JP2005063944A - 電解質膜・電極構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、炭化水素系固体高分子電解質膜を一対の電極で挟んでなる電解質膜・電極構造体を、最適な条件でのホットプレスにより提供するものであり、使用される電解質膜の乾燥状態におけるガラス転移温度が160℃以上であり、かつ電解質膜が電解質膜の重量に対して、10%から120%の範囲で水分を保持しうる電解質膜からなることを特徴とする電解質膜・電極構造体である。
Description
従来のパーフルオロスルホン酸系固体高分子電解質膜よりも優れた熱的安定性を有する電解質膜の候補として、高いガラス転移温度を有する炭化水素系のポリマー電解質膜の研究が行われており、同時にそのような炭化水素系ポリマー電解質膜を使用した電解質膜・電極構造体の研究がなされている。ここでいう炭化水素系ポリマー電解質としては、耐熱性や化学的安定性を考慮すると、例えば芳香族ポリアリーレンエーテル化合物を有望と考えることができる。ここで耐熱性を向上させるという意味では、高温におけるポリマーの変形を抑止させるために、より高いガラス転移温度を有するポリマーが好ましいという観点から、ポリマーが乾燥状態において160℃以上のガラス転移温度を有していることが好ましく、より良好には200℃以上である。
以下本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されることはない。なお、各種測定は次のように行った。
Ws=(Wi−Wd)/Wd×100(%)
Wm =(Ww−Wd)/Wd×100(%)
導電率[S/cm]=1/膜幅[cm]x膜厚[cm]x抵抗極間勾配[Ω/cm]
実施例1の電解質膜・電極構造体における電解質膜は次の方法により作製した。即ち、3,3’−ジスルホ−4,4’−ジクロロジフェニルスルホン2ナトリウム塩(略号:S−DCDPS)5.2335g(0.0106mole)、2,6−ジクロロベンゾニトリル(略号:DCBN)2.3323g(0.013559mole)、4,4‘−ビフェノール4.5086g(0.02421mole)、炭酸カリウム3.8484g(0.02784mole)とモリキュラーシーブ2.61gを100ml四つ口フラスコに計り取り、窒素を流した。35mlのNMPを入れて、148℃で一時間撹拌した後、反応温度を195−200℃に上昇させて系の粘性が十分上がるのを目安に反応を続けた(約5時間)。放冷の後、沈降しているモレキュラーシーブを除いて水中にストランド状に沈殿させた。得られたポリマーは、沸騰させた超純水中で1時間洗浄した後、乾燥した。ポリマーの対数粘度はせ1.25を示した。ポリマー1gをNMP5mlに溶解し、ホットプレート上ガラス板に約200μm厚にキャストし、フィルム状になるまでNMPを留去した後、水中に一晩以上浸漬した。得られたフィルムは、2リットルの1mol/l硫酸水溶液中で1時間沸騰水処理して塩をはずした後、超純水でさらに3回、1時間煮沸することで酸成分を除去した。その後、フィルムを固定した状態で、室温にて乾燥させた。一方、実施例1の電解質膜・電極構造体に使用した電極は次の方法により作製した。まず、デュポン社製20%ナフィオン(商品名)溶液(品番:SE−20192)に、触媒担持カーボン(カーボン:Cabot社製ValcanXC−72、白金触媒担持量:40重量%)を、触媒担持カーボンとナフィオンの重量比が2.7:1になるように加え、撹拌して触媒ペーストを調製した。この触媒ペーストを、撥水加工を施した東レ製カーボンペーパーTGPH−060に白金の付着量が0.4mg/cm2になるように塗布、乾燥して、電極(触媒層付きガス拡散層)を作製した。上記のように作製した電解質膜と電極の接着方法としては、電解質膜にエアーブラシを用いて超純水を均一に軽く吹き付けることで水分を付与した後、触媒層を電解質膜側に向けた電極に挟み込み、130℃、8MPaで3分間ホットプレスを施すことにより作製した。
電解質膜に含ませる水分量のみを替えたことを除いて、実施例1と同様の手法を用いて電解質膜・電極構造体を作製した。
実施例1においてS−DCDPSとDCBNの比率が23対77で合成した電解質膜を用いて実施例1と同様の手法を用いて電解質膜・電極構造体を作製した。
実施例1においてS−DCDPSとDCBNの比率が62対38で合成した電解質膜を用いて実施例1と同様の手法を用いて電解質膜・電極構造体を作製した。
実施例1と同様の手法で電解質膜・電極構造体を作製した後、電極の周辺部分をシール剤(株式会社スリーボンド TB1152)を用いてシールした。
実施例において電解質膜を加湿する際、エアスプレーで水分を直接塗布する替わりに、20℃90RH%の環境下に20時間電解質膜をさらすことにより、均一に電解質膜を加湿したことを除いて、実施例1と同様の手法を用いて電解質膜・電極構造体を作製した。電解質膜・電極接合体を8組作製し比較した所、再現性良く水分量を制御できることを確認した。実施例1〜5で行ったエアスプレーによる加湿では、再現性良く水分量を制御することはできていない。また本実施例によると、エアスプレーで水分を付与した電解質膜・電極構造体に比較して、良好な耐久性を示した。電解質膜が均質に加湿されているため、接合状態も均質となったことが原因と考えられる。
エアーブラシを用いて電解質膜に水分を含ませないことを除いて、実施例1と同様の手法を用いて電解質膜・電極構造体を作製しようと試みたが、電解質膜と電極の接着性が悪く、電解質膜・電極構造体を作製することはできなかった。
185℃、8MPaで3分間ホットプレスしたことを除いて比較例1の手法で電解質膜・電極構造体を作製した。電解質膜・電極構造体を作製することはできたが、膜の変色が確認された。発電試験の性能は、実施例1・2・5のものに比べて低く、かつ耐久性も悪いものであった。なお、170℃でホットプレスする手法も試したが、その場合、電解質膜・電極構造体を作製することはできなかった。
電解質膜を超純水に浸漬した事を除いて、実施例4の手法で電解質膜・電極構造体を作製した。電解質膜の変形が大きかった。発電試験を実施したところ、1時間経過した時点でガスリークが発生し評価できなかった。
Claims (5)
- 炭化水素系固体高分子電解質膜を一対の電極で挟んでなる電解質膜・電極構造体において、使用される電解質膜の乾燥状態におけるガラス転移温度が160℃以上であり、かつ電解質膜が電解質膜の重量に対して、10%から120%の範囲で水分を保持しうる電解質膜からなることを特徴とする電解質膜・電極構造体。
- 一対の電極の周縁部が、シール部材で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電解質膜・電極構造体。
- 炭化水素系固体高分子電解質膜と一対の電極を接合する方法であり、炭化水素系固体高分子電解質膜中に含まれる水分量が、前記炭化水素系固体高分子電解質膜が含有可能な最大水分量の10〜70%の範囲にある状態において、前記電極とホットプレスにより接合することを特徴とする、請求項1に記載の電解質膜・電極構造体の製造法。
- 炭化水素系固体高分子電解質膜を、湿度および/または温度が管理された雰囲気下に保持することによって炭化水素系固体高分子電解質膜に水分を付与することを特徴とする、請求項4の範囲の電解質膜・電極構造体の製造法。
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