JP2005017298A - 画像のコントラストを向上させるための計測プロセス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 埋め込みフィーチャの画像コントラストを高めるための計測プロセスであって、基板の選択された表面を研磨して埋め込みフィーチャの断面を露出させるステップと、露出させた断面をフッ素含有化合物を含むガス混合物に露出させるステップと、露出した断面に高エネルギビームを照射して、埋め込みフィーチャの画像コントラストを高めるステップと、を有する、プロセス。
【選択図】 図1
Description
この比較例では、従来技術のプロセスに従って露出し処理した埋め込みフィーチャの画像を撮影した。このプロセスでは、ゲート構造すなわち埋め込みフィーチャを、集束イオンビームに露出した後に露出させた。集束イオンビーム研磨プロセスは、100ピコアンペアのビーム電流を用いた。集束イオンビーム露出の間、基板の選択部分をXeF2ガスに1秒露出させ、FEI社が開発し所有するガス混合物を用いて10秒の第2の露出を行った。次いで、走査電子顕微鏡写真を撮影した。これを図1に示す。この画像から得られる情報は、ポリゲート、ポリゲートの近傍に配置された酸化物、および金属相互接続を示す。図示のように、顕微鏡写真では、酸化物およびポリゲート構造の近傍に配置された2つの窒化物層のコントラストも判別も与えられない。
この例では、本開示に従って処理した埋め込みフィーチャの画像を撮影した。比較例1におけるような埋め込みポリゲート構造を含む基板を、FEI社から市販されているデュアルビームFIB機器のチャンバ内に配置した。集束イオンビーム研磨プロセスは、100ピコアンペアのビーム電流を用いた。次いで、CF4/O2ガス混合物から形成したプラズマビームを、90:10の体積ガス比で10秒間、露出した断面に送出した。次いで、走査電子顕微鏡写真を、ある角度で撮影した。これを図3に示す。この画像から得られる情報は、図2と同様に、ポリゲート、ポリゲートの近傍に配置された酸化物層、および金属相互接続を明白に示す。しかしながら、この画像では、標示したように、ゲート酸化物の近傍に配置された2つの窒化物層のコントラストおよび判別も行える。
Claims (15)
- 埋め込みフィーチャの画像コントラストを高めるための計測プロセスであって、
基板の選択された表面を研磨して前記埋め込みフィーチャの断面を露出させるステップと、
前記露出させた断面をフッ素含有化合物を含むガス混合物に露出させるステップと、
前記露出した断面に高エネルギビームを照射して、前記埋め込みフィーチャの画像コントラストを高めるステップと、
を有する、プロセス。 - 前記高エネルギビームは、イオンビーム、電子ビーム、プラズマ、またはレーザを含む、請求項1の計測プロセス。
- 研磨は、前記基板の主面にほぼ垂直な壁を形成する、請求項1の計測プロセス。
- 更に、前記ほぼ垂直な壁からある角度で前記露出した断面の画像を記録するステップを有する、請求項1の計測プロセス。
- 前記画像の記録は走査電子顕微鏡写真を含む、請求項4のプロセス。
- 前記研磨は前記選択した表面を集束イオンビームに露出することを含む、請求項1の計測プロセス。
- 前記研磨は、前記選択した表面を、集束イオンビーム、および、XeF2、XeF4、XeF6、KrF2、KrF4、KrF6から成る群から選択した希ガスハライドに露出させることを含む、請求項1の計測プロセス。
- 更に、前記画像の記録に続いて、前記露出した断面を充填するステップを有する、請求項4の計測プロセス。
- 研磨および前記露出した断面の露出は、デュアルビーム露出装置において行われる、請求項1の計測プロセス。
- 前記フッ素含有化合物は、式CxHyFzを有し、ここで、xは1から4の範囲であり、yは0から9の範囲であり、zは1から10の範囲である、請求項1の計測プロセス。
- 前記フッ素含有化合物は、CF4、HF、NF3、F2、SF6、または前記のフッ素含有化合物の少なくとも1つを含む組み合わせを含む、請求項1の計測プロセス。
- 前記フッ素含有化合物は、第2のガス混合物の体積の約80パーセント未満である、請求項1の計測プロセス。
- 前記ガス混合物は、前記フッ素含有化合物および酸化ガスを含む、請求項1の計測プロセス。
- 前記酸化ガスは、O2、NO、水蒸気、または前記酸化ガスの少なくとも1つを含む混合物を含む、請求項13の計測プロセス。
- 窒化物層と酸化物層との間の画像コントラストを高めるための計測プロセスであって、
前記窒化物層と接触している前記酸化物層を含む断面をフッ素含有化合物含むガス混合物に露出させるステップと、
前記露出した断面に、イオンビームまたは電子ビームまたはプラズマビームまたはレーザを照射して、前記酸化物層と前記窒化物層との間の前記画像コントラストを高めるステップと、
を有する、プロセス。
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