JP2005057140A - Multilayer wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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昌宏 古沢
Etsuko Shiotani
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer wiring board manufacturing method which is capable of manufacturing a multilayer wiring board at a low cost in a shorter time by a droplet discharge system preventing an unnecessary part from being conductive. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the multilayer wiring board comprises processes of subjecting the surface of an unburned ceramic board 1 to liquid-repellent treatment, applying a liquid material 22 containing a conductive film forming component by a droplet discharge system on the unburned ceramic board 1 which has been liquid-repellent, stacking up the unburned ceramic boards 1 where the liquid material 22 is applied, and forming a conductive film pattern with the conductive film forming component by thermally treating the stacked unburned ceramic boards 1. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多層配線基板とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a multilayer wiring board and a method for manufacturing the same.

多層配線基板、例えば低温焼結セラミック多層配線基板としては、アルミナ粉とシリカ粉の混合物にバインダーと溶剤を加えてシート状に形成した未焼成のセラミック基板、いわゆるグリーンシートに、スクリーン印刷などの方法を使って金属ペーストでパターンを形成し、その後、上下導通を取るためのビアホールを形成して金属ペーストで充填した後、このグリーンシートを多数枚(複数枚)それぞれ位置合わせした上で積層、圧着し、脱バインダー、焼結工程を経る製造方法で製造される。   As a multilayer wiring board, for example, a low-temperature sintered ceramic multilayer wiring board, a method of screen printing or the like on an unfired ceramic substrate formed by adding a binder and a solvent to a mixture of alumina powder and silica powder, a so-called green sheet After forming a pattern with a metal paste using, and then forming via holes for filling up and down and filling with metal paste, the green sheets (multiple sheets) are aligned and then laminated and crimped And it is manufactured by the manufacturing method which passes through a binder removal and a sintering process.

ところが金属ペーストを用いるスクリーン印刷では、形成可能な最小線幅が50μm程度であり、また作成に時間がかかる印刷用のマスクを必要とするため、パターンの変更には迅速に対応できないという問題点がある。
そこで、特許文献1には、このようなスクリーン印刷による工程をインクジェット方式(液滴吐出方式)を用いることにより、低コスト化、短時間化に対応する技術が開示されている。
すなわち、特許文献1には、基板として未焼成のグリーンシートを用い、さらにグリーンシートに吸収されやすい有機分散媒に金属や抵抗体等の粉末を分散させたインクを用いて回路パターンを描画し、その後焼成することにより、インクジェット法ではインクが基板上で流れやすく濡れ拡がりやすいという課題を解決した電子回路を実現している。
また、近年ではインクジェット方式で用いられるインクは金属ナノ粒子を含んでおり、特許文献2にはこの種のインクが開示されている。
特開昭58−50795号公報 特開2002−164635号公報
However, screen printing using a metal paste has a problem that the minimum line width that can be formed is about 50 μm and a printing mask that takes time to create is required, so that it cannot respond quickly to pattern changes. is there.
Therefore, Patent Document 1 discloses a technique that can reduce the cost and shorten the time by using an inkjet method (droplet discharge method) for such a screen printing process.
That is, in Patent Document 1, an unfired green sheet is used as a substrate, and a circuit pattern is drawn using an ink in which a powder such as a metal or a resistor is dispersed in an organic dispersion medium that is easily absorbed by the green sheet. Thereafter, the electronic circuit is baked to realize an electronic circuit that solves the problem that the ink easily flows and wets easily on the substrate.
In recent years, inks used in the ink jet method include metal nanoparticles, and Patent Document 2 discloses this kind of ink.
Japanese Patent Laid-Open No. 58-50795 JP 2002-164635 A

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
グリーンシートに直接インクジェット方式で金属インクをパターン塗布した場合、インク中の有機分散媒だけでなく、金属微粒子までグリーンシートに吸収・浸透して、場合によってはシートの裏側にまで到達することがある。これはインクの粘度が低く、インクに含まれる金属微粒子の大きさがグリーンシートの平均的な孔径に比べて相当に小さいために生じるものである。このような状態で焼結を行うと、グリーンシートの表面と裏面とが意図しない箇所で導通することで、グリーンシートを重ねたときに不必要な部分で上下の層が導通してしまい、多層基板として機能しなくなる虞がある。スクリーン印刷用のペーストであれば、このような事態を招かないが、粘度が高く、粒子径も大きいためインクジェット方式でインクを塗布することは困難であり、上述した低コスト化、短時間化という効果を得ることができない。
However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
When a metal ink is directly applied to a green sheet by an ink jet method, not only the organic dispersion medium in the ink but also metal fine particles are absorbed and penetrated into the green sheet and may reach the back side of the sheet in some cases. . This is because the viscosity of the ink is low and the size of the metal fine particles contained in the ink is considerably smaller than the average pore size of the green sheet. When sintering is performed in such a state, the top and bottom layers of the green sheet are conducted at unintended locations, and the upper and lower layers are conducted at unnecessary portions when the green sheets are stacked. There is a risk that it will not function as a substrate. If it is a paste for screen printing, such a situation will not be caused, but it is difficult to apply ink by an ink jet method because of its high viscosity and large particle diameter, which means that the above-mentioned cost reduction and time reduction are mentioned. The effect cannot be obtained.

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、不必要な部分での導通を防止しつつ液滴吐出方式による低コスト化、短時間化を可能とする多層配線基板とその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and a multilayer wiring board capable of reducing the cost and shortening the time by a droplet discharge method while preventing conduction in unnecessary portions, and its An object is to provide a manufacturing method.

上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の多層配線基板の製造方法は、未焼成セラミック基板の表面に撥液化処理を施す工程と、撥液化された前記未焼成セラミック基板に導電膜形成成分を含む液状体を液滴吐出方式により塗布する工程と、前記液状体が塗布された前記未焼成セラミック基板を複数積層する工程と、積層した前記未焼成セラミック基板を熱処理して前記導電膜形成成分により導電膜パターンを形成する工程と、を有することを特徴とするものである。
従って、本発明では多層配線基板の製造の際、液滴吐出方式により液状体を塗布することにより、低コスト化、短時間化に対応することができる。また、撥液化処理が施された未焼成セラミック基板、いわゆるグリーンシートの表面に導電性微粒子等の導電膜形成成分を含有する液状体を液滴吐出方式によって塗布すると、液状体に含まれる導電膜形成成分や溶剤等はグリーンシートに深くまで浸透せずに表面上(表面近傍)に留まることから、基板の上下層間での不必要な導通を防止することが可能になる。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
The method for producing a multilayer wiring board according to the present invention comprises a step of applying a liquid repellency treatment to the surface of an unfired ceramic substrate, and a liquid material containing a conductive film forming component on the liquid-repellent unfired ceramic substrate by a droplet discharge method. A step of applying, a step of laminating a plurality of the unfired ceramic substrates coated with the liquid, a step of heat-treating the laminated unfired ceramic substrates to form a conductive film pattern with the conductive film forming component, It is characterized by having.
Therefore, in the present invention, when the multilayer wiring board is manufactured, the liquid material is applied by the droplet discharge method, so that the cost and the time can be reduced. In addition, when a liquid material containing a conductive film forming component such as conductive fine particles is applied to the surface of an unfired ceramic substrate that has been subjected to lyophobic treatment, that is, a so-called green sheet, a conductive film contained in the liquid material Forming components, solvents and the like do not penetrate deeply into the green sheet and stay on the surface (near the surface), so that unnecessary conduction between the upper and lower layers of the substrate can be prevented.

また、本発明では、未焼成セラミック基板に液状体を液滴吐出方式により塗布する際には、撥液化処理された未焼成セラミック基板の前記液状体に対する接触角に応じて、前記未焼成セラミック基板への液状体の液滴の塗布パターンを複数から選択する構成も採用可能である。
塗布パターンの一つとしては、前記未焼成セラミック基板上において互いに隣り合う前記液状体の液滴の中心間の距離が、前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の前記液滴の半径と、前記未焼成セラミック基板上に着弾する前の前記インクジェット液滴の半径との和よりも大きく、かつ前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の前記液滴の半径の2倍よりも小さくなるように前記液状体を吐出するパターンを有することが好ましい。
これによれば、液状体の液滴を、既に未焼成セラミック基板上に付与された液滴に直接当てることなく、基板着弾後の液滴の広がりによって既に基板上に付与された液滴と繋がるように吐出することにより、液滴が既に基板上に付与された液滴に直接当たる際に生じる衝撃によりラインにイレギュラーが生じ、断線等の不具合が発生するのを防止することができる。また基板上の液滴の半径の2倍よりも小さい吐出間隔で吐出することで、液滴が互いに繋がらないためにラインが形成されないことを防ぐことができる。
In the present invention, when the liquid material is applied to the unfired ceramic substrate by a droplet discharge method, the unfired ceramic substrate depends on the contact angle of the unfired ceramic substrate subjected to the liquid repellent treatment to the liquid material. It is also possible to adopt a configuration in which a plurality of liquid droplet application patterns are selected.
As one of the coating patterns, the distance between the centers of the liquid droplets adjacent to each other on the green ceramic substrate is the radius of the liquid droplets when landing on the green ceramic substrate, More than the sum of the radius of the ink jet droplets before landing on the unfired ceramic substrate and smaller than twice the radius of the droplets when landing on the unfired ceramic substrate. It is preferable to have a pattern for discharging a liquid material.
According to this, the liquid droplets are not directly applied to the droplets already applied on the unfired ceramic substrate, but are connected to the droplets already applied on the substrate by the spread of the droplets after landing on the substrate. By discharging in this manner, it is possible to prevent the line from becoming irregular due to the impact generated when the liquid droplet directly hits the liquid droplet already applied on the substrate, thereby preventing problems such as disconnection. Further, by discharging at a discharge interval smaller than twice the radius of the droplet on the substrate, it is possible to prevent the lines from being formed because the droplets are not connected to each other.

また、塗布パターンの一つとしては、前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の液状体の直径の1%以上10%以下の重なりを生じるように前記液状体を吐出するパターンを有することが好ましい。
これによれば、10%以下とすることにより、ラインの単位長さあたりの塗布される液体の量が過剰になるの防ぎ、ラインのある部分に液体が集中することで生じる液溜りで、ラインの断線や他のラインとの短絡の原因となるバルジの発生を防止することができる。また1%以上とすることにより、吐出位置精度誤差により液滴同士の重なりが生じなくなるのを防ぎ、ラインの断線を回避することができる。
Further, as one of the coating patterns, it is preferable to have a pattern for discharging the liquid material so as to cause an overlap of 1% to 10% of the diameter of the liquid material when landed on the unfired ceramic substrate. .
According to this, by setting it to 10% or less, it is possible to prevent the amount of liquid applied per unit length of the line from becoming excessive, and a liquid pool generated by concentrating liquid on a certain part of the line. It is possible to prevent the occurrence of bulges that can cause disconnection of wires and short circuits with other lines. Further, by setting the ratio to 1% or more, it is possible to prevent the droplets from overlapping each other due to the ejection position accuracy error, and to avoid the disconnection of the line.

上記の塗布パターンは、前記接触角が30°以上、前記60°以下である際に適用することが好ましい。
これは、接触角が30°よりも小さければ、液滴が基板上で塗れ広がりすぎるため、形状の乱れた機能性膜パターンが形成され、また60°よりも大きければ、吐出した液滴が基板に着弾し既に基板上にある液滴と接した際にその液滴に取り込まれてしまうことにより、機能性膜パターンに断線等の不具合が生じる虞があるためである。
The coating pattern is preferably applied when the contact angle is 30 ° or more and 60 ° or less.
This is because if the contact angle is smaller than 30 °, the droplets are too spread and spread on the substrate, so that a functional film pattern having a disordered shape is formed. If the contact angle is larger than 60 °, the ejected droplets are transferred to the substrate. This is because when the liquid droplets land on the substrate and come into contact with a droplet already on the substrate, the droplet is taken into the droplet, which may cause problems such as disconnection in the functional film pattern.

また、塗布パターンの一つとしては、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで前記液状体を吐出する第1吐出工程と、前記第1吐出工程における吐出位置と異なる位置に、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の前記液滴の直径よりも大きいピッチで前記液状体を吐出する第2吐出工程とを有することが好ましい。
ここで、「前記基板上に着弾した後の液滴の直径」とは、吐出された液滴が基板上に着弾した後に自然に広がり、その後乾燥に伴って縮小する間の最大直径をいう。すなわち、「前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで吐出する」ことにより、続けて吐出する液滴が、着弾後に自然に広がった後も、互いに離間して接しないように吐出することを意味する。
また、「異なる位置」とは、液滴の中心位置が異なることを意味し、第1工程によって吐出される液滴と第2工程によって吐出される液滴とは、互いに部分的に重なるか、あるいは完全に重ならないものである。
Further, as one of the coating patterns, a first discharge step of discharging the liquid material at a pitch larger than the diameter of the droplet after landing on the unfired ceramic substrate, and a discharge position in the first discharge step And a second discharge step of discharging the liquid material at a pitch larger than the diameter of the droplets after landing on the unfired ceramic substrate.
Here, “the diameter of the droplet after landing on the substrate” means the maximum diameter during which the discharged droplet naturally spreads after landing on the substrate and then shrinks with drying. That is, by “discharging at a pitch larger than the diameter of the droplet after landing on the substrate”, the droplets to be continuously discharged do not come into contact with each other even after they naturally spread after landing. It means to discharge.
In addition, “different positions” means that the center positions of the droplets are different, and the droplets ejected by the first step and the droplets ejected by the second step partially overlap each other, Or it does not overlap completely.

本発明によれば、第1吐出工程においても、第2吐出工程においても、液滴と液滴とが基板上の膜形成領域に互いに離間して吐出される。そのため、液滴が互いに合体してバルジを生じることがない。
また、第1吐出工程と第2吐出工程とで吐出位置が異なるため、第1吐出工程による液滴の間隙を第2吐出工程により埋めていくことができる。
なお、第2吐出工程において吐出される液滴が第1吐出工程において吐出された液滴と部分的に重なることは差し支えない。すなわち、第1吐出工程において吐出された液滴は、ある程度、又は完全に乾燥が進行しているので、両工程の液滴が互いに合体してバルジを生じる危険性が、同一の工程で重なり合う液滴を続けて吐出する場合と比較して低くなるからである。
本発明によれば、バルジが生じる危険性が軽減されるので、基板の撥液性を高め、基板と液体との接触角を大きくすることができる。そのため、細線化、厚膜化が可能となる。
また、液滴吐出法によるため、基板が平坦でなく凹凸のあるものであっても膜を形成することができる。そのため、例えば、段差のある箇所をまたいで配線等の膜を形成することも可能である。
According to the present invention, in both the first discharge process and the second discharge process, the droplets and the droplets are discharged separately from each other to the film formation region on the substrate. Therefore, the droplets do not coalesce with each other to generate a bulge.
In addition, since the discharge positions are different between the first discharge process and the second discharge process, the gap between the droplets in the first discharge process can be filled by the second discharge process.
It should be noted that the liquid droplets ejected in the second ejection process may partially overlap the liquid droplets ejected in the first ejection process. That is, since the liquid droplets discharged in the first discharge process have been dried to some extent or completely, there is a risk that the liquid droplets in both processes merge with each other to form a bulge in the same process. It is because it becomes low compared with the case where a droplet is discharged continuously.
According to the present invention, since the risk of bulging is reduced, the liquid repellency of the substrate can be improved and the contact angle between the substrate and the liquid can be increased. For this reason, it is possible to reduce the thickness and the film thickness.
Further, since the droplet discharge method is used, a film can be formed even when the substrate is not flat but uneven. Therefore, for example, a film such as a wiring can be formed across a stepped portion.

本発明において、前記第2吐出工程におけるピッチは、前記第1吐出工程におけるピッチと略同一であることが好ましい。これにより、工程を簡略化し、作業効率を向上させることができる。
ただし、前記第2吐出工程におけるピッチを、前記第1吐出工程におけるピッチと略同一とすることは絶対的な要件ではない。たとえば、第2吐出工程におけるピッチを第1吐出工程におけるピッチの略2倍としたり、1/2倍としたりすることも可能である。
In the present invention, it is preferable that the pitch in the second discharge step is substantially the same as the pitch in the first discharge step. Thereby, a process can be simplified and work efficiency can be improved.
However, it is not an absolute requirement that the pitch in the second discharge step be substantially the same as the pitch in the first discharge step. For example, the pitch in the second discharge process can be made approximately twice the pitch in the first discharge process or can be halved.

本発明において、前記第1吐出工程におけるピッチは、前記基板上に着弾した後の液滴の直径の2倍以下であることが好ましい。この場合、第1吐出工程と第2吐出工程のみで、連続した線状の膜パターンを形成できるので、工程を簡略化し、作業効率を向上させることができる。
なお、前記第1吐出工程におけるピッチが、前記基板上に着弾した後の液滴の直径の2倍を越える場合には、第2吐出工程の後に、さらに、別の吐出工程を1回以上行うことによって、連続した線状の膜パターンを形成することができる。
In the present invention, it is preferable that the pitch in the first discharge step is not more than twice the diameter of the droplet after landing on the substrate. In this case, since a continuous linear film pattern can be formed only by the first discharge process and the second discharge process, the process can be simplified and the working efficiency can be improved.
When the pitch in the first discharge step exceeds twice the diameter of the droplet after landing on the substrate, another discharge step is further performed once or more after the second discharge step. Thus, a continuous linear film pattern can be formed.

本発明において、前記第1吐出工程におけるピッチが、前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも10μm以上大きいことが好ましい。これにより、液滴の着弾位置の誤差を考慮しても、続けて吐出する液滴が互いに離間して接しないように吐出することを確実に行うことができる。   In the present invention, it is preferable that the pitch in the first discharge step is 10 μm or more larger than the diameter of the droplet after landing on the substrate. Thereby, even if the error of the landing position of the liquid droplet is taken into consideration, it is possible to surely perform the discharge so that the liquid droplets to be continuously discharged are not separated from and in contact with each other.

本発明において、前記第2吐出工程の後に、前記液体の複数の液滴を、前記第1吐出工程におけるピッチよりも小さいピッチで吐出する第3吐出工程を有することが好ましい。
第1吐出工程及び第2吐出工程により吐出した液滴が完全に、又はある程度乾燥した部分は親液性が付与されており、第3吐出工程により吐出される液体がなじみやすい。そのため、本発明によれば、第3吐出工程により吐出される液滴を膜形成領域に留めることが容易になる。したがって、第3吐出工程におけるピッチは、第1吐出工程におけるピッチよりも小さいピッチで吐出することが可能となり、厚膜化を効率的に進めることが可能となるものである。
特に、前記第3吐出工程におけるピッチは、前記基板上に着弾した後の液滴の直径以下とすることが好ましい。すなわち、第3吐出工程における液滴は、着弾後互いに接触するようなピッチとすることが好ましい。これにより、厚膜化を効率的に進めることが可能となるものである。
In the present invention, it is preferable that after the second discharge step, there is a third discharge step of discharging a plurality of liquid droplets at a pitch smaller than the pitch in the first discharge step.
A portion where the droplets discharged in the first discharge step and the second discharge step are completely or partially dried is given lyophilicity, and the liquid discharged in the third discharge step is easily adapted. Therefore, according to the present invention, it is easy to keep the droplets discharged in the third discharge step in the film formation region. Accordingly, the pitch in the third discharge step can be discharged at a pitch smaller than the pitch in the first discharge step, and the film thickness can be increased efficiently.
In particular, it is preferable that the pitch in the third discharge step is equal to or less than the diameter of the droplet after landing on the substrate. That is, it is preferable that the droplets in the third ejection step have a pitch that contacts each other after landing. This makes it possible to efficiently increase the thickness.

上記第1、第2吐出工程を含む塗布パターンは、前記接触角が30°以上である際に適用することが好ましく、特の接触角が60°以上である場合には好適に選択できる。
基板の撥液性が60°以下の場合、導電性微粒子を分散させた液状体が基板着弾後に濡れ広がることを抑える効果が充分でなく、厚膜化、細線化のためには60°以上が好ましい。また、液状体を乾燥後に重ね塗りをする場合も、基板の撥液性が60°以下の場合、液体を乾燥して親液性となった部分との撥水性の差が充分でないため、重ね塗るときの液量が多すぎると、先に液状体を乾燥した部分に留まらず、液状体が基板上に流れ落ちてしまいやすく、線幅が太くなってしまうという問題が生じるが、60°以上であれば、これらの問題を解消できる。
The coating pattern including the first and second ejection steps is preferably applied when the contact angle is 30 ° or more, and can be suitably selected when the special contact angle is 60 ° or more.
When the liquid repellency of the substrate is 60 ° or less, the liquid material in which the conductive fine particles are dispersed is not sufficiently effective to prevent the liquid from spreading after landing on the substrate, and 60 ° or more is necessary for thickening and thinning. preferable. Also, when the liquid material is overcoated after drying, if the liquid repellency of the substrate is 60 ° or less, the difference in water repellency from the portion where the liquid is dried to become lyophilic is not sufficient. If the amount of the liquid applied is too large, the liquid material does not stay in the dry part first, and the liquid material tends to flow down on the substrate, resulting in a problem that the line width becomes thick. If so, these problems can be solved.

前記未焼成セラミック基板に、複数の層間で前記導電性パターンを導通させる導体ポストを形成する工程を有することにより、各層に形成された配線を導通状態とすることができる。
前記導体ポストを液滴吐出方式により形成した場合には、導体ポストを形成するうえで、フォトリソグラフィ、エッチング及び穴あけ工程が不要となるので、多層配線基板の製造工程を単純なものにすることができ、製造装置の小型化、製造期間の短縮化及び製造コストの低減化が可能となる。
また、このような方法によれば、導体ポストを形成するうえで、マスクが不要となるので、例えば、CADデータから直接導体ポストを形成することが可能となり、設計から完成までの期間が短縮され、設計変更にも容易に対応できるようになる。
By providing the green ceramic substrate with a step of forming a conductor post for conducting the conductive pattern between a plurality of layers, the wiring formed in each layer can be made conductive.
When the conductor post is formed by a droplet discharge method, photolithography, etching, and a punching process are not necessary for forming the conductor post, and thus the manufacturing process of the multilayer wiring board can be simplified. Thus, the manufacturing apparatus can be downsized, the manufacturing period can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.
Further, according to such a method, a mask is not necessary for forming the conductor post, and therefore, for example, the conductor post can be formed directly from CAD data, and the period from design to completion is shortened. It becomes possible to easily cope with design changes.

また、本発明の多層配線基板は、上記の多層配線基板の製造方法により形成された導電膜パターンを配線として有することを特徴としている。
これにより、本発明では基板の上下層間での不必要な導通が防止された導電性パターンを低コストおよび短時間で製造することが可能になる。
The multilayer wiring board of the present invention is characterized by having a conductive film pattern formed by the above-described method for manufacturing a multilayer wiring board as wiring.
Accordingly, in the present invention, it is possible to manufacture a conductive pattern in which unnecessary conduction between the upper and lower layers of the substrate is prevented at a low cost and in a short time.

以下、本発明の多層配線基板とその製造方法の実施の形態を、図1ないし図9を参照して説明する。
(第1実施形態)
まず、本発明に係る多層配線基板の製造方法について説明する。
この製造方法は、多孔質性の基板を形成する工程と、基板の表面を撥液化処理する表面処理工程と、導電膜形成成分を含有する液状体を、液滴吐出法によって前記基板表面に塗布する工程と、基板の所定位置にスルーホールを設け金属材料を充填する工程と、基板を複数枚積層する工程と、前記基板上の液状体を熱処理して導電性膜形成成分を接触させ、この導電膜形成成分からなる導電膜パターンを形成する工程と、を備えた方法である。
Embodiments of a multilayer wiring board and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
(First embodiment)
First, a method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention will be described.
In this manufacturing method, a step of forming a porous substrate, a surface treatment step of making the surface of the substrate lyophobic, and a liquid material containing a conductive film forming component are applied to the surface of the substrate by a droplet discharge method. A step of providing a through hole in a predetermined position of the substrate and filling a metal material, a step of laminating a plurality of substrates, a liquid material on the substrate is heat-treated to bring a conductive film forming component into contact with each other, And a step of forming a conductive film pattern made of a conductive film forming component.

(多孔質基板形成工程)
多孔質基板形成工程においては、多孔質性の未焼成セラミック基板、いわゆるグリーンシートを形成する。この工程では、原料となるホウケイ酸ガラス粉末、アルミナ及びフォルステライト粉末を所定量(例えばホウケイ酸ガラス;40wt%、アルミナ;35wt%及びフォルステライト;25wt%)混合し、これに溶剤、有機バインダー可塑剤を加えてスラリー化し、ドクターブレード法により厚さ100μmのグリーンシートをベースプレート上に形成する。
(Porous substrate forming process)
In the porous substrate forming step, a porous unfired ceramic substrate, a so-called green sheet is formed. In this process, borosilicate glass powder, alumina and forsterite powder as raw materials are mixed in predetermined amounts (for example, borosilicate glass; 40 wt%, alumina; 35 wt% and forsterite; 25 wt%), and this is mixed with solvent and organic binder plastic. An agent is added to form a slurry, and a green sheet having a thickness of 100 μm is formed on the base plate by a doctor blade method.

なお、ガラス−アルミナ成分系に対する添加物としては、フォルステライトの他に、エンスタタイト(MgO・SiO)、スピネル(MgO・Al)、シリカ(SiO)、コーデェライト(2MgO・2Al・5SiO)、マグネシア(MgO)等も使用可能であるが、焼結性を向上させる点からフォルステライトが好ましく、また添加量については、25wt%とすることが相対密度を高くする点から好ましい。
また、グリーンシートとしては、上記のガラスセラミック系以外にも、結晶化ガラスとアルミナ、或いは他のセラミックとの複合系、セラミック単相系、アルミナへの添加物系などを用いてもよい。
In addition to forsterite, enstatite (MgO.SiO 2 ), spinel (MgO.Al 2 O 3 ), silica (SiO 2 ), cordierite (2MgO.2Al) are added to the glass-alumina component system. 2 O 3 · 5SiO 2 ), magnesia (MgO), etc. can be used, but forsterite is preferable from the viewpoint of improving the sinterability, and the addition amount is 25 wt% to increase the relative density. It is preferable from the point.
Further, as the green sheet, in addition to the above glass ceramic system, a composite system of crystallized glass and alumina or other ceramics, a ceramic single phase system, an additive system to alumina, or the like may be used.

(表面処理工程)
表面処理工程では、導電膜配線を形成すべきグリーンシートの表面を、導電性微粒子を含有した液体に対する所定の接触角が、30°[deg]以上、好ましくは60°、より好ましくは90°以上110°以下となるように表面処理(撥液化処理)を施して、グリーンシート1上に撥液性膜2を形成する。
このように表面の撥液性(濡れ性)を制御するためには、以下に説明する種々の表面処理方法が採用できる。
(Surface treatment process)
In the surface treatment step, the surface of the green sheet on which the conductive film wiring is to be formed has a predetermined contact angle with respect to the liquid containing conductive fine particles of 30 ° [deg] or more, preferably 60 °, more preferably 90 ° or more. A surface treatment (liquid repellency treatment) is performed so as to be 110 ° or less to form a liquid repellency film 2 on the green sheet 1.
Thus, in order to control the liquid repellency (wetting property) of the surface, various surface treatment methods described below can be employed.

表面処理の方法の一つとして、導電膜配線を形成すべきグリーンシートの表面に、有機分子膜などからなる自己組織化膜を形成する方法が挙げられる。
グリーンシート表面を処理するための有機分子膜は、グリーンシートに結合可能な官能基と、その反対側に親液基あるいは撥液基といったグリーンシートの表面性を改質する(表面エネルギーを制御する)官能基と、これらの官能基を結ぶ炭素の直鎖あるいは一部分岐した炭素鎖を備えており、グリーンシートに結合して自己組織化して分子膜、例えば単分子膜を形成するものである。
As one of the surface treatment methods, there is a method of forming a self-assembled film made of an organic molecular film or the like on the surface of a green sheet on which conductive film wiring is to be formed.
The organic molecular film for treating the surface of the green sheet modifies the surface properties of the green sheet such as a functional group capable of binding to the green sheet and a lyophilic group or a liquid repellent group on the opposite side (controls the surface energy). ) It has a functional group and a linear or partially branched carbon chain connecting these functional groups, and is bonded to a green sheet to self-assemble to form a molecular film, for example, a monomolecular film.

自己組織化膜とはグリーンシートなど下地層等構成原子と反応可能な結合性官能基とそれ以外の直鎖分子とからなり、該直鎖分子の相互作用により極めて高い配向性を有する化合物を、配向させて形成された膜である。この自己組織化膜は、単分子を配向させて形成されているので、極めて膜厚を薄くすることができ、しかも、分子レベルで均一な膜となる。即ち、膜の表面に同じ分子が位置するため、膜の表面に均一でしかも優れた撥液性や親液性を付与することができる。   The self-assembled film is composed of a binding functional group capable of reacting with constituent atoms such as a green sheet such as a green sheet and other linear molecules, and a compound having extremely high orientation by the interaction of the linear molecules, It is a film formed by orientation. Since this self-assembled film is formed by orienting single molecules, the film thickness can be extremely reduced, and the film is uniform at the molecular level. That is, since the same molecule is located on the surface of the film, uniform and excellent liquid repellency and lyophilicity can be imparted to the surface of the film.

上記の高い配向性を有する化合物として、例えばフルオロアルキルシランを用いた場合には、膜の表面にフルオロアルキル基が位置するように各化合物が配向されて自己組織化膜が形成されるので、膜の表面に均一な撥液性が付与される。
このような自己組織化膜を形成する化合物としては、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリクロロシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフルオロアルキルシラン(以下「FAS」という)を挙げることができる。使用に際しては、一つの化合物を単独で用いるのも好ましいが、2種以上の化合物を組合せて使用しても、本発明の所期の目的を損なわなければ制限されない。また、本発明においては、前記の自己組織化膜を形成する化合物として、前記FASを用いるのが、グリーンシートとの密着性及び良好な撥液性を付与する上で好ましい。
For example, when fluoroalkylsilane is used as the compound having high orientation, each compound is oriented so that the fluoroalkyl group is located on the surface of the film, and a self-assembled film is formed. Uniform liquid repellency is imparted to the surface.
Examples of the compound that forms such a self-assembled film include heptadecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrodecyltriethoxysilane, heptadecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrodecyltrimethoxysilane, heptadeca Fluoro-1,1,2,2 tetrahydrodecyltrichlorosilane, tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltriethoxysilane, tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltrimethoxysilane, trideca Fluoroalkylsilanes (hereinafter referred to as “FAS”) such as fluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltrichlorosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. In use, it is preferable to use one compound alone, but the use of a combination of two or more compounds is not limited as long as the intended purpose of the present invention is not impaired. In the present invention, it is preferable to use the FAS as a compound for forming the self-assembled film in order to provide adhesion to a green sheet and good liquid repellency.

FASは、一般的に構造式RnSiX(4-n)で表される。ここでnは1以上3以下の整数を表し、Xはメトキシ基、エトキシ基、ハロゲン原子などの加水分解基である。またRはフルオロアルキル基であり、(CF)(CF)x(CH)yの(ここでxは0以上10以下の整数を、yは0以上4以下の整数を表す)構造を持ち、複数個のR又はXがSiに結合している場合には、R又はXはそれぞれすべて同じでも良いし、異なっていてもよい。Xで表される加水分解基は加水分解によりシラノールを形成して、基板(ガラス、シリコン)等の下地のヒドロキシル基と反応してシロキサン結合で基板と結合する。一方、Rは表面に(CF)等のフルオロ基を有するため、グリーンシート等の下地表面を濡れない(表面エネルギーが低い)表面に改質する。 FAS is generally represented by the structural formula RnSiX (4-n). Here, n represents an integer of 1 to 3, and X is a hydrolyzable group such as a methoxy group, an ethoxy group, or a halogen atom. R is a fluoroalkyl group, and has a structure of (CF 3 ) (CF 2 ) x (CH 2 ) y (where x represents an integer of 0 to 10 and y represents an integer of 0 to 4). In the case where a plurality of R or X are bonded to Si, R or X may all be the same or different. The hydrolyzable group represented by X forms silanol by hydrolysis, reacts with the hydroxyl group of the base such as the substrate (glass, silicon), etc., and bonds to the substrate with a siloxane bond. On the other hand, since R has a fluoro group such as (CF 3 ) on the surface, the base surface such as a green sheet is modified to a surface that does not get wet (surface energy is low).

有機分子膜などからなる自己組織化膜は、上記の原料化合物とグリーンシートとを同一の密閉容器中に入れておき、室温の場合は2〜3日程度の間放置するとグリーンシート上に形成される。また、密閉容器全体を100℃に保持することにより、3時間程度でグリーンシート上に形成される。以上に述べたのは、気相からの形成法であるが、液相からも自己組織化膜は形成可能である。例えば、原料化合物を含む溶液中にグリーンシートを浸積し、洗浄、乾燥することでグリーンシート上に自己組織化膜が得られる。
なお、自己組織化膜を形成する前に、グリーンシート表面に紫外光を照射したり、溶媒により洗浄したりして、前処理を施すことが望ましい。
A self-assembled film composed of an organic molecular film or the like is formed on a green sheet when the above raw material compound and the green sheet are placed in the same sealed container and left at room temperature for about 2 to 3 days. The Further, by holding the entire sealed container at 100 ° C., it is formed on the green sheet in about 3 hours. What has been described above is the formation method from the gas phase, but the self-assembled film can also be formed from the liquid phase. For example, a self-assembled film can be obtained on a green sheet by immersing the green sheet in a solution containing a raw material compound, washing and drying.
In addition, before forming the self-assembled film, it is desirable to perform pretreatment by irradiating the green sheet surface with ultraviolet light or washing with a solvent.

表面処理の他の方法として、常圧又は真空中でプラズマ照射する方法が挙げられる。プラズマ処理に用いるガス種は、導電膜配線を形成すべき基板の表面材質等を考慮して種々選択できる。
たとえば、4フッ化メタン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロデカン等を処理ガスとして使用できる。
As another method of the surface treatment, there is a method of plasma irradiation in normal pressure or vacuum. Various types of gas used for the plasma treatment can be selected in consideration of the surface material of the substrate on which the conductive film wiring is to be formed.
For example, tetrafluoromethane, perfluorohexane, perfluorodecane, etc. can be used as the processing gas.

表面処理は、所望の撥液性を有するフィルム、例えば4フッ化エチレン加工されたポリイミドフィルム等を基板表面に貼着することによっても行うことができる。なお、ポリイミドフィルムをそのまま基板として用いてもよい。
また、基板表面が所望の撥液性よりも高い撥液性を有する場合、それを親液化する方法として、170〜400nmの紫外光を照射する方法や、基板をオゾン雰囲気に曝す方法が挙げられる。
The surface treatment can also be performed by attaching a film having a desired liquid repellency, such as a polyimide film processed with tetrafluoroethylene, to the substrate surface. In addition, you may use a polyimide film as a board | substrate as it is.
In addition, when the substrate surface has a liquid repellency higher than the desired liquid repellency, examples of a method for making it lyophilic include a method of irradiating ultraviolet light of 170 to 400 nm and a method of exposing the substrate to an ozone atmosphere. .

(液滴吐出工程)
次に、図1(b)に示すように、導電膜形成成分を含む液状体を、液滴吐出法によって前記グリーンシート1の撥液性膜2上の所定位置に設ける。
導電膜形成成分を含む液状体としては、導電性微粒子を分散媒に分散させた分散液を用いる。ここで用いられる導電性微粒子は、金、銀、銅、パラジウム、ニッケルの何れかを含有する金属微粒子の他、導電性ポリマーや超電導体の微粒子などが用いられる。
これら導電性微粒子については、分散性を向上させるためその表面に有機物などをコーティングして使うこともできる。導電性微粒子の表面にコーティングするコーティング剤としては、例えばキシレン、トルエン等の有機溶剤やクエン酸等が挙げられる。
導電性微粒子の粒径は1nm以上0.1μm以下であることが好ましい。0.1μmより大きいと、後述する液滴吐出装置のヘッドのノズルの目詰まりが起こりやすく、液滴吐出法による吐出が困難になるからである。また、1nmより小さいと、導電性微粒子に対するコーテイング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となるからである。
(Droplet discharge process)
Next, as shown in FIG. 1B, a liquid containing a conductive film forming component is provided at a predetermined position on the liquid repellent film 2 of the green sheet 1 by a droplet discharge method.
As the liquid containing the conductive film forming component, a dispersion liquid in which conductive fine particles are dispersed in a dispersion medium is used. The conductive fine particles used here include fine particles of conductive polymer or superconductor in addition to metal fine particles containing any of gold, silver, copper, palladium, and nickel.
About these electroconductive fine particles, in order to improve dispersibility, the organic substance etc. can also be coated and used for the surface. Examples of the coating agent that coats the surface of the conductive fine particles include organic solvents such as xylene and toluene, citric acid, and the like.
The particle diameter of the conductive fine particles is preferably 1 nm or more and 0.1 μm or less. This is because if it is larger than 0.1 μm, clogging of the nozzles of the head of the droplet discharge device described later is likely to occur, and it becomes difficult to discharge by the droplet discharge method. On the other hand, if the thickness is smaller than 1 nm, the volume ratio of the coating agent to the conductive fine particles becomes large, and the ratio of the organic matter in the obtained film becomes excessive.

導電性微粒子を含有する液体の分散媒としては、室温での蒸気圧が0.001mmHg以上200mmHg以下(約0.133Pa以上26600Pa以下)であるものが好ましい。蒸気圧が200mmHgより高いと、吐出後に分散媒が急激に蒸発してしまい、良好な膜を形成することが困難となるからである。
また、分散媒の蒸気圧は0.001mmHg以上50mmHg以下(約0.133Pa以上6650Pa以下)であるのがより好ましい。蒸気圧が50mmHgより高いと、液滴吐出法で液滴を吐出する際に乾燥によるノズル詰まりが起こり易く、安定な吐出が困難になるからである。
一方、室温での蒸気圧が0.001mmHgより低い分散媒の場合には、乾燥が遅くなって膜中に分散媒が残留しやすくなり、後工程の熱及び/又は光処理後に良質の導電膜が得られにくくなる。
The liquid dispersion medium containing conductive fine particles preferably has a vapor pressure at room temperature of 0.001 mmHg to 200 mmHg (about 0.133 Pa to 26600 Pa). This is because if the vapor pressure is higher than 200 mmHg, the dispersion medium rapidly evaporates after discharge, making it difficult to form a good film.
The vapor pressure of the dispersion medium is more preferably 0.001 mmHg or more and 50 mmHg or less (about 0.133 Pa or more and 6650 Pa or less). This is because if the vapor pressure is higher than 50 mmHg, nozzle clogging due to drying tends to occur when droplets are ejected by the droplet ejection method, and stable ejection becomes difficult.
On the other hand, in the case of a dispersion medium whose vapor pressure at room temperature is lower than 0.001 mmHg, drying is slow and the dispersion medium tends to remain in the film, and a high-quality conductive film after heat and / or light treatment in the subsequent process. Is difficult to obtain.

使用する分散媒としては、前記の導電性微粒子を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。そのような分散媒として、具体的には、水の他に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、更にプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を挙げることができる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法への適用のし易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、さらに好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。これらの分散媒は、単独でも、あるいは2種以上の混合物としても使用することができる。   The dispersion medium to be used is not particularly limited as long as it can disperse the conductive fine particles and does not cause aggregation. Specific examples of such a dispersion medium include water, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, n-heptane, n-octane, decane, toluene, xylene, cymene, durene, indene, and dipentene. Hydrocarbon compounds such as tetrahydronaphthalene, decahydronaphthalene, cyclohexylbenzene, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, 1,2-dimethoxy Ether compounds such as ethane, bis (2-methoxyethyl) ether, p-dioxane, propylene carbonate, γ Butyrolactone, N- methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, may be mentioned polar compounds such as cyclohexanone. Of these, water, alcohols, hydrocarbon compounds, and ether compounds are preferable, and more preferable dispersion is preferable from the viewpoints of fine particle dispersibility, dispersion stability, and ease of application to the droplet discharge method. Examples of the medium include water and hydrocarbon compounds. These dispersion media can be used alone or as a mixture of two or more.

前記導電性微粒子を分散媒に分散する場合の分散質濃度としては、1質量%以上80質量%以下とするのが好ましく、所望の導電膜の膜厚に応じて調整することができる。80質量%を超えると凝集をおこしやすくなり、均一な膜が得にくくなる。
このようにして調整された前記導電性微粒子を含有する液状体の表面張力としては、0.02N/m以上0.07N/m以下の範囲とするのが好ましい。液滴吐出法にて液状体を吐出する際、表面張力が0.02N/m未満であると、インク組成物のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じ易くなり、0.07N/mを超えると、ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため、吐出量、吐出タイミングの制御が困難になるからである。
The dispersoid concentration when the conductive fine particles are dispersed in a dispersion medium is preferably 1% by mass or more and 80% by mass or less, and can be adjusted according to the desired film thickness of the conductive film. If it exceeds 80% by mass, aggregation tends to occur and it becomes difficult to obtain a uniform film.
The surface tension of the liquid containing the conductive fine particles thus adjusted is preferably in the range of 0.02 N / m to 0.07 N / m. When the liquid material is discharged by the droplet discharge method, if the surface tension is less than 0.02 N / m, the wettability of the ink composition with respect to the nozzle surface increases, and thus flight bending easily occurs. This is because if it exceeds m, the shape of the meniscus at the tip of the nozzle is not stable, and it becomes difficult to control the discharge amount and the discharge timing.

表面張力を調整するため、前記液状体には、受容層2との接触角を不当に低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加することができる。ノニオン系表面張力調節剤は、液体の基板への濡れ性を良好化し、膜のレベリング性を改良し、塗膜のぶつぶつの発生、ゆず肌の発生などの防止に役立つものである。
前記液状体は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでいても差し支えない。
In order to adjust the surface tension, a trace amount of a surface tension adjusting agent such as a fluorine-based material, a silicone-based material, or a nonionic-based material can be added to the liquid material in a range that does not unduly reduce the contact angle with the receiving layer 2. The nonionic surface tension modifier improves the wettability of the liquid to the substrate, improves the leveling property of the film, and helps to prevent the occurrence of crushing of the coating film and the generation of the itchy skin.
The liquid may contain an organic compound such as alcohol, ether, ester, or ketone as necessary.

前記液状体の粘度は1mPa・s以上50mPa・s以下であるのが好ましい。液滴吐出法にて吐出する際、粘度が1mPa・sより小さい場合にはノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が50mPa・sより大きい場合は、ノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となるからである。
本実施の形態では、粒径10nmからなる金の微粒子をα−テルピネオールに分散させた金微粒子分散液(真空冶金社製、商品名「パーフェクトゴールド」)を導電性インクとして用いた。
The liquid preferably has a viscosity of 1 mPa · s to 50 mPa · s. When discharging by the droplet discharge method, if the viscosity is less than 1 mPa · s, the nozzle periphery is easily contaminated by the outflow of ink, and if the viscosity is more than 50 mPa · s, the nozzle hole is clogged frequently. This is because it becomes difficult to smoothly discharge droplets.
In the present embodiment, a gold fine particle dispersion (trade name “Perfect Gold” manufactured by Vacuum Metallurgical Co., Ltd.) in which gold fine particles having a particle diameter of 10 nm are dispersed in α-terpineol was used as the conductive ink.

このような導電性微粒子を含有する液状体を吐出する液滴吐出装置としては、図2(a)、(b)に示す液滴吐出ヘッド10を備えた装置が好適に用いられる。
ここで、液滴吐出ヘッド10は、図2(a)に示すように例えばステンレス製のノズルプレート12と振動板13とを備え、両者を仕切部材(リザーバプレート)14を介して接合したものである。ノズルプレート12と振動板13との間には、仕切部材14によって複数の空間15と液溜まり16とが形成されている。各空間15と液溜まり16の内部はインクで満たされており、各空間15と液溜まり16とは供給口17を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート12には、空間15からインクを噴射するためのノズル孔18が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板13には、液溜まり16にインクを供給するための孔19が形成されている。
As a liquid droplet ejection apparatus that ejects a liquid containing such conductive fine particles, an apparatus including the liquid droplet ejection head 10 shown in FIGS. 2A and 2B is preferably used.
Here, as shown in FIG. 2A, the droplet discharge head 10 includes, for example, a stainless steel nozzle plate 12 and a vibration plate 13, which are joined via a partition member (reservoir plate) 14. is there. A plurality of spaces 15 and a liquid reservoir 16 are formed between the nozzle plate 12 and the diaphragm 13 by the partition member 14. Each space 15 and the liquid reservoir 16 are filled with ink, and each space 15 and the liquid reservoir 16 communicate with each other via a supply port 17. A plurality of nozzle holes 18 for ejecting ink from the space 15 are formed in the nozzle plate 12 in a line. On the other hand, a hole 19 for supplying ink to the liquid reservoir 16 is formed in the vibration plate 13.

また、振動板13の空間15に対向する面と反対側の面上には、図2(b)に示すように圧電素子(ピエゾ素子)20が接合されている。この圧電素子20は、一対の電極21の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子20が接合されている振動板13は、圧電素子20と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間15の容積が増大するようになっている。したがって、空間15内に増大した容積分に相当するインクが、液溜まり16から供給口17を介して流入する。また、このような状態から圧電素子20への通電を解除すると、圧電素子20と振動板13はともに元の形状に戻る。したがって、空間15も元の容積に戻ることから、空間15内部のインクの圧力が上昇し、ノズル孔18から基板に向けてインクの液滴(液状体)22が吐出される。
なお、液滴吐出ヘッド10の液滴吐出方式(インクジェット方式)としては、前記の圧電素子20を用いたピエゾジェットタイプ以外の、公知の方式のものを採用してもよい。
Further, a piezoelectric element (piezo element) 20 is joined to the surface of the diaphragm 13 opposite to the surface facing the space 15 as shown in FIG. The piezoelectric element 20 is positioned between a pair of electrodes 21 and is configured to bend so that when it is energized, it projects outward. The diaphragm 13 to which the piezoelectric element 20 is bonded in such a configuration is bent integrally with the piezoelectric element 20 at the same time so that the volume of the space 15 is increased. It is going to increase. Therefore, ink corresponding to the increased volume in the space 15 flows from the liquid reservoir 16 through the supply port 17. Further, when energization to the piezoelectric element 20 is released from such a state, both the piezoelectric element 20 and the diaphragm 13 return to their original shapes. Therefore, since the space 15 also returns to its original volume, the pressure of the ink inside the space 15 rises, and ink droplets (liquid material) 22 are ejected from the nozzle holes 18 toward the substrate.
As a droplet discharge method (inkjet method) of the droplet discharge head 10, a known method other than the piezo jet type using the piezoelectric element 20 may be adopted.

このような構成の液滴吐出ヘッド10を用いて、本例では図1(b)に示したように受容層2上の所定位置に液状体の液滴22を所望するパターン状、例えば形成する配線パターン形状に吐出・塗布する。
ここで、本実施の形態では、グリーンシート1の液状体(金属インク)に対する接触角に応じて塗布パターンを選択しており、ここでは接触角が30°以上、60°以下の場合について説明する。
By using the droplet discharge head 10 having such a configuration, in this example, as shown in FIG. 1B, a liquid droplet 22 of a liquid material is formed in a desired pattern, for example, at a predetermined position on the receiving layer 2. Discharge and apply to the wiring pattern shape.
Here, in the present embodiment, a coating pattern is selected according to the contact angle of the green sheet 1 with respect to the liquid (metal ink), and here, a case where the contact angle is 30 ° or more and 60 ° or less will be described. .

グリーンシート1上に付与される液滴の間隔は、吐出周波数及び液滴吐出ヘッド10及びグリーンシート1の相対速度を制御することによって制御する。特に、同一配線内で互いに隣り合う液滴22が、グリーンシート1上に付与された際の液体の直径の1%以上10%以下の重なりを生じるように付与されることが望ましい。すなわち、液滴22の間隔は、グリーンシート1上に付与された際の液体の直径の90%以上99%以下の長さであることが望ましい。これより液滴22の間隔が狭く重なりが大きいとバルジが発生し、良好なラインが形成できない。一方、これより液滴22の間隔が広く重なりが小さいと、吐出位置精度誤差により液体の重なりが生じなくなり、切れた配線が形成されてしまう可能性がある。   The interval between the droplets applied on the green sheet 1 is controlled by controlling the ejection frequency and the relative speed of the droplet ejection head 10 and the green sheet 1. In particular, it is desirable that the droplets 22 adjacent to each other in the same wiring are applied so as to cause an overlap of 1% to 10% of the diameter of the liquid when applied on the green sheet 1. In other words, the interval between the droplets 22 is desirably 90% or more and 99% or less of the diameter of the liquid applied on the green sheet 1. If the interval between the droplets 22 is narrower and the overlap is larger than this, a bulge is generated and a good line cannot be formed. On the other hand, if the interval between the droplets 22 is wider than this and the overlap is small, there is a possibility that the overlap of the liquid does not occur due to the ejection position accuracy error and a cut wiring is formed.

このようにして液状体を撥液性膜2上に吐出塗布すると、図1(c)に示すように、主に液状体中の導電性微粒子3はグリーンシート1に深くまで浸透せずに、表面上(表面近傍)に微粒子の集合体(塊)となって留まることから、グリーンシート1の下面側には導通成分が達せず、上下面間での不必要な導通を防止することが可能になる。
そして、撥液性膜2上に残った導電性微粒子3の集合体3aも、隣り合うものどうしが接するようようになる全ての集合体3aが連続して所望のパターン状、例えば形成する配線パターン形状のものとなる。
When the liquid material is discharged and applied onto the liquid repellent film 2 in this way, the conductive fine particles 3 in the liquid material mainly do not penetrate deeply into the green sheet 1 as shown in FIG. Since it stays as an aggregate (lumps) of fine particles on the surface (near the surface), the conductive component does not reach the lower surface side of the green sheet 1, and unnecessary conduction between the upper and lower surfaces can be prevented. become.
The aggregate 3a of the conductive fine particles 3 remaining on the liquid-repellent film 2 is also continuously formed in a desired pattern, for example, a wiring pattern formed by all the aggregates 3a that come into contact with each other. It will be in shape.

(スルーホール形成・金属充填工程)
金属インクを塗布したグリーンシート1に対しては、パンチングマシンや金型プレス等を用いて所定位置にスルーホールを形成する。なお、スルーホールの形成は、レーザー照射により行ってもよい。
続いて、形成されたスルーホールに金属ペーストを充填する。金属充填方式としては、ディスペンサーやスクリーン印刷でもよいが、上述した金属インクを液滴吐出方式を用いて充填することがコスト削減、作業の短時間化の観点から好ましい。
(Through hole formation and metal filling process)
For the green sheet 1 coated with metal ink, a through hole is formed at a predetermined position using a punching machine, a die press or the like. Note that the through hole may be formed by laser irradiation.
Subsequently, the formed through hole is filled with a metal paste. As the metal filling method, a dispenser or screen printing may be used, but it is preferable to fill the above-described metal ink by using a droplet discharge method from the viewpoint of cost reduction and shortening of work.

(積層工程)
この後、図3に示すように、ベースプレートを取り除いたグリーンシート1(撥液性膜2を含む)を複数枚、位置を合わせて積層する。この後、必要であれば、他の受動部品の埋め込みを行う。そして、例えば100℃、100〜150kg/cmの圧力で熱圧着を行う。
図3におけるグリーンシート1上には撥液性膜2を介して導電性パターン4(導電膜パターン)からなる配線31が形成され、さらにこの配線31上に同様の構成の絶縁層としてのグリーンシート(未焼成セラミック基板)32、撥液性膜33、配線34が形成されている。
配線31には、これの上に連続した状態で、上述したスルーホールに金属を充填した導電性のポスト(導体ポスト)35が形成されている。
(Lamination process)
Thereafter, as shown in FIG. 3, a plurality of green sheets 1 (including the liquid repellent film 2) from which the base plate has been removed are stacked at the same position. Thereafter, if necessary, other passive components are embedded. For example, thermocompression bonding is performed at 100 ° C. and a pressure of 100 to 150 kg / cm 2 .
A wiring 31 made of a conductive pattern 4 (conductive film pattern) is formed on the green sheet 1 in FIG. 3 with a liquid repellent film 2 interposed therebetween. Further, a green sheet as an insulating layer having the same configuration is formed on the wiring 31. A (non-fired ceramic substrate) 32, a liquid repellent film 33, and a wiring 34 are formed.
Conductive posts (conductor posts) 35 in which the above-described through holes are filled with metal are formed on the wiring 31 in a continuous state.

ここで、上層の配線34の形成に際しては、その下側に形成されたポスト35を介して配線31に導通させるべく、該配線34の一部がポスト35の直上に位置するようにして形成する。すなわち、液滴吐出ヘッド10より液滴22をポスト35の直上位置に吐出し、配線34を形成するようにする。したがって、形成された配線34は、その下側に形成されたポスト35を介して、下層の配線31に導通したものとなる。
なお、図3では下層の配線31と上層の配線34とからなる2層配線としたが、配線34上にさらに絶縁層となるグリーンシート及びポスト、配線をこの順に積み上げることにより、3層以上の多層配線基板を形成することができる。
Here, when the upper layer wiring 34 is formed, the wiring 34 is formed such that a part of the wiring 34 is located immediately above the post 35 so as to be electrically connected to the wiring 31 through the post 35 formed on the lower layer. . That is, the droplet 22 is ejected from the droplet ejection head 10 to a position directly above the post 35 to form the wiring 34. Therefore, the formed wiring 34 is electrically connected to the lower wiring 31 through the post 35 formed on the lower side.
In FIG. 3, a two-layer wiring composed of a lower layer wiring 31 and an upper layer wiring 34 is used. However, by stacking green sheets, posts, and wirings in this order on the wiring 34 in this order, three or more layers are formed. A multilayer wiring board can be formed.

(熱処理工程)
続いて、400℃で脱バインダー処理を行い、さらに900℃で焼成することにより、セラミック多層配線基板を得ることができた。
なお、FAS等の単分子膜は非常に薄いため、焼成後に分解され、グリーンシート1に残留するものはほとんど無視できる量となり、密着力などが問題となることはない。
(Heat treatment process)
Subsequently, a binder removal treatment was performed at 400 ° C., followed by firing at 900 ° C., thereby obtaining a ceramic multilayer wiring board.
In addition, since monomolecular films, such as FAS, are very thin, what decomposes | disassembles after baking and remains on the green sheet 1 becomes a negligible quantity, and adhesive force etc. do not become a problem.

以上のように、本実施の形態では、グリーンシート1上に形成した撥液性膜2に金属インクを塗布して導電膜パターンを配線しているので、液状体に含まれる導電膜形成成分や溶剤等はグリーンシート1に深くまで浸透せずに表面上(表面近傍)に留まることになりグリーンシートには達しない。そのため、グリーンシートを多層に積層した場合でも、不必要な部分で上下の層が導通してしまい、多層基板として機能しなくなることを防止しつつ、液滴吐出方式による低コスト化、短時間化という効果を得ることができる。   As described above, in the present embodiment, the conductive film pattern is formed by applying the metal ink to the liquid repellent film 2 formed on the green sheet 1, so that the conductive film forming component contained in the liquid or The solvent or the like does not penetrate deeply into the green sheet 1 and stays on the surface (near the surface) and does not reach the green sheet. Therefore, even when green sheets are stacked in multiple layers, the upper and lower layers are conducted in unnecessary portions, preventing them from functioning as a multilayer substrate, while reducing the cost and shortening the time by using the droplet discharge method. The effect that can be obtained.

(実施例)
直径10nmの金微粒子がトルエン中に分散した金微粒子分散液(真空冶金社製、商品名「パーフェクトゴールド」)にキシレンを添加しその粘度を3cpとした液体を、撥液処理を施した厚さ100μmのグリーンシート上に液滴吐出装置により所定のドット間隔で吐出し、導電膜ラインを形成した。ドット間隔の変更は、ステージ移動速度を一定として吐出周波数のみを調整することにより行なった。インクジェットヘッドとしては市販のプリンター(商品名「MJ930C」)のヘッドを使用した。ただし、インク吸入部がプラスチック製であるため、有機溶剤に対して溶解しないよう吸入部を金属製の治具に変更したものを用いた。
(Example)
Thickness of liquid repellent treatment of a liquid in which xylene is added to a gold fine particle dispersion (trade name “Perfect Gold”, manufactured by Vacuum Metallurgical Co., Ltd.) in which gold fine particles having a diameter of 10 nm are dispersed in toluene, and the viscosity is 3 cp. A conductive film line was formed on a 100 μm green sheet by discharging with a droplet discharge device at a predetermined dot interval. The dot interval was changed by adjusting only the ejection frequency while keeping the stage moving speed constant. As an inkjet head, a commercially available printer (trade name “MJ930C”) was used. However, since the ink suction part is made of plastic, the suction part is changed to a metal jig so as not to dissolve in the organic solvent.

グリーンシートの撥液処理は以下の方法で行なった。
撥液性の自己組織化膜をグリーンシート全面に形成するために、グリーンシートとトリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン0.5ミリリットルとを、同一の密閉容器に入れて48時間室温で放置することにより、グリーンシート上に、表面にフルオロアルキル基を有する自己組織化膜を形成した。処理後のグリーンシートに対する金微粒子分散液の接触角はおよそ50°であった。
The liquid repellent treatment of the green sheet was performed by the following method.
In order to form a liquid repellent self-assembled film on the entire surface of the green sheet, the green sheet and 0.5 ml of tridecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrooctyltriethoxysilane are placed in the same sealed container. For 48 hours at room temperature, a self-assembled film having a fluoroalkyl group on the surface was formed on the green sheet. The contact angle of the gold fine particle dispersion with respect to the treated green sheet was about 50 °.

そして、ドット間隔70μmで、すなわちグリーンシート上での液滴同士の重なりが2μm(グリーンシート上におけるドット直径に対して約3%)となるドット間隔で吐出してライン形成を行なったところ、ドット形状が残り形状が波状ではあるものの、乱れの無い安定したラインが形成された。このグリーンシートに対して、ホットプレートによって300℃で30分間の熱処理を施すことにより、膜厚0.5μmの金線を得た。その抵抗率はおよそ5μΩcmであった。   Then, when the line was formed by discharging at a dot interval of 70 μm, that is, a dot interval at which the overlap of droplets on the green sheet was 2 μm (about 3% with respect to the dot diameter on the green sheet), a dot was formed. Although the shape remained and the shape was wavy, a stable line without disturbance was formed. The green sheet was heat-treated at 300 ° C. for 30 minutes with a hot plate to obtain a gold wire having a thickness of 0.5 μm. Its resistivity was approximately 5 μΩcm.

(第2実施形態)
液状体に対するグリーンシートの接触角が60°以上のような場合、グリーンシートに塗布した液滴は乾燥前に容易に移動してバルジと称される膨らみを形成し、それ以外の部分はやせ細って断線してしまうことが起こりうる。
そのため、本発明では、接触角に応じて液状体の塗布パターンを複数から選択するものとしており、本実施の形態では特に接触角が60°以上の場合に用いて好適な塗布パターンについて、図4乃至図9を参照して説明する。
(Second Embodiment)
When the contact angle of the green sheet with respect to the liquid is 60 ° or more, the droplets applied to the green sheet easily move before drying to form a bulge called a bulge, and the other parts are thin. It can happen that the wire breaks.
For this reason, in the present invention, a plurality of liquid material application patterns are selected in accordance with the contact angle. In the present embodiment, the application pattern particularly suitable for use when the contact angle is 60 ° or more is shown in FIG. This will be described with reference to FIG.

(第1吐出工程)
まず、金属微粒子を含む分散液の液滴L1を液滴吐出ヘッド10から吐出して基板W上の配線形成領域に滴下する。図4に示すように、液滴L1は、液滴L1が基板W上に着弾した後の直径よりも大きいピッチで吐出する。すなわち、液滴L1が基板W上で互いに接しないように、一定の間隔をおいて吐出する。なお、図4乃至図9においては、表面に撥液性膜が形成されたグリーンシートを基板Wとして図示している。
(First discharge process)
First, a droplet L1 of a dispersion liquid containing metal fine particles is discharged from the droplet discharge head 10 and dropped onto a wiring formation region on the substrate W. As shown in FIG. 4, the droplets L1 are ejected at a pitch larger than the diameter after the droplets L1 have landed on the substrate W. That is, the droplets L1 are ejected at regular intervals so as not to contact each other on the substrate W. 4 to 9, a green sheet having a liquid repellent film formed on the surface is illustrated as the substrate W.

液滴L1を配線形成領域全体に吐出した後、分散媒の除去を行うため、必要に応じて乾燥処理をする。乾燥処理は、例えば基板Wを加熱する通常のホットプレート、電気炉などによる処理の他、ランプアニールによって行なうこともできる。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、YAGレーザー、アルゴンレーザー、炭酸ガスレーザー、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArClなどのエキシマレーザーなどを光源として使用することができる。これらの光源は一般には、出力10W以上5000W以下の範囲のものが用いられるが、本実施形態では100W以上1000W以下の範囲で十分である。   After the droplet L1 is discharged over the entire wiring formation region, a drying process is performed as necessary in order to remove the dispersion medium. The drying process can be performed by lamp annealing, for example, in addition to a process using a normal hot plate or an electric furnace for heating the substrate W. The light source used for lamp annealing is not particularly limited, but excimer laser such as infrared lamp, xenon lamp, YAG laser, argon laser, carbon dioxide laser, XeF, XeCl, XeBr, KrF, KrCl, ArF, ArCl, etc. Can be used as a light source. In general, these light sources have an output in the range of 10 W to 5000 W, but in the present embodiment, a range of 100 W to 1000 W is sufficient.

なお、この際、分散媒の除去だけでなく、分散液を導電膜に変換するまで、加熱や光照射の度合いを高めても差し支えない。しかし、導電膜の変換は、すべての吐出工程が終了してから熱処理/光処理工程においてまとめて行えば良いので、第1吐出工程では、分散媒をある程度除去できれば十分である。したがって、熱処理の場合は、通常100℃程度の加熱を数分行えば十分である。
また、乾燥処理は吐出と平行して同時に進行させることも可能である。例えば、加熱した基板Wに吐出したり、液滴吐出ヘッド10を冷却して、沸点の低い分散媒を使用したりすることにより、基板W着弾直後から乾燥を進行させることができる。
乾燥後、液滴L1は乾燥膜S1となる。図5に示すように乾燥膜S1の体積は分散媒の除去により著しく減少しており、粘度も上昇して配線形成領域の所定の位置に固定されやすくなっている。
At this time, not only the removal of the dispersion medium but also the degree of heating and light irradiation may be increased until the dispersion is converted into a conductive film. However, the conversion of the conductive film may be performed collectively in the heat treatment / light treatment process after all the discharge processes are completed, and therefore it is sufficient that the dispersion medium can be removed to some extent in the first discharge process. Therefore, in the case of heat treatment, it is usually sufficient to perform heating at about 100 ° C. for several minutes.
Also, the drying process can proceed simultaneously with the ejection. For example, drying can proceed immediately after landing of the substrate W by discharging to a heated substrate W or by cooling the droplet discharge head 10 and using a dispersion medium having a low boiling point.
After drying, the droplet L1 becomes a dry film S1. As shown in FIG. 5, the volume of the dry film S1 is remarkably reduced by the removal of the dispersion medium, the viscosity is increased, and the dry film S1 is easily fixed at a predetermined position in the wiring formation region.

(第2吐出工程)
次に、上記分散液の液滴L2を液滴吐出ヘッド10から吐出して基板W上の配線形成領域に滴下する。なお、液滴L2は液滴L1と同じ分散液の液滴であって、体積も同じである。図6に示すように、液滴L2は、液滴L1と液滴L1との略中央に滴下する。すなわち、液滴L2と液滴L1とのピッチは同じであって、液滴L2も基板W上に着弾した後の直径よりも大きいピッチで吐出する。したがって、液滴L2も基板W上で互いに接しないようになる。
このとき、液滴L2と乾燥膜S1とが接するが、乾燥膜S1は既に分散媒が完全に又はある程度除去されているので、両者が引き合ってバルジを生じさせることはない。
なお、図6では、液滴L2の滴下開始位置を液滴L1と同じ図面左側からとしたが、逆方向(図面右側)から滴下を開始してもよい。この場合、液滴吐出ヘッド10と基板Wとの相対移動を一往復することにより、第1吐出工程と第2吐出工程とを行うことができる。
(Second discharge process)
Next, the droplet L2 of the dispersion liquid is discharged from the droplet discharge head 10 and dropped onto the wiring formation region on the substrate W. The droplet L2 is a droplet of the same dispersion as the droplet L1, and has the same volume. As shown in FIG. 6, the droplet L2 is dropped substantially at the center between the droplet L1 and the droplet L1. That is, the pitch of the droplet L2 and the droplet L1 is the same, and the droplet L2 is also ejected at a pitch larger than the diameter after landing on the substrate W. Accordingly, the droplets L2 do not come into contact with each other on the substrate W.
At this time, the droplet L2 and the dry film S1 are in contact with each other, but since the dispersion medium has already been completely or partially removed from the dry film S1, the two do not attract each other to generate a bulge.
In FIG. 6, the dropping start position of the droplet L2 is set from the left side of the drawing, which is the same as that of the droplet L1, but the dropping may be started from the opposite direction (right side of the drawing). In this case, the first discharge process and the second discharge process can be performed by reciprocating the relative movement between the droplet discharge head 10 and the substrate W once.

液滴L2を配線形成領域全体に吐出した後、分散媒の除去を行うため、第1吐出工程と同様に、必要に応じて乾燥処理をする。この場合も、分散媒の除去だけでなく、分散液を導電膜に変換するまで、加熱や光照射の度合いを高めても差し支えないが、分散媒をある程度除去できれば十分である。乾燥処理を吐出と平行して同時に進行させ得ることも第1吐出工程と同様である。
乾燥後、液滴L2は乾燥膜S2となる。図7に示すように乾燥膜S2の体積は分散媒の除去により著しく減少しており、粘度も上昇して配線形成領域の所定の位置に固定されやすくなっている。
これにより、乾燥膜S1と乾燥膜S2とが連続した線状の乾燥膜パターンが形成される。
In order to remove the dispersion medium after discharging the droplet L2 over the entire wiring formation region, a drying process is performed as necessary, as in the first discharge step. In this case, not only the dispersion medium but also the degree of heating and light irradiation can be increased until the dispersion liquid is converted into a conductive film, but it is sufficient if the dispersion medium can be removed to some extent. Similarly to the first discharge step, the drying process can proceed simultaneously with the discharge.
After drying, the droplet L2 becomes a dry film S2. As shown in FIG. 7, the volume of the dry film S2 is remarkably reduced by the removal of the dispersion medium, the viscosity is also increased, and the dry film S2 is easily fixed at a predetermined position in the wiring formation region.
Thereby, a linear dry film pattern in which the dry film S1 and the dry film S2 are continuous is formed.

ここで、第1吐出工程と第2吐出工程における吐出位置について、図8の平面図を用いてより詳細に説明する。
図8に示すように、液滴L1のピッチP1は、液滴L1の基板W上に着弾した後の直径R1より大きく、液滴L1は間隔d1(d1=P1−R1)をおいて吐出される。また、液滴L2のピッチP2は、液滴L2の基板W上に着弾した後の直径R2より大きく、液滴L2は間隔d2(d2=P2−R2)をおいて吐出される。ここで、液滴L1と液滴L2との体積は等しくされており、ほぼR1=R2の関係にあるが、第2吐出工程の際は、乾燥膜S1上は基板W上より親液性が増しているので、R2はR1と比較して、長さ方向に若干大きくなる。また、ピッチP1とピッチP2とは等しくされており、ほぼd1=d2の関係となっているが、R2がR1と比較して、長さ方向に若干大きくなるため、d2はd1と比較して若干小さくなる。
また、d1は10μm以上とすることが好ましい。これにより、液滴の着弾位置の誤差やR2が若干大きくなることを考慮しても、続けて吐出する液滴が互いに離間して接しないように吐出することを確実に行うことができる。
Here, the discharge positions in the first discharge process and the second discharge process will be described in more detail with reference to the plan view of FIG.
As shown in FIG. 8, the pitch P1 of the droplets L1 is larger than the diameter R1 of the droplets L1 after landing on the substrate W, and the droplets L1 are ejected at an interval d1 (d1 = P1-R1). The Further, the pitch P2 of the droplets L2 is larger than the diameter R2 of the droplets L2 after landing on the substrate W, and the droplets L2 are ejected at an interval d2 (d2 = P2-R2). Here, the volumes of the droplet L1 and the droplet L2 are equal, and the relationship of R1 = R2 is substantially satisfied. However, in the second ejection step, the lyophilic property is higher on the dry film S1 than on the substrate W. Since R2 increases, R2 becomes slightly larger in the length direction than R1. Further, the pitch P1 and the pitch P2 are equal to each other and have a relation of d1 = d2. However, since R2 is slightly larger in the length direction than R1, d2 is compared with d1. Slightly smaller.
D1 is preferably 10 μm or more. Thereby, even if it considers that the error of the landing position of a droplet and R2 become slightly large, it is possible to reliably perform discharge so that droplets that are subsequently discharged do not come into contact with each other.

(第3吐出工程)
次に、上記分散液の液滴L3を液滴吐出ヘッド10から吐出して基板W上の配線形成領域における乾燥膜S1と液滴乾燥膜S2の上に滴下する。なお、液滴L3も液滴L1や液滴L2と同じ分散液の液滴であって、体積も同じである。図9に示すように、液滴L3のピッチP3は、ピッチP1やピッチP2より小さく、かつ液滴L3の基板W上に着弾した後の直径R3よりも小さい。したがって、液滴L3は基板W上で互いに重なるようになる。
このとき液滴L3が着弾する基板Wは、乾燥膜S1及び乾燥膜S2に接するが、乾燥膜S1及び乾燥膜S2は既に分散媒が完全に又はある程度除去されているので、これらの乾燥膜と液滴L3とが両者が引き合ってバルジを生じさせることはない。
また、液滴L3は互いに重なるが、配線形成領域は乾燥膜S1及び乾燥膜S2によって親液化されているので、液滴L3が配線形成領域をはずれて、接触角が60[deg]以上、好ましくは90[deg]以上に処理された配線形成領域外に流れ出ることがない。したがって、液滴L3は配線形成領域内に留まり易く、互いに引き合ってバルジを生じることもなく、線幅も増加することがない。
なお、液滴L3と液滴L3との重りd3はR3の20〜50%とすることが好ましい。これにより、効果的に膜厚を増加させることができ、かつ、液量が過多になって配線形成領域外にあふれるのを防止することができる。
(Third discharge process)
Next, the droplet L3 of the dispersion is discharged from the droplet discharge head 10 and dropped onto the dry film S1 and the droplet dry film S2 in the wiring formation region on the substrate W. The droplet L3 is also a droplet of the same dispersion as the droplet L1 and the droplet L2, and has the same volume. As shown in FIG. 9, the pitch P3 of the droplets L3 is smaller than the pitch P1 and the pitch P2, and smaller than the diameter R3 of the droplets L3 after landing on the substrate W. Accordingly, the droplets L3 overlap each other on the substrate W.
At this time, the substrate W on which the droplet L3 lands contacts the dry film S1 and the dry film S2, but since the dispersion medium has already been completely or partially removed from the dry film S1 and the dry film S2, The droplet L3 does not attract the bulge because they attract each other.
In addition, although the droplets L3 overlap each other, the wiring formation region is made lyophilic by the dry film S1 and the dry film S2, so that the droplet L3 leaves the wiring formation region, and the contact angle is preferably 60 [deg] or more. Does not flow out of the wiring formation region processed to 90 [deg] or more. Therefore, the droplet L3 tends to stay in the wiring formation region, does not attract each other to generate a bulge, and the line width does not increase.
The weight d3 of the droplet L3 and the droplet L3 is preferably 20 to 50% of R3. Thereby, it is possible to effectively increase the film thickness, and it is possible to prevent the liquid amount from being excessive and overflowing outside the wiring formation region.

液滴L3を配線形成領域全体に吐出する工程は、複数回繰り返すことができる。これにより、所望の膜厚の配線を得ることができる。
この場合、各吐出する工程の後に、分散媒の除去を行うため、第1吐出工程や第2吐出工程と同様に、必要に応じて乾燥処理をする。この場合も、分散媒の除去だけでなく、分散液を導電膜に変換するまで、加熱や光照射の度合いを高めても差し支えないが、分散媒をある程度除去できれば十分である。乾燥処理を吐出と平行して同時に進行させ得ることも第1吐出工程や第2吐出工程と同様である。
乾燥後、液滴L3は乾燥膜S3(図示せず)となる。乾燥膜S3の体積は分散媒の除去により著しく減少しており、粘度も上昇して配線形成領域の所定の位置に固定されやすくなっている。そのため、複数回液滴L3を配線形成領域全体に吐出する工程を繰り返しても、各々の工程間の液滴が互いに引き合ってバルジを生じることがない。
また、先に液滴が滴下された部分は親液化されているので、液滴L3が配線形成領域外に流れ出ることがない。したがって、液滴L3は繰り返し吐出しても配線形成領域内に留まり易く、互いに引き合ってバルジを生じることもなく、線幅も増加することがない。
以上の工程により、ほぼ液滴の直径と等しい線幅を保ちながら、所望の厚さの乾燥膜層を形成することができる。
なお、本実施の形態における塗布パターンは、特に接触角が60°以上のときに好適であるが、30°〜60°であっても使用可能であることは言うまでもない。
このように、本実施の形態では、接触角に応じた最適な塗布パターンで液滴を吐出できるため、種々の金属インク、撥液性膜の組み合わせにも対応できる。
The step of discharging the droplet L3 over the entire wiring formation region can be repeated a plurality of times. Thereby, a wiring with a desired film thickness can be obtained.
In this case, in order to remove the dispersion medium after each discharging step, a drying process is performed as necessary, similarly to the first discharging step and the second discharging step. In this case, not only the dispersion medium but also the degree of heating and light irradiation can be increased until the dispersion liquid is converted into a conductive film, but it is sufficient if the dispersion medium can be removed to some extent. Similarly to the first discharge process and the second discharge process, the drying process can proceed simultaneously with the discharge.
After drying, the droplet L3 becomes a dry film S3 (not shown). The volume of the dry film S3 is remarkably reduced by the removal of the dispersion medium, the viscosity is increased, and the dry film S3 is easily fixed at a predetermined position in the wiring formation region. Therefore, even if the process of discharging the droplets L3 to the entire wiring formation region is repeated a plurality of times, the droplets between the processes do not attract each other and a bulge is not generated.
In addition, since the portion where the droplet has been dropped first is lyophilic, the droplet L3 does not flow out of the wiring formation region. Therefore, even if the droplet L3 is repeatedly ejected, the droplet L3 tends to stay in the wiring formation region, does not attract each other to generate a bulge, and the line width does not increase.
Through the above steps, a dry film layer having a desired thickness can be formed while maintaining a line width substantially equal to the diameter of the droplet.
In addition, although the application pattern in this Embodiment is suitable especially when a contact angle is 60 degrees or more, it cannot be overemphasized that it can be used even if it is 30 degrees-60 degrees.
As described above, in the present embodiment, since droplets can be ejected with an optimum coating pattern corresponding to the contact angle, it is possible to deal with combinations of various metal inks and liquid repellent films.

(実施例)
厚さ100μmに形成したグリーンシートにCFガスを使った大気圧プラズマ処理を行い、表面を撥液化した。この表面に対する金属インクの接触角は70°であった。
このグリーンシートに対して、直径10nmの金微粒子がトルエン中に分散した金微粒子分散液(真空冶金社製、商品名「パーフェクトゴールド」)にキシレンを添加し、その粘度を8cp、表面張力を24N/mとした液体を、液滴吐出装置により所定のピッチで吐出し、導電膜ラインを形成した。液滴吐出ヘッドは、前述のプリンターヘッドを使用した。
(Example)
The green sheet formed to a thickness of 100 μm was subjected to atmospheric pressure plasma treatment using CF 4 gas to make the surface liquid-repellent. The contact angle of the metal ink with this surface was 70 °.
To this green sheet, xylene is added to a gold fine particle dispersion (trade name “Perfect Gold”, manufactured by Vacuum Metallurgical Co., Ltd.) in which gold fine particles having a diameter of 10 nm are dispersed in toluene, the viscosity is 8 cp, and the surface tension is 24 N. / M was discharged at a predetermined pitch by a droplet discharge device to form a conductive film line. The above-described printer head was used as the droplet discharge head.

吐出は、一つのノズルのみを用いて行い、全吐出工程を通じて吐出電圧15Vで吐出した。その際の液滴の基板着弾後の直径はおよそ55μmであった。
まず、第1吐出工程として、液滴が互いに繋がらないよう、ピッチを70μm、液滴間の距離を15μmとして一直線上に吐出した。その後、乾燥機を用いて100℃で5分間の乾燥工程を施した。
次に、第2吐出工程として、第1吐出工程と同様にピッチを70μm、液滴間の距離を15μmとして一直線上に吐出した。第2吐出工程において吐出する液滴は、第1吐出工程において吐出した液体のほぼ中間に着弾するように吐出した。その後、乾燥機を用いて100℃で5分間の乾燥工程を施した。これにより、液滴間の断線の無いラインを形成した。
さらに、第3工程として、ピッチを30μm、液滴間の重なりを25μmとして第1吐出工程と第2吐出工程で形成されたライン上に吐出する工程を、100℃で5分間の乾燥工程を挟みながら3回繰り返した。その結果、重ね塗りの度に線幅が広がるということがなく、液滴の直径と同じ線幅55μmを維持したまま、形状が良好なラインを得た。
それを、300℃で30分間焼成し、金光沢を有する金ラインを得た。膜厚は1μmで、比抵抗は5×10−6Ωcmであった。
The ejection was performed using only one nozzle, and ejection was performed at an ejection voltage of 15 V throughout the entire ejection process. The diameter of the droplet after landing on the substrate was about 55 μm.
First, as a first discharge step, the droplets were discharged in a straight line with a pitch of 70 μm and a distance between the droplets of 15 μm so that the droplets were not connected to each other. Then, the drying process for 5 minutes was given at 100 degreeC using the dryer.
Next, as the second discharge step, the pitch was set to 70 μm and the distance between the droplets was set to 15 μm in the same manner as in the first discharge step. The liquid droplets ejected in the second ejection process were ejected so as to land almost in the middle of the liquid ejected in the first ejection process. Then, the drying process for 5 minutes was given at 100 degreeC using the dryer. Thereby, a line without disconnection between the droplets was formed.
Further, as a third step, a step of discharging onto a line formed by the first discharge step and the second discharge step with a pitch of 30 μm and an overlap between droplets of 25 μm is sandwiched by a drying step at 100 ° C. for 5 minutes. Repeated three times. As a result, a line having a good shape was obtained while maintaining the same line width of 55 μm as the diameter of the liquid droplet without increasing the line width every time of overcoating.
It was baked at 300 ° C. for 30 minutes to obtain a gold line having a gold luster. The film thickness was 1 μm and the specific resistance was 5 × 10 −6 Ωcm.

本発明の製造方法を工程順に説明するための要部側断面である。It is a principal part side cross section for demonstrating the manufacturing method of this invention to process order. 液滴吐出ヘッドの概略構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating schematic structure of a droplet discharge head. 本発明の配線基板の一例を示す要部側断面図である。It is principal part side sectional drawing which shows an example of the wiring board of this invention. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method which concerns on 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1、32…グリーンシート(未焼成セラミック基板)、2、33…撥液性膜、4…導電膜パターン(導電性パターン)、22、L1…液滴(液状体)、31、34…配線、35…ポスト(導体ポスト)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 32 ... Green sheet (unfired ceramic substrate), 2, 33 ... Liquid repellent film, 4 ... Conductive film pattern (conductive pattern), 22, L1 ... Droplet (liquid body), 31, 34 ... Wiring, 35 ... Post (conductor post)

Claims (15)

未焼成セラミック基板の表面に撥液化処理を施す工程と、
撥液化された前記未焼成セラミック基板に導電膜形成成分を含む液状体を液滴吐出方式により塗布する工程と、
前記液状体が塗布された前記未焼成セラミック基板を複数積層する工程と、
積層した前記未焼成セラミック基板を熱処理して前記導電膜形成成分により導電膜パターンを形成する工程と、
を有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
A step of applying a liquid repellency treatment to the surface of the unfired ceramic substrate;
Applying a liquid material containing a conductive film forming component to the green ceramic substrate that has been made liquid repellent by a droplet discharge method;
Laminating a plurality of the unfired ceramic substrates coated with the liquid,
Heat-treating the laminated unfired ceramic substrate to form a conductive film pattern with the conductive film forming component;
A method for producing a multilayer wiring board, comprising:
請求項1記載の多層配線基板の製造方法において、
前記撥液化処理された未焼成セラミック基板の前記液状体に対する接触角に応じて、前記未焼成セラミック基板への液状体の液滴の塗布パターンを複数から選択することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 1,
A multilayer wiring board comprising: a plurality of liquid droplet application patterns to be applied to the green ceramic substrate according to a contact angle of the liquid-repellent green ceramic substrate to the liquid material. Production method.
請求項2記載の多層配線基板の製造方法において、
前記塗布パターンは、前記未焼成セラミック基板上において互いに隣り合う前記液状体の液滴の中心間の距離が、前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の前記液滴の半径と、前記未焼成セラミック基板上に着弾する前の前記インクジェット液滴の半径との和よりも大きく、かつ前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の前記液滴の半径の2倍よりも小さくなるように前記液状体を吐出するパターンを有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 2,
In the coating pattern, the distance between the centers of the liquid droplets adjacent to each other on the unfired ceramic substrate is a radius of the droplet when landing on the unfired ceramic substrate, and the unfired ceramic. The liquid material is larger than the sum of the radius of the ink jet droplets before landing on the substrate and smaller than twice the radius of the droplets when landing on the unfired ceramic substrate. A method for producing a multilayer wiring board, comprising a pattern to be ejected.
請求項2記載の多層配線基板の製造方法において、
前記塗布パターンは、前記未焼成セラミック基板上に着弾した際の液状体の直径の1%以上10%以下の重なりを生じるように前記液状体を吐出するパターンを有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 2,
The coating pattern has a pattern for discharging the liquid material so as to cause an overlap of 1% to 10% of the diameter of the liquid material when landed on the unfired ceramic substrate. Manufacturing method.
請求項3または4記載の多層配線基板の製造方法において、
前記接触角が30°以上、前記60°以下であることを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 3 or 4,
The method for manufacturing a multilayer wiring board, wherein the contact angle is 30 ° or more and 60 ° or less.
請求項2記載の多層配線基板の製造方法において、
前記塗布パターンは、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで前記液状体を吐出する第1吐出工程と、
前記第1吐出工程における吐出位置と異なる位置に、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の前記液滴の直径よりも大きいピッチで前記液状体を吐出する第2吐出工程とを有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 2,
The application pattern includes a first discharge step of discharging the liquid material at a pitch larger than the diameter of droplets after landing on the unfired ceramic substrate;
A second discharge step of discharging the liquid material at a pitch larger than the diameter of the droplet after landing on the unfired ceramic substrate at a position different from the discharge position in the first discharge step. A method for manufacturing a multilayer wiring board.
請求項6記載の多層配線基板の製造方法において、
前記第2吐出工程におけるピッチが、前記第1吐出工程におけるピッチと略同一であることを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board according to claim 6,
A method for manufacturing a multilayer wiring board, wherein the pitch in the second ejection step is substantially the same as the pitch in the first ejection step.
請求項6または7記載の多層配線基板の製造方法において、
前記第1吐出工程におけるピッチが、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の液滴の直径の2倍以下であることを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 6 or 7,
A method of manufacturing a multilayer wiring board, wherein a pitch in the first discharge step is not more than twice a diameter of a droplet after landing on the unfired ceramic substrate.
請求項6から8のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法において、
前記第1吐出工程におけるピッチが、前記未焼成セラミック基板上に着弾した後の液滴の直径よりも10μm以上大きいことを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board in any one of Claim 6 to 8,
A method of manufacturing a multilayer wiring board, wherein a pitch in the first discharge step is 10 μm or more larger than a diameter of a droplet after landing on the unfired ceramic substrate.
請求項6から9のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法において、
前記第2吐出工程の後に、前記液状体の複数の液滴を、前記第1吐出工程におけるピッチよりも小さいピッチで吐出する第3吐出工程を有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board in any one of Claim 6 to 9,
A method of manufacturing a multilayer wiring board, comprising: a third discharge step of discharging a plurality of liquid droplets at a pitch smaller than the pitch in the first discharge step after the second discharge step.
請求項10記載の多層配線基板の製造方法において、
前記第3吐出工程におけるピッチが、前記未焼成セラミック基板基板上に着弾した後の前記液滴の直径以下であることを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board of Claim 10,
A method of manufacturing a multilayer wiring board, wherein a pitch in the third discharging step is equal to or less than a diameter of the droplet after landing on the unfired ceramic substrate substrate.
請求項6から11のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法において、
前記接触角が30°以上であることを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board in any one of Claim 6 to 11,
The method for producing a multilayer wiring board, wherein the contact angle is 30 ° or more.
請求項1から12のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法において、
前記未焼成セラミック基板に、複数の層間で前記導電性パターンを導通させる導体ポストを形成する工程を有することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board in any one of Claim 1 to 12,
The manufacturing method of the multilayer wiring board characterized by having the process of forming the conductor post which makes the said electroconductive pattern conduct | electrically_connect between several layers in the said unbaking ceramic substrate.
請求項13記載の多層配線基板の製造方法において、
前記導体ポストを液滴吐出方式により形成することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer wiring board according to claim 13,
A method of manufacturing a multilayer wiring board, wherein the conductor post is formed by a droplet discharge method.
請求項1から14のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法により形成された導電膜パターンを配線として有することを特徴とする多層配線基板。
A multilayer wiring board comprising a conductive film pattern formed by the method for manufacturing a multilayer wiring board according to claim 1 as wiring.
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