JP2005024628A - Photosensitive composition, photosensitive lithographic plate, and image forming method therefor - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition superior in sensitivity, print durability, stain restoration and linearity, and also to provide a photosensitive lithographic plate and its image forming method. <P>SOLUTION: In the photosensitive composition, containing ethylene double bonding containing monomer capable of addition polymerization, a photopolymerization initiator composition and a high-polymer bonding material, the photosensitive lithographic plate and its image forming method, the photosensitive composition contains at least one metal atom containing particle. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【００７２】
【化９】

【００７３】
【化１０】

【００７４】
次に、本発明に用いられる前記一般式（２）で表されるエチレン性二重結合含有単量体について説明する。
【００７５】
前記一般式（２）において、Ｒ^８は（ｇ−ｆ）が２以上の場合は、互いに異なってもよい。ｇとｆが同じ値である化合物が好ましい。Ｒ^８がアルキル基、ヒドロキシアルキル基の場合は、炭素数は２〜８が好ましく、２〜４がより好ましい。Ｒ^８がアリール基の場合は、単環または２環が好ましく、単環がより好ましく、かつ炭素数５個までのアルキル基、アルコキシアルキル基またはハロゲン原子で置換されてもよい。
【００７６】
Ｒ^５及びＲ^６がアルキル基またはアルコキシアルキル基の場合は、炭素数は１〜５が好ましい。
【００７７】
Ｒ^７はメチル基が好ましい。
Ｄ^３及びＤ^４は同一または異なってもよく、かつ２個の窒素原子を含む６員の飽和複素環が好ましい。
【００７８】
Ｆが飽和炭化水素基の場合は２〜６個の炭素原子を有することが好ましく、Ｆがアリーレン基の場合はフェニレン基が好ましく、環状脂肪族基の場合はシクロヘキシレン基が好ましく、複素環芳香族基の場合は窒素原子または硫黄原子を含む５〜６員環が好ましい。
【００７９】
一般式（２）で表される化合物を得るには、Ｑ^２がＮであり、ｎとｍが同じ値の場合は、グリシジルアクリレートまたはアルキルアクリレートをヒドロキシアルキルアミンと反応させる。他の化合物も同様にして得ることができる。
【００８０】
本発明の一般式（２）で表される化合物の具体例を以下に示す。
【００８１】
【化１１】

【００８２】
一般式（１）、（２）で表される化合物の添加量は感光性組成物の不揮発成分の３０〜７０質量％が好ましく、４０〜６０質量％がより好ましい。
【００８３】
本発明の一般式（３）で表される化合物は、具体的には（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロフェート、（η６−クメン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロアルセネート、（η６−ベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロポレート、（η６−ナフタレン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ピレン）（η５−シクロペンタジェニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−トルエン）（η５−アセチルシクロペンタジニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クメン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレート、（η６−ベンゼン）（η５−カルボエトキシシクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼン）（η５−１，３−ジクロルシクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アセトフェノン）（η５−シクロヘキサジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−メチルベンゾエ−ト）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−ベンゼンスルホンアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレート、（η６−ベンズアミド）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−シアノベンゼン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート（η６−クロルナフタレン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−アントラセン）（η５−シアノシクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）ヘキサフルオロホスフェート、（η６−クロルベンゼン）（η５−シクロペンタジエニル）鉄（２）テトラフルオロボレートなどがあげられる。これらの化合物は、Ｄｏｋｌ．Ａｋｄ．Ｎａｕｋ ＳＳＳＲ １４９ ６１５（１９６３）に記載された方法により合成できる。
【００８４】
有機系ボレート塩化合物としては、特開昭６２−１４３０４４号、特開平９−１８８６８５号、同９−１８８６８６号、同９−１８８７１０号等に記載の有機ボレート化合物（以下、「ボレート化合物」という場合がある。）、又はカチオン性色素から得られる分光増感色素系ボレート化合物等が挙げられる。本発明の一般式（４）で示される化合物の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８５】
【化１２】

【００８６】
【化１３】

【００８７】
【化１４】

【００８８】
【化１５】

【００８９】
【化１６】

【００９０】
【化１７】

【００９１】
【化１８】

【００９２】
本発明において、光重合開始剤組成物として一般式（３）又は（４）で表される化合物の外に、チタノセン化合物を用いることができる。チタノセン化合物としては、特開昭６３−４１４８３号公報、特開平２−２９１号公報に記載される化合物等が挙げられる。更に好ましい具体例としては、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ジ−クロライド、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−フェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル、ビス（シクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ビス（メチルシクロペンタジエニル）−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニル（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７２７Ｌ：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ７８４：チバスペシャリティーケミカルズ社製）、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウムビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，４，６−トリフルオロ−３−（２−５−ジメチルピリ−１−イル）フェニル）チタニウム等が挙げられる。
【００９３】
以下に代表的なチタノセン化合物の構造を示す。
【００９４】
【化１９】

【００９５】
一般式（３）又は一般式（４）で表される化合物及びチタノセン化合物の添加量は、感光性組成物の不揮発成分当たり０．１〜１５質量％が好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは１．５〜１０質量％である。
【００９６】
本発明で用いることができるポリハロゲン化合物は特開２０００−２８４４０８号公報或いは特開２０００−３０５２１３号公報に記載の化合物を挙げることができる。ポリハロゲン化合物の添加量は、感光性組成物の不揮発成分当たり０．１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、更に好ましくは１．５〜１０質量％である。
【００９７】
本発明の感光性組成物は、７００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下に吸収極大を有する化合物を含有しても良い。吸収極大波長が７００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下にある化合物とは、メタノール等の有機溶媒に溶解させて吸収スペクトルを測定し、吸収極大波長が７００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下にある、いわゆる増感色素、染料と呼ばれる範疇の化合物である。
【００９８】
具体的には、特開平１１−３５２６２８号の一般式１−ａ〜１−ｄ、特開２０００−１６００４２号の一般式（１）及び特開２００３−５３６３号の一般式（１）〜（３）を挙げることができる。これら化合物の添加量は、感光性組成物を用いて作製した感光性平版印刷版の感光層の単位面積当りの付量を１００部とした場合、０．１部以上１０部以下が好ましく、１部以上７部以下がより好ましい。感光層の付量としては、０．１ｇ／ｍ^２以上１０ｇ／ｍ^２以下が好ましく、０．５ｇ／ｍ^２以上４ｇ／ｍ^２以下が好ましい。
【００９９】
本発明の感光性平版印刷版に係る支持体は、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの、また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等が使用できるが、アルミニウム板が好ましく使用され、この場合、純アルミニウム板及びアルミニウム合金板等であってもかまわない。
【０１００】
支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
【０１０１】
本発明に係る支持体は、粗面化（砂目立て処理）するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。
【０１０２】
粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
【０１０３】
用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径０．２〜０．８ｍｍのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、支持体表面に、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径１０〜１００μｍの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。また、例えば、支持体表面に、粒径１０〜１００μｍの研磨剤粒子を、１００〜２００μｍの間隔で、２．５×１０^３〜１０×１０^３個／ｃｍ^２の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。
【０１０４】
上記の機械的粗面化法で粗面化した後、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ^２が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０１０５】
電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報、英国特許第８９６，５６３号公報、特開昭５３−６７５０７号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、５０〜１５０Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。
【０１０６】
電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、１０〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、２０〜１００Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
【０１０７】
電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、１〜５０ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、２〜３０ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、１０〜２００Ａ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、５０〜１５０Ａ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、１００〜５０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲を用いることができるが、１００〜２０００Ｃ／ｄｍ^２、更には２００〜１０００Ｃ／ｄｍ^２の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、１０〜５０℃の範囲を用いることができるが、１５〜４５℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は０．１〜５質量％が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。
【０１０８】
上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、０．５〜５ｇ／ｍ^２が好ましい。また、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。
【０１０９】
機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、また、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。
【０１１０】
粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び／または燐酸等を１０〜５０％の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度１〜１０Ａ／ｄｍ^２で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第１，４１２，７６８号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、同３，５１１，６６１号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種または二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、１〜５０ｍｇ／ｄｍ^２が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／ｄｍ^２である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液（燐酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロム（ＩＶ）：２０ｇを１Ｌの水に溶解して作製）に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。
【０１１１】
陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。
【０１１２】
更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えばホウ酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平５−３０４３５８号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
【０１１３】
支持体としては上述の様に各種のものが使用でき、また例えば、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等も使用することができ、プラスチックフィルムの親水化処理方法としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂層塗布層を設ける等が好ましく用いられる。本発明の実施においては、表面を粗面化処理、陽極酸化処理、封孔処理、及び下塗り処理を施したアルミニウム板が特に好ましい。
【０１１４】
本発明の感光性組成物は高分子結合剤（バインダー）を含有する。高分子結合材は、下記（１）〜（１７）に記載のモノマー（単量体）の少なくとも１種からなるビニル系共重合体を含有することが好ましい。
【０１１５】
（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えばｏ−（またはｐ−，ｍ−）ヒドロキシスチレン、ｏ−（またはｐ−，ｍ−）ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１１６】
（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【０１１７】
（３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えばｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−（またはｐ−）アミノスルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１１８】
（４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えばＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。
【０１１９】
（５）α，β−不飽和カルボン酸類、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【０１２０】
（６）置換または無置換のアルキルアクリレート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
【０１２１】
（７）置換または無置換のアルキルメタクリレート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
【０１２２】
（８）アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ニトロフェニル）アクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１２３】
（９）弗化アルキル基を含有するモノマー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
【０１２４】
（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等。
【０１２５】
（１１）ビニルエステル類、例えばビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
【０１２６】
（１２）スチレン類、例えばスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１２７】
（１３）ビニルケトン類、例えばメチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
【０１２８】
（１４）オレフィン類、例えばエチレン、プロピレン、ｉ−ブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
【０１２９】
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１３０】
（１６）シアノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−（またはｍ−，ｐ−）シアノスチレン等。
【０１３１】
（１７）アミノ基を有するモノマー、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１３２】
上記高分子結合剤には、必要に応じてポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等、他の任意の高分子結合剤が、上記の本発明に係るビニル系共重合体と併用されてもよい。
【０１３３】
感光性組成物中における上記高分子結合剤の含有量は、感光性組成物の１０〜９０質量％が好ましく、１５〜７０質量％が更に好ましく、２０〜５０質量で使用することが感度の面から特に好ましい。更に、上記のビニル系共重合体は、該高分子結合剤において、５０〜１００質量％であることが好ましく、１００質量％であることがより好ましい。
【０１３４】
本発明に係る高分子結合剤に含まれる重合体の酸価については、１０〜１５０が好ましく、３０〜１２０がより好ましく、５０〜９０が、感光性組成物全体の極性のバランスをとる観点から特に好ましく、これにより感光性組成物の顔料の凝集を防ぐこと等ができる。
【０１３５】
本発明の感光性組成物には、上記した成分の他に、感光性平版印刷版の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合単量体の不要な重合を阻止するために、重合防止剤を添加することが望ましい。適当な重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート等があげられる。
【０１３６】
重合防止剤の添加量は、上記組成物の全固形分の質量に対して、約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加してもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【０１３７】
また、着色剤も使用することができ、着色剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」，日本顔料技術協会編（誠文堂新光社）、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。
【０１３８】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料（二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等）及び有機顔料（アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等）が挙げられる。
【０１３９】
これらの中でも、使用する露光レーザーに対応した増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が０．０５以下であることが好ましい。また、顔料の添加量としては、上記組成物の固形分に対し０．１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．２〜５質量％である。
【０１４０】
本発明の感光性平版印刷版は、赤外線レーザーで記録できる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明においては、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光されることが好ましい。レーザーの出力は１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であることが好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは１０〜３００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましい。
【０１４１】
赤外線レーザーにより露光した後、本発明の感光性平版印刷版は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。本発明においては、レーザー照射後直ちに現像処理を行ってもよいが、レーザー照射工程と現像工程との間に加熱処理工程を設けることもできる。加熱処理条件は、８０℃〜１５０℃の範囲で、１０秒〜５分間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減少させることができる。現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましく、好ましいｐＨ領域としては、ｐＨ１０．５〜１２．５の範囲が挙げられ、ｐＨ１１．０〜１２．５の範囲のアルカリ性水溶液により現像処理することがさらに好ましい。アルカリ性水溶液としてｐＨ１０．５未満のものを用いると非画像部に汚れが生じやすくなる傾向があり、ｐＨ１２．５を超える水溶液により現像処理すると画像部の強度が低下するおそれがある。
【０１４２】
本発明の現像液は現像液濃縮物が好ましい。現像液濃縮物は、一旦現像液にしてから蒸発乾固しても良いが、好ましくは複数の素材を混ぜ合わせる際に水を加えず、または少量の水を加える方法で素材を混ぜ合わせることで濃縮状態とする方法が好ましい。また、この現像液濃縮物は、特開昭５１−６１８３７号、特開平２−１０９０４２号、特開平２−１０９０４３号、特開平３−３９７３５号、特開平５−１４２７８６号、特開平６−２６６０６２号、特開平７−１３３４１号等に記載された従来よく知られた方法にて顆粒状、錠剤とすることができる。また、現像液の濃縮物は、素材種や素材配合比等の異なる複数のパートに分けても良い。これらの濃縮した現像液濃縮物は、現像前に水で所定の濃度に希釈した後現像に使用することが好ましい。またこの現像液濃縮液を現像補充液として用いる場合は、所定の濃度に水で希釈した後、使用中の現像液に投入することが最も好ましいが、所定の濃度より濃い濃度や、所定の濃度に希釈せずそのまま使用中の現像液に投入することも可能である。所定の濃度より濃い濃度や、所定の濃度に希釈せずそのままで現像液濃縮物を使用中の現像液に投入する際は、同じタイミングまたは別のタイミングで使用中の現像液に直接別途に水を添加しても良い。
【０１４３】
本発明の現像液濃縮物は、水分の含有量が１０質量％以下である必要があるが、好ましくは１質量％以下である。水分含有量が多いと水中で現像液成分が分離し均一性を失ったり、液状になり取り扱いが困難になる等の問題が生じる。
【０１４４】
現像液に含まれる素材は、通常の感光性平版印刷版の現像液に用いられる成分を使用することができるが、水分が１０質量％以下となることで反応し水希釈してももとに戻らないものや、多量の水を含有する素材や、常温で液状の素材は、含まない方が好ましい。たとえば、珪酸塩は水分が低くなると石化し水に溶けにくくなるので、珪酸塩の代わりに後述の炭酸塩、燐酸塩、有機酸塩等を含むことが好ましい。特に好ましいのは炭酸塩である。
【０１４５】
以下に本発明の現像液濃縮物の成分について説明する。特に断りのない場合、説明は現像液濃縮物と現像補充液濃縮物の両方を説明している。また、現像液と記載されている場合、所定の量に水で希釈した後の現像液または現像補充液を説明している。
【０１４６】
無機アルカリ剤としては、例えば、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、および同リチウムなどが挙げられる。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどを挙げることができる。
【０１４７】
これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を組み合わせて用いられる。アルカリ剤の量としては、現像液としたとき、ｐＨが９〜１３．５の範囲、導電率が２〜４０ｍＳ／ｃｍの範囲で使用されることが好ましく、更に好ましい範囲としてはｐＨ１０．０〜１２．５、導電率３〜３０ｍＳ／ｃｍの範囲、更に好ましくは５〜２０ｍＳ／ｃｍの範囲である。現像液のｐＨが前記範囲を下回ると、画像形成ができなくなり、上回ると過現像になったり、露光部の現像でのダメージが強くなる。導電率が前記範囲を下回ると、通常、アルミニウム板支持体表面の感光性組成物の溶出が困難となり、印刷で汚れをともなってしまう。また前期範囲を上回ると、塩濃度が高いため、感光層の溶出速度が極端に遅くなり、未露光部に残膜が生じる。
【０１４８】
また本発明の現像液濃縮物には、界面活性剤を含有することが好ましく、界面活性剤添加により、未露光部の感光層の溶解促進、露光部への現像液の浸透性の低減が可能となった。
【０１４９】
界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤：ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することが出来る。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算（固形分換算）で０．１〜２０質量％が好ましい。
【０１５０】
現像液濃縮物には上記の成分の他に、必要に応じて有機溶剤、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤、消泡剤等の様な成分を併用することができる。
【０１５１】
本発明に用いられる現像液濃縮物には、好ましくは種々現像安定化剤が用いられる。それらの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。更には、特開昭５０−５１３２４号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭５９−８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載の質量平均分子量３００以上のポリエチレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【０１５２】
現像液および現像補充液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０質量％以下のものが適しており、好ましくは５質量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。有機溶剤の含有量は現像液の総質量に対して０．１〜５質量％であるが、実質的に含まれないことが好ましく、全く含まれないことが特に好ましい。ここで実質的に含まれないとは１質量％以下であることを示す。
【０１５３】
本発明に用いられる現像液濃縮物には必要に応じて還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止するものでである。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５質量％の範囲で含有される。
【０１５４】
本発明に用いられる現像液濃縮物には必要に応じて更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる有機カルボン酸の現像液への含有量は格別な制限はないが、０．１質量％より低いと効果が十分でなく、また１０質量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０．１〜１０質量％であり、よりこのましくは０．５〜４質量％である。
【０１５５】
本発明に用いられる現像液濃縮物には現像性能を高めるために前記の他に以下のような添加剤を加えることができる。例えば特開昭５８−７５１５２号公報記載のＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＫＢｒ等の中性塩、特開昭５９−１２１３３６号公報記載の［Ｃｏ（ＮＨ_３）］_６Ｃｌ_３等の錯体、特開昭５６−１４２２５８号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、特開昭５９−７５２５５号公報記載のＳｉ、Ｔｉ等を含む有機金属界面活性剤、特開昭５９−８４２４１号公報記載の有機硼素化合物等が挙げられる。本発明に用いられる現像液および補充液には更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させることもできる。消泡剤としては例えば、特開平２−２４４１４３号公報記載の鉱物油、植物油、アルコール、界面活性剤、シリコーン等が挙げられる。硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、エチレンジアミンジコハク酸、メチルイミノジ酢酸、βアラニンジ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることができる。このような硬水軟化剤はそのキレート化力と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、現像液に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜０．５質量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。
【０１５６】
本発明に用いる自動現像機は、好ましくは現像浴に自動的に現像補充液を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは一定量を超える現像液は、排出する機構が付与されており、好ましくは現像浴に自動的に水を必要量補充する機構が付与されており、好ましくは、通版を検知する機構が付与されており、好ましくは通版の検知をもとに版の処理面積を推定する機構が付与されており、好ましくは通版の検知および／または処理面積の推定をもとに補充しようとする補充液および／または水の補充量および／または補充タイミングを制御する機構が付与されており、好ましくは現像液の温度を制御する機構が付与されており、好ましくは現像液のｐＨおよび／または電導度を検知する機構が付与されており、好ましくは現像液のｐＨおよび／または電導度をもとに補充しようとする補充液および／または水の補充量および／または補充タイミングを制御する機構が付与されている。また本発明の現像液濃縮物を一旦水で希釈・撹拌する機能を有することが好ましい。現像工程後に水洗工程がある場合、使用後の水洗水を現像濃縮物の濃縮液の希釈水として用いることができる。
【０１５７】
本発明に用いる自動現像機は、現像工程の前に前処理液に版を浸漬させる前処理部を有してもよい。この前処理部は、好ましくは版面に前処理液をスプレーする機構が付与されており、好ましくは前処理液の温度を２５℃〜５５℃の任意の温度に制御する機構が付与されており、好ましくは版面をローラー状のブラシにより擦る機構が付与されている。またこの前処理液としては、水などが用いられる。
【０１５８】
かかる組成の現像液で現像処理された版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができ、例えば、現像後→水洗→界面活性剤を含有するリンス液処理や現像→水洗→フィニッシャー液による処理がリンス液やフィニッシャー液の疲労が少なく好ましい。更にリンス液やフィニッシャー液を用いた向流多段処理も好ましい態様である。これらの後処理は、一般に現像部と後処理部とからなる自動現像機を用いて行われる。後処理液は、スプレーノズルから吹き付ける方法、処理液が満たされた処理槽中を浸漬搬送する方法が用いられる。また、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃液を現像液原液の希釈水として再利用する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の後処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１５９】
ガム液は現像液のアルカリ成分除去のため酸や緩衝剤を添加することが好ましく、その他に親水性高分子化合物、キレート剤、潤滑剤、防腐剤及び可溶化剤等を添加することができる。ガム液に親水性高分子化合物を含む場合は現像後の版の傷や汚れを防ぐ保護剤としての機能も付加される。
【０１６０】
本発明に用いられるガム液中に界面活性剤を添加することにより塗布層の面状等が良化する。使用できる界面活性剤としてはアニオン界面活性剤及び／又はノニオン界面活性剤が挙げられる。例えば、アニオン型界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテルスルホン酸塩、ポリオキシエチレンナフチルエーテルスルホン酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミドニナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硝酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硝酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
【０１６１】
又、ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド等が挙げられる。その中でもポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー類等が好ましく用いられる。又、弗素系、シリコン系のアニオン、ノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。これら界面活性剤は２種以上併用することもできる。例えば互いに異なる２種以上を併用することもできる。例えば互いに異なる２種以上のアニオン界面活性剤の併用やアニオン界面活性剤とノニオン界面活性剤の併用が好ましい。上記界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、好ましくは後処理液の０．０１〜２０質量％である。
【０１６２】
本発明に用いられるガム液には、上記成分の他必要により湿潤剤として多価アルコール、アルコール及び脂肪族炭化水素を用いることができる。
【０１６３】
多価アルコールの内、好ましい具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられ、アルコールとしては、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルキルアルコール、ペンジルアルコール、フェノキシエタノール及びフェニルアミノエチルアルコール等の芳香環を有するアルコールが挙げられる。これらの湿潤剤の含有量は、組成物中に０．１〜５０質量％、より好ましくは０．５〜３．０質量％が適当である。これらの湿潤剤は単独で用いても良いが、２種以上併用しても良い。
【０１６４】
皮膜形成性を向上させる目的で種々の親水性高分子を含有することができる。この様な親水性高分子としては従来よりガム液に使用し得るとされるものであれば好適に使用できる。例えば、アラビアガム、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等）及びその変性体、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ビニルメチルエーテル／無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル／無水マレイン酸共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
【０１６５】
本発明に用いられるガム液は、一般的には酸性領域ｐＨ３〜６の範囲で使用する方が有利である。ｐＨを３〜６にするためには一般的には後処理液中に鉱酸、有機酸又は無機塩等を添加して調節する。その添加量は０．０１〜２質量％が好ましい。例えば鉱酸としては硝酸、硫酸、リン酸及びメタリン酸等が挙げられる。
【０１６６】
又有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸及び有機ホスホン酸等が挙げられる。更に無機塩としては、硝酸マグネシウム、第１リン酸ナトリウム、第２リン酸ナトリウム、硫酸ニッケル、ヘキサメタン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、有機酸又は無機塩等の少なくとも１種もしくは２種以上を併用してもよい。
【０１６７】
本発明に用いられるガム液には、防腐剤、消泡剤等を添加することができる。例えば防腐剤としてはフェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体等が挙げられる。好ましい添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用時の版面保護剤に対して０．０１〜４質量％の範囲が好ましく、又種々のカビ、殺菌に対して効力のある様に２種以上の防腐剤を併用することが好ましい。又、消泡剤としてはシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化等が何れも使用できる。好ましくは使用時のガム液に対して０．０１〜１．０質量％の範囲が最適である。
【０１６８】
更にキレート化合物を添加してもよい。好ましいキレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのナトリウム塩；エチレンジアミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩：ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩；１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等の様な有機ホスホン酸類或いはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることが出来る。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代わりに有機アミンの塩も有効である。これらキレート剤はガム液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量としては使用時のガム液に対して０．００１〜１．０質量％が適当である。
【０１６９】
上記成分の他、必要により感脂化剤も添加することができる。例えばテレピン油、キシレン、トルエン、ローヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミネラルスピリット、沸点が約１２０℃〜約２５０℃の石油留分等の炭化水素類、例えばジブチルフタレート、ジヘブチルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸ジエステル剤、例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ（２−エチルヘキシル）セバケート、ジオクチルセバケート等の脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化大豆油等のエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェート等のリン酸エステル類、例えば安息香酸ベンジル等の安息香酸エステル類等の凝固点が１５℃以下で、１気圧下での沸点が３００℃以上の可塑剤が含まれる。
【０１７０】
更にカプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ヘラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、イソ吉草酸等の飽和脂肪酸とアクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、ニルカ酸、ブテシジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、プロピオール酸、ステアロール酸、イワシ酸、タリリン酸、リカン酸等の不飽和脂肪酸も挙げられる。より好ましくは５０℃において液体である脂肪酸であり、更に好ましくは炭素数が５〜２５であり、最も好ましくは炭素数が８〜２１である。これらの感脂化剤は１種もしくは２種以上併用することもできる。使用量として好ましい範囲はガムの０．０１〜１０質量％、より好ましい範囲は０．０５〜５質量％である。
【０１７１】
上記の様な感脂化剤は、ガムを乳化分散型としておき、その油相として含有させてもよく、又可溶化剤の助けを借りて可溶化してもよい。
【０１７２】
本発明において、ガム液の固型分濃度は５〜３０ｇ／ｌが好ましい。ガム膜厚量は自現機のスクイズ手段の条件で制御できる。本発明において、ガム塗布量は１〜１０ｇ／ｍ^２が好ましい。ガム塗布量は１０を越えると、短時間で乾燥するためには、版面を非常に高温にする必要があり、コスト上、安全上不利であり、また本発明の効果が十分に得られない。１ｇ／ｍ^２を下回ると、均一塗布が難しくなり、安定した処理性が得られない。
【０１７３】
本発明において、ガム液の塗布終了から乾燥開始までの時間は３秒以下であることが好ましい。更に好ましくは２秒以下であり、この時間が短いほどインキ着肉性が向上する。
【０１７４】
本発明において、乾燥時間は１〜５秒が好ましい。乾燥時間が５秒以上の時は本発明の効果が得られない。乾燥時間が１秒以下の場合には、感光性平版印刷版を十分に乾燥するために、版面を非常に高温にする必要があり、安全上、コスト上好ましくない。
【０１７５】
本発明において、乾燥方式としては、温風ヒーター、遠赤外線ヒーターなど公知の乾燥方式を用いることができる。
【０１７６】
乾燥工程では、ガム液中の溶媒が乾燥される必要がある。そのために十分な、乾燥温度とヒーター容量を確保する必要がある。乾燥に必要な温度は、ガム液の成分によって異なるが、溶媒が水であるガム液の場合は、通常乾燥温度は５５℃以上であることが好ましい。ヒーター容量は乾燥温度よりも重要で有る場合が多く、その容量は温風乾燥方式の場合は２．６ｋＷ以上が好ましい。容量は大きい程よいが、コストとのバランスで２．６〜７ｋＷが好ましい。
【０１７７】
本発明において、現像前の洗浄工程で用いる洗浄液は通常水であるが、必要に応じて以下の添加剤を加えることができる。
【０１７８】
キレート剤としては、金属イオンと配位結合してキレート化合物を形成する化合物を用いる。エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、エチレンジアミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ニトリオトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ホスホノアルカントリカルボン酸、エチレンジアミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等が挙げられる。これらのキレート剤はカリウム塩及びナトリウム塩の代わりに有機アミン塩を有するものも有効である。キレート剤の添加量は０〜３．０質量％の範囲が適当である。
【０１７９】
界面活性剤としては、アニオン、ノニオン、カチオン及び両性の何れの界面活性剤も用いることができるが、アニオン又はノニオン界面活性剤が好ましい。好ましい界面活性剤の種類はオーバーコート層や感光層の組成によって異なり、一般にオーバーコート層素材の溶解促進剤となり、感光層成分の溶解性が小さいものが好ましい。
【０１８０】
アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。
【０１８１】
ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキエイプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、イエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリイグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド等が挙げられる。
【０１８２】
界面活性剤の好ましい添加量は０〜１０質量％である。また、界面活性剤に消泡剤を併用することもできる。
【０１８３】
防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、４−イソチアゾリン−３−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−３−オン、ベンゾトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピロジン，キノリン，グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール，オキサジン誘導体等が挙げられる。
【０１８４】
本発明の洗浄方法において、現像前洗浄に用いる洗浄液は温度を調節して用いることが好ましく、該温度は１０〜６０℃の範囲が好ましい。洗浄の方法は、スプレー、ディップ、塗布等公知の処理液供給技術を用いることができ、適宜ブラシや絞りロール、ディップ処理における液中シャワーなどの処理促進手段を用いることができる。
【０１８５】
本発明において、現像前洗浄工程終了後直ちに現像処理を行ってもよく、また、現像前洗浄工程の後に乾燥させてから現像処理を行ってもよい。現像工程の後は、水洗、リンス、ガム引き等公知の後処理を行うことができる。一度以上使用した現像前水洗水は、現像後の水洗水やリンス液、ガム液に再使用することができる。
【０１８６】
【実施例】
実施例１
《高分子結合材：アクリル系共重合体１の合成》
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタクリル酸３０部、メタクリル酸メチル５０部、メタクリル酸エチル２０部、イソプロピルアルコール５００部及びα、α′−アゾビスイソブチロニトリル３部を入れ、窒素気流中８０℃のオイルバスで６時間反応させた。その後、イソプロピルアルコールの沸点で１時間還流を行った後、トリエチルアンモニウムクロライド３部及びグリシジルメタクリレート２５部を加えて３時間反応させ、アクリル系共重合体１を得た。ＧＰＣを用いて測定した質量平均分子量は約３５，０００、ＤＳＣ（示差熱分析法）を用いて測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は約８５℃であった。
【０１８７】
［支持体の作製］
厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３０ｍｍのアロイＮｏ．１０５０系アルミニウム板を用いて以下のように連続的に処理を行った。
【０１８８】
（ａ）既存の機械的粗面化装置を使って、比重１．１２の研磨剤（パミス）と水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は４０〜４５μｍ最大粒径は２００μｍだった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロンを使用し、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴を開けて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラー（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラーはブラシを回転させる駆動モーターの負荷が、ブラシローラーをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じで回転数は２００ｒｐｍであった。
【０１８９】
（ｂ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を０．３ｇ／ｍ^２溶解した。その後スプレーによる水洗を行った。
【０１９０】
（ｃ）温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオン０．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１９１】
（ｄ）６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、塩酸あるいは硝酸水溶液（アルミニウムイオン０．５質量％、アンモニウムイオン０．００７質量％含む）で濃度は１．１質量％で、温度４０℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間が２ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は実効値で、５５Ａ／ｄｍ^２、浸漬（通電）時間は４５秒とした。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
【０１９２】
（ｅ）アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２ｇ／ｍ^２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗した。
【０１９３】
（ｆ）温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。
【０１９４】
（ｇ）既存の二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一および第二電解部長各６ｍ、第一給電部長３ｍ、第二給電部長３ｍ、第一及び第二給電電極長各２．４ｍ）を使って電解部の硫酸濃度１７０ｇ／リットル（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、温度３８℃で陽極酸化処理を行った。その後スプレーによる水洗を行った。この時、陽極酸化装置においては、電源からの電流は、第一給電部に設けられた第一給電電極に流れ、電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第一電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させ、第一給電部に設けられた電解電極を通り、電源に戻る。一方、電源からの電流は、第二給電部に設けられた第二給電電極に流れ、同様に電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第二電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させるが、電源から第一給電部に給電される電気量と電源から第二給電部に給電される電気量は同じであり、第二給電部における酸化皮膜面での給電電流密度は、約２５Ａ／ｄｍ^２であった。第二給電部では、１．３５ｇ／ｍ^２の酸化皮膜面から給電することになった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ^２であった。このアルミニウム板は鉄を０．１質量％、銅を０．０２質量％、チタンを０．０２質量％含む。更に、スプレー水洗後、０．３質量％のポリビニルホスホン酸溶液中に４０秒浸漬し、親水化処理した。温度は８５℃であった。ポリビニルホスホン酸の平均分子量は約１万であった。その後スプレー水洗し、赤外線ヒーターで乾燥した。この時、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．６５μｍであった。
【０１９５】
（感光性平版印刷版の作製）
上記支持体上に、下記組成の感光性組成物（光重合性感光層塗布液１）を乾燥時１．５ｇ／ｍ^２になるようワイヤーバーで塗布し、９５℃で１．５分間乾燥し光重合感光層塗布試料を得た。さらに、光重合感光層塗布試料上に、下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥時１．８ｇ／ｍ^２になるようワイヤーバーで塗布し、７５℃で１．５分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版試料（表１に示す試料）を作製した。
【０１９６】

《感光性平版印刷版の評価》
（耐刷性の評価）
版面上の露光版面エネルギー（感度）が表１に示す条件で、ＣｒｅＯ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳを使用し、２４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で露光を行った。露光後、感光性平版印刷版をプレヒート部の熱源の電源をｏｆｆとしプレヒートせず通過させるだけとし、現像前に酸素遮断層を除去する前水洗部、上記組成の現像液を充填した現像部、版面に付着した現像液を取り除く水洗部、画線部保護のためのガム液（ＧＷ−３：三菱化学社製を２倍希釈したもの）処理部を備えたＣＴＰ自動現像機（ＰＨＷ２３−Ｖ：Ｔｅｃｈｎｉｇｒａｐｈ社製）で現像処理を行い、平版印刷版を得た。
【０１９７】
作製した平版印刷版を、印刷機（三菱重工業（株）製ＤＡＩＹＡ１Ｆ−１）で、コート紙、印刷インキ（東洋インク（株）製トーヨーキングハイエコーＭ紅）及び湿し水（東京インク（株）製Ｈ液ＳＧ−５１濃度１．５％）を用いて印刷を行い、１０００枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡みの発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。耐刷性１回は１０００枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。クリーナーは、ウルトラプレートクリーナー（発売元：大日精化）を使用。
【０１９８】
（汚し回復の評価）
１０００枚連続印刷後クリーナーでふき、１５分後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。少ないほど良好。
【０１９９】
（リニアリティの評価）
２４００ｄｐｉで１７５線の網点画像を０％〜１００％まで５％刻みでリニアリティ未補正で描画した。表１に示す露光版面エネルギー（感度）で露光した時、８０％となるべき網点出力画像を５００倍の光学顕微鏡で撮影し、画像部の面積を算出してアミ％とした。８０％に近いほどよい。
【０２００】
【表１】

【０２０１】
【化２０】

【０２０２】
表１から、本発明の試料は、感度、耐刷性、汚し回復及びリニアリティに優れていることが判る。
【０２０３】
実施例２
感光性組成物（光重合性感光層塗布液１）を下記（光重合性感光層塗布液２）にした以外は、実施例１と同様に行った。
【０２０４】

【０２０５】
【表２】

【０２０６】
表２から、本発明の一般式（１）又は（２）で示される化合物を用いることにより、感度、耐刷性、汚し回復及びリニアリティが更に優れていることが判る。
【０２０７】
実施例３
感光性組成物（光重合性感光層塗布液１）を下記（光重合性感光層塗布液３）にした以外は、実施例１と同様に行った。
【０２０８】

【０２０９】
【表３】

【０２１０】
【化２１】

【０２１１】
表３から、本発明の一般式（１）又は（２）で示される化合物とポリハロゲン化合物を併用することにより、特に耐刷性及び汚し回復に優れていることが判る。
【０２１２】
【発明の効果】
本発明により、感度、耐刷性、汚し回復及びリニアリティに優れた感光性組成物、感光性平版印刷版及びその画像形成方法を得た。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive composition, a photosensitive lithographic printing plate (also referred to as a lithographic printing plate), and an image forming method, and more particularly, a photosensitive composition and a photosensitive lithographic plate having high sensitivity, excellent printing durability, smudge recovery, and linearity. The present invention relates to a printing plate and an image forming method.
[0002]
[Prior art]
Generally, in a lithographic printing plate, after image exposure, an exposed portion is cured and an unexposed portion is dissolved and removed, followed by washing with water and finisher gum treatment to obtain a lithographic printing plate. In recent years, in order to obtain high resolving power and sharpness, a method for producing a lithographic printing plate by performing digital exposure with a laser beam based on image information and developing it has been studied. For example, a system for producing a lithographic printing plate by modulating an exposure light source by an image signal transmitted through a communication line, an output signal from an electronic plate making system, an image processing system, etc., and performing direct scanning exposure on a photosensitive material. It is.
[0003]
However, a conventional lithographic printing plate material using a diazo resin has a problem that it is difficult to achieve spectral sensitization and high sensitivity in accordance with the oscillation wavelength of laser light by digital exposure.
[0004]
In recent years, a lithographic printing plate material having a photopolymerizable photosensitive layer containing a photopolymerization initiator has been attracting attention for digital exposure using laser light because it can achieve high sensitivity suitable for laser light. A CTP (Computer To Plate) plate material for recording digital data with this laser light source is required to have high sensitivity in order to shorten the recording time. In addition, printing materials having printing durability are required in many printing fields including newspaper printing and commercial printing such as advertisements.
[0005]
In order to achieve high sensitivity, means utilizing photo radical polymerization has been studied for a long time, and the use of an s-triazine compound having a trichloromethyl group as a photopolymerization initiator (for example, Patent Documents 1 to 3). ), Using an iron arene complex compound and a peroxide as a photopolymerization initiator (for example, see Patent Document 4), and using a monoalkyltriarylborate compound as a photopolymerization initiator (for example, a patent) References 5 to 7), and the use of titanocene compounds as photopolymerization initiators (for example, see Patent Documents 8 and 9) have been proposed. However, these techniques have insufficient sensitivity.
[0006]
On the other hand, for the purpose of improving sensitivity, a technique in which a tertiary amino group is introduced into a monomer (addition polymerizable ethylenic double bond-containing monomer) structure and a trihalogenated methyl-s-triazine compound is used in combination ( For example, refer to Patent Document 10), a tertiary amino group is introduced into a monomer (ethylenic double bond-containing monomer capable of addition polymerization) structure, and in addition to a trihalogenated methyl-s-triazine compound, titanocene, etc. Techniques using these metallocene compounds in combination (for example, see Patent Document 11) have been proposed. However, although these techniques have improved sensitivity, the printing durability is insufficient.
[0007]
Further, use of a compound having a tribromomethylsulfonyl group of a kind that is low in fog and is intended to improve the raw storage stability of the light-sensitive material (see, for example, Patent Document 12), low in fog, and stored during pre-exposure storage. It has been proposed to use another type of compound having a tribromomethylsulfonyl group (see, for example, Patent Document 13) in order to obtain an image with an increase in fog and a small sensitivity fluctuation. However, these all relate to the photothermographic material.
[0008]
A urethane resin that utilizes the self-cohesive force of a urethane bond is used to increase the printing durability (see, for example, Patent Document 14). By using an ethylenic double bond-containing monomer having a phosphate ester bond (for example, (See Patent Document 15). Since titanocene compounds have been developed as initiators, titanocene has become the mainstream of photopolymer type CTP (see, for example, Patent Document 16). However, the printing durability is still not sufficient.
[0009]
On the other hand, a patent for recording with a high-power laser using a cyanine dye as a photothermal conversion agent has been disclosed (for example, see Patent Document 17), but it has not reached a satisfactory level in terms of sensitivity.
[0010]
[Patent Document 1]
JP-A-48-36281 (pages 2 to 3)
[0011]
[Patent Document 2]
JP 54-74887 A (2nd page)
[0012]
[Patent Document 3]
JP-A 64-35548 (pages 3-6)
[0013]
[Patent Document 4]
JP 59-219307 (pages 1 to 5)
[0014]
[Patent Document 5]
JP 62-150242 A (pages 1 to 3)
[0015]
[Patent Document 6]
JP 62-143044 A (pages 1 to 3)
[0016]
[Patent Document 7]
JP-A 64-35548 (page 6)
[0017]
[Patent Document 8]
JP 63-41483 A (pages 1 to 4)
[0018]
[Patent Document 9]
JP-A-2-291 (pages 1 to 4)
[0019]
[Patent Document 10]
JP-A-1-105238 (pages 1 to 3)
[0020]
[Patent Document 11]
JP-A-2-127404 (pages 3-4)
[0021]
[Patent Document 12]
JP 2000-284408 A (pages 10-23)
[0022]
[Patent Document 13]
JP 2000-305213 A (pages 3 to 8)
[0023]
[Patent Document 14]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100412 (pages 12 to 13)
[0024]
[Patent Document 15]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-10719 (pages 4-5)
[0025]
[Patent Document 16]
Patent No. 2764288 (pages 4 to 12)
[0026]
[Patent Document 17]
JP 2003-5363 A (pages 3 to 8)
[0027]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a photosensitive composition, a photosensitive lithographic printing plate and an image forming method which are highly sensitive and excellent in printing durability, stain recovery and linearity.
[0028]
[Means for Solving the Problems]
The above object of the present invention has been achieved by the following constitutions.
[0029]
1. A photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition and a polymer binder, characterized by containing at least one metal atom-containing particle. Photosensitive composition.
[0030]
2. In a photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition and a polymer binder, at least one of the addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomers One is represented by the said General formula (1) or General formula (2), The photosensitive composition of said 1 characterized by the above-mentioned.
[0031]
3. 1 or 2 above, wherein the addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, the photopolymerization initiator composition, and the photosensitive composition containing the polymer binder further contain a polyhalogen compound. The photosensitive composition as described.
[0032]
4). 4. The photosensitive composition according to any one of items 1 to 3, wherein the photopolymerization initiator composition contains at least one compound represented by the general formula (3).
[0033]
5. 4. The photosensitive composition according to any one of items 1 to 3, wherein the photopolymerization initiator composition contains at least one compound represented by the general formula (4).
[0034]
6). In a photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition, and a polymer binder, the photopolymerization initiator composition is irradiated with a wavelength of 700 nm to 1200 nm. 1-10mJ / cm ² 6. The photosensitive composition as described in any one of 1 to 5 above, which can record an image with the plate surface energy.
[0035]
7. A photosensitive lithographic printing plate comprising the photosensitive composition according to any one of 1 to 6 above.
[0036]
8). The photosensitive lithographic printing plate as described in 7 above is irradiated with a wavelength of 700 nm or more and 1200 nm or less to 1 to 10 mJ / cm ² An image forming method characterized in that an image is recorded with the plate surface energy.
[0037]
The present invention will be described in more detail. The metal atom-containing particles of the present invention are preferably compounds such as metals such as iron, chromium, manganese, cobalt, nickel, copper, zinc, titanium, silver, aluminum, gold and platinum, or oxides thereof. Particularly preferably used metal atom-containing particles include ferromagnetic iron oxide powder, ferromagnetic metal powder, cubic plate-like powder, etc. Among them, ferromagnetic metal powder can be suitably used.
[0038]
As ferromagnetic iron oxide, γ-Fe ₂ O ₃ , Fe ₃ O ₄ Or these intermediate iron oxides with FeO _x Examples include (1.33 <x <1.50).
[0039]
Ferromagnetic metal powders include Fe, Co, Fe—Al, Fe—Al—Ni, Fe—Al—Zn, Fe—Al—Co, Fe—Al—Ca, Fe—Ni. Fe-Ni-Al, Fe-Ni-Co, Fe-Ni-Zn, Fe-Ni-Mn, Fe-Ni-Si, Fe-Ni-Si-Al-Mn, Fe-Ni -Si-Al-Zn, Fe-Ni-Si-Al-Co, Fe-Al-Si, Fe-Al-Zn, Fe-Co-Ni-P, Fe-Co-Al-Ca , Ni-Co-based, ferromagnetic metal powder such as metal magnetic powder mainly composed of Fe, Ni, Co, etc. Among them, Fe-based metal powder is preferable, for example, Co-containing γ-Fe ₂ O ₃ Co-coated γ-Fe ₂ O ₃ Co-containing Fe ₃ O ₄ Co coated Fe ₃ O ₄ Co-containing magnetic FeO _x Examples thereof include cobalt-containing iron oxide magnetic powders such as (4/3 <x <3/2) powders. From the viewpoint of corrosion resistance and dispersibility, among Fe-based metal powders, Fe-Al-based, Fe-Al-Ca-based, Fe-Al-Ni-based, Fe-Al-Zn-based, Fe-Al-based -Co-based, Fe-Ni-Si-Al-Co-based, Fe-Co-Al-Ca-based Fe-Al ferromagnetic powders are preferred, and among these, Fe atoms contained in the ferromagnetic powder and The content ratio with respect to Al atoms is Fe: Al = 100: 1 to 100: 20 in terms of the number ratio, and the surface area is less than 100 mm at the analysis depth of the ferromagnetic powder by ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy). One having a structure in which the content ratio of Fe atoms to Al atoms is Fe: Al = 30: 70 to 70:30 in terms of atomic ratio, or Fe atoms, Ni atoms, Al atoms and Si atoms, and further Co At least one of atoms and Ca atoms is contained in the ferromagnetic powder The content of Fe atoms is 90 atomic% or more, the content of Ni atoms is 1 to 10 atomic%, the content of Al atoms is 0.1 to 5 atomic%, and the content of Si atoms is 0.1 to 5 The content of atomic%, Co atom or Ca atom (total amount in the case of containing both) is 0.1 to 13 atomic%, and the analysis depth of the ferromagnetic powder by ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy) The content ratio of Fe atom, Ni atom, Al atom, Si atom, Co atom and / or Ca atom existing in the surface area of 100 cm or less is Fe: Ni: Al: Si: (Co and / Or Ca) = 100: (4 or less): (10-60): (10-70): What has a structure which is (20-80) is preferable.
[0040]
The shape of the ferromagnetic powder has a major axis diameter of 0.30 μm or less, preferably 0.20 μm or less. Such a ferromagnetic powder improves the surface properties of the colorant layer.
[0041]
Examples of hexagonal plate-like powders include hexagonal ferrites such as barium ferrite and strontium ferrite, and some of the iron elements are other atoms (Ti, Co, Zn, In, Mn, Ge, Hb, etc.). Examples of such a ferrite magnetic material include those described in IEEE trans on MAG, p18, 16 (1982). Among these, as an example of the barium ferrite magnetic powder, the average particle size (height of the diagonal line of the hexagonal ferrite plate surface) in which a part of Fe is substituted with at least Co and Zn is 400 to 900 mm, The plate ratio (value obtained by dividing the length of the diagonal line of the hexagonal ferrite plate surface by the plate thickness) is 2.0 to 10.0. Further, in the barium ferrite magnetic powder, a part of Fe may be further substituted with a transition metal such as Ti, In, Mn, Cu, Ge, Sn.
[0042]
A method for producing a cubic magnetic powder was obtained, for example, by melting oxides and carbonates of atoms necessary for forming a target barium ferrite together with a glass-forming substance such as boric acid. The glass is crystallized by rapidly cooling the melt to form glass, and then heat-treating the glass at a predetermined temperature to precipitate the target barium ferrite crystal powder, and finally removing the glass component by heat treatment. In addition, there are a coprecipitation-firing method, a hydrothermal synthesis method, a flux method, an alkoxide method, a plasma jet method, and the like.
[0043]
Content of the metal atom containing particle contained in a photosensitive composition is about 50-99 mass% of a photosensitive composition, Preferably it is 60-95 mass%.
[0044]
Next, the ethylenic double bond-containing monomer represented by the general formula (1) used in the present invention will be described.
[0045]
In the general formula (1), R ⁴ As the alkyl group represented by, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl Group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-docosadecyl group and the like.
[0046]
In the general formula (1), R ⁴ Examples of the hydroxyalkyl group represented by the formula include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, and a hydroxypentyl group.
[0047]
In the general formula (1), R ⁴ Examples of the aryl group represented by the formula include a phenyl group and a naphthyl group.
[0048]
In the general formula (1), R ¹ And R ² The alkyl group represented by ⁴ It is synonymous with the alkyl group represented by these.
[0049]
In the general formula (1), R ¹ And R ² Examples of the alkoxyalkyl group represented by the formula include a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxymethyl group, and a propoxyethyl group.
[0050]
In general formula (1), X ¹ Examples of the divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by the formula include a saturated hydrocarbon group and an arylene group.
[0051]
In general formula (1), X ¹ As the saturated hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms represented by, for example, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, propylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group , Octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group, undecamethylene group, dodecamethylene group, cyclohexylene group (for example, 1,6-cyclohexanediyl group, etc.), cyclopentylene group (for example, 1,5-cyclopentanediyl, for example) Group) and the like.
[0052]
In general formula (1), X ¹ Examples of the arylene group represented by the formula include a phenylene group and a naphthylene group.
[0053]
In general formula (1), X ² The divalent group represented by ¹ Saturated hydrocarbon group, arylene group, etc. mentioned as a divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by the above can be used, but further up to 5 of the saturated hydrocarbon groups A methylene group substituted with an oxygen atom can be used.
[0054]
In general formula (1), X ² The trivalent group represented by ² And a divalent group (saturated hydrocarbon group, arylene group, etc.) with one additional linking group, such as ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group. Yl, heptanetriyl, octanetriyl, nonanetriyl, decantriyl, undecantriyl, dodecantriyl, cyclohexanetriyl, cyclopentanetriyl, benzenetriyl, naphthalenetriyl, etc. Can be mentioned.
[0055]
In general formula (1), X ² The tetravalent group represented by X is the above X ² In addition, for example, a propanediylidene group, a 1,3-propanediyl-2-ylidene group, a butanediylidene group, a pentanediylidene group, a hexanediylidene group. Group, heptanediylidene group, octanediylidene group, nonanediylidene group, decandiylidene group, undecandiylidene group, dodecandiylidene group, cyclohexanediylidene group, cyclopentanediylidene group, benzenetetrayl group, naphthalenetetrayl group, etc. Can be mentioned.
[0056]
X in general formula (1) ² In the above, examples of the alkyl group represented by Z include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an iso-pentyl group, a 2-ethylhexyl group, an octyl group, and a decyl group.
[0057]
X in general formula (1) ² In the above, as the alkenyl group represented by Z, for example, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl Groups and the like.
[0058]
X in general formula (1) ² In the above, examples of the aryl group represented by Z include a phenyl group, an m-chlorophenyl group, a p-tolyl group, and a naphthyl group.
[0059]
X in general formula (1) ² In the above, examples of the halogen atom represented by Z include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
[0060]
X in general formula (1) ² In the above, examples of the alkoxyl group represented by Z include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.
[0061]
X in general formula (1) ² In the above, examples of the heterocyclic group represented by Z include a pyridyl group, a pyrrolyl group, a 2-methylpyrrolyl group, an indolyl group, an imidazolyl group, a furyl group, a thiazolyl group, and a pyrimidinyl group.
[0062]
In general formula (1), D ¹ And D ² Examples of the divalent group having 1 to 5 carbon atoms represented by the formula include methylene group, trimethylene group, tetramethylene group, propylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, cyclopentylene group, and the like. .
[0063]
In the general formula (1), a divalent group having 2 to 12 carbon atoms represented by E is X ¹ It is synonymous with the bivalent group which has 2-12 carbon atoms represented by these.
[0064]
In the general formula (1), a 5-membered to 7-membered ring represented by E and a heterocyclic ring containing up to 2 atoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom is substituted. Examples of the heterocyclic ring constituting the aliphatic group as a group include pyridine ring, furan ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, pyran ring, thiophene ring, Examples thereof include an oxazole ring, a pyrroline ring, an imidazoline ring, an imidazolidine ring, a pyrazolidine ring, a pyrazoline ring, a piperidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring, and a quinuclidine ring.
[0065]
Examples of the aliphatic group include divalent groups having 2 to 12 carbon atoms having the above-described heterocycle, and the divalent group includes X ¹ It is synonymous with the bivalent group which has 2-12 carbon atoms represented by these.
[0066]
In the general formula (1), examples of the arylene group having 6 to 12 carbon atoms represented by E include a phenylene group and a naphthylene group.
[0067]
In the general formula (1), the aromatic heterocyclic ring constituting the aromatic heterocyclic group having a 5-membered or 6-membered ring represented by E includes a furan ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, and an oxazole ring. , Thiazole ring, 1,2,3-oxadiazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring , Pyrazine ring, s-triazine ring, benzofuran ring, indole ring, benzothiophene ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, purine ring, quinoline ring and isoquinoline ring.
[0068]
Here, each substituent represented by the general formula (1) described above may further have a substituent.
[0069]
30 mass%-70 mass% of the non volatile component in a photopolymerizable photosensitive layer is preferable, and, as for content of the compound represented by General formula (1) based on this invention, 40 mass%-60 mass% are more preferable. In addition, the compound represented by the general formula (1) can be synthesized by referring to a method well known to those skilled in the art, for example, a method described in Japanese Patent No. 2509288.
[0070]
Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (1) is given, this invention is not limited to these.
[0071]
[Chemical 8]

[0072]
[Chemical 9]

[0073]
Embedded image

[0074]
Next, the ethylenic double bond-containing monomer represented by the general formula (2) used in the present invention will be described.
[0075]
In the general formula (2), R ⁸ May be different from each other when (g−f) is 2 or more. Compounds in which g and f are the same value are preferred. R ⁸ Is an alkyl group or a hydroxyalkyl group, the carbon number is preferably 2 to 8, and more preferably 2 to 4. R ⁸ When is an aryl group, it is preferably a single ring or two rings, more preferably a single ring, and may be substituted with an alkyl group, alkoxyalkyl group or halogen atom having up to 5 carbon atoms.
[0076]
R ⁵ And R ⁶ When is an alkyl group or an alkoxyalkyl group, 1-5 are preferable.
[0077]
R ⁷ Is preferably a methyl group.
D ³ And D ⁴ May be the same or different and are preferably 6-membered saturated heterocycles containing two nitrogen atoms.
[0078]
When F is a saturated hydrocarbon group, it preferably has 2 to 6 carbon atoms. When F is an arylene group, a phenylene group is preferable. When F is a cyclic aliphatic group, a cyclohexylene group is preferable. In the case of a group, a 5- or 6-membered ring containing a nitrogen atom or a sulfur atom is preferable.
[0079]
To obtain the compound represented by the general formula (2), Q ² Is N, and when n and m have the same value, glycidyl acrylate or alkyl acrylate is reacted with hydroxyalkylamine. Other compounds can be obtained in the same manner.
[0080]
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) of the present invention are shown below.
[0081]
Embedded image

[0082]
The amount of the compound represented by the general formulas (1) and (2) is preferably 30 to 70% by mass, more preferably 40 to 60% by mass, based on the nonvolatile component of the photosensitive composition.
[0083]
The compound represented by the general formula (3) of the present invention specifically includes (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-toluene) (η5-cyclopenta (Dienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cumene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexa Fluoroarsenate, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroporate, (η6-naphthalene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-anthracene) ) (Η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-pyrene) (η5-cyclopentageni ) Iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-toluene) (η5-acetylcyclopentadinyl) iron (2) hexa Fluorophosphate, (η6-cumene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroborate, (η6-benzene) (η5-carboethoxycyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzene ) (Η5-1,3-dichlorocyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cyanobenzene) (η5-cyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-acetophenone) (η5 -Cyclohexadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, η6-methylbenzoate) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-benzenesulfonamide) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) tetrafluoroborate, (η6-benzamide) (Η5-cyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-cyanobenzene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate (η6-chloronaphthalene) (η5-cyclopentadiene) Enyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-anthracene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (2) hexafluorophosphate, (η6-chlorobenzene) (η5-cyclopentadienyl) iron (2) Hexafluorophosphate, (η6-chlorobenzene) (η5- Cyclopentadienyl) iron (2), such as tetrafluoroborate and the like. These compounds are described in Dokl. Akd. It can be synthesized by the method described in Nauk SSSR 149 615 (1963).
[0084]
Examples of the organic borate salt compounds include organic borate compounds described in JP-A-62-143044, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, and JP-A-9-188710 (hereinafter referred to as “borate compounds”). Or a spectral sensitizing dye-based borate compound obtained from a cationic dye. Specific examples of the compound represented by the general formula (4) of the present invention are given below, but the present invention is not limited thereto.
[0085]
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[0086]
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[0087]
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[0088]
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[0089]
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[0090]
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[0091]
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[0092]
In the present invention, a titanocene compound can be used in addition to the compound represented by the general formula (3) or (4) as the photopolymerization initiator composition. Examples of the titanocene compound include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. Further preferred examples include bis (cyclopentadienyl) -Ti-di-chloride, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-phenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3. , 4,5,6-pentafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4 , 6-trifluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6-difluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4-difluorophenyl, bis (methylcyclopenta Dienyl) -Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5 6-tetrafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6-difluorophenyl (IRUGACURE 727L: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6- Difluoro-3- (pyrid-1-yl) phenyl) titanium (IRUGACURE784: Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (pyri-1) -Yl) phenyl) titanium bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (2-5-dimethylpy-1-yl) phenyl) titanium and the like.
[0093]
The structure of a typical titanocene compound is shown below.
[0094]
Embedded image

[0095]
The addition amount of the compound represented by the general formula (3) or the general formula (4) and the titanocene compound is preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on the nonvolatile component of the photosensitive composition. More preferably, it is 1.5 to 10% by mass.
[0096]
Examples of the polyhalogen compound that can be used in the present invention include compounds described in JP-A No. 2000-284408 or JP-A No. 2000-305213. The addition amount of the polyhalogen compound is preferably from 0.1 to 30% by mass, more preferably from 1 to 15% by mass, and still more preferably from 1.5 to 10% by mass, based on the nonvolatile components of the photosensitive composition.
[0097]
The photosensitive composition of the present invention may contain a compound having an absorption maximum at 700 nm or more and 1200 nm or less. A compound having an absorption maximum wavelength of 700 nm to 1200 nm is dissolved in an organic solvent such as methanol, and an absorption spectrum is measured. The absorption maximum wavelength is 700 nm to 1200 nm, which is a category of so-called sensitizing dyes and dyes. A compound.
[0098]
Specifically, general formulas 1-a to 1-d of JP-A No. 11-352628, general formula (1) of JP-A No. 2000-160042 and general formulas (1) to (3 of JP-A No. 2003-5363 are described. ). The addition amount of these compounds is preferably 0.1 part or more and 10 parts or less when the amount per unit area of the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate prepared using the photosensitive composition is 100 parts. More preferred is 7 parts or more and 7 parts or less. The applied amount of the photosensitive layer is 0.1 g / m. ² 10 g / m or more ² The following is preferred, 0.5 g / m ² 4 g / m or more ² The following is preferred.
[0099]
The support according to the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is, for example, laminated or vapor-deposited with a metal plate such as aluminum, stainless steel, chromium or nickel, or a plastic film such as polyester film, polyethylene film or polypropylene film. In addition, the surface of the polyester film, vinyl chloride film, nylon film, etc. that has been subjected to a hydrophilic treatment can be used, but an aluminum plate is preferably used. In this case, a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate, etc. It does not matter.
[0100]
Various aluminum alloys can be used as the support, and for example, alloys of metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum are used. .
[0101]
The support according to the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment). As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. In this case, the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment.
[0102]
Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.
[0103]
The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using a bristle having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle, and causing the surface to collide obliquely with the support surface. Can do. Further, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are applied to the support surface at an interval of 100 to 200 μm at 2.5 × 10 5. ³ -10x10 ³ Piece / cm ² It is also possible to perform roughening by laminating the coated sheets so as to exist at a density and transferring the rough surface pattern of the sheet by applying pressure.
[0104]
After the surface is roughened by the above-described mechanical surface roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the support, formed aluminum scraps, and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The amount of aluminum dissolved on the surface is 0.5 to 5 g / m. ² Is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.
[0105]
The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896,563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density is 10 to 200 A / dm ² The range of 50 to 150 A / dm can be used. ² It is preferable to select from the range. The amount of electricity is 100 to 5000 C / dm ² The range of 100 to 2000 C / dm can be used. ² It is preferable to select from the range. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.
[0106]
When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is selected from the range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density is 10 to 200 A / dm ² The range of 20-100 A / dm can be used. ² It is preferable to select from the range. The amount of electricity is 100 to 5000 C / dm ² The range of 100 to 2000 C / dm can be used. ² It is preferable to select from the range. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
[0107]
When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density is 10 to 200 A / dm ² The range of 50 to 150 A / dm can be used. ² It is preferable to select from the range. The amount of electricity is 100 to 5000 C / dm ² The range of 100 to 2000 C / dm can be used. ² Furthermore, 200-1000 C / dm ² It is preferable to select from the range. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.
[0108]
After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The amount of aluminum dissolved on the surface is 0.5 to 5 g / m. ² Is preferred. Moreover, it is preferable to perform a neutralization process by immersing in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution.
[0109]
The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone to roughen the surface, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.
[0110]
Following the roughening treatment, an anodic oxidation treatment can be performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support. In the anodizing treatment, an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% is used as an electrolytic solution, and a current density of 1 to 10 A / dm. ² The electrolysis method is preferably used, but in addition, a method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid described in US Pat. No. 1,412,768 and a method described in US Pat. No. 3,511,661. Examples thereof include a method for electrolysis using phosphoric acid, a method for using a solution containing one or more of chromic acid, oxalic acid, malonic acid and the like. The formed anodic oxidation coating amount is 1-50 mg / dm. ² Is suitable, preferably 10 to 40 mg / dm ² It is. The amount of anodic oxidation coating is, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide layer, It is obtained from mass change measurement before and after dissolution of the coating on the plate.
[0111]
The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.
[0112]
Furthermore, after performing these treatments, a water-soluble resin such as polyvinylphosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (for example, zinc borate) or Also suitable are those coated with a yellow dye, amine salt or the like. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.
[0113]
As the support, various types can be used as described above. For example, a surface of a polyester film, a vinyl chloride film, a nylon film or the like subjected to a hydrophilic treatment can be used. As the chemical treatment method, sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, provision of a water-soluble resin layer coating layer, etc. are preferably used. In the practice of the present invention, an aluminum plate whose surface is subjected to roughening treatment, anodizing treatment, sealing treatment and undercoating treatment is particularly preferred.
[0114]
The photosensitive composition of the present invention contains a polymer binder (binder). The polymer binder preferably contains a vinyl copolymer composed of at least one of the monomers described in (1) to (17) below.
[0115]
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group, such as o- (or p-, m-) hydroxystyrene, o- (or p-, m-) hydroxyphenyl acrylate, and the like.
[0116]
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxypentyl Methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
[0117]
(3) A monomer having an aminosulfonyl group, such as m- (or p-) aminosulfonylphenyl methacrylate, m- (or p-) aminosulfonylphenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- ( p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
[0118]
(4) Monomers having a sulfonamide group, such as N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
[0119]
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride and the like.
[0120]
(6) substituted or unsubstituted alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic acid Decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate, and the like.
[0121]
(7) substituted or unsubstituted alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacrylic acid Decyl, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
[0122]
(8) Acrylamide or methacrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N- (4-nitrophenyl) acrylamide, N-ethyl-N -Phenylacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
[0123]
(9) Monomers containing alkyl fluoride groups such as trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N -Butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
[0124]
(10) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether and the like.
[0125]
(11) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.
[0126]
(12) Styrenes such as styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.
[0127]
(13) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
[0128]
(14) Olefins such as ethylene, propylene, i-butylene, butadiene, isoprene and the like.
[0129]
(15) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
[0130]
(16) Monomers having a cyano group, such as acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o- (or m-, p-) cyanostyrene.
[0131]
(17) A monomer having an amino group, such as N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N , N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, Ni-propylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.
[0132]
The polymer binder may include other arbitrary polymer binders such as polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, novolac resin, natural resin, etc. You may use together with the vinyl type copolymer which concerns.
[0133]
The content of the polymer binder in the photosensitive composition is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, and more preferably 20 to 50% by mass of the photosensitive composition. Is particularly preferred. Furthermore, the vinyl copolymer is preferably 50 to 100% by mass, and more preferably 100% by mass in the polymer binder.
[0134]
The acid value of the polymer contained in the polymer binder according to the present invention is preferably 10 to 150, more preferably 30 to 120, and 50 to 90 from the viewpoint of balancing the polarity of the entire photosensitive composition. This is particularly preferred, and this can prevent aggregation of the pigment of the photosensitive composition.
[0135]
In addition to the components described above, the photosensitive composition of the present invention prevents unnecessary polymerization of an ethylenically unsaturated double bond monomer that can be polymerized during the production or storage of a photosensitive lithographic printing plate. It is desirable to add a polymerization inhibitor. Suitable polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol) 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5) -Methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate and the like.
[0136]
The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% with respect to the mass of the total solid content of the composition. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition.
[0137]
Moreover, a coloring agent can also be used and a conventionally well-known thing can be used conveniently as a coloring agent including a commercially available thing. Examples include those described in the revised new edition “Pigment Handbook”, edited by Japan Pigment Technology Association (Seikodo Shinkosha), Color Index Handbook, and the like.
[0138]
Examples of the pigment include black pigment, yellow pigment, red pigment, brown pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, and metal powder pigment. Specifically, inorganic pigments (titanium dioxide, carbon black, graphite, zinc oxide, Prussian blue, cadmium sulfide, iron oxide, and lead, zinc, barium and calcium chromates) and organic pigments (azo-based, thioindigo) , Anthraquinone, anthanthrone, and triphendioxazine pigments, vat dye pigments, phthalocyanine pigments and derivatives thereof, quinacridone pigments, and the like.
[0139]
Among these, it is preferable to select and use a pigment that has substantially no absorption in the absorption wavelength region of the sensitizing dye corresponding to the exposure laser to be used. In this case, use an integrating sphere at the laser wavelength to be used. It is preferable that the reflection absorption of the pigment is 0.05 or less. Moreover, as addition amount of a pigment, 0.1-10 mass% is preferable with respect to solid content of the said composition, More preferably, it is 0.2-5 mass%.
[0140]
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention can be recorded with an infrared laser. Thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible. In the present invention, image exposure is preferably performed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is 10 to 300 mJ / cm. ² It is preferable that
[0141]
After exposure with an infrared laser, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably developed with water or an aqueous alkaline solution. In the present invention, the development treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but a heat treatment step may be provided between the laser irradiation step and the development step. The heat treatment condition is preferably 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. This heat treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation. The developer is preferably an alkaline aqueous solution, and a preferable pH range includes a pH range of 10.5 to 12.5, and a development treatment with an alkaline aqueous solution having a pH range of 11.0 to 12.5 is more preferable. If an alkaline aqueous solution having a pH of less than 10.5 is used, the non-image area tends to be smeared, and development with an aqueous solution having a pH of more than 12.5 may reduce the strength of the image area.
[0142]
The developer of the present invention is preferably a developer concentrate. The developer concentrate may be evaporated to dryness once it has been made into a developer. Preferably, when mixing a plurality of materials, water is not added, or the materials are mixed by adding a small amount of water. A method of concentrating is preferred. Further, this developer concentrate is disclosed in JP-A-51-61837, JP-A-2-109042, JP-A-2-109043, JP-A-3-39735, JP-A-5-142786, JP-A-6-266062. Can be made into granules or tablets by a conventionally well-known method described in Japanese Patent No. 7-13341. Further, the developer concentrate may be divided into a plurality of parts having different material types and material blending ratios. These concentrated developer concentrates are preferably used for development after dilution to a predetermined concentration with water before development. When this developer concentrate is used as a developer replenisher, it is most preferable to dilute with water to a predetermined concentration and then add it to the developer in use. It is also possible to put it into a developing solution as it is without diluting it. When adding the developer concentrate to a developing solution in use at a concentration higher than a predetermined concentration or without diluting to a predetermined concentration, water is added directly to the developing solution in use at the same timing or at another timing. May be added.
[0143]
The developer concentrate of the present invention needs to have a water content of 10% by mass or less, preferably 1% by mass or less. When the water content is high, problems occur such as separation of developer components in water, loss of uniformity, and liquefaction and difficulty in handling.
[0144]
As the material contained in the developer, the components used in the developer of a normal photosensitive lithographic printing plate can be used. It is preferable not to include materials that do not return, materials that contain a large amount of water, and materials that are liquid at room temperature. For example, since silicate is converted into stone when it becomes low in moisture, it becomes difficult to dissolve in water, and therefore it is preferable to contain carbonate, phosphate, organic acid salt, etc. described later instead of silicate. Particularly preferred is carbonate.
[0145]
The components of the developer concentrate of the present invention will be described below. Unless otherwise noted, the description describes both developer concentrate and developer replenisher concentrate. In the case of “developer”, the developer or developer replenisher after dilution with water to a predetermined amount is described.
[0146]
Examples of the inorganic alkali agent include tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, and hydroxide. Examples thereof include sodium, potassium, ammonium, and lithium. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide.
[0147]
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. As the amount of the alkaline agent, when used as a developer, it is preferably used in a pH range of 9 to 13.5 and a conductivity in a range of 2 to 40 mS / cm, and a more preferable range is pH 10.0 to It is 12.5 and the range of electrical conductivity 3-30 mS / cm, More preferably, it is the range of 5-20 mS / cm. When the pH of the developer is lower than the above range, image formation cannot be performed, and when it is higher, over-development occurs or damage caused by development in the exposed portion becomes stronger. If the electrical conductivity is below the above range, it is usually difficult to elute the photosensitive composition on the surface of the aluminum plate support, resulting in smearing during printing. On the other hand, if it exceeds the previous range, the salt concentration is high, so that the elution rate of the photosensitive layer is extremely slow, and a residual film is formed in the unexposed area.
[0148]
The developer concentrate of the present invention preferably contains a surfactant. By adding a surfactant, it is possible to accelerate dissolution of the photosensitive layer in the unexposed area and to reduce the permeability of the developer to the exposed area. It became.
[0149]
Examples of the surfactant include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and other polyoxyethylene alkyl ethers. Oxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene stearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan distearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, sorbitan trioleate, etc. Sorbitan alkyl esters, glycerol monostearate, monoglyceride alkyl esters such as glycerol monooleate, etc. Nonionic surfactants: alkylbenzene sulfonates such as sodium dodecylbenzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonates such as sodium butyl naphthalene sulfonate, sodium pentyl naphthalene sulfonate, sodium hexyl naphthalene sulfonate, sodium octyl naphthalene sulfonate, lauryl sulfate Anionic surfactants such as alkyl sulfates such as sodium, alkyl sulfonates such as sodium dodecyl sulfonate, sodium sulfosuccinate such as sodium dilauryl sulfosuccinate: alkyl betaines such as lauryl betaine and stearyl betaine, amino acids and the like These amphoteric surfactants can be used, but anionic surfactants such as alkylnaphthalene sulfonates are particularly preferred. These surfactants can be used alone or in combination. Further, the content of these surfactants in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass in terms of active ingredients (in terms of solid content).
[0150]
In addition to the above components, the developer concentrate may contain components such as organic solvents, chelating agents, reducing agents, dyes, pigments, hard water softeners, preservatives, and antifoaming agents as necessary. it can.
[0151]
In the developer concentrate used in the present invention, various development stabilizers are preferably used. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. A salt is a preferred example. Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. There are water-soluble amphoteric polyelectrolytes that have been described. Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a mass average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, a water-soluble polyalkylene compound, and the like.
[0152]
If necessary, an organic solvent is added to the developer and the development replenisher. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and are preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples thereof include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer, but it is preferable that the organic solvent is not substantially contained, and particularly preferably not contained at all. Here, “substantially not contained” means 1% by mass or less.
[0153]
A reducing agent is added to the developer concentrate used in the present invention as necessary. This is to prevent smearing of the printing plate. Preferable organic reducing agents include phenol compounds such as thiosalicylic acid, hydroquinone, metol, methoxyquinone, resorcin, and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by mass with respect to the developer at the time of use.
[0154]
If necessary, an organic carboxylic acid can be further added to the developer concentrate used in the present invention. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain. The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like, and specifically includes o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p- Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3, There are 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid and the like. Naphthoic acid is particularly effective. The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid used in the present invention in the developer is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by mass, the effect is not sufficient, and if it is 10% by mass or more, the effect can be further improved. Not only can it interfere with dissolution when used in combination with other additives. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 4% by mass with respect to the developing solution at the time of use.
[0155]
In addition to the above, the following additives can be added to the developer concentrate used in the present invention in order to improve the developing performance. For example, neutral salts such as NaCl, KCl, KBr described in JP-A-58-75152, and [Co (NH ₃ ]] ₆ Cl ₃ , Amphoteric polymer electrolytes such as a copolymer of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-56-142258, Si, Ti, etc. described in JP-A-59-75255 Examples thereof include organometallic surfactants and organoboron compounds described in JP-A-59-84241. The developer and replenisher used in the present invention may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softener, and the like, if necessary. Examples of the antifoaming agent include mineral oil, vegetable oil, alcohol, surfactant, silicone and the like described in JP-A-2-244143. Examples of the water softener include polyphosphoric acid and its sodium salt, potassium salt and ammonium salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediaminedisuccinic acid, methyliminodiacetic acid, β-alaninediacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetrimethyl. Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), Ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), triethylenetetraminehexa (methylenephosphonic acid) Hydroxyethyl ethylene diamine tri (methylene phosphonic acid) and 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts. The optimum value of such a hard water softener varies depending on its chelating power, the hardness of the hard water used and the amount of hard water, but if the general use amount is shown, 0.01 to 5% by mass in the developer, More preferably, it is the range of 0.01-0.5 mass%. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur.
[0156]
The automatic processor used in the present invention is preferably provided with a mechanism for automatically replenishing a required amount of developer replenisher to the developing bath, and preferably provided with a mechanism for discharging a developer exceeding a certain amount. Preferably, a mechanism for automatically replenishing a required amount of water to the developing bath is provided, and preferably a mechanism for detecting plate passing is provided, preferably processing of the plate based on detection of plate passing A mechanism for estimating the area is provided, and preferably a mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of the replenisher and / or water to be replenished based on detection of the plate and / or estimation of the processing area Is preferably provided, and a mechanism for controlling the temperature of the developer is preferably provided, preferably a mechanism for detecting the pH and / or conductivity of the developer is provided, and preferably the pH of the developer is adjusted. Mechanism for controlling the replenishment amount and / or replenishment timing of replenishment solution and / or water tries to refill beauty / or conductivity to the original has been granted. The developer concentrate of the present invention preferably has a function of once diluting and stirring with water. When there is a rinsing step after the development step, the rinsing water after use can be used as dilution water for the concentrate of the development concentrate.
[0157]
The automatic processor used in the present invention may have a pretreatment unit that immerses the plate in the pretreatment liquid before the development step. The pretreatment unit is preferably provided with a mechanism for spraying the pretreatment liquid onto the plate surface, and preferably provided with a mechanism for controlling the temperature of the pretreatment liquid to an arbitrary temperature of 25 ° C to 55 ° C. Preferably, a mechanism for rubbing the plate surface with a roller-like brush is provided. Moreover, water etc. are used as this pretreatment liquid.
[0158]
The plate developed with the developer having such a composition is subjected to post-processing with washing water, a rinsing solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic or starch derivatives, or a protective gum solution. For the post-treatment of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations, for example, after development → washing → rinsing solution containing a surfactant or development → water washing → finishing with a finisher solution. However, it is preferable because the rinse liquid and the finisher liquid are less fatigued. Furthermore, a countercurrent multistage process using a rinse liquid or a finisher liquid is also a preferred embodiment. These post-processing are generally performed using an automatic developing machine including a developing unit and a post-processing unit. As the post-treatment liquid, a method of spraying from a spray nozzle or a method of immersing and conveying in a treatment tank filled with the treatment liquid is used. There is also known a method in which a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface and washed, and the waste solution is reused as dilution water for the developer stock solution. In such automatic processing, processing can be performed while each replenisher is replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which treatment is performed with a substantially unused post-treatment liquid can also be applied. The lithographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0159]
It is preferable to add an acid or a buffering agent to the gum solution in order to remove alkali components from the developer, and in addition, a hydrophilic polymer compound, a chelating agent, a lubricant, a preservative, a solubilizing agent, and the like can be added. When the gum solution contains a hydrophilic polymer compound, it also has a function as a protective agent for preventing scratches and stains on the developed plate.
[0160]
By adding a surfactant to the gum solution used in the present invention, the surface state of the coating layer is improved. Surfactants that can be used include anionic surfactants and / or nonionic surfactants. For example, anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonic acid salts, alkane sulfonic acid salts, dialkyl sulfosuccinic acid salts, linear alkyl benzene sulfonic acid salts, branched alkyl benzene sulfonic acid salts, alkyl naphthalene sulfone. Acid salts, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, polyoxyethylene aryl ether sulfonates, polyoxyethylene naphthyl ether sulfonates, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salts N-alkylsulfosuccinic acid monoamido disodium salts, petroleum sulfonates, nitrated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, Rualkyl nitrates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ethers Phosphate ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalenesulfonate formalin condensates Etc. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters, and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.
[0161]
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxy Propylene alkyl ether, glycerin fatty acid partial ester, sorbitan fatty acid partial ester, pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid moiety Esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerol fatty acid partial esters, polyoxyethylenated ester List oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, etc. It is done. Of these, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymers and the like are preferably used. Fluorine-based and silicon-based anions and nonionic surfactants can also be used. Two or more of these surfactants can be used in combination. For example, two or more different from each other can be used in combination. For example, a combination of two or more different anionic surfactants or a combination of an anionic surfactant and a nonionic surfactant is preferable. Although the usage-amount of the said surfactant does not need to specifically limit, Preferably it is 0.01-20 mass% of a post-processing liquid.
[0162]
In the gum solution used in the present invention, polyhydric alcohols, alcohols and aliphatic hydrocarbons can be used as a wetting agent in addition to the above components as required.
[0163]
Among the polyhydric alcohols, preferred specific examples include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, sorbitol and the like. Examples of the alcohol include propyl alcohol, butyl alcohol, and pen. Examples include alkyl alcohols such as tanol, hexanol, heptanol, and octanol, and alcohols having an aromatic ring such as pendyl alcohol, phenoxyethanol, and phenylaminoethyl alcohol. The content of these wetting agents is suitably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 3.0% by mass in the composition. These wetting agents may be used alone or in combination of two or more.
[0164]
Various hydrophilic polymers can be contained for the purpose of improving the film-forming property. As such a hydrophilic polymer, any hydrophilic polymer that can be conventionally used in a gum solution can be preferably used. For example, gum arabic, fiber derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose etc.) and modified products thereof, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and copolymers thereof, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer Examples thereof include a polymer, a vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, and a styrene / maleic anhydride copolymer.
[0165]
In general, the gum solution used in the present invention is more advantageously used in the acidic range of pH 3 to 6. In order to adjust the pH to 3 to 6, it is generally adjusted by adding a mineral acid, an organic acid, an inorganic salt, or the like in the post-treatment liquid. The addition amount is preferably 0.01 to 2% by mass. Examples of mineral acids include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and metaphosphoric acid.
[0166]
Examples of the organic acid include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, p-toluenesulfonic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. Further, examples of the inorganic salt include magnesium nitrate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, nickel sulfate, sodium hexamethanoate, sodium tripolyphosphate, and the like. You may use together at least 1 sort (s) or 2 or more types, such as a mineral acid, an organic acid, or an inorganic salt.
[0167]
A preservative, an antifoaming agent, etc. can be added to the gum solution used in the present invention. For example, as a preservative, phenol or a derivative thereof, formalin, imidazole derivative, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivative, benzoisothiazolin-3-one, benztriazole derivative, amiding anidine derivative, quaternary ammonium salt, pyridine, Examples thereof include derivatives such as quinoline and guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole and oxazine derivatives. A preferable addition amount is an amount that stably exerts an effect on bacteria, fungi, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, fungi, yeast, but 0.01 The range of ˜4% by mass is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization. As the antifoaming agent, a silicon antifoaming agent is preferable. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used. Preferably, the range of 0.01 to 1.0% by mass with respect to the gum solution at the time of use is optimal.
[0168]
Further, a chelate compound may be added. Preferred chelate compounds include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, sodium salt thereof; ethylenediamine disuccinic acid, potassium salt thereof. Triethylenetetramine hexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof: nitrilotriacetic acid, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphone Acids, potassium salts, sodium salts; organic phosphonic acids or phosphonoalkanetricarboxylic acids such as aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salts, sodium salts, etc. It can be mentioned. An organic amine salt is also effective in place of the sodium salt and potassium salt of the chelating agent. These chelating agents are selected so that they are stably present in the gum solution composition and do not impair the printability. The addition amount is suitably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the gum solution at the time of use.
[0169]
In addition to the above components, a sensitizer can be added as necessary. For example, hydrocarbons such as turpentine oil, xylene, toluene, low heptane, solvent naphtha, kerosene, mineral spirit, petroleum fraction having a boiling point of about 120 ° C to about 250 ° C, such as dibutyl phthalate, dihebutyl phthalate, di-n-octyl Phthalic acid diester agents such as phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, butyl benzyl phthalate, such as dioctyl adipate, butyl glycol adipate, dioctyl azelate, dibutyl sebacate, di ( 2-ethylhexyl) aliphatic dibasic acid esters such as sebacate and dioctyl sebacate, epoxidized triglycerides such as epoxidized soybean oil, such as tricresyl phosphate, trioctylfolate Feto, phosphoric acid esters such as tris chloroethyl phosphate, for example, freezing point, such as benzoic acid esters of benzyl benzoate and at 15 ℃ below boiling point at one atmosphere include 300 ° C. or more plasticizers.
[0170]
In addition, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, helargonic acid, capric acid, undecyl acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachic acid, behenic acid, lignoserine Saturated fatty acids such as acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicinic acid, lactelic acid, isovaleric acid, and acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, celetic acid, nillic acid, buteticidin Examples also include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, propiolic acid, stearolic acid, sardine acid, talylic acid and licanoic acid. More preferably, it is a fatty acid that is liquid at 50 ° C., more preferably 5 to 25 carbon atoms, and most preferably 8 to 21 carbon atoms. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more. A preferable range for the amount used is 0.01 to 10% by mass of the gum, and a more preferable range is 0.05 to 5% by mass.
[0171]
The sensitizers as described above may be prepared by emulsifying and dispersing the gum as an oil phase, or may be solubilized with the help of a solubilizer.
[0172]
In the present invention, the solid content concentration of the gum solution is preferably 5 to 30 g / l. The film thickness of the gum can be controlled by the conditions of the squeeze means of the automatic machine. In the present invention, the gum application amount is 1 to 10 g / m. ² Is preferred. If the amount of gum application exceeds 10, the plate surface needs to be very hot in order to dry in a short time, which is disadvantageous in terms of cost and safety, and the effects of the present invention cannot be sufficiently obtained. 1g / m ² If it is less than 1, uniform coating becomes difficult and stable processability cannot be obtained.
[0173]
In the present invention, the time from the end of the application of the gum solution to the start of drying is preferably 3 seconds or less. More preferably, it is 2 seconds or less, and the shorter the time is, the better the ink deposition property is.
[0174]
In the present invention, the drying time is preferably 1 to 5 seconds. When the drying time is 5 seconds or more, the effect of the present invention cannot be obtained. When the drying time is 1 second or less, it is necessary to make the plate surface very hot in order to sufficiently dry the photosensitive lithographic printing plate, which is not preferable in terms of safety and cost.
[0175]
In the present invention, as a drying method, a known drying method such as a warm air heater or a far infrared heater can be used.
[0176]
In the drying step, the solvent in the gum solution needs to be dried. Therefore, it is necessary to ensure a sufficient drying temperature and heater capacity. The temperature required for drying varies depending on the components of the gum solution, but in the case of a gum solution in which the solvent is water, the drying temperature is preferably 55 ° C. or higher. The heater capacity is often more important than the drying temperature, and the capacity is preferably 2.6 kW or more in the case of the hot air drying method. The larger the capacity, the better, but 2.6-7 kW is preferable in terms of balance with cost.
[0177]
In the present invention, the washing liquid used in the washing step before development is usually water, but the following additives can be added as necessary.
[0178]
As the chelating agent, a compound that forms a chelate compound by coordination with a metal ion is used. Ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, ethylenediaminedisuccinic acid, its potassium salt, its sodium salt, triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, nitriotriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, aminotri (methylenephosphone) Acid), potassium salt thereof, sodium salt thereof, phosphonoalkanetricarboxylic acid, ethylenediamine disuccinic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof and the like. These chelating agents having an organic amine salt instead of the potassium salt and sodium salt are also effective. The addition amount of the chelating agent is suitably in the range of 0 to 3.0% by mass.
[0179]
As the surfactant, any of anionic, nonionic, cationic and amphoteric surfactants can be used, and anionic or nonionic surfactants are preferred. The preferred surfactant type varies depending on the composition of the overcoat layer and the photosensitive layer, and generally serves as a dissolution accelerator for the material of the overcoat layer and preferably has a low solubility for the components of the photosensitive layer.
[0180]
Examples of anionic surfactants include fatty acid salts, abichenates, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates , Polyoxyethylene alkylsulfophenyl ether salts, sodium N-methyl-N-oleyl taurate, disodium N-alkylsulfosuccinic acid monoamide, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfuric acid ester salts, alkyl sulfuric acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfuric acid ester salts, fatty acid monoglyceride sulfuric acid ester salts, polyoxyethylene styrylpheny Ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salt, partially saponified styrene-maleic anhydride copolymer, olefin-maleic anhydride copolymer And partially saponified products, naphthalenesulfonate formalin condensates and the like.
[0181]
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid partial esters , Pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, iethylene glycol fatty acid ester, polyiglycerin fatty acid partial ester, polyoxyethylenated castor oil , Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-hydroxyalkylamine , Polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides and the like.
[0182]
A preferable addition amount of the surfactant is 0 to 10% by mass. Further, an antifoaming agent can be used in combination with the surfactant.
[0183]
Examples of preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzisothiazolin-3-one, benzotriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyrozine, Examples include quinoline and guanidine derivatives, diazine, triazole derivatives, oxazole and oxazine derivatives.
[0184]
In the cleaning method of the present invention, the cleaning solution used for cleaning before development is preferably used with the temperature adjusted, and the temperature is preferably in the range of 10 to 60 ° C. As a cleaning method, a known processing liquid supply technique such as spraying, dipping, or coating can be used, and processing promoting means such as a brush, a drawing roll, or a submerged shower in dip processing can be used as appropriate.
[0185]
In the present invention, the development treatment may be performed immediately after completion of the pre-development washing step, or the development treatment may be performed after drying before the pre-development washing step. After the development step, known post-treatments such as washing with water, rinsing and gumming can be performed. The pre-development rinse water that has been used once or more can be reused in post-development rinse water, rinse solution, or gum solution.
[0186]
【Example】
Example 1
<< Polymer binder: Synthesis of acrylic copolymer 1 >>
A three-necked flask under a nitrogen stream is charged with 30 parts of methacrylic acid, 50 parts of methyl methacrylate, 20 parts of ethyl methacrylate, 500 parts of isopropyl alcohol and 3 parts of α, α'-azobisisobutyronitrile. The reaction was carried out in an oil bath at 0 ° C. for 6 hours. Then, after refluxing at the boiling point of isopropyl alcohol for 1 hour, 3 parts of triethylammonium chloride and 25 parts of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain an acrylic copolymer 1. The mass average molecular weight measured using GPC was about 35,000, and the glass transition temperature (Tg) measured using DSC (differential thermal analysis) was about 85 ° C.
[0187]
[Production of support]
Alloy No. 2 having a thickness of 0.24 mm and a width of 1030 mm. The treatment was continuously performed using a 1050 series aluminum plate as follows.
[0188]
(A) Roller-type nylon that rotates using an existing mechanical roughening device while supplying a slurry of a specific gravity of 1.12 (pumice) and water as a polishing slurry to the surface of an aluminum plate Mechanical roughening was performed with a brush. The average particle size of the abrasive was 40 to 45 μm, and the maximum particle size was 200 μm. The material of the nylon brush was 6.10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor that rotates the brush was 7 kW plus the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum plate, and the rotation speed was 200 rpm.
[0189]
(B) The aluminum plate was etched by spraying at a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C., and the aluminum plate was 0.3 g / m. ² Dissolved. Thereafter, washing with water was performed by spraying.
[0190]
(C) A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.
[0191]
(D) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was hydrochloric acid or a nitric acid aqueous solution (including 0.5% by mass of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions). The concentration was 1.1% by mass and the temperature was 40 ° C. The AC power source was subjected to electrochemical surface roughening using a carbon electrode as a counter electrode, using a trapezoidal rectangular wave AC for 2 msec until the current value reached a peak from zero, a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. Current density is effective value, 55A / dm ² The immersion (energization) time was 45 seconds. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.
[0192]
(E) The aluminum plate was etched at 32 ° C. at a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and the aluminum plate was 0.2 g / m. ² Dissolves and removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical roughening is performed using AC in the previous stage, dissolves the edge part of the generated pit, and smooths the edge part I made it. Then, it was washed with water with a spray.
[0193]
(F) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washing with water by spraying.
[0194]
(G) An anodizing apparatus of an existing two-stage feed electrolytic treatment method (first and second electrolysis part length 6 m, first feed part length 3 m, second feed part length 3 m, first and second feed electrode lengths 2.4 m each ) Was used to perform anodization at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions) at a temperature of 38 ° C. Thereafter, washing with water was performed by spraying. At this time, in the anodizing device, the current from the power source flows to the first power supply electrode provided in the first power supply unit, flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, An oxide film is formed on the surface, passes through the electrolytic electrode provided in the first power feeding portion, and returns to the power source. On the other hand, the current from the power source flows to the second power feeding electrode provided in the second power feeding portion, similarly flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, and an oxide film is formed on the surface of the plate-like aluminum by the second electrolysis portion. Although the amount of electricity fed from the power source to the first feeding unit and the amount of electricity fed from the power source to the second feeding unit are the same, the feeding current density on the oxide film surface in the second feeding unit is about 25A / dm ² Met. In the second feeding part, 1.35 g / m ² Power was supplied from the surface of the oxide film. The final oxide film amount is 2.7 g / m ² Met. This aluminum plate contains 0.1% by mass of iron, 0.02% by mass of copper, and 0.02% by mass of titanium. Furthermore, after spray water washing, it was immersed in a 0.3% by mass polyvinyl phosphonic acid solution for 40 seconds to be hydrophilized. The temperature was 85 ° C. The average molecular weight of polyvinylphosphonic acid was about 10,000. Thereafter, it was washed with spray water and dried with an infrared heater. At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 μm.
[0195]
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate)
On the support, a photosensitive composition (photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1) having the following composition was dried at 1.5 g / m. ² Then, it was coated with a wire bar and dried at 95 ° C. for 1.5 minutes to obtain a photopolymerized photosensitive layer coated sample. Further, on the photopolymerized photosensitive layer coating sample, an oxygen barrier layer coating solution having the following composition was dried at 1.8 g / m 2. ² The photosensitive lithographic printing plate sample (sample shown in Table 1) having an oxygen blocking layer on the photosensitive layer was prepared by applying with a wire bar and drying at 75 ° C. for 1.5 minutes.
[0196]

<< Evaluation of photosensitive lithographic printing plate >>
(Evaluation of printing durability)
The exposure plate surface energy (sensitivity) on the plate surface was subjected to exposure at 2400 dpi (dpi represents 1 inch, that is, the number of dots per 2.54 cm) using a Trendsetter 3244VFS manufactured by CreO. After the exposure, the photosensitive lithographic printing plate is simply turned off by turning off the power source of the heat source of the preheating part, and the pre-washing part for removing the oxygen blocking layer before development, the developing part filled with the developer of the above composition, CTP automatic developing machine (PHW23-V: equipped with a washing section for removing the developer adhering to the plate surface and a processing section for gum solution (GW-3: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) for protecting the image area. (Developed by Technigraph), a lithographic printing plate was obtained.
[0197]
The produced lithographic printing plate was coated with a printing press (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.), printing ink (Toyo King High Echo M Red manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) and dampening water (Tokyo Ink Co., Ltd.). ) Manufactured H liquid SG-51 density 1.5%), and after printing 1000 sheets continuously, wipe the plate surface with a cleaner to reduce the number of prints that cause stagnation of the highlight area and entanglement of the shadow area. It was used as an index of printing force. One printing durability refers to the operation of wiping with a cleaner after printing 1000 sheets continuously. The more it is, the better. The cleaner uses an Ultra Plate Cleaner (Distributor: Dainichi Seika).
[0198]
(Evaluation of dirty recovery)
After 1000 sheets of continuous printing, the paper was wiped with a cleaner, and printing was resumed 15 minutes later. Less is better.
[0199]
(Evaluation of linearity)
A halftone dot image of 175 lines at 2400 dpi was drawn from 0% to 100% in 5% increments without linearity correction. When the exposure was performed with the exposure plate surface energy (sensitivity) shown in Table 1, a halftone dot output image that should be 80% was taken with a 500 × optical microscope, and the area of the image portion was calculated to be%. The closer to 80%, the better.
[0200]
[Table 1]

[0201]
Embedded image

[0202]
From Table 1, it can be seen that the sample of the present invention is excellent in sensitivity, printing durability, stain recovery and linearity.
[0203]
Example 2
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the photosensitive composition (photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1) was changed to the following (photopolymerizable photosensitive layer coating solution 2).
[0204]

[0205]
[Table 2]

[0206]
From Table 2, it can be seen that by using the compound represented by the general formula (1) or (2) of the present invention, sensitivity, printing durability, stain recovery and linearity are further improved.
[0207]
Example 3
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the photosensitive composition (photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1) was changed to the following (photopolymerizable photosensitive layer coating solution 3).
[0208]

[0209]
[Table 3]

[0210]
Embedded image

[0211]
From Table 3, it can be seen that the combined use of the compound represented by the general formula (1) or (2) of the present invention and the polyhalogen compound is particularly excellent in printing durability and stain recovery.
[0212]
【The invention's effect】
According to the present invention, a photosensitive composition, a photosensitive lithographic printing plate and an image forming method thereof having excellent sensitivity, printing durability, stain recovery and linearity were obtained.

Claims (8)

A photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition and a polymer binder, characterized by containing at least one metal atom-containing particle. Photosensitive composition. In a photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition and a polymer binder, at least one of the addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomers One is represented by the following general formula (1) or general formula (2), The photosensitive composition of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

[Where Q ¹ is

Or -S-, D ¹ and D ² each represent a divalent group having 1 to 5 carbon atoms, E is a divalent group having 2 to 12 carbon atoms, a nitrogen atom , An aliphatic group having a 5- to 7-membered heterocyclic ring containing 1 or 2 atoms selected from the group consisting of an oxygen atom and a sulfur atom, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, or a 5-membered ring Or an aromatic heterocyclic group having a 6-membered ring, R ⁴ represents an alkyl group, a hydroxyalkyl group or an aryl group, R ¹ and R ² each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxyalkyl group, and R ³ Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, X ¹ represents a divalent group having 2 to 12 carbon atoms, and X ² represents a divalent group to a tetravalent group, or

Z represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxyl group, or a heterocyclic group, p represents an integer of 1 to 4, and q represents an integer of 1 to 3. a represents 0 or an integer of 1 to 4; b represents 0 or 1; c represents an integer of 1 to 3; m represents an integer of 2 to 4 depending on the valence of Q ¹ ; m represents an integer, and all groups having the same definition can be the same or different from each other. ]

[Where Q ² is

D ³ and D ⁴ each represent a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, F is a divalent saturated hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms, 5 to 7 A cyclic aliphatic group containing up to 2 N, O or S atoms as ring members, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, or 5 to 6 ring members Represents a heterocyclic aromatic group; R ⁸ represents an alkyl group, a hydroxyalkyl group or an aryl group; R ⁵ and R ⁶ each represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxyalkyl group; and R ⁷ represents a hydrogen atom or a methyl group. Or an ethyl group, d and e represent an integer of 1 to 4, g represents an integer of 2 to 4 depending on the valence of Q ² , f represents an integer of 1 to g, and all groups having the same definition Can be the same or different from each other. ] The photosensitive composition containing an addition polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition and a polymer binder further contains a polyhalogen compound. 2. The photosensitive composition according to 2. The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerization initiator composition contains at least one compound represented by the following general formula (3).

_Wherein, R _{11, R 12} are the same or _different, alkyl of C 1 _{-C 12,} alkynyl group C 2 _{-C 12,} alkoxy group of C 1 -C _8, a cyano group, an alkylthio group , a phenoxy group, a monocarboxylic acid and ester groups of C ₂ -C _6, alkanoyl group of C ₂ -C _5, an ammonium salt, a pyridinium group, a nitro group, an alkylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, selected from a sulfamoyl group halogen atom R ₁₂ may form a condensed polycyclic compound with a benzene ring. X represents BF ₄ , PF ₆ , AsF ₆ , SbF ₆ , FeCl ₄ , SnCl ₆ , SbCl ₆ , BiCl ₆ . m1 represents an integer of 1 to 4, and n1 represents an integer of 1 to 5. ] The photosensitive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerization initiator composition contains at least one compound represented by the following general formula (4).

_{Wherein, R 1, R 2, R} 3 and _{R 4} are each independently an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, a heterocyclic group, or a halogen atom, _{Z 1} ⁺ Represents an arbitrary cation. ] In a photosensitive composition containing an addition-polymerizable ethylenic double bond-containing monomer, a photopolymerization initiator composition, and a polymer binder, the photopolymerization initiator composition is irradiated with a wavelength of 700 nm to 1200 nm. the photosensitive composition of any one of claims 1 to 5, characterized in that an image can be recorded with the plate surface energy of 1~10mJ / cm ^2. A photosensitive lithographic printing plate comprising the photosensitive composition according to claim 1. An image forming method comprising recording an image of the photosensitive lithographic printing plate according to claim 7 with a plate surface energy of ¹ to 10 mJ / cm ^{2 by} irradiation with a wavelength of 700 nm to 1200 nm.