JP2005019660A - チャック装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ペルチェ素子にかかる応力を簡易な構造で抑制することができるチャック装置を提供する。
【解決手段】チャック部2と、複数のペルチェ素子3と、冷却ジャケット6とによって少なくとも構成されるチャック装置100において、前記冷却ジャケット6は、前記複数のペルチェ素子3の配置場所に対応して開口する複数の開口部7と、該開口部7の周縁に形成されるシール部材装着溝11と、前記開口部7を連通する冷却媒体通路8とを具備し、前記複数のペルチェ素子3の各々は、前記シール部材装着溝11に装着された弾性部材からなるシール部材4を介して、前記ペルチェ素子3の他面が前記開口部7に露出するように前記チャック部2と前記冷却ジャケット6の間に挟持固定される共に、前記チャック部2及び前記冷却ジャケット6の間には、所定の高さの複数の支柱5が配される。
【選択図】 図2
【解決手段】チャック部2と、複数のペルチェ素子3と、冷却ジャケット6とによって少なくとも構成されるチャック装置100において、前記冷却ジャケット6は、前記複数のペルチェ素子3の配置場所に対応して開口する複数の開口部7と、該開口部7の周縁に形成されるシール部材装着溝11と、前記開口部7を連通する冷却媒体通路8とを具備し、前記複数のペルチェ素子3の各々は、前記シール部材装着溝11に装着された弾性部材からなるシール部材4を介して、前記ペルチェ素子3の他面が前記開口部7に露出するように前記チャック部2と前記冷却ジャケット6の間に挟持固定される共に、前記チャック部2及び前記冷却ジャケット6の間には、所定の高さの複数の支柱5が配される。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】
この発明は、半導体ウェハ等の平坦なワークピースを保持すると共に、ペルチェ素子を熱源、冷却源として、前記ワークピースを所望の温度に設定するチャック装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
特許文献1に開示されるワークピースのチャックは、半導体ウェハのようなワークピースをその上に取付ける上アセンブリと、チャックを支持するベースに設けられる下アセンブリと、上アセンブリを下アセンブリに対して保持すると共に、下アセンブリをベースに足して保持する非拘束アタッチメント手段とを具備し、底部アセンブリに設けられたヒータ及びヒートシンクによってウェハの温度サイクルテストを可能にするものである。また、特許文献1は、前記非拘束手段によって、温度影響による膨張や、機械的応力を吸収することができることを開示する。
【0003】
例えば、上記特許文献1及び特許文献2で開示されるような半導体テスト用プローバーにおけるステージ用の温度可変ウェハチャックにおいて、前記プローバーは、IC、LSI、CCD等の半導体デバイス開発、又は製造工程において、ウェハ上に形成された半導体チップ回路のテストを行うためにテスターに接続されたプローブを備えている。このプローブは、チップ回路の入出力点に対して、所定の電気信号を与えて、その信号に対する回路の応答を検出する。このテストの際に、ウェハはステージと呼ばれる移動台の上にあるチャックによって真空引きされることにより固定される。また、ある種の半導体については、上述したテストを所定の温度範囲内における様々な温度環境において実施することが要求される。このため、ウェハの温度を制御するために、加熱手段及び冷却手段を有する温度調整手段、例えばペルチェ素子を用いることが望ましく、またペルチェ素子自身を冷却する冷却ジャケットを備えたチェックを用いることが望ましい。この加熱手段及び冷却手段を具備するものとして、特許文献3に開示されるホットチャック温度制御装置がある。
【0004】
【特許文献1】
特表2002−500438号公報
【特許文献2】
特表2003−508893号公報
【特許文献3】
特開平10−41375号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献1に開示されるチャックは、温度影響による膨張力のもとで、複数のチャックレイヤーが相対的に移動できるように非拘束手段によって一体保持するようにしているため、各レイヤー間の拘束力に限界が生じると共に、底部アセンブリに設けられるヒータ及びヒートシンクとの接触状態が不安定となるため、ワークピースへの伝熱能力が低下するという不具合が想定される。
【0006】
特許文献2に開示されるチャックは、上アセンブリを下アセンブリに、非制約的取付手段によって保持し、また上アセンブリを下アセンブリに対して支持する支持部材を設けると共に、支持部材の端部を傾斜構造とすることによって熱膨張等による高さの変動を吸収するようにしたものであるが、上述した特許文献1と同様の不具合が想定されると共に、さらに複雑な構造が必要とするものである。
【0007】
さらに、特許文献3で開示されるように、半導体ウェハのテストを効率よく行うために、半導体ウェハを所定の温度にいち早く設定可能とするために、加熱手段と冷却手段を効率よく使用することが望まれ、そのために近年では、加熱及び冷却手段としてペルチェ素子を用いることが一般的となっている。
【0008】
このため、従来のウェハチャックは、ウェハを固定する真空チャック部と冷却ジャケット部の間に、例えばペルチェ素子を挟み込む形で設置し、真空チャック部と冷却ジャケット部とをネジ等で固定し、これにより、チャック部とペルチェ素子吸熱面との間、冷却ジャケットとペルチェ素子発熱面との間を密着させて効率よく伝熱を行うようにしたものであるが、この場合には、ネジ等の圧縮固定による偏荷重や、熱収縮/熱膨張によりペルチェ素子に応力が生じ、さらに振動などの外的荷重が直接ペルチェ素子にかかることが考えられる。
【0009】
このため、この発明は、ペルチェ素子による半導体ウェハの熱管理を十分に行える構造を有すると共に、ペルチェ素子にかかる応力を簡易な構造で抑制することができるチャック装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
したがって、この発明は、ワークピースを保持する保持手段を有するチャック部と、該チャック部の下面に接触する一面を有する複数のペルチェ素子と、該複数のペルチェ素子の他面を冷却する冷却ジャケットとによって少なくとも構成されるチャック装置において、前記冷却ジャケットは、前記複数のペルチェ素子の配置場所に対応して開口する複数の開口部と、該開口部の周縁に形成されるシール部材装着溝と、前記開口部を連通する冷却媒体通路とを具備し、前記複数のペルチェ素子の各々は、前記シール部材装着溝に装着された弾性部材からなるシール部材を介して、前記ペルチェ素子の他面が前記開口部に露出するように前記チャック部と前記冷却ジャケットの間に挟持固定される共に、前記チャック部及び前記冷却ジャケットの間には、所定の高さの複数の支柱が配されることにある。
【0011】
また、前記支柱は、セラミック等の熱伝導率の低い部材によって形成されることが望ましい。
【0012】
さらに、前記冷却媒体通路は、前記冷却ジャケットの側部に形成された冷却媒体出入り口と連通するものであってもよく、前記冷却ジャケットの下面略中央部に形成された冷却媒体出入り口と連通するものであっても良い。また、冷却ジャケットの下面略中央部に形成された冷却媒体出入り口は、スイベル継ぎ手により外部冷却媒体通路と連通され、前記冷却ジャケットが所定範囲で回動可能であることが望ましい。
【0013】
さらにまた、前記冷却媒体通路の前記開口部部分には、所定の大きさの冷却用空間が形成されることが望ましく、この冷却用空間内には、冷却媒体の流れ方向に対して略垂直に邪魔壁部が形成されることが望ましい。
【0014】
また、前記冷却媒体は、前記ペルチェ素子の他面が放熱面となる時に、供給されることが望ましい。尚、冷却媒体としては、冷却水であることが望ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について、図面により説明する。
【0016】
図1で示すように、本願発明に係るチャック装置100は、ウェハ1のテストを行う試験装置110、ウェハ1の温度制御を行う温度コントローラ120及び冷却水を供給するためのチラー130と共にウェハプロービングシステムを構成するもので、IC、LSI、CCD等の半導体デバイス開発、製造工程において、ウェハ上に形成された半導体チップ回路のテストを行うためのものである。
【0017】
本願発明に係るチャック装置100は、図2で示すように、ウェハ1を真空引きによって吸着するチャック部2と、このチャック部2が所定の温度となるように加熱又は冷却するペルチェ素子3と、このペルチェ素子3を冷却する冷却ジャケット6とによって少なくとも構成される。また、前記チャック部2には、前記温度コントローラ120に接続される温度センサ20が配され、その上面には前記ウェハ1を吸着するための複数の孔21が開口する。
【0018】
また、前記冷却ジャケット6には、複数の開口部7が開口し、その開口部7の周縁にはシール部材としてのOリング4が装着されるシール部材装着溝11が形成される。また、前記開口部7は、それぞれ冷却媒体通路8によって連通され、この冷却媒体通路8は、入口パイプ9及び出口パイプ10を介して前記チラー130に接続される。
【0019】
前記ペルチェ素子3は、図3及び図4に示すように、一方の面31が前記チャック部2の下端面に直接又は間接的に接触し、他方の面32が前記開口部7に露出するように配されると共に、前記シール部材装着溝11に嵌着されたOリング4に当接する。これによって、ペルチェ素子3の他方の面32には、冷却媒体通路8を流れる冷却媒体(この実施の形態では、冷却水)が直接接触して他方の面32を冷却すると共に、開口部7の周囲はOリング4によって密閉されるようになっているものである。
【0020】
さらに、前記チャック部2と前記冷却ジャケット6との間には、複数の支柱5が配され、この支柱6によって、前記チャック部2と冷却ジャケット6との間の間隔を所定の間隔に維持しながら、前記チャック部2を支持するものである。つまり、ペルチェ素子3が、前記チャック部2と前記冷却ジャケット6との間に、ネジ止め等の簡単な固定手段によって挟持固定されるが、ペルチェ素子3の一方の面31がOリング4の反発力によって前記チャック部2の下端に所定の押圧力で接触することができ、且つペルチェ素子3がOリング4を完全につぶすことなく前記冷却ジャケット6の上面に非接触である程度に、前記間隔を前記支柱5の高さによって管理するものである。
【0021】
図3は、以上の構成のチャック装置100がプローバーステージ30上に設置された状態を示した説明断面図である。この構成により、ペルチェ素子3に電流を流し、ペルチェ素子3の一方の面31を放熱面とし、他方の面32を吸熱面として、前記チャック部2を加熱することができる。また、チャック部2を冷却する場合には、電流を逆方向に流して、一方の面31を吸熱面とし、他方の面32を放熱面とする。このとき、他方の面32を冷却水と接触させて、放熱面を冷却することによって一方の面31の吸熱効果を向上させることができるため、冷却速度を上げることが可能となる。
【0022】
また、ペルチェ素子3の加熱/冷却によるチャック部3の熱膨張/熱収縮によるペルチェ素子3への荷重変化を、弾性部材からなる前記Oリング4によって吸収できるので、ペルチェ素子3の破損を防止でき、またペルチェ素子3の寿命を延ばすことができる。また、前記Oリング4は、チャック装置100の移動等によって発生する振動が、ペルチェ素子3に与える影響を抑制できる。
【0023】
以下、本発明の別の構成を有する実施の形態について説明するが、同一の箇所又は同様の効果を奏する箇所には同一の符号を付してその説明を省略する。
【0024】
図5で示す実施の形態は、冷却媒体通路8の出入口を冷却ジャケット6の下面略中央部に設け、その出入口と接続する端子をスイベル継手12としたものを示す。このスイベル継手12には、それぞれ冷却媒体入口パイプ13、冷却媒体出口パイプ14が接続される。そして、このスイベル継手12を保護するために、ステージ固定ユニット15が設けられ、支持ロッド16によって冷却ジャケット6を所定の間隔で固定ユニット15上に保持するものである。
【0025】
図6では、さらに詳細な構造が開示される。前記チャック部2は、チャックプレート23と、このチャックプレート23と前記ペルチェ素子3の間に配置された複数の絶縁プレート層25,27と、この絶縁プレート25,27間に配置され、ウェハ測定時の電気ノイズを低減させるための導体プレート26と、前記チャックプレート23、絶縁プレート層25,27及び導体プレート26をその周縁部で挟持固定する断熱カバー部22,24とによって構成される。この断熱カバー部22,24は、コの字状に前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27を挟持するが、前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27の径方向外方に所定の空間28を有しており、前記前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27の径方向への膨張/収縮を吸収する構造となっている。
【0026】
また、図6に示す実施の形態では、ウェハ1を吸引固定するために、バキューム溝21’を形成した例を開示する。さらに、この実施の形態では、図7で示すように、開口部7の開口部分に、冷却用空間40が形成されると共に、この冷却用空間40内には、冷却水が流れる方向に対して略垂直に立設する邪魔壁部41が形成される。これによって、冷却水は、邪魔壁部41に衝突して上昇するため、開口部7に露出するペルチェ素子3の他方の面32をなめるように移動するため、他方の面(放熱面)を効率よく冷却することが可能となるものである。
【0027】
図7で示す実施の形態の場合、ペルチェ素子3が9個配設される。そして、冷却媒体通路8は、スイベル継手12の一方と接続される冷却媒体入口42から、この冷却媒体入口42に隣接して設けられた冷却媒体出口43へ、それぞれの冷却用空間40を順次接続して冷却媒体を流すものである。また、この実施の形態では、前記冷却ジャケット6を、冷却媒体通路8、冷却用空間40及び邪魔壁部41が形成された下ジャケット部62と、前記開口部7及びシール部材装着溝11が形成された上ジャケット部61とによって構成されるものである。
【0028】
図8及び図9で示す実施の形態では、冷却媒体通路8と、冷却用空間40の構造が上記図6及び図7で示される実施の形態と異なるものである。この実施の形態では、ある冷却用空間40では、冷却用空間40に流入した冷却水は、略垂直にその流れ方向が変更され、前記邪魔壁部41を越えてペルチェ素子3の他方の面32をなめるように移動し、さらに流れ方向を略垂直に変更して、冷却用空間40から流出して次なる冷却用空間40に流れ込むようになっている。また、この冷却用空間40では、前記邪魔壁部41は、冷却媒体の流入方向に沿って形成されるが、冷却用空間40内においては冷却媒体の流れ方向に対して垂直に延出する。
【0029】
また、別の冷却用空間40では、前記邪魔壁部41は、冷却媒体の流入方向に対して垂直に形成されているが、冷媒媒体の流出方向に沿って形成されている。このように、各冷却用空間40において、冷却媒体のいろいろな流れが形成されることから、冷却効率を向上させることができるものである。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、チャック装置を構成するチャック部及び冷却ジャケットをネジ止め等の簡易な固定手段によって固定することが可能であると共に、ペルチェ素子にかかる荷重を弾性部材からなるシール部材によって吸収することができるため、ペルチェ素子の寿命を延ばすことができると共に、大幅なコストダウンを達成できるものである。
【0031】
また、ペルチェ素子の放熱面を直接冷却媒体で冷却することができるので、チャック部の冷却速度を向上させることができるため、所定の温度への移行時間を大幅に短縮することができるものである。また、これによって、テスト時間を短縮できるので、時間当たりの処理能力を向上させることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウェハプロービングシステムの概略構成図である。
【図2】第1の実施の形態に係るチャック装置の分解構成図である。
【図3】第1の実施の形態に係るチャック装置の構成断面図である。
【図4】第1の実施の形態に係るチャック装置の一部拡大断面図である。
【図5】第2の実施の形態に係るチャック装置の分解構成図である。
【図6】第3の実施の形態に係るチャック装置の断面図である。
【図7】第3の実施の形態に係る冷却ジャケット部の分解構成図である。
【図8】第4の実施の形態に係る冷却ジャケット部の平面図である。
【図9】第4の実施の形態に係る冷却ジャケット部の断面説明図である。
【符号の説明】
1 ウェハ
2 チャック部
3 ペルチェ素子
4 Oリング
5 支柱
6 冷却ジャケット
7 開口部
8 冷却媒体通路
11 シール部材装着溝
40 冷却用空間
41 邪魔壁部
100 チャック装置
110 試験装置
120 温度コントローラ
130 チラー
【発明が属する技術分野】
この発明は、半導体ウェハ等の平坦なワークピースを保持すると共に、ペルチェ素子を熱源、冷却源として、前記ワークピースを所望の温度に設定するチャック装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
特許文献1に開示されるワークピースのチャックは、半導体ウェハのようなワークピースをその上に取付ける上アセンブリと、チャックを支持するベースに設けられる下アセンブリと、上アセンブリを下アセンブリに対して保持すると共に、下アセンブリをベースに足して保持する非拘束アタッチメント手段とを具備し、底部アセンブリに設けられたヒータ及びヒートシンクによってウェハの温度サイクルテストを可能にするものである。また、特許文献1は、前記非拘束手段によって、温度影響による膨張や、機械的応力を吸収することができることを開示する。
【0003】
例えば、上記特許文献1及び特許文献2で開示されるような半導体テスト用プローバーにおけるステージ用の温度可変ウェハチャックにおいて、前記プローバーは、IC、LSI、CCD等の半導体デバイス開発、又は製造工程において、ウェハ上に形成された半導体チップ回路のテストを行うためにテスターに接続されたプローブを備えている。このプローブは、チップ回路の入出力点に対して、所定の電気信号を与えて、その信号に対する回路の応答を検出する。このテストの際に、ウェハはステージと呼ばれる移動台の上にあるチャックによって真空引きされることにより固定される。また、ある種の半導体については、上述したテストを所定の温度範囲内における様々な温度環境において実施することが要求される。このため、ウェハの温度を制御するために、加熱手段及び冷却手段を有する温度調整手段、例えばペルチェ素子を用いることが望ましく、またペルチェ素子自身を冷却する冷却ジャケットを備えたチェックを用いることが望ましい。この加熱手段及び冷却手段を具備するものとして、特許文献3に開示されるホットチャック温度制御装置がある。
【0004】
【特許文献1】
特表2002−500438号公報
【特許文献2】
特表2003−508893号公報
【特許文献3】
特開平10−41375号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献1に開示されるチャックは、温度影響による膨張力のもとで、複数のチャックレイヤーが相対的に移動できるように非拘束手段によって一体保持するようにしているため、各レイヤー間の拘束力に限界が生じると共に、底部アセンブリに設けられるヒータ及びヒートシンクとの接触状態が不安定となるため、ワークピースへの伝熱能力が低下するという不具合が想定される。
【0006】
特許文献2に開示されるチャックは、上アセンブリを下アセンブリに、非制約的取付手段によって保持し、また上アセンブリを下アセンブリに対して支持する支持部材を設けると共に、支持部材の端部を傾斜構造とすることによって熱膨張等による高さの変動を吸収するようにしたものであるが、上述した特許文献1と同様の不具合が想定されると共に、さらに複雑な構造が必要とするものである。
【0007】
さらに、特許文献3で開示されるように、半導体ウェハのテストを効率よく行うために、半導体ウェハを所定の温度にいち早く設定可能とするために、加熱手段と冷却手段を効率よく使用することが望まれ、そのために近年では、加熱及び冷却手段としてペルチェ素子を用いることが一般的となっている。
【0008】
このため、従来のウェハチャックは、ウェハを固定する真空チャック部と冷却ジャケット部の間に、例えばペルチェ素子を挟み込む形で設置し、真空チャック部と冷却ジャケット部とをネジ等で固定し、これにより、チャック部とペルチェ素子吸熱面との間、冷却ジャケットとペルチェ素子発熱面との間を密着させて効率よく伝熱を行うようにしたものであるが、この場合には、ネジ等の圧縮固定による偏荷重や、熱収縮/熱膨張によりペルチェ素子に応力が生じ、さらに振動などの外的荷重が直接ペルチェ素子にかかることが考えられる。
【0009】
このため、この発明は、ペルチェ素子による半導体ウェハの熱管理を十分に行える構造を有すると共に、ペルチェ素子にかかる応力を簡易な構造で抑制することができるチャック装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
したがって、この発明は、ワークピースを保持する保持手段を有するチャック部と、該チャック部の下面に接触する一面を有する複数のペルチェ素子と、該複数のペルチェ素子の他面を冷却する冷却ジャケットとによって少なくとも構成されるチャック装置において、前記冷却ジャケットは、前記複数のペルチェ素子の配置場所に対応して開口する複数の開口部と、該開口部の周縁に形成されるシール部材装着溝と、前記開口部を連通する冷却媒体通路とを具備し、前記複数のペルチェ素子の各々は、前記シール部材装着溝に装着された弾性部材からなるシール部材を介して、前記ペルチェ素子の他面が前記開口部に露出するように前記チャック部と前記冷却ジャケットの間に挟持固定される共に、前記チャック部及び前記冷却ジャケットの間には、所定の高さの複数の支柱が配されることにある。
【0011】
また、前記支柱は、セラミック等の熱伝導率の低い部材によって形成されることが望ましい。
【0012】
さらに、前記冷却媒体通路は、前記冷却ジャケットの側部に形成された冷却媒体出入り口と連通するものであってもよく、前記冷却ジャケットの下面略中央部に形成された冷却媒体出入り口と連通するものであっても良い。また、冷却ジャケットの下面略中央部に形成された冷却媒体出入り口は、スイベル継ぎ手により外部冷却媒体通路と連通され、前記冷却ジャケットが所定範囲で回動可能であることが望ましい。
【0013】
さらにまた、前記冷却媒体通路の前記開口部部分には、所定の大きさの冷却用空間が形成されることが望ましく、この冷却用空間内には、冷却媒体の流れ方向に対して略垂直に邪魔壁部が形成されることが望ましい。
【0014】
また、前記冷却媒体は、前記ペルチェ素子の他面が放熱面となる時に、供給されることが望ましい。尚、冷却媒体としては、冷却水であることが望ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について、図面により説明する。
【0016】
図1で示すように、本願発明に係るチャック装置100は、ウェハ1のテストを行う試験装置110、ウェハ1の温度制御を行う温度コントローラ120及び冷却水を供給するためのチラー130と共にウェハプロービングシステムを構成するもので、IC、LSI、CCD等の半導体デバイス開発、製造工程において、ウェハ上に形成された半導体チップ回路のテストを行うためのものである。
【0017】
本願発明に係るチャック装置100は、図2で示すように、ウェハ1を真空引きによって吸着するチャック部2と、このチャック部2が所定の温度となるように加熱又は冷却するペルチェ素子3と、このペルチェ素子3を冷却する冷却ジャケット6とによって少なくとも構成される。また、前記チャック部2には、前記温度コントローラ120に接続される温度センサ20が配され、その上面には前記ウェハ1を吸着するための複数の孔21が開口する。
【0018】
また、前記冷却ジャケット6には、複数の開口部7が開口し、その開口部7の周縁にはシール部材としてのOリング4が装着されるシール部材装着溝11が形成される。また、前記開口部7は、それぞれ冷却媒体通路8によって連通され、この冷却媒体通路8は、入口パイプ9及び出口パイプ10を介して前記チラー130に接続される。
【0019】
前記ペルチェ素子3は、図3及び図4に示すように、一方の面31が前記チャック部2の下端面に直接又は間接的に接触し、他方の面32が前記開口部7に露出するように配されると共に、前記シール部材装着溝11に嵌着されたOリング4に当接する。これによって、ペルチェ素子3の他方の面32には、冷却媒体通路8を流れる冷却媒体(この実施の形態では、冷却水)が直接接触して他方の面32を冷却すると共に、開口部7の周囲はOリング4によって密閉されるようになっているものである。
【0020】
さらに、前記チャック部2と前記冷却ジャケット6との間には、複数の支柱5が配され、この支柱6によって、前記チャック部2と冷却ジャケット6との間の間隔を所定の間隔に維持しながら、前記チャック部2を支持するものである。つまり、ペルチェ素子3が、前記チャック部2と前記冷却ジャケット6との間に、ネジ止め等の簡単な固定手段によって挟持固定されるが、ペルチェ素子3の一方の面31がOリング4の反発力によって前記チャック部2の下端に所定の押圧力で接触することができ、且つペルチェ素子3がOリング4を完全につぶすことなく前記冷却ジャケット6の上面に非接触である程度に、前記間隔を前記支柱5の高さによって管理するものである。
【0021】
図3は、以上の構成のチャック装置100がプローバーステージ30上に設置された状態を示した説明断面図である。この構成により、ペルチェ素子3に電流を流し、ペルチェ素子3の一方の面31を放熱面とし、他方の面32を吸熱面として、前記チャック部2を加熱することができる。また、チャック部2を冷却する場合には、電流を逆方向に流して、一方の面31を吸熱面とし、他方の面32を放熱面とする。このとき、他方の面32を冷却水と接触させて、放熱面を冷却することによって一方の面31の吸熱効果を向上させることができるため、冷却速度を上げることが可能となる。
【0022】
また、ペルチェ素子3の加熱/冷却によるチャック部3の熱膨張/熱収縮によるペルチェ素子3への荷重変化を、弾性部材からなる前記Oリング4によって吸収できるので、ペルチェ素子3の破損を防止でき、またペルチェ素子3の寿命を延ばすことができる。また、前記Oリング4は、チャック装置100の移動等によって発生する振動が、ペルチェ素子3に与える影響を抑制できる。
【0023】
以下、本発明の別の構成を有する実施の形態について説明するが、同一の箇所又は同様の効果を奏する箇所には同一の符号を付してその説明を省略する。
【0024】
図5で示す実施の形態は、冷却媒体通路8の出入口を冷却ジャケット6の下面略中央部に設け、その出入口と接続する端子をスイベル継手12としたものを示す。このスイベル継手12には、それぞれ冷却媒体入口パイプ13、冷却媒体出口パイプ14が接続される。そして、このスイベル継手12を保護するために、ステージ固定ユニット15が設けられ、支持ロッド16によって冷却ジャケット6を所定の間隔で固定ユニット15上に保持するものである。
【0025】
図6では、さらに詳細な構造が開示される。前記チャック部2は、チャックプレート23と、このチャックプレート23と前記ペルチェ素子3の間に配置された複数の絶縁プレート層25,27と、この絶縁プレート25,27間に配置され、ウェハ測定時の電気ノイズを低減させるための導体プレート26と、前記チャックプレート23、絶縁プレート層25,27及び導体プレート26をその周縁部で挟持固定する断熱カバー部22,24とによって構成される。この断熱カバー部22,24は、コの字状に前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27を挟持するが、前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27の径方向外方に所定の空間28を有しており、前記前記チャックプレート24、導体プレート26及び絶縁プレート層25,27の径方向への膨張/収縮を吸収する構造となっている。
【0026】
また、図6に示す実施の形態では、ウェハ1を吸引固定するために、バキューム溝21’を形成した例を開示する。さらに、この実施の形態では、図7で示すように、開口部7の開口部分に、冷却用空間40が形成されると共に、この冷却用空間40内には、冷却水が流れる方向に対して略垂直に立設する邪魔壁部41が形成される。これによって、冷却水は、邪魔壁部41に衝突して上昇するため、開口部7に露出するペルチェ素子3の他方の面32をなめるように移動するため、他方の面(放熱面)を効率よく冷却することが可能となるものである。
【0027】
図7で示す実施の形態の場合、ペルチェ素子3が9個配設される。そして、冷却媒体通路8は、スイベル継手12の一方と接続される冷却媒体入口42から、この冷却媒体入口42に隣接して設けられた冷却媒体出口43へ、それぞれの冷却用空間40を順次接続して冷却媒体を流すものである。また、この実施の形態では、前記冷却ジャケット6を、冷却媒体通路8、冷却用空間40及び邪魔壁部41が形成された下ジャケット部62と、前記開口部7及びシール部材装着溝11が形成された上ジャケット部61とによって構成されるものである。
【0028】
図8及び図9で示す実施の形態では、冷却媒体通路8と、冷却用空間40の構造が上記図6及び図7で示される実施の形態と異なるものである。この実施の形態では、ある冷却用空間40では、冷却用空間40に流入した冷却水は、略垂直にその流れ方向が変更され、前記邪魔壁部41を越えてペルチェ素子3の他方の面32をなめるように移動し、さらに流れ方向を略垂直に変更して、冷却用空間40から流出して次なる冷却用空間40に流れ込むようになっている。また、この冷却用空間40では、前記邪魔壁部41は、冷却媒体の流入方向に沿って形成されるが、冷却用空間40内においては冷却媒体の流れ方向に対して垂直に延出する。
【0029】
また、別の冷却用空間40では、前記邪魔壁部41は、冷却媒体の流入方向に対して垂直に形成されているが、冷媒媒体の流出方向に沿って形成されている。このように、各冷却用空間40において、冷却媒体のいろいろな流れが形成されることから、冷却効率を向上させることができるものである。
【0030】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、チャック装置を構成するチャック部及び冷却ジャケットをネジ止め等の簡易な固定手段によって固定することが可能であると共に、ペルチェ素子にかかる荷重を弾性部材からなるシール部材によって吸収することができるため、ペルチェ素子の寿命を延ばすことができると共に、大幅なコストダウンを達成できるものである。
【0031】
また、ペルチェ素子の放熱面を直接冷却媒体で冷却することができるので、チャック部の冷却速度を向上させることができるため、所定の温度への移行時間を大幅に短縮することができるものである。また、これによって、テスト時間を短縮できるので、時間当たりの処理能力を向上させることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウェハプロービングシステムの概略構成図である。
【図2】第1の実施の形態に係るチャック装置の分解構成図である。
【図3】第1の実施の形態に係るチャック装置の構成断面図である。
【図4】第1の実施の形態に係るチャック装置の一部拡大断面図である。
【図5】第2の実施の形態に係るチャック装置の分解構成図である。
【図6】第3の実施の形態に係るチャック装置の断面図である。
【図7】第3の実施の形態に係る冷却ジャケット部の分解構成図である。
【図8】第4の実施の形態に係る冷却ジャケット部の平面図である。
【図9】第4の実施の形態に係る冷却ジャケット部の断面説明図である。
【符号の説明】
1 ウェハ
2 チャック部
3 ペルチェ素子
4 Oリング
5 支柱
6 冷却ジャケット
7 開口部
8 冷却媒体通路
11 シール部材装着溝
40 冷却用空間
41 邪魔壁部
100 チャック装置
110 試験装置
120 温度コントローラ
130 チラー
Claims (8)
- ワークピースを保持する保持手段を有するチャック部と、該チャック部の下面に接触する一面を有する複数のペルチェ素子と、該複数のペルチェ素子の他面を冷却する冷却ジャケットとによって少なくとも構成されるチャック装置において、
前記冷却ジャケットは、前記複数のペルチェ素子の配置場所に対応して開口する複数の開口部と、該開口部の周縁に形成されるシール部材装着溝と、前記開口部を連通する冷却媒体通路とを具備し、
前記複数のペルチェ素子の各々は、前記シール部材装着溝に装着された弾性部材からなるシール部材を介して、前記ペルチェ素子の他面が前記開口部に露出するように前記チャック部と前記冷却ジャケットの間に挟持固定される共に、
前記チャック部及び前記冷却ジャケットの間には、所定の高さの複数の支柱が配されることを特徴とするチャック装置。 - 前記支柱は、熱伝導率の低い部材によって形成されることを特徴とする請求項1記載のチャック装置。
- 前記冷却媒体通路は、前記冷却ジャケットの側部に形成された冷却媒体出入り口と連通することを特徴とする請求項1又は2記載のチャック装置。
- 前記冷却媒体通路は、前記冷却ジャケットの下面略中央部に形成された冷却媒体出入り口と連通することを特徴とする請求項1又は2記載のチャック装置。
- 前記冷却媒体出入り口は、スイベル継ぎ手により外部冷却媒体通路と連通され、前記冷却ジャケットが所定範囲で回動可能であることを特徴とする請求項4記載のチャック装置。
- 前記冷却媒体通路の前記開口部部分には、所定の大きさの冷却用空間が形成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のチャック装置。
- 前記冷却用空間内には、冷却媒体の流れ方向に対して略垂直に邪魔壁部が形成されることを特徴とする請求項6記載のチャック装置。
- 前記冷却媒体は、前記ペルチェ素子の他面が放熱面となる時に、供給されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載のチャック装置。
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Cited By (3)
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US7457117B2 (en) * | 2006-08-16 | 2008-11-25 | Rambus Inc. | System for controlling the temperature of electronic devices |
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KR101333926B1 (ko) * | 2011-03-04 | 2013-11-27 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 지지대, 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
-
2003
- 2003-06-26 JP JP2003182061A patent/JP2005019660A/ja active Pending
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