JP2005017277A - 半導体素子検査装置(inspectingapparatusforsemiconductordevice) - Google Patents

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Abstract

【課題】 半導体素子の温度に対する耐久性をテストすることによって、温度条件によって発生する半導体素子の不良率を最小化することができる半導体素子検査装置を提供する。
【解決手段】 本発明による半導体素子検査装置は、マッチプレート20と;マッチプレート20に結合され、半導体素子70と接触する放熱部30及び半導体素子70のリード72を圧着するテスト部40が備えられているコンタクトモジュール50と;半導体素子70と接触するコンタクトモジュール50の放熱部30の接触面上に付着し、半導体素子70で発生する熱をコンタクトモジュール50の放熱部30に伝導する熱伝導性パッド60と;を含んで構成される。これにより、半導体素子の温度に対する耐久性テストの信頼性をより向上させることができる。
【選択図】 図3

Description

本発明は、半導体素子検査装置に係り、より詳しくは、半導体素子の温度に対する耐久性をテストすることにより、温度条件によって発生する半導体素子の不良率を最小化することのできる半導体素子検査装置に関する。
一般に、ハンドラー装備は、良/不良の半導体素子を選別するハンドラー部及び半導体素子の熱的耐久性をテストするチャンバー部を含んで構成される。特に、半導体素子の熱的耐久性テストに対する信頼性を高めるためには、チャンバー部の環境が重要な役割を担当する。
このようなチャンバー部の核心技術は、半導体素子の発熱と無関係に一定のテスト温度を維持させる発熱冷却技術にある。このような発熱冷却技術は、半導体素子に空気を直接噴射させる直接冷却方式と、半導体素子に放熱体を付着させてその放熱体に空気を噴射させる間接冷却方式とに大別され、相対的に冷却効率に優れた間接冷却方式が主に用いられている。
従来の間接冷却方式を利用した半導体素子検査装置のほとんどは、半導体素子の熱的耐久性をテストするために、ヒートシンクを半導体素子に直接接触して放熱するか、或いは、別途の熱伝逹手段を通じて半導体素子で発生した熱をヒートシンクに伝達して放熱する構造を有している。
しかし、ヒートシンクを半導体素子に直接接触して放熱する場合には、マッチプレートの扁平度の誤差または半導体素子の表面不均衡によってヒートシンク及び半導体素子接触面の平行度が完全に一致しないことから、半導体素子からヒートシンクへの円滑な熱伝逹が行われないという問題が発生する。それにより、半導体素子で発生した熱の一部が、ヒートシンク及び半導体素子接触面の間の空気層を通じて漏出され、チャンバー部の温度を上昇させる結果を招き、このようなチャンバー部の温度上昇は、実際テスト温度が規定された温度より高くて半導体素子が良品であっても不良品として判定されるなど、半導体素子の温度に対する耐久性テストの信頼性を低下させる。また、ヒートシンクが半導体素子に直接接触することにより、使用上の不注意などによる半導体素子の損傷が頻繁に発生している実情である。
最近では、別途の熱伝逹手段を通じて半導体素子で発生した熱をヒートシンクに伝達して放熱する構造を有する半導体素子検査装置に対する研究が活発に進められており、これに関する技術は既に出願されて登録維持決定(登録番号:20-0171483)を受けたことがある。しかし、前記のような構造の半導体素子検査装置は、熱伝逹手段の一種である放熱部材がキャリアモジュール上に設置されるなど放熱構造が複雑であるだけでなく、放熱部材と半導体素子とが直接接触する面積が相対的に小さいため、熱伝逹の効率性の側面から問題がある。
そして、前述したように、ヒートシンクが放熱部材に直接接触する構造を有することによって、ヒートシンク及び放熱部材の平行度問題を克服することが非常に困難で、テスト時の放熱効率を高めて半導体素子の不良率を減少させるのには限界がある。
本発明の目的は、半導体素子の温度に対する耐久性をテストすることにより、温度条件によって発生する半導体素子の不良率を最小化することのできる半導体素子検査装置を提供する。
本発明の他の側面や長所は部分的に、後述する詳細な説明によって明らかになり、また、部分的に本発明の実際の適応によってもわかることができる。
前記のような目的を達成するために本発明は半導体素子の温度に対する耐久性をテストする半導体素子検査装置において、マッチプレートと; 前記マッチプレートに結合され、前記半導体素子と接触する放熱部及び前記半導体素子のリード線を圧着するテスト部が備えられているコンタクトモジュールと;前記半導体素子と接触する前記コンタクトモジュールの放熱部接触面上に付着し、前記半導体素子で発生する熱を前記コンタクトモジュール放熱部に伝導する熱伝導性パッドとを;含んで構成されることにその特徴がある
前記熱伝導性パッドは、セラミック−シリコン複合材を含んで構成されるのが好ましい。
前記熱伝導性パッドは、熱伝導性の両面接着剤によって前記コンタクトモジュールの放熱部に付着するのが好ましい。
前記熱伝導性の両面接着剤はアクリルポリマーを含んで構成されるのが好ましい。
前記コンタクトモジュールの放熱部は、ヒートシンクと;前記半導体素子に接触し、その接触面上には前記熱伝導性パッドが付着しているコンタクトプッシャーと;前記コンタクトプッシャー及び前記ヒートシンクに結合され、前記半導体素子で発生した熱を前記コンタクトプッシャーから前記ヒートシンクに伝達するヒートフラットプッシャーと;を含む。
前記ヒートシンクはアルミニウム材質を含んで構成されるのが好ましい。
前記コンタクトプッシャー及び前記ヒートフラットプッシャーは、アルミニウム材質を含んで構成されるのが好ましい。
前記コンタクトモジュールのテスト部は、前記マッチプレートと結合され、前記ヒートシンクが安着するヒートシンク安着部及び前記ヒートフラットプッシャーが貫通する貫通ホールが形成されているコンタクトブロックと;前記コンタクトブロックの下部に結合され、前記マッチプレートによる前記コンタクトの乗降にによって、前記半導体素子のリード線を選択的に加圧するリードプッシャーと;を含む。
前記ヒートフラットプッシャーの外周面上に設置され、前記コンタクトブッロク及び前記リードプッシャーの弾力的な乗降を可能にする第1弾性部材をさらに含むのが好ましい。
前記マッチプレートと前記コンタクトブロックとの間に設置され、前記マッチプレートの乗降によって前記コンタクトブロックが弾力的に連動し、前記リードプッシャーを前記半導体素子のリード線に圧着可能にする第2弾性部材をさらに含むのが好ましい。
前記第1弾性部材及び前記第2弾性部材はスプリングを使用するのが好ましい。
以上のように、本発明によると、熱伝導性パッドを使用することにより、半導体素子の温度に対する耐久性テストの信頼性をより向上させ、半導体素子の不良率を最小化するだけでなく、テスト時発生する半導体素子の損傷を効率的に防止することができるという長所がある。
それにより、半導体素子のテスト不良及び外部的損傷によって発生する経済的費用を節減することができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例について説明する。
図1は本発明による半導体素子検査装置の斜視図であり、図2は本発明による半導体素子検査装置のコンタクトモジュールを示した斜視図であり、図3は本発明による半導体素子検査装置のマッチプレート及びコンタクトモジュールの結合構造を示した断面図である。
図面に示すように、本発明による半導体素子検査装置は、マッチプレート20と;マッチプレート20に結合され、半導体素子70と接触する放熱部30及び半導体素子70のリード72を圧着するテスト部40が備えられているコンタクトモジュール50と;半導体素子70と接触するコンタクトモジュール50の放熱部30の接触面上に付着し、半導体素子70で発生する熱をコンタクトモジュール50の放熱部30に伝導する熱伝導性パッド60と;を含んで構成される。
マッチプレート20は、多数のコンタクトモジュール50を結合する結合ホール22が形成されており、半導体素子70の温度に対する耐久性をテストするようにコンタクトモジュール50のテスト部40を選択的に乗降させる役割を果たす。マッチプレート20の構造は必要に応じて多様に変形可能である。
コンタクトモジュール50の放熱部30は、ヒートシンク32と;半導体素子70に接触し、その接触面上には熱伝導性パッド60が付着しているコンタクトプッシャー34と;コンタクトプッシャー34及びヒートシンク32に結合され、半導体素子70で発生した熱をコンタクトプッシャー34からヒートシンク32に伝達するヒートフラットプッシャー36と;を含む。
ヒートシンク32は、半導体素子70で発生した熱をコンタクトプッシャー34及びヒートフラットプッシャー36を通じて吸収して外部に放出させる放熱作用を行い、円筒形の外周面上には空気と接する断面積を相対的に広めるように長溝31が複数形成されている。そして、ヒートシンク32は種々の材質を選択的に適用することができるが、熱伝導性及び価額の競争力に優れたアルミニウム材質またはアルミニウム材質を含んで構成されるのが好ましく、その構造は放熱効率を高めることができる範囲内で選択的に変更可能である。
コンタクトプッシャー34は半導体素子70と直接接触する部分であって、半導体素子70との接触時衝撃を緩和すると同時に、その接触面積を最大化してテストの際に半導体素子70で発生する熱が外部に漏出することなく、ヒートシンク32に効率的に伝えられるように熱伝導性パッド60を付着する。熱伝導性パッド60の構成及び機能に対する具体的な説明は、図4を参照して後述する。
ヒートフラットプッシャー36は、その両端部に雄螺子タップを形成すると同時に、ヒートシンク32及びコンタクトプッシャー34には雄螺子タップと対応する雌螺子タップを各々形成して、ヒートシンク32及びコンタクトプッシャー34と一体として結合される。ヒートフラットプッシャー36及びその結合構造は、必要に応じて多様に変更できる。
コンタクトプッシャー34及びヒートフラットプッシャー36は、ヒートシンク32と同様に熱伝導性及び価額の競争力に優れたアルミニウム材質またはアルミニウム材質を含んで構成されるのが好ましい。
コンタクトモジュール50のテスト部40は、マッチプレート20と結合され、ヒートシンク32が安着するヒートシンク安着部41及びヒートフラットプッシャー36が貫通する貫通ホール43が形成されているコンタクトブロック42と;コンタクトブロック42の下部に結合され、マッチプレート20によるコンタクトブロック42の乗降によって半導体素子70のリード72を選択的に圧着するリードプッシャー44と;を含む。
コンタクトのブロック42には、空気が流入・排出される空気流入口及び空気排出口が形成されている。
リードプッシャー44は、半導体素子70のリード72を圧着してテスト回路線(図示せず)と電気的に連結されるようにすることによって、半導体素子70の温度に対する耐久性テスト作業を可能にする役割を果たす。
そして、放熱部30のヒートフラットプッシャー36の外周面上には第1弾性部材80が、マッチプレート20とコンタクトブロック42との間には第2弾性部材90が各々設置され、マッチプレート20の乗降によりコンタクトブロック42が連動してコンタクトプッシャー34を半導体素子70に圧着させると同時に、リードプッシャー44を半導体素子70のリード72に圧着させる構造を有している。
第1弾性部材80は、コンタクトブッロク42の乗降によって弾力的に流動して、コンタクトプッシャー34を半導体素子70に完全に圧着させる役割を果たす。
マッチプレート20とコンタクトブッロク42は、第2弾性部材90によって互いに連結されて弾力的に連動する。
第1弾性部材80及び第2弾性部材90は、弾性力を持つ種々のものを選択的に適用することができるが、構造が簡単でありながらも弾性力に優れたスプリングを使用するのが好ましい。
一方、半導体素子70から放出される熱は、熱伝導性パッド60、コンタクトプッシャー34、ヒートフラットプッシャー36及びヒートシンク32の経路を通じて熱の移動が行われる。
図4は本発明による半導体素子検査装置のコンタクトモジュール50放熱部30に付着した熱伝導性パッド60の結合構造を示した断面図である。
図面に示すように、熱伝導性パッド60は、熱伝導性、伸縮性、圧縮性、耐熱性及び絶縁性が相対的に優れたセラミック―シリコン複合材及びセラミック―シリコン複合材を含む材料を用いるのが好ましく、必要に応じて種々のものを選択的に用いることができる。熱伝導性パッド60は1〜2mm程度の圧縮力を持てる厚さを有する。
熱伝導性パッド60は、熱伝導性の両面接着剤62を通じてコンタクトプッシャー34に付着して半導体素子70と接触し、熱伝導性の両面接着剤62は熱伝導性はもちろんのこと、接着力をしっかり維持するために、耐熱性に優れたアクリルポリマー及びアクリルポリマーを含んだ材質を用いるのが好ましい。その厚さは、熱抵抗を相対的に減らすために0.2mm以下のものを使用する。
実際に、熱伝導性パッド60を適用した半導体検査装置を使用してチャンバー部の温度変化を実験した結果、温度上昇がまったくないわけではないが、その上昇量がきわめて微々たるもので、従来に比べて半導体素子70の発熱による温度上昇を画期的に減らすことができるという結論に到達した。
図5A,図5B,及び図5Cは、本発明による半導体素子検査装置の作動状態図である。
まず、半導体素子70がチャンバー部内部に引入されて半導体素子検査装置のコンタクトプッシャー34の下部に対応するように位置する(図5A参照)。
そして、マッチプレート20が駆動されてコンタクトプッシャー34が半導体素子70の接触面上に接触する。このとき、コンタクトプッシャー34が少し過度な力で半導体素子70に接触しても、コンタクトプッシャー34の接触面上に付着している熱伝導性パッド60によって緩衝作用が可能である(図5B参照)。
最後に、半導体素子70にコンタクトプッシャー34の熱伝導性パッド60が接触した後には、リードプッシャー44が半導体素子70のリード72を完全に圧着することができる程度にマッチプレート20を下降させることによって、コンタクトブッロク42が連動すると同時に、リードプッシャー44がテスト回路線(図示せず)に電気的に接触してテストが実施され、テストが終わると以前の動作を逆に行うようになる。このとき、マッチプレート20の下降によって第2弾性部材90が圧縮されて半導体素子70のリード72を圧着すると同時に、第1弾性部材80も同時に圧縮されて熱伝導性パッド60に接触しているコンタクトプッシャー34を一定の力で加圧することによって、コンタクトプッシャー34に付着している熱伝導性パッド60が半導体素子70に完全に圧着される(図5C参照)。
それにより、コンタクトプッシャー34及び半導体素子70の接触面の空気層を完全に除去することができ、テスト時半導体素子70で発生した熱の漏れによるチャンバー部の温度変化を最小化することができる。
以上、本発明のいくつかの実施例を示して説明したが、技術分野の通常の知識を有する者であれば発明の原則や精神から外れずに本実施例を変形することができるのが分かる。発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められなければならない。
本発明による半導体素子検査装置の斜視図である。 本発明による半導体素子検査装置のコンタクトモジュールを示した斜視図である。 本発明による半導体素子検査装置のマッチプレート及びコンタクトモジュール結合構造を示した断面図である。 本発明による半導体素子検査装置の熱伝導性パッド結合構造を示した断面図である。 本発明による半導体素子検査装置の作動状態図である。 本発明による半導体素子検査装置の作動状態図である。 本発明による半導体素子検査装置の作動状態図である。
符号の説明
20 マッチプレート20
30 放熱部
32 ヒートシンク
34 コンタクトプッシャー
36 ヒートフラットプッシャー
40 テスト部
50 コンタクトモジュール
60 熱伝導性パッド
70 半導体素子
72 半導体素子リード
80,90 第1、2弾性部材

Claims (11)

  1. 半導体素子の温度に対する耐久性をテストする半導体素子検査装置において、
    マッチプレートと;
    前記マッチプレートに結合され、前記半導体素子と接触する放熱部及び前記半導体素子のリード線を圧着するテスト部が備えられているコンタクトモジュールと;
    前記半導体素子と接触する前記コンタクトモジュールの放熱部接触面上に付着し、前記半導体素子で発生する熱を前記コンタクトモジュール放熱部に伝導する熱伝導性パッドとを;
    含むことを特徴とする、半導体素子検査装置。
  2. 前記熱伝導性パッドは、セラミック−シリコン複合材を含んで構成されることを特徴とする、請求項1に記載の半導体素子検査装置。
  3. 前記熱伝導性パッドは、熱伝導性の両面接着剤によって前記放熱部に付着することを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体素子検査装置。
  4. 前記熱伝導性の両面接着剤は、アクリルポリマーを含んで構成されることを特徴とする、請求項3に記載の半導体素子検査装置。
  5. 前記コンタクトモジュールの放熱部は、ヒートシンクと;前記半導体素子に接触し、その接触面上には前記熱伝導性パッドが付着しているコンタクトプッシャーと;前記コンタクトプッシャー及び前記ヒートシンクに結合され、前記半導体素子で発生した熱を前記コンタクトプッシャーから前記ヒートシンクに伝達するヒートフラットプッシャーと;を含むことを特徴とする、請求項1に記載の半導体素子検査装置。
  6. 前記ヒートシンクは、アルミニウム材質を含んで構成されることを特徴とする、請求項5に記載の半導体素子検査装置。
  7. 前記コンタクトプッシャー及び前記ヒートフラットプッシャーは、アルミニウム材質を含んで構成されることを特徴とする、請求項5に記載の半導体素子検査装置。
  8. 前記コンタクトモジュールのテスト部は、前記マッチプレートと結合され、前記ヒートシンクが安着するヒートシンク安着部及び前記ヒートフラットプッシャーが貫通する貫通ホールが形成されているコンタクトブロックと;前記コンタクトブロックの下部に結合され、前記マッチプレートによる前記コンタクトの乗降にによって、前記半導体素子のリード線を選択的に加圧するリードプッシャーと;を含むことを特徴とする、請求項5に記載の半導体素子検査装置。
  9. 前記ヒートフラットプッシャーの外周面上に設置され、前記コンタクトブッロク及び前記リードプッシャーの弾力的な乗降を可能にする第1弾性部材をさらに含むことを特徴とする、請求項8に記載の半導体素子検査装置。
  10. 前記マッチプレートと前記コンタクトブロックとの間に設置され、前記マッチプレートの乗降によって前記コンタクトブロックが弾力的に連動し、前記リードプッシャーを前記半導体素子のリード線に圧着可能にする第2弾性部材をさらに含むことを特徴とする、請求項8または9に記載の半導体素子検査装置。
  11. 前記第1弾性部材及び前記第2弾性部材はスプリングであることを特徴とする、請求項10に記載の半導体素子検査装置。
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