JP3981747B2 - Vacuum tweezers - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハをハンドリングする際に使用する真空ピンセットに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエハは、熱処理がなされた後に収納ケースから取り出して目視により観察して検査が行われる場合がある。このような場合には手作業により半導体ウエハをハンドリングしているが、半導体ウエハをハンドリングする際に、半導体ウエハを真空吸着する真空ピンセットが用いられている。
【0003】
図8は、従来の真空ピンセットの一例を示す概略の断面図である。図において、50は真空ピンセット、51は柄、52はモータ、53はモータ回転軸、54は吸着パッド、55は吸着穴、56は空間部、57は電池、58はバルブ、59はスイッチである。バルブ58は柄51内に設けられ真空源に連通している排気路を開閉するもので、通常は押し込まれていて排気路は遮断されている。
【0004】
この真空ピンセットによる半導体ウエハのハンドリングに際しては、バルブ58を引き出して排気路を開放させておき、図9の概略の斜視図に示すようにして、半導体ウエハWの裏面に吸着パッド54を当てて吸着する。次にスイッチ59を操作してモータ52を動作させ半導体ウエハWを図9の矢視R方向に回転させる。吸着パッド54はモータ52の回転軸53に平行に固定されているので半導体ウエハWの吸着面にモータ52の回転軸が平行に配置されることになり、半導体ウエハWの回転の軌跡は3次元の球状となる。このようにしてモータを用いて半導体ウエハを回転させることにより、半導体ウエハの表裏両面を目視により検査している。
【0005】
半導体ウエハの表面を目視により観察して検査する際に、特に半導体ウエハの表面にランダムに発生するスクラッチ(ひっかき傷)の有無を観察するには、半導体ウエハの表面に対して全方向から集光灯の光を当てて観察する必要がある。ところで、一般には図10の概略の構成図に示すように集光灯Lは、半導体ウエハの検査される表面に対して上部の位置に固定されているので半導体ウエハに対する投光面は一定の範囲に限定されている。このため、オペレータMが半導体ウエハの表面全体をムラなく観察するためには、半導体ウエハWを矢視P方向に回転させて集光灯Lの投光面に対して順次表面の異なる部分を移動させてオペレータMが観察できるようにすることが必要となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例の真空ピンセット50の構成では吸着パッド54は柄51に固定されているので、真空ピンセットに半導体ウエハを固定した状態のままでは、集光灯Lの投光面に対して半導体ウエハの表面の異なる部分を移動させてゆくことができなかった。このため、オペレータは真空ピンセットの柄を回して半導体ウエハの表面の異なる部分を観察するか、または、一旦半導体ウエハを収納ケースに戻し、半導体ウエハ裏面の別の位置に吸着パッドを吸着させて表面の異なる部分を観察する必要があった。
【0007】
このように、従来の真空ピンセットによる半導体ウエハのハンドリングでは、真空ピンセットの柄を回して半導体ウエハの表面位置の角度を変えているので作業性が悪いという問題があった。また、半導体ウエハを一旦収納ケースに戻し再度吸着位置を変えてハンドリングすると、半導体ウエハに傷がついたり、微片や粒子(パーティクル)が付着して品質が低下するという問題があった。
【0008】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、半導体ウエハのハンドリングの作業性を改善すると共に、ハンドリングの際に半導体ウエハに傷がついたり、微片や粒子(パーティクル)が付着して品質が低下することを防止した真空ピンセットの提供を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基部に把持部を有する通気管と、前記通気管の先端部に取付けられ、前記通気管の開口と連通する開口を有し前記通気管内の真空圧により半導体ウエハ面を吸着する吸着パッドとを備えてなる真空ピンセットにおいて、前記通気管に、該通気管の伸びる方向に対して直角方向に延びる回転駆動軸を有するモータを固定し、前記回転駆動軸の先端部に前記吸着パッドを固定するとともに、前記通気管の開口と前記吸着パッドの開口とを弾性リングを介して連通させてなることを特徴とする。
【0010】
本発明では、半導体ウエハが吸着パッドに吸着された状態ではモータの動力が伝達される駆動軸が半導体ウエハの吸着面に対して直角方向に延びて配置されるので、半導体ウエハは平面内で回転されることになる。このため、集光灯の位置が固定され投光面が一定範囲に限定されている場合に順次投光面の位置に半導体ウエハの表面を移動させることができるので、半導体ウエハの表面全体を観察して検査する際の把持部材の移動が不要となりハンドリングの作業性が改善される。また、半導体ウエハを一旦収納ケースに戻して再度取り出す作業が不要となるのでハンドリングの際の半導体ウエハの品質低下を防止できる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図1を参照して説明する。図1は本発明の実施の形態に係る真空ピンセットを一部断面で示す側面図である。図1において真空ピンセット1は、空間部3とこの空間部3に連通する空気抜き穴4が設けられている吸着パッド2と、接続管8と、把手9を有している。把手9には接続管8の固定部9a,空気通路9b,真空吸着スイッチ10、モータ駆動スイッチ11が設けられている。吸着部材2の空間部3、空気抜き穴4、接続管8の内部に形成されている空気通路8a、把手9の空気通路9bは連通して図示しない真空源に接続されて排気路が形成されている。
【0012】
5は薄型の小型モータで、該モータ5の動力が伝達される駆動軸6は、吸着パッド2に固定され吸着パッド2の半導体ウエハの吸着面に対して直角方向に延びており、吸着パッド2を回転させる。7は小型モータの電源となる電池であるが、外部電源を接続して小型モータに電源を供給することもできる。図2は図1の吸着パッド2を矢視A方向からみた概略の底面図である。図2に示すように吸着パッド2に設けられている空気抜き穴4は、駆動軸6が貫通している部分を囲むようにして形成されている。
【0013】
真空ピンセット1の把手9に設けられているモータ駆動スイッチ11を操作すると、小型モータ5が回転しその動力が伝達される駆動軸6に固定されている吸着パッド2が回転する。接続管8と吸着パッド2との間には弾性リング12を配置し、吸着パッド2の回転を許容しかつ吸着パッド2の空気抜き穴4と接続管8の空気通路8aの連通部分から空気が漏れないように弾性的に吸着パッド2と押圧接触している。小型モータ5の回転数は低速に設定されている。
【0014】
図3〜図6は、小型モータ5の回転により吸着パッド2が回転する状態を吸着パッド2の裏面側からみて示す概略の底面図である。図3のように駆動軸6に吸着パッド2を固定した状態で小型モータ5を駆動すると吸着パッド2は矢視P方向に回転を開始する。図4は図3の初期状態から90度回転した状態、図5は図3の初期状態から180度回転した状態、図6は図3の初期状態から270度回転した状態を示している。更に吸着パッド2が90度回転すると図3の状態に戻る。
【0015】
吸着パッド2の空間部3の位置に半導体ウエハの一面、例えば裏面を接触させ、真空吸着スイッチ10を操作することにより前記排気路に真空吸引力を作用させ、真空ピンセット1の吸着パッド2に半導体ウエハを吸着する。この際に、モータの動力が伝達される駆動軸6は半導体ウエハの吸着面に対して直角方向に延びており、前記図3〜図6で説明したように小型モータ5が回転すると吸着パッド2が回転し半導体ウエハも回転する。図7は半導体ウエハ12の裏面を吸着パッド2で吸着し、表面側を上にして回転する例の概略の平面図である。半導体ウエハ12の回転方向は時計回り方向の矢視P方向、または反時計回り方向の矢視Q方向に適宜選定される。このような回転方向の選定は小型モータ5の回転方向を切り替えることにより容易に行われる。
【0016】
このように、本発明の真空ピンセットにおいては半導体ウエハを吸着パッドに吸着させた状態ではその吸着面にモータの動力が伝達される駆動軸が直角方向に延びて配置され、モータの回転に伴い半導体ウエハの表面は平面内で回転する2次元運動となる。このため、図10のような固定されている集光灯Lにより半導体ウエハの表面を検査する際にこの真空ピンセットを用いると、集光灯Lの投光面に対して半導体ウエハの表面の異なる部分を順次移動させて検査することができる。
【0017】
図1の例では小型モータ5を吸着パッド2の半導体ウエハの吸着面とは反対側となる面に対向配置して吸着パッド2をモータの回転駆動力が伝達される駆動軸6に固定しており、モータの出力軸を直接前記駆動軸としている。小型モータの取付け位置はこのように吸着パッド2の半導体ウエハの吸着面とは反対側となる面に対向配置することに限られるものではない。小型モータを吸着パッド2の位置から接続管9の方向にずらして接続管9の上部に配置し、傘歯車等によりモータの回転駆動力を直角方向に伝達して駆動軸に固定した吸着パッドを平面内で回転する構成とすることもできる。
【0018】
また、図1の例では接続管と把手を別部材で構成しているが一体の把持部材として構成することも可能である。なお、本発明の真空ピンセットは、半導体ウエハの熱処理後の検査以外にもハンドリングが必要な場合に用いることができる。
【0019】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の真空ピンセットによれば、半導体ウエハが吸着パッドに吸着された状態では半導体ウエハの吸着面にモータの動力が伝達される駆動軸が直角方向に延びて配置されるので、半導体ウエハは平面内で回転されることになる。このため、集光灯の位置が固定され投光面が一定範囲に限定されている場合に、半導体ウエハの表面全体を観察して検査する際の把持部材の移動が不要となるのでハンドリングの作業性が改善される。また、半導体ウエハを一旦収納ケースに戻して再度取り出す作業が不要となるのでハンドリングの際の半導体ウエハの品質低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の真空ピンセットを一部断面で示す概略の側面図である。
【図2】図1の吸着部材の底面図である。
【図3】吸着部材の回転状態を裏面側からみて示す概略の底面図である。
【図4】吸着部材の回転状態を裏面側からみて示す概略の底面図である。
【図5】吸着部材の回転状態を裏面側からみて示す概略の底面図である。
【図6】吸着部材の回転状態を裏面側からみて示す概略の底面図である。
【図7】半導体ウエハの回転状況を示す概略の平面図である
【図8】従来例の真空ピンセットの断面図である。
【図9】従来例の半導体ウエハの回転状況を示す概略の斜視図である
【図10】集光灯と半導体ウエハの位置関係を示す概略の構成図である。
【符号の説明】
1 真空ピンセット
2 吸着パッド
3 空間部
4 空気抜き穴
5 小型モータ
回転駆動軸
7 電池
8 接続管
9 把手
10 吸着スイッチ
11 モータスイッチ
12 弾性リング
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to vacuum tweezers used when handling a semiconductor wafer.
[0002]
[Prior art]
In some cases, the semiconductor wafer is inspected by being taken out of the storage case and visually observed after the heat treatment. In such a case, the semiconductor wafer is handled manually, but vacuum tweezers that vacuum-suck the semiconductor wafer when handling the semiconductor wafer are used.
[0003]
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of conventional vacuum tweezers. In the figure, 50 is vacuum tweezers, 51 is a handle, 52 is a motor, 53 is a motor rotating shaft, 54 is a suction pad, 55 is a suction hole, 56 is a space, 57 is a battery, 58 is a valve, and 59 is a switch. . The valve 58 is provided in the handle 51 and opens and closes an exhaust passage communicating with a vacuum source. Normally, the valve 58 is pushed in and the exhaust passage is blocked.
[0004]
When handling the semiconductor wafer by the vacuum tweezers, the valve 58 is pulled out to open the exhaust passage, and the suction pad 54 is applied to the back surface of the semiconductor wafer W as shown in the schematic perspective view of FIG. To do. Next, the switch 59 is operated to operate the motor 52 to rotate the semiconductor wafer W in the direction of arrow R in FIG. Since the suction pad 54 is fixed in parallel to the rotation axis 53 of the motor 52, the rotation axis of the motor 52 is arranged in parallel to the suction surface of the semiconductor wafer W, and the rotation locus of the semiconductor wafer W is three-dimensional. Becomes spherical. By rotating the semiconductor wafer using the motor in this way, the front and back surfaces of the semiconductor wafer are visually inspected.
[0005]
When visually inspecting and inspecting the surface of a semiconductor wafer, in particular, in order to observe the presence or absence of scratches (scratches) that are randomly generated on the surface of the semiconductor wafer, light is focused on the surface of the semiconductor wafer from all directions. It is necessary to observe the light. By the way, generally, as shown in the schematic configuration diagram of FIG. 10, the condenser lamp L is fixed at an upper position with respect to the surface to be inspected of the semiconductor wafer. It is limited to. For this reason, in order for the operator M to observe the entire surface of the semiconductor wafer evenly, the semiconductor wafer W is rotated in the direction of arrow P, and different portions of the surface are sequentially moved with respect to the projection surface of the condenser lamp L. Thus, it is necessary for the operator M to be able to observe.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the suction pad 54 is fixed to the handle 51 in the configuration of the vacuum tweezers 50 of the above-described conventional example, the semiconductor with respect to the light projecting surface of the condenser lamp L is maintained with the semiconductor wafer fixed to the vacuum tweezers. Different parts of the wafer surface could not be moved. For this reason, the operator turns the handle of the vacuum tweezers and observes a different part of the surface of the semiconductor wafer, or returns the semiconductor wafer to the storage case and sucks the suction pad at another position on the back surface of the semiconductor wafer. It was necessary to observe different parts of
[0007]
Thus, the conventional handling of semiconductor wafers by vacuum tweezers has a problem that workability is poor because the angle of the surface position of the semiconductor wafer is changed by turning the handle of the vacuum tweezers. In addition, when the semiconductor wafer is once returned to the storage case and handled by changing the suction position again, there is a problem that the semiconductor wafer is scratched or the quality deteriorates due to adhesion of fine pieces or particles (particles).
[0008]
The present invention has been made in view of such problems, and improves the workability of handling of a semiconductor wafer, and the semiconductor wafer is scratched or fine particles or particles are attached during handling. The object is to provide vacuum tweezers that prevent the quality from deteriorating.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a suction pipe having a grip portion at a base and an opening attached to a distal end portion of the ventilation pipe and having an opening communicating with the opening of the ventilation pipe to adsorb a semiconductor wafer surface by a vacuum pressure in the ventilation pipe. the vacuum tweezers comprising a pad, the vent tube, to fix the motor with a rotary drive shaft extending perpendicularly against the extending direction of the vent pipe, the suction pad to the distal end portion of the rotary drive shaft While fixing, the opening of the said ventilation pipe and the opening of the said suction pad are connected via the elastic ring, It is characterized by the above-mentioned.
[0010]
In the present invention, when the semiconductor wafer is attracted to the suction pad, the drive shaft to which the motor power is transmitted extends in a direction perpendicular to the suction surface of the semiconductor wafer, so the semiconductor wafer rotates in a plane. Will be. For this reason, when the position of the condenser lamp is fixed and the projection surface is limited to a certain range, the surface of the semiconductor wafer can be moved sequentially to the position of the projection surface, so that the entire surface of the semiconductor wafer is observed. Thus, movement of the gripping member at the time of inspection becomes unnecessary, and handling workability is improved. In addition, since there is no need to return the semiconductor wafer to the storage case and take it out again, it is possible to prevent the quality of the semiconductor wafer from being deteriorated during handling.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a side view showing a partial cross section of a vacuum tweezers according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the vacuum tweezers 1 has a suction pad 2 provided with a space portion 3 and an air vent hole 4 communicating with the space portion 3, a connection tube 8, and a handle 9. The handle 9 is provided with a fixing portion 9 a of the connection pipe 8, an air passage 9 b, a vacuum adsorption switch 10, and a motor drive switch 11. The space 3 of the adsorbing member 2, the air vent hole 4, the air passage 8 a formed inside the connecting pipe 8, and the air passage 9 b of the handle 9 are connected to a vacuum source (not shown) to form an exhaust passage. Yes.
[0012]
Reference numeral 5 denotes a thin small motor, and a drive shaft 6 to which the power of the motor 5 is transmitted is fixed to the suction pad 2 and extends in a direction perpendicular to the suction surface of the semiconductor wafer of the suction pad 2. Rotate. A battery 7 serves as a power source for the small motor, but an external power source can be connected to supply power to the small motor. FIG. 2 is a schematic bottom view of the suction pad 2 of FIG. 1 viewed from the direction of arrow A. As shown in FIG. 2, the air vent hole 4 provided in the suction pad 2 is formed so as to surround a portion through which the drive shaft 6 passes.
[0013]
When the motor drive switch 11 provided on the handle 9 of the vacuum tweezers 1 is operated, the small motor 5 rotates and the suction pad 2 fixed to the drive shaft 6 to which the power is transmitted rotates. An elastic ring 12 is arranged between the connecting pipe 8 and the suction pad 2 to allow the suction pad 2 to rotate and air leaks from the communicating part of the air vent hole 4 of the suction pad 2 and the air passage 8a of the connecting pipe 8. There is elastically pressed contact with the suction pad 2. The rotation speed of the small motor 5 is set to a low speed.
[0014]
3 to 6 are schematic bottom views showing a state in which the suction pad 2 is rotated by the rotation of the small motor 5 as viewed from the back side of the suction pad 2. When the small motor 5 is driven with the suction pad 2 fixed to the drive shaft 6 as shown in FIG. 3, the suction pad 2 starts to rotate in the direction of arrow P. 4 shows a state rotated 90 degrees from the initial state of FIG. 3, FIG. 5 shows a state rotated 180 degrees from the initial state of FIG. 3, and FIG. 6 shows a state rotated 270 degrees from the initial state of FIG. Further, when the suction pad 2 is rotated 90 degrees, the state shown in FIG. 3 is restored.
[0015]
One surface, for example, the back surface of the semiconductor wafer is brought into contact with the position of the space 3 of the suction pad 2 and a vacuum suction force is applied to the exhaust path by operating the vacuum suction switch 10, so that the semiconductor is applied to the suction pad 2 of the vacuum tweezers 1. Adsorb wafer. At this time, the drive shaft 6 to which the power of the motor is transmitted extends in a direction perpendicular to the suction surface of the semiconductor wafer, and when the small motor 5 rotates as described with reference to FIGS. Rotates and the semiconductor wafer also rotates. FIG. 7 is a schematic plan view of an example in which the back surface of the semiconductor wafer 12 is sucked by the suction pad 2 and rotated with the front side facing up. The rotation direction of the semiconductor wafer 12 is appropriately selected in the clockwise direction P as viewed in the direction P or the counterclockwise direction Q as viewed in the direction Q. Selection of such a rotation direction is easily performed by switching the rotation direction of the small motor 5.
[0016]
As described above, in the vacuum tweezers of the present invention, when the semiconductor wafer is attracted to the suction pad, the drive shaft for transmitting the power of the motor extends to the suction surface so as to extend in a right angle direction, and the semiconductor rotates with the rotation of the semiconductor. The surface of the wafer becomes a two-dimensional motion that rotates in a plane. For this reason, when the vacuum tweezers are used when the surface of the semiconductor wafer is inspected by the fixed condenser L as shown in FIG. 10, the surface of the semiconductor wafer differs from the projection surface of the condenser L. The parts can be moved sequentially for inspection.
[0017]
In the example of FIG. 1, the small motor 5 is disposed opposite to the surface of the suction pad 2 opposite to the suction surface of the semiconductor wafer, and the suction pad 2 is fixed to the drive shaft 6 to which the rotational driving force of the motor is transmitted. The output shaft of the motor is directly used as the drive shaft. The mounting position of the small motor is not limited to being disposed so as to face the surface of the suction pad 2 opposite to the suction surface of the semiconductor wafer. A small motor is displaced from the position of the suction pad 2 in the direction of the connection pipe 9 and is arranged on the upper side of the connection pipe 9. It can also be set as the structure rotated in a plane.
[0018]
In the example of FIG. 1, the connecting pipe and the handle are configured as separate members, but may be configured as an integral gripping member. The vacuum tweezers of the present invention can be used when handling is required in addition to inspection after heat treatment of a semiconductor wafer.
[0019]
【The invention's effect】
As described above, according to the vacuum tweezers of the present invention, when the semiconductor wafer is attracted to the suction pad, the drive shaft for transmitting the power of the motor is arranged to extend in the perpendicular direction to the suction surface of the semiconductor wafer. The semiconductor wafer is rotated in a plane. For this reason, when the position of the condenser lamp is fixed and the projection surface is limited to a certain range, the handling work is not required when the entire surface of the semiconductor wafer is observed and inspected. Improved. In addition, since there is no need to return the semiconductor wafer to the storage case and take it out again, it is possible to prevent the quality of the semiconductor wafer from being deteriorated during handling.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic side view showing a partial cross section of a vacuum tweezers according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a bottom view of the adsorbing member of FIG.
FIG. 3 is a schematic bottom view showing the rotation state of the suction member as seen from the back side.
FIG. 4 is a schematic bottom view showing the rotation state of the adsorption member as seen from the back side.
FIG. 5 is a schematic bottom view showing the rotation state of the suction member as seen from the back side.
FIG. 6 is a schematic bottom view showing the rotation state of the adsorption member as seen from the back side.
FIG. 7 is a schematic plan view showing a rotation state of a semiconductor wafer. FIG. 8 is a cross-sectional view of a conventional vacuum tweezers.
FIG. 9 is a schematic perspective view showing a rotation state of a conventional semiconductor wafer. FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing a positional relationship between a condenser lamp and a semiconductor wafer.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum tweezers 2 Adsorption pad 3 Space part 4 Air vent hole 5 Small motor 6 Rotation drive shaft 7 Battery 8 Connection pipe 9 Handle 10 Adsorption switch 11 Motor switch 12 Elastic ring

Claims (1)

基部に把持部を有する通気管と、前記通気管の先端部に取付けられ、前記通気管の開口と連通する開口を有し前記通気管内の真空圧により半導体ウエハ面を吸着する吸着パッドとを備えてなる真空ピンセットにおいて、前記通気管に、該通気管の伸びる方向に対して直角方向に延びる回転駆動軸を有するモータを固定し、前記回転駆動軸の先端部に前記吸着パッドを固定するとともに、前記通気管の開口と前記吸着パッドの開口とを弾性リングを介して連通させてなることを特徴とする真空ピンセット。 A vent pipe having a grip portion at a base, and a suction pad attached to a tip portion of the vent pipe and having an opening communicating with the opening of the vent pipe and adsorbing a semiconductor wafer surface by a vacuum pressure in the vent pipe the vacuum tweezers comprising Te, the vent pipe, with fixing the motor having a rotary drive shaft extending perpendicularly against the extending direction of the vent pipe, said fixed suction pads at the distal end of the rotary drive shaft, A vacuum tweezers characterized in that the opening of the vent pipe and the opening of the suction pad are communicated through an elastic ring .
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