JP2004536460A

JP2004536460A - レーザ装置

Info

Publication number: JP2004536460A
Application number: JP2003514673A
Authority: JP
Inventors: マーサー、イアン・ピー
Original assignee: パワーレイズ・リミテッド
Priority date: 2001-07-20
Filing date: 2002-07-19
Publication date: 2004-12-02
Also published as: AU2002321399A1; US7161968B2; EP1410473A2; GB0117789D0; WO2003009439A2; US20040240500A1; WO2003009439A3

Abstract

固体光学エンドポンプレーザにおいて、レーザ利得媒質（２）は、バレル増幅誘導放出（ＡＳＥ）の最大光路長を最少化する先細りした径と、該利得媒質からバレルＡＳＥを散乱させる、一端部（３）の粗面化された表面領域（６）とを有し、それによって、バレルＡＳＥのネガティブな影響を最少化し、かつ大きな長手方向成分によって光線の閉じ込めを抑制するが、正反射を伴う、周期的、例えば繰り返し通過路を不可能にする。
【選択図】図１

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ装置に関し、特に、光学的にポンピングされる固体レーザに関する。
【背景技術】
【０００２】
【特許文献１】
米国特許第５９３６９８４号明細書
【特許文献２】
国際公開第０１／２４３２５号パンフレット従来のレーザは、ポンピング放射を、細長い利得媒質、例えば、レーザロッドやスラブの側面に向ける、サイドマウント（ｓｉｄｅ−ｍｏｕｎｔｅｄ）固体レーザダイオードアレイ等の側面ポンピング（ｌａｔｅｒａｌｐｕｍｐｉｎｇ）手段を用いていた。該ロッドの側面は、従来、粗面になっており、あるいは、反映する、例えば、鏡のような反射及び屈折を抑制し、かつ散漫散乱を導入するように別に処理されている。その結果として、ポンピング放射は、上記利得媒質内に均一かつ効率的に分配されて、寄生発振作用が防止される。
【０００３】
効率、パワー、ビーム均一性及び一定のレーザのためのヘッド設計の単純さをさらに向上させるために、ポンピング放射が、レーザロッド等の細長い利得媒質の一方または両方の端面の方へガイドされる「エンドポンピング（ｅｎｄｐｕｍｐｉｎｇ）」が開発されている。該ロッドの胴部表面は、該エンドポンピング放射を可能にして、全反射（ＴＩＲ）により該ロッドに伝搬するように研磨されている。
【０００４】
研磨は、エンドポンピング放射の伝搬に必要ではあるが、重大な欠点をもたらし、すなわち、研磨されたロッドの胴部は、全反射下で伝搬し、長手方向軸に沿って伝搬し、あるいは、渦巻き型に進む（またはバレル研磨（ｂａｒｒｅｌｌｉｎｇ））成分によって該長手方向軸周りに伝搬する光線のために、レーザ放射が全利得を経験する寄生発振に影響されやすい。この寄生作用は、蓄積されたエネルギを消耗することにより、所望の光ビームへのポンプエネルギの伝導効率をかなり低減しかねない。
【０００５】
寄生的な蓄積エネルギの消耗というネガティブな影響を低減するために、Ｍｅｉｓｓｎｅｒ（米国特許第５９３６９８４号明細書）の場合のように、フランジ付きロッド末端部またはキャップが用いられている。該末端部は、寄生的な放射光を、上記胴部を通る一つの経路に制限しようとし、端面に衝突する該光線の入射角を小さくすることにより、連続的に全反射されることが可能な光線を上記ロッドから射出する。しかし、該光線を該ロッドの下流への一つの経路に制限すると、高バレル研磨成分を用いたモードに対して長い経路長が形成され、上記レーザロッド内の蓄積エネルギの消耗をもたらす。実際に、フランジ付き端部を有するロッドを用いると、原理的に無限長のバレル経路が可能になる。従来の研磨された、フランジ付きの端面を用いたバレル光線（ｂａｒｒｅｌｌｉｎｇｒａｙｓ）を著しく除去するためには、該フランジを緩やかな傾斜状にし、径を十分に増加させなければならない。
【０００６】
Ｂｅａｃｈは、国際公開第０１／２４３２５号パンフレットにおいて、フランジ付き端部と共に、先細りの径を有するロッドを使用することを開示している。フランジ付きの末端部と先細りの径との組み合わせにより、レーザロッド内に閉じ込めることができる最大光路が制限される。該先細りは、最初の単一のバレル光線の場合に対しても、光線のための増長する長手方向構成部材をもたらす。そのため、該光線は、フランジ付きロッド端部によって射出することができる。従って、寄生的な光線が、上記レーザロッド内の延長された経路長を進むこと、および蓄積エネルギを著しく消耗することが防止される。また、上記フランジ付きの領域は、光線もバレル研磨成分なしで上記利得媒質から射出されるように設計することができる。
【０００７】
フランジ付きの端部を有する先細りロッドの使用は、いくつかの用途に対しては良好に適用されてきたが、フランジ付きロッド端部の使用は、都合が悪くなる可能性がある。例えば、該フランジの設計は、光線を射出する能力に影響を与えるため、上記利得媒質の設計は、冷却材の流れに対する考慮によって最適化することができない。上記端部キャップの径は、上記ロッドの径に対して十分大きな寸法にしなければならず、また、上記フランジの湾曲は、上記利得媒質を不利に長くすることを要するバレル光線を射出しなければならない場合には、穏やかなままにしなければならない。それでも、正反射（フレネル反射）が、蓄積エネルギの著しい消耗を引き起こすのに十分な反射率で、長い経路長のバレル作用から生じた光線を戻す可能性がある。さらに、ポンピング放射の十分な正反射、およびバレル光線の排除を可能にするように研磨された、フランジ付きロッド端部は、直線状の粗面ロッド端部と比較して、製造するのがより複雑である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明によれば、レーザ取出し軸（ｌａｓｅｒｅｘｔｒａｃｔｉｏｎａｘｉｓ）上に第１及び第２の端部を含み、かつ該端部間に正反射面を有するレーザ利得媒質と、ポンピング放射を該利得媒質内に向けるポンプ放射源とを備え、該正反射面が、散漫散乱表面領域を有するレーザが提供される。該媒質は、円筒形断面を有して細長くてもよく、あるいは、四角、矩形または楕円形断面を有してもよい。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、従来技術に勝るいくつかの利点を示す。拡散反射領域であってもよい上記散漫散乱領域は、正反射を抑制または阻止し、かつ粗面領域、または少なくとも一つの溝、クロスハッチング、選択的な対称軸を用いた研磨及びへこみからなるパターン化された領域を備えてもよい。この領域は、上記ロッドの側面を通って伝わるか、あるいは上記研磨された端面の全反射しきい値を越える角度まで散乱するような、光線の径方向の成分を増加させるように作用し、その結果、該光線は、上記媒質から出射する。
【００１０】
上記散漫散乱表面領域は、好ましくは、上記利得媒質端部の一方にある。上記ポンプ放射源は、好ましくは、上記レーザ利得媒質をエンドポンピングする。該媒質は、好ましくは、その端部間に、先細り部分を有する。先細りの径と上記粗面領域との組み合わせにより、縦方向から大きなバレル研磨成分を有する光線までの範囲の光線のための最大閉じ込め経路長が低減される。バレル光線は、上記先細りによって上記媒質に沿ってそれる。
【００１１】
本装置は、光線が、上記ロッドの側面及び上記端面を通って出射するだけでなく、上記利得媒質の端部の方へ伝搬して該利得媒質に沿って戻る光の正反射のための経路が存在しないように該装置を設計することができるという効果を有する。そのため、上記装置は、寄生振動のネガティブな衝撃を最少化し、かつ複雑なものを製造するときの要求は、規定された長手方向の曲率半径またはフランジを有する、研磨されたバレル側面に対する要求がない状態で低減される。すなわち、本発明は、直接的に進んで製造及び使用しようとするものであり、かつ設計者が、冷却材の流れ等の他の考慮すべき問題に対するレーザの設計、および上記利得媒質の全長を最適化することができるようにする。さらに、フランジ付きの領域を収容するために、上記利得媒質の長さを延長する必要はない。その結果、該利得媒質の全長は、高光度のパルス用途に対するレーザ性能の結果として生じる向上を伴って、低減することができる。光材料の中を通過する光が通る経路長は、高光度パルス光の伝搬にとって重要な問題になりうるので、この長さの最少化は有利であり、堅牢性が向上し、かつ間隙を介してまたは適切な時期に射出されたパルス光として改良される。
【００１２】
本発明の場合、主たる恩恵は、上記散漫散乱領域が、最大の径のロッド端部に設けられている場合にうけられるが、該恩恵は、向上した性能に対する機会によって、両端部または該端部の間においても実施することが可能である。上記ロッド端部における径の増加は、面取り部を可能にし、かつＯリング等の冷却材シールに衝突する迷光の危険性を低減することにより、堅牢性を改善するための利点となりうるが、関連する径に大きなフランジが付いた延長領域は必要ない。
【００１３】
上記正反射領域は、好ましくは研磨される。
【００１４】
好ましくは、上記散漫散乱領域の長手方向伸長部は、鏡面全反射をうける上記媒質を通って伝わる放射の上記ロッドの端面における入射角が、上記研磨された端面からの全反射のための角度よりも十分に小さくなるようになっており、その結果、該放射は、該媒質からほとんど失われる。そのため、該散漫散乱領域の長手方向伸長部は、上記媒質及び周囲の媒質の屈折率に依存するが、側面が水で冷却されるＹＡＧ等の一般的な用途においては、長さが、各ロッド端部において、該媒質の径の１〜２倍の径の間の範囲、上記粗面領域が該ロッド端部にある場合、好ましくは、約１倍の径の範囲にわたるように求められる。
【００１５】
好ましくは、上記媒質は、上記第１の端部から上記第２の端部まで連続的に先細りになっている。別法として、上記媒質は、中間部から各端部まで先細りになっていてもよい。一実施形態においては、該先細り部は、両端部の最大部から、該媒質に沿って最少部まで縮小し、また逆も同様である。該先細り部は、長さに対して上記径が比例して変化する直線状である必要はなく、湾曲していたり、対称的または非対称的であってもよい。該媒質の表面は、散漫散乱領域から正反射領域まで傾斜していてもよい。
【００１６】
好ましくは、両端部は、活性レーザ種のために低ドープされている。このことは、拡散接合等の方法を用いて、低ドープまたはアンドープのキャップを、上記媒質の一端部に適切に作用するように接続することによって、または成長、溶融あるいは薬品を用いた接合によって実施することができる。該ロッド端部は、（取り扱い時にレーザ材料の角を欠くというリスクを低減する）面取りの追加を可能にするために、および放射に対する、Ｏリング等のシール材の曝露度を低減するために、径を増してもよい。上述したように、フランジを付けることは、寄生放射の除去に適応させる構成の必要性によって妥協されていない。上記活性レーザイオンのためにドーピングする上記ロッド端部は、傾斜していてもよい。
【００１７】
好ましくは、上記利得媒質の一端または両端は、ポンピング放射またはレーザ放射のいずれか、あるいは両方のための通常の入射角において反射率を変更する光学コーティングを有する。該コーティングは、反射防止的、あるいは、部分的または全体的に反射的であってもよい。
【００１８】
本発明の別の態様によれば、レーザ放射軸上に第１及び第２の端部を含み、かつ該端部間に正反射面を有し、該正反射面が、散漫散乱表面領域を有するレーザ利得媒質が提供される。
【００１９】
本発明は、いくつかの方法で実施することができる。次に、特定の実施形態について、添付図面を参照して、例証として説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
図１は、本発明のレーザ１を示す。該レーザは、ロッド２の形状のレーザ利得媒質を含む。該レーザは、ポンピング放射をロッド２の端部へ放射する固体レーザダイオード４からなる一つのアレイ、または複数のアレイを含む。ロッド２の表面は研磨されており、それにより、増幅光採用バレル経路のうちのいくつかが生じる。ロッド２は、一端部に研磨面領域を含み、かつ先細りの径を含む。該先細りは、バレル光線をロッドの端面３の方へそらすことにより、該バレル光線の最大閉じ込め経路長を減らす。上記研磨領域に入射する光線は、主に、上記ロッドから側面へ散乱するか、あるいは、端面３を通って伝わり、それによって、寄生振動による、蓄積エネルギの消耗が最少化される。上記研磨面領域は、上記研磨された表面と同じ面に隣接しており、例えば、該研磨面と同じ面上にある。
【００２１】
次に、レーザ１の構成部材について、個別に詳細に考察する。異なるダイオードレーザ波長を実現するために、様々なダイオード材料をポンピング手段として適用することができ、また、Ｙｂ：ＹＡＧを９４０ｎｍでポンピングする好適な実施形態の場合、該ダイオードは、通常、ＩｎＧａＡで構成される。該ダイオードは、上記利得媒質内の活性レーザイオンのための励起波長を適合させるようにポンピング放射を放出する。吸収のための断面が小さい（〜０．８×１０^−２０ｃｍ^２）、Ｙｂ：ＹＡＧのような利得媒質の場合、ダイオードは、通常、９４１ｎｍでの強く広いバンド幅吸収の波長で選択され、最も効率的にエネルギをレーザ出力に結合する。ポンピング光は、図示のレンズ７等の屈折または反射光学系によって、レーザロッド２の一端部または両端部に収束される。各端部に結合されたポンピングパワーは、１００Ｗを超え、一般に、１〜３ｋＷである。一実施形態においては、シードレーザから増幅されるレーザビームは、ダイオードアレイ４、レンズ７及びミラー（図示せず）等のダイオード結合光構成要素内の穴を通って、上記レーザ取出し軸、例えば、光伝搬軸に沿って進む。別法として、上記装置は、レーザ源を用いない、上記利得媒質内での自然放出を基にしてもよい。また、上記ロッド端部は、好ましくは、反射係数を、ポンピング放射またはレーザ放射のいずれか、あるいは両方のための通常の入射角に変更するために、光学コーティングによってコーティングされる。
【００２２】
上記レーザは、ポンピング放射の熱の影響を打ち消すために、長手方向フロー対流式、または衝突冷却式のロッド冷却装置（図示せず）を含む。適当な冷却装置は、当業者に知られている。
【００２３】
好ましくは、上記媒質は、Ｙｂドーピングをベースにしており、最も一般的な形は、Ｙｂ：ＹＡＧである。別法として、ＫＧＷ（ＫＧｄ（ＷＯ_４)_２)、ＫＹＷ（ＫＹ（ＷＯ_４)_２)、ＧＧＧ、ＧｄＣＯＢ、ＹＬＦ及び三二酸化物（Ｓｃ_２Ｏ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３）等の他のＹｂドープ母材を用いることができる。Ｙｂをベースとした材料は、（〜０．８×１０^−２０ｃｍ^２であるＹｂ：ＹＡＧのための有効な断面を有する）ポンプ吸収のためのそれらの低断面、または狭い吸収バンド幅（例えば、９８１ｎｍで約３．７ｎｍであるＹｂ：ＫＧＷのための吸収バンド幅）のいずれかにより、エンドポンピング方式の役に立つ。これら２つの要因のうちのいずれかまたは両方は、効率的なレーザ作用を容易にするドーピングレベルのための長い吸収長を生じる。効率的なエンドポンピング方式を容易にするように、ポンピング放射のための吸収長を十分長くした場合には、Ｎｄ：ＹＡＧ等の他の利得材料も適用可能である。出力レーザビームの均質性、またはレーザヘッドのデザインの単純さが非常に重要な場合には、そのような材料にとって、エンドポンプ方式は、特に有利である。一実施形態においては、上記レーザ媒質自体は、イッテルビウム（Ｙｂ）をドープしたイットリウム・アルミニウム・ガーネット（ＹＡＧ）で形成される。該媒質は、通常、円形断面を有するロッド形状に形成される。一般に、該ロッドは、２〜４ｍｍの平均径を有し、２〜６ｃｍの長さである。しかし、一般に、レーザ材料は、結晶質、多結晶質、ガラスまたはセラミック、あるいは他の材質であってもよい。
【００２４】
上記ロッドは、該ロッドの径が、一端部の最大径から他端部の最少径まで、最大約１ｍｍ変化するように、連続的に傾斜している。該傾斜の値は、寄生光線の最長閉じ込め経路長を低減するという利点と、レーザ光を取り出すのに利用できる上記レーザロッドにおける一部体積を最適化することとの間の折衷案として選定される。しかし、該傾斜は、代替的に、上記ロッドの一部のみに沿って設けられてもよく、また、直線状あるいは湾曲した傾斜であってもよい。
【００２５】
上記ロッド表面は、ポンピング放射を閉じ込め、かつ該ポンピング放射が全反射によって該ロッドのバレルを伝搬することを可能にする正反射面を形成するように研磨される。上記ビームは、ＴＩＲが支配的なガイド機構ではないように、上記利得材料内に実際に収束させることができることに注意されたい。最大径端部において、径方向の面（または「円周」）の領域は、研磨によって粗面化されている。特定のパターンは、溝、スクラッチ、クロスハッチング、へこみ、あるいは、随意に上記端部における、選択的な対称軸を用いた粗面化（上記研磨に対する方向性をもつ仕上げによる一方向の選択的散乱）等の規則的なまたは不規則のパターン化された表面を備えてもよく、鍵となる機能は、上記側面から光線を射出するか、または散漫反射（非正反射）を生じるかであり、それによりＴＩＲオフ端面に対する機会が減る。上記粗面化または研磨領域は、例えば、全研磨領域の長さにほぼ近い長手方向の領域を越える、急な領域または段状の機能を設けるよりも、上記研磨領域に対して緩やかな移行部を形成したほうがよい。ポンプ放射が収束した場合でも、上記正反射面はなお、完全に収束するポンプ光をガイドするのを補助することが可能である。
【００２６】
研磨サイズは、４００〜１２００粒度にすることができ、また好適な研磨サイズは４００粒度であるが、最適な研磨、散乱損失のバランスをとること、および上記レーザ媒質の完全性のために、異なる仕様を用いてもよい。粒度サイズが大き過ぎると、熱による応力負荷によって材質を弱める可能性がある微少クラックを生じる可能性があるが、より大きな粒度サイズは、上記側面に衝突する光線に対して、上記媒質からより大きなエネルギ損失を与えやすい。
【００２７】
好適な実施形態においては、上記研磨領域の側方領域は、上記ロッドの端部領域へ進む全ての光線が、ほとんど上記端面を通って伝搬するか、あるいは、該光線が、該ロッドを出て側面に向かうような角度に散乱するように選定される。換言すれば、上記研磨領域の側方領域は、上記媒質において全反射をうけるいかなる光線も、上記端面にぶつかったときに、上記（研磨された）端面からそれて、全反射の角度より十分小さい角度で入射するように選定され、その結果、該光線は、そのほとんどが上記利得媒質から出射し、寄生レーザ発振が抑制される。高バレル光線は、上記ロッドの端部領域において上記研磨面に衝突し、大きな径方向の成分を与える散乱の作用により、その大部分が取り除かれる。上記研磨領域のより長い範囲は、上記利得媒質に戻る娘散乱光線のための機会を単にさらに低減することができるが、該研磨領域の範囲は、ポンピング放射が該研磨された側面に衝突しないように十分短いままでなければならず、その結果、ポンプ損失及び上記装置の動作効率の低減が生じる。一般的な高出力用途の場合、該ロッドの１倍の領域における下限によって、ポンピング放射の相当な損失を伴うことなく、該ロッドの２倍の径までの長さの粗面化された領域によって作用させることは、容易に可能である。上記粗面化された領域は、特に、ポンピング放射損失の問題が発生しない、側面ポンプ構成においては、上記ロッドの端部の中間に設けてもよい。この場合、上記領域の範囲は、反射を対称的に分ける端面がないため、増大させてもよい。
【００２８】
図２は、光線が、それより上で全反射する入射の臨界角を示す、ロッド−空気境界における入射角に対する内部フレネル反射を示す。ＹＡＧ−空気境界の場合、上記ロッドの端面における入射角を２６°より小さく制限すると、反射係数が１２％未満まで減ることが分かる。すなわち、一般的なＹＡＧの用途の場合、ＴＩＲをうける、上記利得媒質内に戻る光線の正反射を抑制するために、このことは、上記ロッドの径に略等しい研磨長さに対応する。
【００２９】
図３のａ〜ｃは、（単純化のため直線状の光線として示す）バレル光線に対する研磨領域６の効果を示す。その経路長を、上記ロッドの径（図示せず）を先細りにすることによって最少化させたバレル光線は、該ロッドの端部の方へ反射する。長い一体化経路長を有するバレル光線は、研磨領域６に衝突したときに、その径方向成分を増加させ、その結果、該光線は、上記利得媒質を出て側面に進み、あるいは、該光線が上記端面に達したときに、その入射角は、上記研磨された端面の全反射の角度未満まで低減され、上記粗面化された領域の範囲は、該媒質において鏡面ＴＩＲによって支持することができるいかなる光線も、ＴＩＲ角より小さい角度で上記端面にぶつかるようになっている。そのため、入射する光線は、大部分が上記ロッドから出射する。上記粗面化された領域は、より大径の端部に設けられており、このことは、図示の連続する傾斜にとってはさほど重要ではないが、該領域は、より小径の端部に設けることも可能である。
【００３０】
図示の実施形態においては、ロッド端部６は、研磨されている、ドープされていないまたは部分的にドープされたエンドピースまたはキャップ１４を含み、また、一実施形態においては、ポンプ光を上記利得媒質（図示せず）に結合するために、ガイドダクトが使用される。研磨された端部を有するロッドを使用する場合、上記エンドピースは、４ｍｍ径の端部キャップを有する、２ｍｍ径のＹＡＧロッドの場合に、一般的に６ｍｍである長さと比較して、通常、２ｍｍの長さにすればよい。好適な実施形態においては、該ロッド端部は、加熱されない場合に、該端部における損傷を低減し、かつ側面ポンプ構成における損失をさらに低減する、ドープされていない、または部分的にドープされたあるいは異なってドープされた端部キャップを含む。該端部キャップは、活性レーザ媒質に、取り付け、接合、成長または溶融することができる。それらは、概して犬の骨の形をしていてもよい。該犬用の骨の形をした端部は、光口径を減らすことなく、上記ロッドの端部を面取りすることを可能にし、かつＯリング１２等のシール材の放熱にさらすことのリスクを低減し、堅牢性を向上させる。
【００３１】
図４は、上記ロッドが、中央部のくびれ部２０から大径端部２２まで傾斜している代替の構成を示し、この場合、両端部は、好ましくは、寄生レーザ作用を激減させるように粗面化される。
【００３２】
上記冷却装置は、対流式冷却装置を備えてもよい。他の実施形態は、衝突冷却または側面からの伝導冷却等の他の冷却装置を使用する。該冷却は、（一般に、流体対流冷却を伴うロッドの実施形態の場合）全ての側面に対して、または、限定された数の境界に対して、あるいは、一実施形態における実施例においては、スラブ状の細長い媒質の２つの側面に対して、および別の実施形態においては、スラブ状の細長い媒質の一つの側面に対して、上記利得媒質の細長い表面の周りに適用することができる。
【００３３】
当業者は、本発明の範囲を逸脱するとことなく、本発明に対する変更例が可能であることを理解するであろう。例えば、四角、矩形、多角形または楕円形の断面、あるいは、それらのうちの２つまたはそれ以上の間で変化する断面、あるいは細長いスラブ状等のロッド形状を用いることができる。同様に、本発明の目的と一致するいかなるポンピング形態も、例えば、側面ポンピングも用いることができる。上記傾斜は、長手方向の中央または上記ロッドの他の中間部から、外側の上記端部へ向かって形成することができる。該ロッドは、傾斜を有する必要はないが、粗面化された一端部または両端部を有することを必要とし、このことは、高バレル寄生光線の除去を可能にしない。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係るレーザ利得媒質及びポンピング手段の概略図である。
【図２】ＹＡＧ−空気界面における、光線のための入射角に対するフレネル反射のグラフである。
【図３】ａは、寄生光線に対する、粗面化ロッド表面領域の影響を示す図、ｂは、ａに示すロッドの詳細の拡大図、ｃは、ａに示すロッドの詳細の別の拡大図である。
【図４】代替のロッドの形状構成の側面図である。

Claims

レーザ取出し軸上に第１及び第２の端部を含み、かつ該端部間に正反射面を有するレーザ利得媒質と、
ポンピング放射を前記利得媒質内に向けるポンプ放射源とを備え、
前記正反射面が散漫散乱表面領域を有するレーザ。
前記散漫散乱表面領域が、前記利得媒質端部のうちの一方にある請求項１に記載のレーザ。
前記ポンプ放射源が、前記レーザ利得媒質をエンドポンピングする請求項１に記載のレーザ。
前記媒質が、その端部間に先細り部分を有する請求項1〜３のいずれか１に記載のレーザ。
前記媒質が、前記第１の端部から前記第２の端部まで連続的に先細りになっている請求項４に記載のレーザ。
前記媒質が、その端部の中間の箇所から、その端部の各々まで先細りになっている請求項１〜５のいずれか１に記載のレーザ。
前記散漫散乱領域が、粗面領域を備える請求項１〜７のいずれか１に記載のレーザ。
前記散乱反射領域が、パターン化された領域を備える請求項１〜６のいずれか１に記載のレーザ。
前記パターン化された領域が、少なくとも一つの溝、クロスハッチング、選択的な対称軸を用いた研磨及びへこみを備える請求項８に記載のレーザ。
前記正反射面が研磨されている請求項１〜９のいずれか１に記載のレーザ。
前記媒質の表面が、前記散乱反射領域から前記正反射領域まで傾斜している請求項１〜１０のいずれか１に記載のレーザ。
前記散漫散乱領域の長手方向部が、該領域における前記媒質の径の１〜２倍に略等しい請求項１〜１１のいずれか１に記載のレーザ。
前記散漫散乱領域が、前記媒質の端部において最大径を有する請求項５に記載のレーザ。
前記媒質が、ドープされたＹｂである請求項１〜１３のいずれか１に記載のレーザ。
少なくとも一つの端部が、光学誘電性コーティングを有する請求項１〜１４のいずれか１に記載のレーザ。
レーザ放射軸上に第１及び第２の端部を含み、かつ該端部間に正反射面を有し、該正反射面が散漫散乱表面領域を有するレーザ利得媒質。
前記媒質が細長い請求項1〜１６のいずれか１に記載のレーザまたはレーザ利得媒質。
特に、添付図面と関連して本願明細書に実質的に記載したようなレーザまたはレーザ利得媒質。