JP2005059173A - Suction device and chuck table - Google Patents

Suction device and chuck table Download PDF

Info

Publication number
JP2005059173A
JP2005059173A JP2003294695A JP2003294695A JP2005059173A JP 2005059173 A JP2005059173 A JP 2005059173A JP 2003294695 A JP2003294695 A JP 2003294695A JP 2003294695 A JP2003294695 A JP 2003294695A JP 2005059173 A JP2005059173 A JP 2005059173A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pedestal
air
adsorption
adsorption device
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003294695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Kato
誠司 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
YOSHIOKA SEIKO KK
Original Assignee
YOSHIOKA SEIKO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by YOSHIOKA SEIKO KK filed Critical YOSHIOKA SEIKO KK
Priority to JP2003294695A priority Critical patent/JP2005059173A/en
Publication of JP2005059173A publication Critical patent/JP2005059173A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction device and a chuck table that have all main functions for sucking a sucked object, are small and excellent in portability, and have small amount of adhered dirt. <P>SOLUTION: The suction device 1 comprises a pedestal 2 and a driving mechanism 3 stored in the pedestal 2. Specifically, a suction hole 21 and a release hole 22 are punched in the ceiling 20 of the pedestal 2, and an air supply port 25 and an air exhaust port 26 are disposed in a sidewall 24. A ceramic porous 4 is placed on the ceiling 20. The driving mechanism 3 comprises a change-over apparatus 30 and a vacuum generator 31, and sucks or releases a workpiece W from the pedestal 2 using air supplied from the air supply port 25 by operation of a knob 30e. Preferably, the pedestal 2 is made of titanium, and a waveform swell 24a is formed on the sidewall 24. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、ワークなどの吸着対象物を真空吸着によって保持する吸着装置及びチャックテーブルに関するものである。   The present invention relates to a suction device and a chuck table that hold a suction target such as a workpiece by vacuum suction.

従来、この種の吸着装置は、ワークなどの吸着対象物を載せるテーブルに一以上の孔や溝を設け、これらの孔や溝の内部を、真空ポンプにより負圧にし又は正圧にすることで、吸着対象物をテーブル上に吸着し又は吸着状態から解放する構造になっている(例えば、特許文献1参照)。そして、吸着対象物を吸着固定した状態で、ダイシングや研削などの作業を行うものである。   Conventionally, this type of suction device is provided with one or more holes and grooves on a table on which an object to be sucked such as a workpiece is placed, and the inside of these holes and grooves is made negative or positive by a vacuum pump. The suction object is sucked on the table or released from the sucked state (see, for example, Patent Document 1). Then, operations such as dicing and grinding are performed in a state in which the object to be sucked is sucked and fixed.

特開平08−125000号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-125000

しかしながら、上記した吸着装置では、次のような問題がある。
テーブルは、別体の装置本体部に取り付けて使用するようになっており、真空ポンプ,圧力切換器や制御器などはこの装置本体部に設けられている。このため、作業を行う都度、吸着対象物に対応したテーブルを装置本体部に組み込む作業が必要であり、無駄な準備作業を強いられていた。また、装置本体部はダイシングだけでなく、研削などの他作業にも使用可能な構造になっているため、大型でコストも高かった。装置本体部がかかる構造であるため、テーブル自体は孔などが設けられた単純な構造で足りるとされ、テーブルの取付及び取外や運搬などを配慮した工夫がなされていなかった。また、テーブルがアルミニウムやステンレスで形成されていたので、ダイシング作業時の切断粉などが付着し易いという問題もあった。さらに、孔や溝の内部を、負圧にして吸着対象物を吸着固定する構造であるので、吸着対象物に対する吸引力の偏りが発生し、吸着対象物を均一な吸引力で吸着固定することが困難であった。
However, the above-described adsorption device has the following problems.
The table is used by being attached to a separate apparatus main body, and a vacuum pump, a pressure switch, a controller, and the like are provided in the apparatus main body. For this reason, every time work is performed, a work for incorporating a table corresponding to the object to be sucked into the apparatus main body is required, and a wasteful preparation work is forced. Moreover, since the apparatus main body has a structure that can be used not only for dicing but also for other operations such as grinding, it is large and expensive. Since the apparatus main body has such a structure, the table itself is considered to be a simple structure provided with holes and the like, and no contrivance has been made in consideration of attachment, removal or transportation of the table. In addition, since the table is made of aluminum or stainless steel, there is a problem that cutting powder or the like at the time of dicing work tends to adhere. Furthermore, since the suction object is suction-fixed with negative pressure inside the hole or groove, the suction force is biased against the suction object, and the suction object is suction-fixed with a uniform suction force. It was difficult.

この発明は、上述した課題を解決するためになされたもので、1台の装置に吸着対象物を吸着するための主な機構のほとんどを備え且つ小型で携帯性に優れ、しかも汚れの付着が少ない吸着装置及びチャックテーブルを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is equipped with most of the main mechanisms for adsorbing an object to be adsorbed on one apparatus, is small and excellent in portability, and has dirt attached. An object of the present invention is to provide a small number of suction devices and chuck tables.

上記課題を解決するために、請求項1の発明は、吸着対象物を載せるための平坦な天壁を有した台座と、この台座内に収納され、外部から供給された空気を利用して、吸着対象物を天壁上に吸着し又は解放するための駆動機構とを備える吸着装置であって、台座は、天壁に穿設された吸引孔及び解放孔と、側壁に設けられた空気供給口及び空気排出口とを有し、駆動機構は、台座の空気供給口に連結された流入口,第1の流出口,及び解放孔に連結された第2の流出口を有し、側壁外面に取り付けられた操作部を用いて、流入口を第1の流出口又は第2の流出口のいずれかに選択的に連通させることができる切換器と、この切換器の第1の流出口からの空気を空気排出口側に高速流出させることで、吸引孔内を負圧にする負圧発生器とを有する構成とした。
かかる構成により、吸着対象物を台座の天壁に載せ、空気を外部から空気供給口に供給している状態で、切換器の操作部を用いて流入口を第1の流出口に連通させると、第1の流出口からの空気が、負圧発生器によって空気排出口側に流出され、吸引孔内が負圧となる。この結果、吸着対象物が吸引孔の負圧作用によって、天壁上に吸着されることとなる。また、切換器の操作部を用いて、流入口と第1の流出口との連通状態から流入口と第2の流出口に連通状態に切り換えると、第2の流出口からの空気が解放孔から流出し、天壁上の吸着対象物を吸着状態から解放する。
In order to solve the above problems, the invention of claim 1 uses a pedestal having a flat top wall for placing an object to be adsorbed, and air stored in the pedestal and supplied from outside, An adsorption device comprising a drive mechanism for adsorbing or releasing an object to be adsorbed on the top wall, wherein the pedestal includes a suction hole and a release hole formed in the top wall, and an air supply provided in the side wall And a drive mechanism having an inlet connected to the air supply port of the pedestal, a first outlet, and a second outlet connected to the release hole. A switch that can selectively communicate the inlet with either the first outlet or the second outlet using the operation unit attached to the first outlet, and the first outlet of the switch It has a negative pressure generator that makes the inside of the suction hole negative by allowing the air to flow out to the air outlet side at high speed It was constructed.
With this configuration, when the suction target is placed on the top wall of the pedestal and air is supplied from the outside to the air supply port, the inlet is communicated with the first outlet using the operation unit of the switch. The air from the first outlet flows out to the air outlet side by the negative pressure generator, and the suction hole becomes negative pressure. As a result, the object to be adsorbed is adsorbed on the top wall by the negative pressure action of the suction hole. Further, when the operation part of the switching device is used to switch the communication state between the inlet and the first outlet to the communication state between the inlet and the second outlet, the air from the second outlet is released into the release hole. The adsorption object on the top wall is released from the adsorption state.

また、請求項2の発明は、請求項1に記載の吸着装置において、台座の天壁の上に、平坦な多孔質の載置板を設けた構成としてある。
かかる構成により、吸引孔内が負圧となると、多孔質の載置板が吸着対象物全体を均一な吸引力で吸い着ける。
特に、請求項3の発明は、請求項2に記載の吸着装置において、載置板は、セラミックポーラス又は金属焼結体のいずれかである構成とした。
The invention according to claim 2 is the adsorption device according to claim 1, wherein a flat porous mounting plate is provided on the top wall of the pedestal.
With this configuration, when the suction hole has a negative pressure, the porous mounting plate can suck the entire object to be sucked with a uniform suction force.
In particular, the invention of claim 3 is the adsorption device according to claim 2, wherein the mounting plate is either a ceramic porous body or a metal sintered body.

また、請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の吸着装置において、台座をチタニウムによって形成した構成とし、請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の吸着装置において、台座の側壁外面に、指先に対応した波形状のうねりを設けた構成とした。   According to a fourth aspect of the present invention, in the adsorption apparatus according to any one of the first to third aspects, the pedestal is formed of titanium, and the fifth aspect of the invention is directed to the first aspect of the present invention. In any one of the suction devices, a wave-like swell corresponding to the fingertip is provided on the outer surface of the side wall of the pedestal.

また、別の技術的思想として、請求項6の発明は、吸着対象物を載せるための平坦な天壁を有した台座と、この台座内に収納され且つ吸着対象物を天壁上に吸着し又は解放するための真空ポンプとを備える吸着装置であって、台座は、天壁に穿設された小孔を有し、真空ポンプは、台座の外部に連通した第1の空気流出入口と小孔に連通した第2の空気流出入口とを有し、台座の側壁外面に取り付けられた操作部を用いて、小孔内の空気の吸引又は小孔内への空気の供給を選択的に行うことができるものである構成とした。   As another technical idea, the invention of claim 6 includes a pedestal having a flat top wall for placing an object to be adsorbed, and an object to be adsorbed on the top wall that is housed in the pedestal. Or a suction device including a vacuum pump for releasing the pedestal, the pedestal has a small hole formed in the top wall, and the vacuum pump is connected to the first air outflow inlet and the small communication with the outside of the pedestal A second air outflow inlet communicating with the hole, and selectively sucking air in or supplying the air into the small hole by using an operation unit attached to the outer surface of the side wall of the pedestal. It was set as the structure which can be.

そして、請求項7の発明は、請求項6に記載の吸着装置において、天壁の上に、セラミックポーラス又は金属焼結体等を素材とする平坦な多孔質の載置板を設けた構成としてある。また、請求項8の発明は、請求項6または請求項7に記載の吸着装置において、台座をチタニウムによって形成した構成としてある。特に、請求項9の発明は、請求項6ないし請求項8のいずれかに記載の吸着装置において、台座の側壁外面に、指先に対応した波形状のうねりを設けた構成としてある。   The invention of claim 7 is the adsorption device according to claim 6, wherein a flat porous mounting plate made of a ceramic porous or sintered metal material is provided on the top wall. is there. The invention according to claim 8 is the adsorption device according to claim 6 or 7, wherein the pedestal is formed of titanium. In particular, a ninth aspect of the present invention is the suction device according to any of the sixth to eighth aspects, wherein a wave-like swell corresponding to the fingertip is provided on the outer side wall of the pedestal.

さらに、別の技術的思想として、請求項10の発明は、吸着対象物を載せるための平坦な天面と、この天面に開口した小孔に連通して天面以外の部位で開口する空気通路とを有し、全体がチタニウムによって形成されている構成としたチャックテーブルを開示する。   Furthermore, as another technical idea, the invention of claim 10 is directed to a flat top surface for placing an object to be adsorbed and air that opens at a portion other than the top surface in communication with a small hole opened in the top surface. Disclosed is a chuck table that includes a passage and is entirely formed of titanium.

また、請求項11の発明は、請求項10に記載のチャックテーブルにおいて、天面の上に、セラミックポーラス又は金属焼結体等を素材とする平坦な多孔質の載置板を設けた構成とした。特に、請求項12の発明は、請求項10または請求項11に記載のチャックテーブルにおいて、チューブを空気通路の開口に連結し、このチューブを通じて小孔内の空気の吸引又は小孔内への空気の供給を選択的に行うことができる真空ポンプを取り付けた構成としてある。   The invention according to claim 11 is the chuck table according to claim 10, wherein a flat porous mounting plate made of a ceramic porous material or a sintered metal body is provided on the top surface. did. In particular, the invention of claim 12 is the chuck table according to claim 10 or claim 11, wherein the tube is connected to the opening of the air passage, and air is sucked into the small hole through the tube or air into the small hole. It is set as the structure which attached the vacuum pump which can selectively supply.

以上のように、請求項1及び請求項6の発明によれば、吸着対象物を吸着及び解放する駆動機構を台座内に収納した構成としたので、1台で吸着対象物吸着機能と負圧発生機能と吸着/解放切換機能とを併せ持つ小型の吸着装置を提供することができるという優れた効果がある。   As described above, according to the first and sixth aspects of the present invention, since the drive mechanism for sucking and releasing the suction target object is housed in the pedestal, the suction target object suction function and the negative pressure can be achieved with one unit. There is an excellent effect that it is possible to provide a small-sized adsorption device having both the generation function and the adsorption / release switching function.

特に、請求項2,請求項3,請求項7及び請求項11の発明によれば、吸着対象物全体を均一な吸引力で載置板上に吸着するので、吸着対象物を強固且つ確実に固定することができる。この結果、吸着機能の高い吸着装置やチャックテーブルを提供することができるという効果がある。   In particular, according to the invention of claim 2, claim 3, claim 7 and claim 11, the entire object to be adsorbed is adsorbed on the mounting plate with a uniform suction force, so that the object to be adsorbed is firmly and reliably. Can be fixed. As a result, it is possible to provide a suction device or a chuck table having a high suction function.

また、請求項4,請求項8及び請求項10の発明によれば、台座やチャックテーブルをチタニウムによって形成したので、吸着装置やチャックテーブルの軽量化を図ることができると共に、切削粉等の汚れの付着を防止することができる。さらに、請求項5及び請求項9の発明によれば、台座の側壁外面と波形状のうねりが設けられているので、指先がうねりにフィットし、吸着装置の取扱や持ち運びを容易且つ安全に行うことができる。   According to the inventions of claim 4, claim 8 and claim 10, since the pedestal and the chuck table are made of titanium, the weight of the suction device and the chuck table can be reduced, and dirt such as cutting powder can be obtained. Can be prevented. Furthermore, according to the invention of Claim 5 and Claim 9, since the side wall outer surface of the pedestal and the wave-like undulation are provided, the fingertip fits the undulation, and the handling and carrying of the suction device can be performed easily and safely. be able to.

以下、この発明の実施例について図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、この発明の第1の実施例に係る吸着装置の分解斜視図であり、図2は天壁を示す平面図であり、図3は台座の内部を底面側から見た底面図であり、図4は吸着装置の概略断面図である。
図1に示すように、吸着装置1は、台座2と、駆動機構3と、載置板としてのセラミックポーラス4とを備えている。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a suction device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view showing a top wall, and FIG. 3 is a bottom view of the inside of a pedestal as viewed from the bottom side. FIG. 4 is a schematic sectional view of the adsorption device.
As shown in FIG. 1, the suction device 1 includes a pedestal 2, a drive mechanism 3, and a ceramic porous 4 as a mounting plate.

台座2は、吸着対象物であるワークW(図5参照)を載置するための筒状体であり、天壁20と側壁24とで構成されている。
天壁20は、セラミックポーラス4を載せることができる平坦な円形部であり、その中心に吸引孔21が穿設され、吸引孔21の外側位置に解放孔22が穿設されている。また、天壁20の表面には、図2に示すように同心状の円形溝23a〜23cと、十字溝23dとが刻設されており、吸引孔21,解放孔22はこれらの溝23a〜23d上に位置する。
側壁24は、図1及び図3に示すように、天壁20と共に内部に駆動機構3の収納室を画成しており、その下部に、空気供給口25と空気排出口26とを有している。このような側壁24の外側には、図4にも示すように、指先に対応した波形状のうねり24aが形成されており、吸着装置の取扱や持ち運びを容易且つ安全に行うことができるようにしている。
上記の如き台座2は、全てチタニウムによって形成されており、その外径Dは170mm、天壁20の外径dは152mm、高さhは50mmに設定され、装置の軽量化と小型化とが図られている。
The pedestal 2 is a cylindrical body on which a work W (see FIG. 5) that is an object to be sucked is placed, and includes a top wall 20 and a side wall 24.
The top wall 20 is a flat circular portion on which the ceramic porous 4 can be placed. A suction hole 21 is formed at the center of the top wall 20, and a release hole 22 is formed at a position outside the suction hole 21. Further, as shown in FIG. 2, concentric circular grooves 23a to 23c and a cross groove 23d are formed on the surface of the top wall 20, and the suction hole 21 and the release hole 22 are formed in the grooves 23a to 23d. 23d.
As shown in FIGS. 1 and 3, the side wall 24 defines a storage chamber for the drive mechanism 3 in the interior together with the top wall 20, and has an air supply port 25 and an air discharge port 26 at the lower portion thereof. ing. As shown in FIG. 4, a wave-like swell 24a corresponding to the fingertip is formed on the outside of the side wall 24, so that the suction device can be handled and carried easily and safely. ing.
The pedestal 2 as described above is all made of titanium, the outer diameter D is set to 170 mm, the outer diameter d of the top wall 20 is set to 152 mm, and the height h is set to 50 mm, thereby reducing the weight and size of the apparatus. It is illustrated.

駆動機構3は、図1及び図3に示すように、台座2内に収納され、外部から供給された空気を利用して、ワークWを台座2上に吸着し又は解放するための機構である。
この駆動機構3は、切換器30と負圧発生器としての真空発生器31とを備えてなる。 具体的には、切換器30は、流入口30aと第1の流出口30bと第2の流出口30cとを有している。そして、流入口30aがチューブ32を介して台座2の空気供給口25に連結され、流出口30bがチューブ33を介して真空発生器31に連結され、流出口30cがチューブ34を介して台座2の解放孔22に連結されている。
このような切換器30は、側壁24外面に取り付けられた操作部としての摘み30eに回転軸30dを連結させた状態で、台座2内に固定されている。この切換器30の切換の選択は「VACCUM」,「OFF」,「BLOW」の3種類あり、摘み30eを「VACCUM」印に合わせると、流入口30aと流出口30bとが連通し、「OFF」印に合わせると、流入口30aは流出口30b,30cのいずれにも連通せず、「BLOW」印に合わせると、流入口30aと流出口30cとが連通するようになっている。
一方、真空発生器31は、その空気流出口がチューブ35を介して台座2の空気排出口26に連結され、吸引口31aがチューブ36を介して台座2の吸引孔21に連結されている。この真空発生器31は、公知の機器であり、チューブ33から流入した空気をチューブ35側に高速流出させることで、チューブ36及び吸引孔21内の空気を吸引し、吸引孔21内を負圧にする機能を有する。
As shown in FIGS. 1 and 3, the drive mechanism 3 is a mechanism for adsorbing or releasing the workpiece W on the pedestal 2 using air supplied from outside and housed in the pedestal 2. .
The drive mechanism 3 includes a switch 30 and a vacuum generator 31 as a negative pressure generator. Specifically, the switching device 30 has an inlet 30a, a first outlet 30b, and a second outlet 30c. The inlet 30a is connected to the air supply port 25 of the base 2 via the tube 32, the outlet 30b is connected to the vacuum generator 31 via the tube 33, and the outlet 30c is connected to the base 2 via the tube 34. Is connected to the release hole 22.
Such a switch 30 is fixed in the pedestal 2 in a state where the rotary shaft 30d is connected to a knob 30e as an operation unit attached to the outer surface of the side wall 24. There are three types of switching of the switch 30: “VACCUM”, “OFF”, and “BLOW”. When the knob 30e is set to the “VACCUM” mark, the inlet 30a and the outlet 30b communicate with each other, and “OFF” The inflow port 30a does not communicate with any of the outflow ports 30b and 30c, and the inflow port 30a and the outflow port 30c communicate with each other when aligned with the “BLOW” mark.
On the other hand, the air outlet of the vacuum generator 31 is connected to the air outlet 26 of the base 2 via the tube 35, and the suction port 31 a is connected to the suction hole 21 of the base 2 via the tube 36. The vacuum generator 31 is a known device, and sucks air in the tube 36 and the suction hole 21 by letting the air flowing in from the tube 33 flow out to the tube 35 side at high speed, and negative pressure is generated in the suction hole 21. It has a function to make.

セラミックポーラス4は、ワークWを載置するための平坦且つ多孔質の円板体であり、その外径は、天壁20の外径と略等しく設定されている。   The ceramic porous 4 is a flat and porous disk body on which the workpiece W is placed, and the outer diameter thereof is set to be approximately equal to the outer diameter of the top wall 20.

次に、この実施例の吸着装置1が示す作用及び効果について説明する。
図5は、エアポンプを吸着装置1に接続した状態を示す斜視図である。
例えば、ダイシングや研削作業を行う場合には、吸着装置1を所定の場所迄運搬し、セットする必要がある。この実施例の吸着装置1では、台座2の側壁24に、指先に対応した波形状のうねり24aが形成されているので、手で容易に持ち運ぶことができる。さらに、台座2全体がチタニウムで形成されているので、吸着装置1自体が軽量である。したがって、吸着装置1のセッティングも容易且つ正確に行うことができる。
吸着装置1をセットした後、ワークWを吸着装置1に固定する場合には、エアポンプ5のチューブ50を吸着装置1の空気供給口25に接続すると共に、ワークWに図示しない接着テープを貼って、そのワークWを吸着装置1のセラミックポーラス4上に載置する。
かかる状態で、エアポンプ5からエアを吸着装置1に送ると共に吸着装置1の摘み30eを「VACCUM」印に合わせる。
図6は、吸着装置1の吸着動作時におけるエアの流れを示す底面図であり、図7は、吸着装置1の吸着動作を示す部分拡大断面図である。
摘み30eを「VACCUM」印に合わせると、切換器30の流入口30aと流出口30bとが連通し、図6の矢印で示すように、エアポンプ5からチューブ50,空気供給口25,チューブ32を通じて切換器30の流入口30aに送り込まれたエアAは、流出口30bからチューブ33を通じて真空発生器31内に送出される。すると、真空発生器31の機能により、エアAがチューブ35側に高速流出されて空気排出口26から排出されると同時に、チューブ36及び吸引孔21内のエアAが吸引されて、吸引孔21内が負圧になる。すなわち、図7に示すように、セラミックポーラス4の孔,溝23a〜23d,吸引孔21,チューブ36内のエアAが吸引されて、これらの空間が負圧状態になる。この結果、ワークWがセラミックポーラス4上に吸着される。このとき、セラミックポーラス4が多孔質の円板体であるため、ワークW全体が均一な吸引力でセラミックポーラス4上に吸着固定されることとなる。
かかる状態で、図5に示すように、吸着装置1上に固定されたワークWに対して、ダイシングや研削作業を行うことができる。かかる作業においては、ワークWの切断粉や切削液が飛散し、吸着装置1に付着するおそれがある。しかし、台座2を全てチタニウムによって形成してあるので、切削粉などが台座2に付着することはほとんどない。さらに、チタニウムの熱膨張率はセラミックスの熱膨張率と近いため、天壁20やセラミックポーラス4の平面度が外気温度によって損なわれることなく、この結果、高精度の作業を行うことができる。
Next, the operation and effect of the adsorption device 1 of this embodiment will be described.
FIG. 5 is a perspective view showing a state where the air pump is connected to the suction device 1.
For example, when dicing or grinding work is performed, it is necessary to transport and set the suction device 1 to a predetermined place. In the suction device 1 of this embodiment, the corrugated swell 24a corresponding to the fingertip is formed on the side wall 24 of the base 2, so that it can be easily carried by hand. Furthermore, since the entire base 2 is made of titanium, the adsorption device 1 itself is lightweight. Therefore, the adsorption device 1 can be set easily and accurately.
When the workpiece W is fixed to the suction device 1 after the suction device 1 is set, the tube 50 of the air pump 5 is connected to the air supply port 25 of the suction device 1 and an adhesive tape (not shown) is attached to the workpiece W. The workpiece W is placed on the ceramic porous 4 of the suction device 1.
In this state, air is sent from the air pump 5 to the adsorption device 1 and the knob 30e of the adsorption device 1 is set to the “VACCUM” mark.
FIG. 6 is a bottom view showing the air flow during the suction operation of the suction device 1, and FIG. 7 is a partially enlarged sectional view showing the suction operation of the suction device 1.
When the knob 30e is aligned with the “VACCUM” mark, the inlet 30a and the outlet 30b of the switching device 30 communicate with each other, and the air pump 5 through the tube 50, the air supply port 25, and the tube 32 as shown by the arrows in FIG. The air A sent into the inlet 30a of the switching device 30 is sent into the vacuum generator 31 through the tube 33 from the outlet 30b. Then, due to the function of the vacuum generator 31, the air A is quickly discharged to the tube 35 side and discharged from the air discharge port 26, and at the same time, the air A in the tube 36 and the suction hole 21 is sucked, and the suction hole 21. Inside becomes negative pressure. That is, as shown in FIG. 7, the holes A, the grooves 23a to 23d, the suction holes 21 and the air A in the tube 36 of the ceramic porous 4 are sucked, and these spaces are in a negative pressure state. As a result, the workpiece W is adsorbed on the ceramic porous 4. At this time, since the ceramic porous 4 is a porous disk, the entire workpiece W is adsorbed and fixed onto the ceramic porous 4 with a uniform suction force.
In this state, as shown in FIG. 5, dicing and grinding operations can be performed on the workpiece W fixed on the suction device 1. In such operations, cutting powder and cutting fluid of the workpiece W may be scattered and adhere to the suction device 1. However, since the pedestal 2 is entirely made of titanium, cutting powder or the like hardly adheres to the pedestal 2. Furthermore, since the thermal expansion coefficient of titanium is close to the thermal expansion coefficient of ceramics, the flatness of the top wall 20 and the ceramic porous 4 is not impaired by the outside air temperature, and as a result, highly accurate work can be performed.

作業終了後は、ワークWを固定状態から解放して取り外し、次のワークWの加工を行う。
かかる場合には、吸着装置1の摘み30eを「BLOW」印に合わせる。
図8は、吸着装置1の解放動作時におけるエアの流れを示す底面図であり、図9は、吸着装置1の解放動作を示す部分拡大断面図である。
摘み30eを「BLOW」印に合わせると、図8の矢印で示すように、切換器30において、流入口30aと流出口30bとの連通状態から流入口30aと流出口30cとの連通状態に切り換わる。すると、エアポンプ5から流入口30aに送り込まれたエアAは、流出口30cからチューブ34を通じて天壁20の解放孔22内に送出される。
この結果、図9に示すように、エアAが、解放孔22,溝23a〜23d,セラミックポーラス4の孔を通って、ワークWの裏面に至り、これらの空間を正圧状態にするので、ワークWが取外可能な解放状態になる。
After the work is completed, the workpiece W is released from the fixed state and removed, and the next workpiece W is processed.
In such a case, the knob 30e of the suction device 1 is set to the “BLOW” mark.
FIG. 8 is a bottom view showing the flow of air during the releasing operation of the suction device 1, and FIG. 9 is a partially enlarged sectional view showing the releasing operation of the suction device 1.
When the knob 30e is aligned with the “BLOW” mark, as shown by the arrow in FIG. 8, the switch 30 switches from the communication state between the inlet 30a and the outlet 30b to the communication state between the inlet 30a and the outlet 30c. Change. Then, the air A sent from the air pump 5 to the inlet 30a is sent from the outlet 30c through the tube 34 into the release hole 22 of the top wall 20.
As a result, as shown in FIG. 9, the air A passes through the release holes 22, the grooves 23 a to 23 d and the holes of the ceramic porous 4 and reaches the back surface of the work W, and these spaces are brought into a positive pressure state. The workpiece W is released and can be removed.

以上のように、この実施例の吸着装置1は、1台の軽量且つ小型の装置で、ワークWに対する吸着機能と吸引孔21内への負圧発生機能と切換器30による吸着/解放切換機能とを併せ持つという優れた効果を有する。   As described above, the suction device 1 of this embodiment is a single lightweight and small device, which has a suction function for the workpiece W, a negative pressure generation function in the suction hole 21, and a suction / release switching function by the switch 30. It has an excellent effect of having both.

次に、この発明の第2の実施例に係る吸着装置について説明する。
図10は、この発明の第2の実施例に係る吸着装置の分解斜視図である。なお、この図において、図1に示した部材と同一部材については同一符号を付して説明する。
図10に示すように、吸着装置1′は、天壁20′を有した台座2′とセラミックポーラス4とを備えている点で上記第1の実施例と同様であるが、駆動機構3の代わりに真空ポンプ6を適用した点が上記第1の実施例と異なる。
Next, an adsorption apparatus according to a second embodiment of the invention will be described.
FIG. 10 is an exploded perspective view of the adsorption device according to the second embodiment of the present invention. In this figure, the same members as those shown in FIG.
As shown in FIG. 10, the suction device 1 ′ is similar to the first embodiment in that it includes a pedestal 2 ′ having a top wall 20 ′ and a ceramic porous 4. The point which applied the vacuum pump 6 instead differs from the said 1st Example.

台座2′は、第1の実施例とほぼ同構造であるが、セラミックポーラス4を載せる天壁20′は、中心の小孔21′のみを有している。すなわち、この小孔21′を通じてワークWの吸引だけでなくワークWの解放をも行う構造になっている。天壁20′表面には、円形溝23a〜23cと十字溝23dとが刻設され、側壁24の外側にはうねり24aが設けられている。そして、側壁24には空気給排口25′のみが設けられている。かかる台座2′は上記台座2と同様に、全てチタニウムによって形成されている。   The pedestal 2 'has substantially the same structure as that of the first embodiment, but the top wall 20' on which the ceramic porous 4 is placed has only a central small hole 21 '. That is, not only the work W is sucked but also the work W is released through the small hole 21 '. Circular grooves 23 a to 23 c and a cross groove 23 d are formed on the surface of the top wall 20 ′, and a swell 24 a is provided outside the side wall 24. The side wall 24 is provided only with an air supply / discharge port 25 '. The pedestal 2 'is made of titanium, as with the pedestal 2.

真空ポンプ6は、ワークWを天壁20′上のセラミックポーラス4に吸着し又は解放するための公知のポンプであり、台座2′内に収納されている。
具体的には、真空ポンプ6は、第1の空気流出入口61と第2の空気流出入口62とを有している。そして、空気流出入口61がチューブ63を介して側壁24の空気給排口25′に連結され、空気流出入口62がチューブ64を介して天壁20′の小孔21′に連結されている。
このような真空ポンプ6は、電気スイッチ軸6bを操作部としての摘み6aに連結させた状態で、台座2′内に固定されている。この真空ポンプ6は電動式であり、内蔵された図示しないモータが、外部コンセントに接続されたプラグ65のコード66を通じて電気を入力する。この真空ポンプ6は、摘み6aを用いて、小孔21′の空気の吸引又は小孔21′内への空気の供給を選択的に行うことができる。すなわち、摘み6aを「VACCUM」印に合わせると、上記モータが正回転をして、小孔21′内の空気をチューブ64及び空気流出入口62を通じて吸引する。そして、空気流出入口61,チューブ63及び空気給排口25′を通じて、吸引空気を外部に排気することで、小孔21′内を負圧にする。また、摘み6aを「OFF」印に合わせると、モータは停止し、「BLOW」印に合わせると、モータが逆回転をして、外部の空気を、空気給排口25′,チューブ63,空気流出入口61,空気流出入口62及びチューブ64を通じて小孔21′内に供給し、小孔21′内を正圧にする。
その他の構成,作用及び効果は上記第1の実施例と同様であるので、その記載は省略する。
The vacuum pump 6 is a known pump for adsorbing or releasing the workpiece W on the ceramic porous 4 on the top wall 20 ', and is housed in the base 2'.
Specifically, the vacuum pump 6 has a first air outflow inlet 61 and a second air outflow inlet 62. The air outflow inlet 61 is connected to the air supply / exhaust port 25 ′ of the side wall 24 through the tube 63, and the air outflow inlet 62 is connected to the small hole 21 ′ of the top wall 20 ′ through the tube 64.
Such a vacuum pump 6 is fixed in the pedestal 2 'in a state where the electric switch shaft 6b is connected to a knob 6a as an operation portion. The vacuum pump 6 is electrically driven, and a built-in motor (not shown) inputs electricity through a cord 66 of a plug 65 connected to an external outlet. The vacuum pump 6 can selectively suck air through the small hole 21 ′ or supply air into the small hole 21 ′ using the knob 6 a. That is, when the knob 6 a is set to the “VACCUM” mark, the motor rotates forward and sucks the air in the small hole 21 ′ through the tube 64 and the air outlet / inlet 62. And the inside of small hole 21 'is made into a negative pressure by exhausting suction air outside through air outflow inlet 61, tube 63, and air supply / exhaust port 25'. When the knob 6a is set to the “OFF” mark, the motor stops. When the knob 6a is set to the “BLOW” mark, the motor rotates in the reverse direction, and external air is supplied to the air supply / discharge port 25 ′, the tube 63, the air. The gas is supplied into the small hole 21 ′ through the outflow inlet 61, the air outflow inlet 62, and the tube 64, and the inside of the small hole 21 ′ is set to a positive pressure.
Since other configurations, operations, and effects are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

最後に、この発明の第3の実施例に係るチャックテーブルについて説明する。
図11は、この発明の第3の実施例に係るチャックテーブルを示す斜視図であり、図12は、このチャックテーブルの断面図である。なお、この図において、図1〜図10に示した部材と同一部材については同一符号を付して説明する。
図11及び図12に示すように、この実施例のチャックテーブル7は、平坦な天面70と空気通路71とを有し、チャックテーブル7全体がチタニウムによって形成されている。
Finally, a chuck table according to a third embodiment of the present invention will be described.
FIG. 11 is a perspective view showing a chuck table according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a cross-sectional view of the chuck table. In this figure, the same members as those shown in FIG. 1 to FIG.
As shown in FIGS. 11 and 12, the chuck table 7 of this embodiment has a flat top surface 70 and an air passage 71, and the entire chuck table 7 is made of titanium.

天面70は、セラミックポーラス4を載せるための部分であり、上記第2の実施例の天壁20′と同様に、天面70の中心に開口した小孔72のみを有し、この小孔72を通じてワークWの吸引及び解放をも行う。また、天面70には、円形溝23a〜23cと十字溝23dとが形成されている。
一方、空気通路71は、チャックテーブル7の内部に形成された中空路であり、そのほぼ中心部において、上記小孔72と連通している。また、この空気通路71は、天面70以外の部位であるチャックテーブル7の側面で開口している。
The top surface 70 is a portion on which the ceramic porous 4 is placed. Like the top wall 20 'of the second embodiment, the top surface 70 has only a small hole 72 opened at the center of the top surface 70. The workpiece W is also sucked and released through 72. Further, the top surface 70 is formed with circular grooves 23a to 23c and a cross groove 23d.
On the other hand, the air passage 71 is a hollow passage formed inside the chuck table 7 and communicates with the small hole 72 at substantially the center thereof. Further, the air passage 71 is opened on the side surface of the chuck table 7 which is a portion other than the top surface 70.

上記の如きチャックテーブル7には、上記真空ポンプ6と同機能の真空ポンプ6′が連結されている。
具体的には、真空ポンプ6は、チャックテーブル7の外部に置かれ、空気流出入口68から延出されたチューブ67が空気通路71の開口部71aに連結されている。なお、この真空ポンプ6′は、摘み69をその外側面に有している。
A vacuum pump 6 ′ having the same function as the vacuum pump 6 is connected to the chuck table 7 as described above.
Specifically, the vacuum pump 6 is placed outside the chuck table 7, and a tube 67 extended from the air outflow / inlet 68 is connected to the opening 71 a of the air passage 71. The vacuum pump 6 'has a knob 69 on its outer surface.

かかる構成により、真空ポンプ6′の摘み69を「VACCUM」印に合わせると、真空ポンプ6′がチャックテーブル7の小孔72内の空気を空気通路71,チューブ67及び空気流出入口68を通じて吸引することで、小孔72内を負圧にする。また、摘み69を「BLOW」印に合わせると、外部の空気をチューブ67を通じて空気通路71内に供給し、小孔72内を正圧にする。すなわち、真空ポンプ6′によって小孔72の空気の吸引又は小孔72内への空気の供給を選択的に行うことができる。
その他の構成,作用及び効果は上記第1及び第2の実施例と同様であるので、その記載は省略する。
With this configuration, when the knob 69 of the vacuum pump 6 ′ is set to the “VACCUM” mark, the vacuum pump 6 ′ sucks the air in the small hole 72 of the chuck table 7 through the air passage 71, the tube 67 and the air outlet / inlet 68. Thus, the inside of the small hole 72 is set to a negative pressure. Further, when the knob 69 is aligned with the “BLOW” mark, external air is supplied into the air passage 71 through the tube 67 and the inside of the small hole 72 is set to a positive pressure. That is, the vacuum pump 6 ′ can selectively suck air from the small holes 72 or supply air into the small holes 72.
Since other configurations, operations, and effects are the same as those in the first and second embodiments, description thereof is omitted.

なお、この発明は、上記実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の変形や変更が可能である。
例えば、上記実施例では、載置板として、セラミックポーラス4を用いたが、金属焼結体のような多孔質の平板を用いても同様の作用効果を得ることができることは勿論である。
また、上記実施例では、載置板を用いた例について説明したが、載置板を用いない吸着装置やチャックテーブルを発明の範囲から除外する意味ではない。かかる場合には、同材質で吸着面が構成されるため、天壁20,20′,天面70及び側壁24の全てにおいて熱膨張率、熱伝導率が同じとなり、外気温度変化に対する平坦精度が向上するものと考えられる。また、台座2,2′をチタニウムで形成した例について説明したが、台座2,2′をアルミニウムやステンレスで形成した吸着装置を発明の範囲から除外する意味ではない。
さらに、上記実施例では、ダイシングや研削作業に使用する場合を例にして説明したが、その使用態様はこれに限るものではない。非磁性体,磁気に弱いワークや負荷をかけると変形してしまうワーク等に使用することで、その機能をいかんなく発揮する。
In addition, this invention is not limited to the said Example, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary of invention.
For example, in the above-described embodiment, the ceramic porous 4 is used as the mounting plate, but it is needless to say that the same effect can be obtained even if a porous flat plate such as a metal sintered body is used.
Moreover, although the example using the mounting plate has been described in the above embodiment, it does not mean that a suction device or a chuck table that does not use the mounting plate is excluded from the scope of the invention. In such a case, since the adsorption surface is made of the same material, the thermal expansion coefficient and thermal conductivity are the same in all of the ceiling walls 20, 20 ', the ceiling surface 70, and the sidewall 24, and the flatness accuracy with respect to the outside air temperature change is improved. It is thought to improve. Further, the example in which the pedestals 2 and 2 'are formed of titanium has been described. However, the adsorption device in which the pedestals 2 and 2' are formed of aluminum or stainless steel is not excluded from the scope of the invention.
Furthermore, in the said Example, although demonstrated using the case where it uses for a dicing and grinding operation as an example, the use aspect is not restricted to this. By using it on non-magnetic materials, workpieces that are weak against magnetism, or workpieces that deform when a load is applied, the functions are fully demonstrated.

この発明の第1の実施例に係る吸着装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the adsorption | suction apparatus based on 1st Example of this invention. 天壁を示す平面図である。It is a top view which shows a top wall. 台座の内部を底面側から見た底面図である。It is the bottom view which looked at the inside of a base from the bottom face side. 吸着装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an adsorption | suction apparatus. エアポンプを吸着装置に接続した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which connected the air pump to the adsorption | suction apparatus. 吸着装置の吸着動作時におけるエアの流れを示す底面図である。It is a bottom view which shows the flow of the air at the time of adsorption | suction operation | movement of an adsorption | suction apparatus. 吸着装置の吸着動作を示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows adsorption | suction operation | movement of an adsorption | suction apparatus. 吸着装置の解放動作時におけるエアの流れを示す底面図である。It is a bottom view which shows the flow of the air at the time of the releasing operation | movement of an adsorption | suction apparatus. 吸着装置の解放動作を示す部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view which shows releasing operation | movement of an adsorption | suction apparatus. この発明の第2の実施例に係る吸着装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the adsorption | suction apparatus based on 2nd Example of this invention. この発明の第3の実施例に係るチャックテーブルを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the chuck table which concerns on 3rd Example of this invention. 図11のチャックテーブルの断面図である。It is sectional drawing of the chuck table of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1,1′…吸着装置、 2,2′…台座、 3…駆動機構、 4…セラミックポーラス、 5…エアポンプ、 6,6′…真空ポンプ、 6a,69,30e…摘み、 7…チャックテーブル、 20,20′…天壁、 21…吸引孔、 21′,72…小孔、 22…解放孔、 23a〜23c…円形溝、 23d…十字溝、 24…側壁、 24a…うねり、 25…空気供給口、 25′…空気給排口、 26…空気排出口、 30…切換器、 30a…流入口、 30b,30c…流出口、 31…真空発生器、 32〜36,63,64,67…チューブ、 61,62,68…空気流出入口、 70…天面、 71…空気通路、 71a…開口部、 A…エア、 W…ワーク。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1 '... Adsorption device 2, 2' ... Base, 3 ... Drive mechanism, 4 ... Ceramic porous, 5 ... Air pump, 6, 6 '... Vacuum pump, 6a, 69, 30e ... Pick, 7 ... Chuck table, 20, 20 '... Top wall, 21 ... Suction hole, 21', 72 ... Small hole, 22 ... Release hole, 23a-23c ... Circular groove, 23d ... Cross groove, 24 ... Side wall, 24a ... Swell, 25 ... Air supply Mouth, 25 '... Air supply / exhaust port, 26 ... Air discharge port, 30 ... Switch, 30a ... Inlet, 30b, 30c ... Outlet, 31 ... Vacuum generator, 32-36, 63, 64, 67 ... Tube 61, 62, 68 ... air outlet, 70 ... top surface, 71 ... air passage, 71a ... opening, A ... air, W ... work.

Claims (12)

吸着対象物を載せるための平坦な天壁を有した台座と、この台座内に収納され、外部から供給された空気を利用して、上記吸着対象物を天壁上に吸着し又は解放するための駆動機構とを備える吸着装置であって、
上記台座は、上記天壁に穿設された吸引孔及び解放孔と、側壁に設けられた空気供給口及び空気排出口とを有し、
上記駆動機構は、上記台座の空気供給口に連結された流入口,第1の流出口,及び上記解放孔に連結された第2の流出口を有し、上記側壁外面に取り付けられた操作部を用いて、上記流入口を上記第1の流出口又は第2の流出口のいずれかに選択的に連通させることができる切換器と、この切換器の第1の流出口からの空気を上記空気排出口側に高速流出させることで、上記吸引孔内を負圧にする負圧発生器とを有する、
ことを特徴とする吸着装置。
In order to adsorb or release the adsorption object on the ceiling wall using a pedestal having a flat top wall for placing the adsorption object and air stored in the pedestal and supplied from the outside An adsorption device comprising:
The pedestal has a suction hole and a release hole formed in the top wall, an air supply port and an air discharge port provided in the side wall,
The drive mechanism has an inlet connected to the air supply port of the pedestal, a first outlet, and a second outlet connected to the release hole, and is attached to the outer surface of the side wall. And a switching device capable of selectively communicating the inlet with either the first outlet or the second outlet, and air from the first outlet of the switching device as described above. It has a negative pressure generator that makes the inside of the suction hole negative by letting it flow out to the air outlet side at a high speed,
An adsorption device characterized by that.
請求項1に記載の吸着装置において、
上記台座の天壁の上に、平坦な多孔質の載置板を設けた、
ことを特徴とする吸着装置。
The adsorption device according to claim 1,
On the top wall of the pedestal, a flat porous mounting plate was provided.
An adsorption device characterized by that.
請求項2に記載の吸着装置において、
上記載置板は、セラミックポーラス又は金属焼結体のいずれかである、
ことを特徴とする吸着装置。
The adsorption device according to claim 2,
The mounting plate described above is either ceramic porous or sintered metal,
An adsorption device characterized by that.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の吸着装置において、
上記台座をチタニウムによって形成した、
ことを特徴とする吸着装置。
In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 1 thru | or 3,
The pedestal is made of titanium,
An adsorption device characterized by that.
請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の吸着装置において、
上記台座の側壁外面に、指先に対応した波形状のうねりを設けた、
ことを特徴とする吸着装置。
In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 1 thru | or 4,
On the outer surface of the side wall of the pedestal, a wave-shaped swell corresponding to the fingertip was provided.
An adsorption device characterized by that.
吸着対象物を載せるための平坦な天壁を有した台座と、この台座内に収納され且つ上記吸着対象物を天壁上に吸着し又は解放するための真空ポンプとを備える吸着装置であって、
上記台座は、上記天壁に穿設された小孔を有し、
上記真空ポンプは、上記台座の外部に連通した第1の空気流出入口と上記小孔に連通した第2の空気流出入口とを有し、台座の側壁外面に取り付けられた操作部を用いて、上記小孔内の空気の吸引又は小孔内への空気の供給を選択的に行うことができるものである、
ことを特徴とする吸着装置。
An adsorption device comprising a pedestal having a flat top wall for placing an adsorption object, and a vacuum pump stored in the pedestal and adsorbing or releasing the adsorption object on the ceiling wall ,
The pedestal has a small hole drilled in the top wall,
The vacuum pump has a first air outflow inlet that communicates with the outside of the pedestal and a second air outflow inlet that communicates with the small hole, and uses an operation unit attached to the outer surface of the side wall of the pedestal. The suction of air in the small hole or the supply of air into the small hole can be performed selectively.
An adsorption device characterized by that.
請求項6に記載の吸着装置において、
上記天壁の上に、セラミックポーラス又は金属焼結体等を素材とする平坦な多孔質の載置板を設けた、
ことを特徴とする吸着装置。
The adsorption device according to claim 6,
On the top wall, a flat porous mounting plate made of a ceramic porous or metal sintered body is provided.
An adsorption device characterized by that.
請求項6または請求項7に記載の吸着装置において、
上記台座をチタニウムによって形成した、
ことを特徴とする吸着装置。
The adsorption device according to claim 6 or 7,
The pedestal is made of titanium,
An adsorption device characterized by that.
請求項6ないし請求項8のいずれかに記載の吸着装置において、
上記台座の側壁外面に、指先に対応した波形状のうねりを設けた、
ことを特徴とする吸着装置。
In the adsorption | suction apparatus in any one of Claim 6 thru | or 8,
On the outer surface of the side wall of the pedestal, a wave-shaped swell corresponding to the fingertip was provided.
An adsorption device characterized by that.
吸着対象物を載せるための平坦な天面と、この天面に開口した小孔に連通して上記天面以外の部位で開口する空気通路とを有し、全体がチタニウムによって形成されている、
ことを特徴とするチャックテーブル。
It has a flat top surface for placing the object to be adsorbed, and an air passage that communicates with a small hole opened on the top surface and opens at a portion other than the top surface, and is entirely formed of titanium.
A chuck table characterized by that.
請求項10に記載のチャックテーブルにおいて、
上記天面の上に、セラミックポーラス又は金属焼結体等を素材とする平坦な多孔質の載置板を設けた、
ことを特徴とするチャックテーブル。
The chuck table according to claim 10, wherein
On the top surface, provided with a flat porous mounting plate made of ceramic porous or sintered metal, etc.,
A chuck table characterized by that.
請求項10または請求項11に記載のチャックテーブルにおいて、
チューブを上記空気通路の上記開口に連結し、このチューブを通じて上記小孔内の空気の吸引又は小孔内への空気の供給を選択的に行うことができる真空ポンプを取り付けた、
ことを特徴とするチャックテーブル。
The chuck table according to claim 10 or 11,
A tube was connected to the opening of the air passage, and a vacuum pump capable of selectively sucking air in the small hole or supplying air into the small hole through the tube was attached.
A chuck table characterized by that.
JP2003294695A 2003-08-18 2003-08-18 Suction device and chuck table Pending JP2005059173A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003294695A JP2005059173A (en) 2003-08-18 2003-08-18 Suction device and chuck table

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003294695A JP2005059173A (en) 2003-08-18 2003-08-18 Suction device and chuck table

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005059173A true JP2005059173A (en) 2005-03-10

Family

ID=34371184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003294695A Pending JP2005059173A (en) 2003-08-18 2003-08-18 Suction device and chuck table

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005059173A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006326731A (en) * 2005-05-25 2006-12-07 Light Seiki Kk Tool for correcting screw thread
WO2009001889A1 (en) * 2007-06-26 2008-12-31 Yoshioka Seiko Co., Ltd. Chuck table and work inspecting apparatus
EP2182549A1 (en) 2008-11-03 2010-05-05 Eurotron B.V. Mobile table and lamination system comprising such table
CN102837212A (en) * 2012-09-17 2012-12-26 苏州珈玛自动化科技有限公司 Adsorption jig with built-in vacuum generator
JP2015233078A (en) * 2014-06-10 2015-12-24 株式会社ディスコ Chuck table
CN110883442A (en) * 2019-09-29 2020-03-17 江苏凯尔生物识别科技有限公司 Turnover chip welding device
CN113370253A (en) * 2021-07-05 2021-09-10 秦振风 Air flow point control type object suction claw
KR20210134061A (en) * 2019-03-25 2021-11-08 케이엘에이 코포레이션 Vacuum hold-down device for flattening warped semiconductor wafers
US20230082384A1 (en) * 2021-09-13 2023-03-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor chip using the same
CN116038566A (en) * 2022-12-14 2023-05-02 昆明理工大学 Diamond pellet total type electric spark trimming machine

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0217300B2 (en) * 1985-01-18 1990-04-20 Shibayama Kikai Kk
JPH02180535A (en) * 1988-12-30 1990-07-13 Yamaha Corp Work table
JPH0563739U (en) * 1992-01-31 1993-08-24 株式会社アイ・エヌ・アール研究所 Suction chuck
JPH05283512A (en) * 1992-03-31 1993-10-29 Oki Electric Ind Co Ltd Vacuum chuck for wafer and manufacture of semiconductor device using same
JPH0757032A (en) * 1993-08-16 1995-03-03 Murata Mfg Co Ltd Handy terminal
JPH0781755A (en) * 1993-09-16 1995-03-28 Canon Inc Substrate holder
JP3015496U (en) * 1995-03-06 1995-09-05 石橋建設株式会社 Storage device
JPH08125000A (en) * 1994-10-24 1996-05-17 Nec Kyushu Ltd Wafer chuck
JPH09246365A (en) * 1996-03-11 1997-09-19 Dainippon Printing Co Ltd Substrate holding jig
JPH10175136A (en) * 1996-12-13 1998-06-30 New Sutorongu Hanbai Kk Vacuum chuck
JP2000158268A (en) * 1998-11-27 2000-06-13 Okamoto Machine Tool Works Ltd Wafer attaching plate for universal chuck and its manufacture
JP2000308934A (en) * 1999-04-27 2000-11-07 New Sutorongu Hanbai Kk Vacuum chuck
JP2001038556A (en) * 1999-07-28 2001-02-13 Disco Abrasive Syst Ltd Chuck table, processing device and processing method

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0217300B2 (en) * 1985-01-18 1990-04-20 Shibayama Kikai Kk
JPH02180535A (en) * 1988-12-30 1990-07-13 Yamaha Corp Work table
JPH0563739U (en) * 1992-01-31 1993-08-24 株式会社アイ・エヌ・アール研究所 Suction chuck
JPH05283512A (en) * 1992-03-31 1993-10-29 Oki Electric Ind Co Ltd Vacuum chuck for wafer and manufacture of semiconductor device using same
JPH0757032A (en) * 1993-08-16 1995-03-03 Murata Mfg Co Ltd Handy terminal
JPH0781755A (en) * 1993-09-16 1995-03-28 Canon Inc Substrate holder
JPH08125000A (en) * 1994-10-24 1996-05-17 Nec Kyushu Ltd Wafer chuck
JP3015496U (en) * 1995-03-06 1995-09-05 石橋建設株式会社 Storage device
JPH09246365A (en) * 1996-03-11 1997-09-19 Dainippon Printing Co Ltd Substrate holding jig
JPH10175136A (en) * 1996-12-13 1998-06-30 New Sutorongu Hanbai Kk Vacuum chuck
JP2000158268A (en) * 1998-11-27 2000-06-13 Okamoto Machine Tool Works Ltd Wafer attaching plate for universal chuck and its manufacture
JP2000308934A (en) * 1999-04-27 2000-11-07 New Sutorongu Hanbai Kk Vacuum chuck
JP2001038556A (en) * 1999-07-28 2001-02-13 Disco Abrasive Syst Ltd Chuck table, processing device and processing method

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006326731A (en) * 2005-05-25 2006-12-07 Light Seiki Kk Tool for correcting screw thread
JP4523486B2 (en) * 2005-05-25 2010-08-11 ライト精機株式会社 Thread correction tool
WO2009001889A1 (en) * 2007-06-26 2008-12-31 Yoshioka Seiko Co., Ltd. Chuck table and work inspecting apparatus
EP2182549A1 (en) 2008-11-03 2010-05-05 Eurotron B.V. Mobile table and lamination system comprising such table
CN102837212A (en) * 2012-09-17 2012-12-26 苏州珈玛自动化科技有限公司 Adsorption jig with built-in vacuum generator
JP2015233078A (en) * 2014-06-10 2015-12-24 株式会社ディスコ Chuck table
KR20210134061A (en) * 2019-03-25 2021-11-08 케이엘에이 코포레이션 Vacuum hold-down device for flattening warped semiconductor wafers
JP2022532832A (en) * 2019-03-25 2022-07-20 ケーエルエー コーポレイション Vacuum presser for flattening bent semiconductor wafers
KR102666266B1 (en) * 2019-03-25 2024-05-14 케이엘에이 코포레이션 Vacuum hold-down device to flatten bent semiconductor wafers
CN110883442B (en) * 2019-09-29 2021-03-30 江苏凯尔生物识别科技有限公司 Turnover chip welding device
CN110883442A (en) * 2019-09-29 2020-03-17 江苏凯尔生物识别科技有限公司 Turnover chip welding device
CN113370253A (en) * 2021-07-05 2021-09-10 秦振风 Air flow point control type object suction claw
US20230082384A1 (en) * 2021-09-13 2023-03-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor chip using the same
CN116038566A (en) * 2022-12-14 2023-05-02 昆明理工大学 Diamond pellet total type electric spark trimming machine
CN116038566B (en) * 2022-12-14 2024-04-05 昆明理工大学 Diamond pellet total type electric spark trimming machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005059173A (en) Suction device and chuck table
JP5512052B2 (en) Non-contact suction board
JP2005518511A (en) Stable vacuum adapter
JP4851282B2 (en) Cutting equipment
US5217273A (en) Serial pumping for portable handling tool of electronic workpieces
JP2000294613A5 (en)
JP2003225878A (en) Adsorption unit
CN205685089U (en) Automatic overturning clamping apparatus and there is its machining center
JP2009032744A (en) Bernoulli chuck
JP2546652B2 (en) Check table
JP2010267746A5 (en)
JPH08143147A (en) Sucking device for sheet-form work
JP2010240805A (en) Robot hand and transfer robot
JP5347667B2 (en) Robot hand and transfer robot
CN211099938U (en) Microscope carrier turnover mechanism, dispensing device and display screen production line
JPH0246331B2 (en)
TW201805091A (en) Object sucking mechanism including a holder, a plurality of sucking members, a plurality of suction control members and a flow path structure
JPH11111740A (en) Device for carrying small chip
JPS5856744A (en) Chuck
JP6302659B2 (en) Chuck table, transfer device and processing device
JP3238749U (en) Suction hands, suction devices, and suction heads used for these
CN216590893U (en) A go up unloading operation panel for longeron sheet stock is pruned
JP3981747B2 (en) Vacuum tweezers
JP5080880B2 (en) Chuck table
JPH11307619A (en) Wafer fixing device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060704

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090807

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090813

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090928

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091001

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091026