JP2005076977A - ガラスフレークの乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ガラスフレークを短時間で均一に加熱滅菌できるガラスフレークの乾燥装置を提供する。
【解決手段】 ガラスフレーク乾燥装置100は、内部に高周波を発振する発振器102を有する発振機101と、発振機101からの高周波を伝送する円形導波管103と、ガラスフレークを入れるSUSから成る容器201を内部に設置するアプリケータ104と、容器201内のガラスフレークの温度を測定する熱電対106とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 ガラスフレーク乾燥装置100は、内部に高周波を発振する発振器102を有する発振機101と、発振機101からの高周波を伝送する円形導波管103と、ガラスフレークを入れるSUSから成る容器201を内部に設置するアプリケータ104と、容器201内のガラスフレークの温度を測定する熱電対106とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ガラスフレークの乾燥装置に関し、特に化粧料に配合するガラスフレークの乾燥装置に関する。
従来、厚みがミクロンオーダーの非常に細かいガラス材料であるガラスフレークは、その表面にチタニア等から成る膜が被覆されると、パール調の色調を呈することが知られており、このパール調のガラスフレークを、化粧料や樹脂に配合することによって、パール調を有する商品が提供されている(例えば、特許文献1参照)。
また、このガラスフレークを乾熱滅菌器に入れ、ガラスフレーク内部の温度を160度〜170度にして1〜2時間保ち、ウィルス、細菌、細菌芽胞、カビ、酵母を含めた全ての微生物を死滅させるか、完全に除去することにより、衛生規格(JISL1902 4.3.1)を満たす必要がある。
従来の乾熱滅菌器は、その内部に都市ガスの燃焼熱や電熱により暖めた空気を熱風として循環させ、被加熱物を対流により加熱する熱伝達方式が採られている。乾熱滅菌器に被加熱物としてガラスフレークを入れる場合、熱風によりガラスフレークが飛散したり、異物がガラスフレークに混入したりすることを防止するため、フタが設けられているステンレス製容器中にガラスフレークを入れた後に、乾熱滅菌器内にこのステンレス容器を設置する。熱風により乾熱滅菌器内のステンレス容器を加熱し、ステンレス容器からの熱伝導によってガラスフレーク又はガラスフレーク中の水分に熱エネルギーが伝えられる。
特開2002―038051号公報
しかしながら、熱伝導による加熱では、ガラスフレークのように熱伝導性の悪い粉体の内部と表面部を均一に加熱することができないため、上述の衛生規格を満たすガラスフレークとするには長時間乾熱滅菌器内のステンレス製容器にガラスフレークを入れて、熱風乾燥させる必要があり、熱効率が非常に悪いという問題があった。
この乾燥時間を短縮させるためには乾熱滅菌器に供給するエネルギー量を増やす、即ちステンレス容器の加熱温度を上げるという方法も考えられるが、ガラスフレークの表面に被覆されるチタニア等から成る膜は熱により変質するため、200℃以上には加熱することができない。このため、加熱温度を上げることとすると、上記輻射加熱におけるガラスフレーク内部の温度調整をより厳密にしなくてはならないという問題があった。
本発明の目的は、ガラスフレーク短時間で均一に加熱滅菌できるガラスフレークの乾燥装置を提供することにある。
請求項1記載のガラスフレーク乾燥装置は、ガラスフレークを高周波で誘電加熱する加熱手段を備えることを特徴とする。
請求項2記載のガラスフレーク乾燥装置は、請求項1記載のガラスフレーク乾燥装置において、前記高周波は100MHz〜300GHzのであることを特徴とする。
請求項3記載のガラスフレーク乾燥装置は、請求項2記載のガラスフレーク乾燥装置において、前記高周波は10〜20GHzであることを特徴とする。
請求項4記載のガラスフレーク乾燥装置は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラスフレーク乾燥装置において、前記誘電加熱により蒸発した前記ガラスフレークの水分を排気する排気手段を備えることを特徴とする。
以上詳細に説明したように、請求項1記載のガラスフレーク装置によれば、ガラスフレークを高周波で誘電加熱する加熱手段を備えるので、ガラスフレークを短時間で均一に加熱滅菌できる。
請求項2記載のガラスフレーク乾燥装置によれば、誘電加熱に用いる高周波は、100MHz〜300GHzであるので、ガラスフレーク中の水の加熱除去、及びガラスフレーク自体の加熱を効率よく行うことができる。
請求項3記載のガラスフレーク乾燥装置によれば、誘電加熱に用いる高周波は、10〜20GHzであるので、ガラスフレーク中の水をより確実に加熱除去することができる。
請求項4記載のガラスフレーク乾燥装置によれば、誘電加熱により蒸発したガラスフレークの水分を排気するので、ガラスフレーク中から蒸発した水分が再度ガラスフレーク中に入ることを防止し、ガラスフレークの乾燥を確実に行うことができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳説する。
図1は、本発明の実施の形態に係るガラスフレーク乾燥装置の概略構成図である。
図1において、ガラスフレーク乾燥装置100は、内部に100MHz〜300GHzの範囲の高周波を発振する発振器102を有する発振機101と、ガラスフレークを入れるSUSから成る容器201を内部に設置するアプリケータ104と、発振機101からの高周波をアプリケータ104に伝送する円形導波管103と、容器201内のガラスフレークの温度を測定する熱電対106と、発振機101に電源を供給する電源盤107と、熱電対106及び電源盤107を制御するCPU105とを備える。
円形導波管103には、その内部にアプリケータ104より反射する過大な反射電力のみを吸収するアイソレータ108と、発振機101からの入射電力及びアプリケータ108からの反射電力を測定するパワーモニタ109と、パワーモニタ109で測定される反射電力が0となるように調整する整合機110と、円形導波管103内部を伝送する高周波の伝送モードのうち、主モードであるTE02モードの高周波のみを透過し、それ以外のモードの高周波の透過を妨げるモードフィルタ111と、窒化珪素の板から成り、アプリケータ104からの反射電力を吸収するバリアウィンドウ112と、導波管放電を検知し、発振機101の検知回路と連動してアーク発生による発振機101のダメージを防止するアークディテクタ213とが設けられている。
アプリケータ104は、容器201を円形導波管103からの電界の一番強い位置に有し、また外部に冷却器205を有する。冷却器205は、アプリケータ104の周りを冷却水によって冷却している。さらに、ポンプ202からの圧縮エアーをアプリケータ104内に導入するエアー導入口203と、アプリケータ内を循環した圧縮エアーを排気するエアー排気口204とを備える。
また、容器201は、図1に図示するような蓋を有しないものであってもよいが、圧縮エアーにより容器201内部のガラスフレークがアプリケータ104内に散乱することを防止するため、図2に示すような孔付きの蓋206を有するものであってもよい。
尚、本実施の形態では、ガラスフレークをアプリケータ104内の容器201に入れて乾燥していたが、これに限定されるわけでなく、例えば、図7に示すように、導波管103の代わりに折曲げ導波管103’を用いて、この折曲げ導波管103’内をガラスフレークがコンベアで搬送されるような構成としてもよい。これにより、アプリケータ104からのガラスフレーク出し入れを不要とすることができる。
次に、図1のガラスフレーク乾燥装置100により容器201内のガラスフレークを誘電加熱する原理を図3,図4を用いて説明する。
誘電加熱とは、誘電体を高周波電解中に配置し、誘電体自身の損失による発熱による昇温させる加熱方式をいう。図3に示すように、対向する電極板の間に誘電体を置き、電圧を印加すると、誘電体を構成する分子や有極性の基などが電界の方向へ配列しようとするが、交番周期の短い高周波電界中では高速な振動・回転による分子間摩擦により熱が発生する。図4において、電極の面積S(m2)、電極間隔d(m)、誘電体の比誘電率εr、誘電正接tanδ、周波数f(Hz)、電圧E(V)とすると、このコンデンサの容量C及び誘電正接tanδは以下の関係式を満たす。
C=ε0×εr×S/d(F) ・・・(1)
(ε0:真空の誘電率)
tanδ=1/(R×2πfC) ・・・(2)
従って、誘電体の発熱にかかる電力Pは上式(1),(2)により
P=E2/R=E2×tanδ×2πfC
=E2×tanδ×2πf×ε0×εr×S/d(W) ・・・(3)
となる。よって、発熱にかかる単位体積当たりの電力は、電界の強さ(E/d)の2乗、周波数f、比誘電率εr、誘電正接tanδに比例する。εr・tanδを誘電損失係数と呼び、誘電加熱の容易さを判断する目安となる。
(ε0:真空の誘電率)
tanδ=1/(R×2πfC) ・・・(2)
従って、誘電体の発熱にかかる電力Pは上式(1),(2)により
P=E2/R=E2×tanδ×2πfC
=E2×tanδ×2πf×ε0×εr×S/d(W) ・・・(3)
となる。よって、発熱にかかる単位体積当たりの電力は、電界の強さ(E/d)の2乗、周波数f、比誘電率εr、誘電正接tanδに比例する。εr・tanδを誘電損失係数と呼び、誘電加熱の容易さを判断する目安となる。
以上説明したように、誘電加熱は、他の加熱方式が放射・伝導・対流による外部の熱源からの熱の移動に依存するのに対し、被加熱物自身の発熱によるため、(1)物質自体の熱伝導を必要としないため、急速且つ均一な加熱が可能であり、(2)基本的に炉体や雰囲気の昇温を必要とせず、被加熱物自体が昇温するので加熱効率が良好となり、(3)高周波電力の印加に対し温度が迅速に上昇し、加熱のレスポンスがよいので制御が容易となり、(4)発熱が物質自体の特性εr・tanδに依存するので選択加熱が可能となり、(5)減圧下や特殊雰囲気での加熱が可能となり、(6)被加熱物が誘電体に限定され、金属のような良好な導電体は誘電加熱の対象とならず、(7)電界を印加するための電極を必要とする特徴がある。
特に、図5に示すように、水の誘電損失係数は10〜20GHz帯がピークとなっているため、発信機101からの周波数を10〜20GHzにすると、短時間でガラスフレークの乾燥を行うことができる。
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1として、以下の方法によりガラスフレークの乾燥を行った。
まず、SiO2、Al2O3、CaO、MgO、B2O3、ZnO、及びK2Oから成るガラスにSnO2及びTiO2から成る膜を被膜し、全体の厚みが5μm以下になるまで薄くし、その後に粒径が600μm以下となるまで粉砕し、ガラスフレークを生成した。
次に、上述のガラスフレークを、発振機(市販のジャイロトロン)のアプリケータ内のSUSから成る容器に入れ、このガラスフレークを衛生規格(JISL1902 4.3.1)を満たす商品とすべく、ガラスフレーク内部の温度を180度で1時間保つべく、アプリケータ内の容器中のガラスフレークの温度を測定しつつ、発振機からの周波数28GHzの高周波が図6のようなビーム電圧出力となるように誘電加熱した。
また、この誘電加熱中、アプリケータ内に圧縮エアを循環させ、ガラスフレークから蒸発した水分を順次排気していった。
一方、比較例1として、以下の方法によりガラスフレークの乾燥を行った。
上述のガラスフレークを内部に入れたSUSから成る容器を熱風を循環させる乾熱滅菌器の内部に入れ、熱風によりこの容器を加熱した。また、熱風をこの乾熱滅菌器内で循環させている間、このSUSから成る容器とその中のガラスフレークの温度を夫々測定した。
実施例1では、ガラスフレークは誘電加熱されているため、誘電損失の大きいガラスフレーク内の水分がまず均一に加熱される。このとき、図6に示すように、約500秒でガラスフレーク内の水分の乾燥が終了することがわかった。その後、ガラスフレーク自体が誘電加熱により均一に加熱される。図6に示すように、500秒でガラスフレークの温度を180度まで上昇させることができることがわかった。
一方、比較例1ではガラスフレークが入っているSUSから成る容器を200℃の乾熱滅菌器内を循環する熱風によって加熱することにより、この容器と接している部分から内部へとガラスフレークが加熱される。最終的には、24時間熱風を乾熱滅菌器内で循環させないと、ガラスフレーク内部が180度の温度で、1時間維持できなかった。
この結果より、上記実施例1は、比較例1と比べてガラスフレークを短時間で均一に加熱滅菌できることがわかった。
本実施の形態に係る乾燥装置は、ガラスフレークを乾燥するのに用いたが、誘電体(絶縁体)を乾燥させるのであれば本実施の形態に限定されるものでなく、特に、輻射加熱では加熱効率が悪い粉体の乾燥炉に転用することが可能である。
100 ガラスフレーク乾燥装置
101 発振機
104 アプリケータ
101 発振機
104 アプリケータ
Claims (4)
- ガラスフレークを高周波で誘電加熱する加熱手段を備えることを特徴とするガラスフレーク乾燥装置。
- 前記高周波は100MHz〜300GHzであることを特徴とする請求項1記載のガラスフレーク乾燥装置。
- 前記高周波は10〜20GHzであることを特徴とする請求項2記載のガラスフレーク乾燥装置。
- 前記誘電加熱により蒸発した前記ガラスフレークの水分を排気する排気手段を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラスフレーク乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003307647A JP2005076977A (ja) | 2003-08-29 | 2003-08-29 | ガラスフレークの乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003307647A JP2005076977A (ja) | 2003-08-29 | 2003-08-29 | ガラスフレークの乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005076977A true JP2005076977A (ja) | 2005-03-24 |
Family
ID=34410381
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JP2003307647A Withdrawn JP2005076977A (ja) | 2003-08-29 | 2003-08-29 | ガラスフレークの乾燥装置 |
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JP (1) | JP2005076977A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013536089A (ja) * | 2010-07-02 | 2013-09-19 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 微細孔の形成 |
-
2003
- 2003-08-29 JP JP2003307647A patent/JP2005076977A/ja not_active Withdrawn
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