着し、或いは内部フィルタ７に捕捉された釉薬のミストは、上部水槽８から背面パネル６や内部フィルタ７をつたって流れる洗浄水により流され、洗浄水ガイド１１に落ち、そこから下部水槽９に流れ込む。また、施釉作業空間２で施釉体ａに吹き付けられた釉薬の他の一部は、背面パネル６とテーブル４との隙間から洗浄水ガイド１１に落ち、そこから洗浄水と共に下部水槽９に流れ込む。

水に対する釉薬の比重が大であることから、下部水槽９では、釉薬が速やかに沈殿し、その底に溜まる。下部水槽９の上澄み水はポンプ１０で上部水槽８に送られる。このように、洗浄水は常に上部水槽８と下部水槽９とを循環しながら、背面パネル６や内部フィルタ７を洗浄し、釉薬を下部水槽９に回収する。

内部フィルタ７を通った空気は排気ガイド１２によりガイドされてハウジング１の背面側に案内され、排気ファン１５の排気力により排気フィルタ１４を通って排気口１３から排気される。これにより、ハウジング１の外部には釉薬が完全に除去された空気が排気される。
なお、下部水槽９に回収した釉薬は、施釉作業が完了した後、下部水槽９をハウジング１から取りだし、上澄み水を除去して回収する。

本発明の一実施例による施釉ブースを示す縦断側面図である。

符号の説明

１ハウジング
３ハウジングの開口部
４テーブル
ａ施釉体
ｃ釉薬
２施釉作業空間
７内部フィルタ
８上部水槽
９下部水槽
１５排気ファン

Claims

施釉体（ａ）に釉薬を塗布するときに施釉の飛散を防止する施釉ブースであって、ハウジング（１）内に形成され、ハウジング前面に設けた開口部（３）からテーブル（４）上に置いた施釉体（ａ）に釉薬（ｃ）を塗布する施釉作業空間（２）と、前記開口部（３）に対して施釉作業空間（２）の奥に張られた内部フィルタ（７）と、この内部フィルタ（７）を水洗する上部水槽（８）と、この洗浄水を回収する下部水槽（９）と、前記開口部（３）から施釉作業空間（２）と内部フィルタ（７）を通してハウジング（１）の外部に空気を排気する排気ファン（１５）とを有することを特徴とする施釉ブース。