JP2004534247A - 位置測定装置 - Google Patents

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Abstract

増分式の位置測定装置の場合、スケール(1)上には、増分式の測定目盛り(3)以外に参照マーク(4)並びに領域マーク(5,6)を有するトラックが取り付けられている。領域マーク(5,6)を走査することによって、走査装置(2)が参照マーク(4)の右側に存在するのか、左側に存在するのかを一義的に識別することができる。このため、領域マーク(5,6)は、入射する走査ビーム(12)を異なった方向に異なった光検出器(131;133,134)に転向する。スケール(1)の端部では、領域マーク(5,6)が、リミット領域(50,60)を形成するためにブラインド(51,61)によってカバーされている。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、特許請求項1の上位概念に記載の位置測定装置に関する。
【背景技術】
【0002】
この様式の位置測定装置は、特に、加工すべきワークピースに関する工具の相対位置を測定するための加工機械において、検査対象の位置及び寸法を確認するための座標測定機において、並びに最近では増々半導体産業、例えばウエハステッパにおいても、使用される。その際、この位置測定装置は、スケールが駆動ユニット(回転モータ又はリニヤモータ)に直接取り付けられるか、スケールが駆動ユニットによって駆動される部品に取り付けられる角度又は長さ測定装置である。
【0003】
この様式の、例えば特許文献1から公知の位置測定装置のスケールは、カウント信号を発生させるための周期的な測定目盛り並びに参照マーク信号を発生させるための参照マークを備える。この参照マーク信号を介して、参照マークの位置のために、カウンタが所定のカウントにセットされることによって、位置測定部の絶対性が形成される。
【0004】
供給エネルギの停止による運転中断後の位置測定の開始時、並びにカウントの修正及びコントロールのために、しばしば、任意の位置から出発して参照マークに到達することが必要である。このため、領域マークがスケールに取り付けられており、これらの領域マークによって、走査装置が参照マークの一方の側に存在するのか、他方の側に存在するのかを識別することができる。この領域マークは、参照マークの一方の側では、一貫した非光透過性のストライプとして形成されている。参照マークの他方の側では、領域マークが、透明の領域として構成されている。両方の領域マークを走査するために、共通の光検出器が走査ユニット内に形成されている。走査装置が参照マークの一方の側に存在するのか、他方の側に存在するのかの識別は、この光検出器の測定信号を基にして行なわれる。
【0005】
この測定信号の信号レベルを基にしたこの識別は問題があることが分かっている。何故なら、レベルの相互の間隔が比較的僅かであるからである。この測定信号も、容易にスケールの部分的な汚染によって影響を受けてしまい、従って、誤りのある走査装置の位置が検出される。
【特許文献1】
独国実用新案第92 09 801号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
従って、本発明の課題は、複数の測定領域が参照マーク以外により確実に識別され得る位置測定装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
この課題は、特許請求項1の特徴を有する位置測定装置によって解決される。
【0008】
有利な形態は、従属する特許請求項に記載されている。
【0009】
本発明により形成される位置測定装置は、特に、走査装置が参照マークの一方の側に存在するのか、他方の側に存在するのかを一義的に識別するための確実さが比較的高いという利点を有する。故障時の安全性が向上している。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
実施例により、本発明を、以下で、図面を基にして詳細に説明する。
【0011】
図1は、スケール1を有する長さ測定装置の形の光電子による増分式位置測定装置を示し、このスケールは、走査装置2に対して相対的に測定方向Xに摺動可能である。スケール1には、第1のトラック内に周期的な増分式の測定目盛り3が、また第2のトラック内に参照マーク4並びに領域マーク5及び6が、取り付けられている。スケール1の光電走査をするため、走査装置2は光源7を有し、この光源の光は、コリメータ8によって収束させられ、走査プレート9によってスケール1に整向される。スケール1に入射する光は、測定目盛り3、参照マーク4並びに領域マーク5及び6において、位置に依存して反射され、光検出装置10に命中する。スケール1は、図2において、平面図に図示されており、光検出装置10は図3に図示されている。どのように光が個々の領域4,5及び6において位置に依存して影響を受けるかが、図5,7及び8に図示されている。
【0012】
反射する位相格子3に命中する走査ビーム11は、この走査ビームが種々の部分ビームへと回折させられ、次に、これらの部分ビームが互いに干渉させられ、3つの光検出器111,112,113に命中し、これらの光検出器が、公知の方法で干渉による走査原理によって互いに位相のずれた類似した周期的な測定信号M1,M2,M3を発生させ、これらの測定信号から、公知の方法で、補間法によって高分解能のカウント信号が発生させられることによって、位置に依存して変調される。
【0013】
走査ビーム12は、参照マーク4の領域内で、参照マーク4の反射フィールドから走査プレート9へと転向される。走査プレート9は、反射されたこの光が入射する領域内に走査フィールド13を備え、この走査フィールドは、透明なフィールド13.1及び横方向に偏向するフィールド13.2を有する非周期的な格子から成る(図4)。光は、スケール1への往路でもスケール1からの復路でも、このフィールド13を通過するので、横方向に分裂する。格子パラメータを適当に選択することによって、検出器131に達する光から逆脈動参照マーク信号R1が発生させられる(図6)。他の部分は、横方向の第1の次数で偏向させられ、この次数のうちの1つは、光検出器132により検出され、これと共に、脈動参照マーク信号が発生させられる(図6)。結果として生じる参照マーク信号Rは、逆脈動参照マーク信号R1と脈動参照マーク信号R2を重ね合わせる(R=R2−R1)ことによって発生させられる。参照マーク4を走査するための走査プレート9の形態は図4に、また走査光路は図5に、図示されている。この走査原理は、詳細に欧州特許第0 669 518号明細書内で説明されており、この走査原理の開示を、明確に引き合いに出す。
【0014】
光検出器131,132,133,134に対する上のトラックの走査ビーム12の視準のために、コリメータ8の第1のセグメントが使用され、また光検出器111,112,113に対する下のトラックの走査ビーム11の視準のために、コリメータ8の第2のセグメントが使用される。これらのセグメントは、図1においては、概略的にしか図示されてない。
【0015】
非周期的な位相格子の形の参照マーク4は、測定目盛り3の複数の目盛り周期にわたって延在する。走査フィールド13が、参照マーク4に正確に相対している場合、光検出器131,132は、増分式のカウントパルスに一義的に割り当てられる参照マーク信号を発生させる。このカウントパルスは、補間法によって測定目盛り3の目盛り周期よりも小さい経路部分を一義的に限定する。
【0016】
参照マーク4の左側では、スケール1が一様に反射する。走査装置2が反射するこの領域マーク5に向かい合って位置するように存在する場合、入射する走査ビーム12は、図7における走査光路に従って光検出器131に整向される。
【0017】
参照マーク4の右側には、回折格子6が、領域マークとしてスケール1に配設されている。この回折格子6は、0次の回折次数を十分に抑制し、入射する走査ビーム12を±1次の回折次数に偏向させる位相格子である。回折格子6において反射され、かつ測定方向Xに偏向させられるこれらの回折次数は、コリメータ8によって光検出器133,134に集中させられる。この走査光路は、図8に図示されている。
【0018】
即ち、光は、領域マーク5,6において、スケール位置に依存してその方向を偏向させられる。特に方向偏向のために適しているのは、格子定数及び/又は格子整向のその特性を有する格子である。方向偏向の情報は、レンズ8の焦点面内でコード化される。何故なら、各格子定数及び各格子方向に、レンズ8の焦点面内の一点が割り当てられているからであり、ここには、適当な光要素131,133,134を配置することができる。
【0019】
測定目盛り3、参照マーク4及び領域マーク6は、有利なことに位相格子であり、これは、これらの格子3,4,6が共通の方法ステップで形成することができ、従って、格子3,4,6の互いに正確な割り当てが保証されているという利点を必然的に伴う。この例では、位相格子6が測定目盛り3と同じ格子パラメータを有する。
【0020】
参照マーク4の右側及び左側の光学的に異なった形態によって、走査ビーム12は、一方の方向に反射されて光検出器131に整向されるか、これから逸脱する方向に反射されて光検出器133,134に整向されるかのいずれかが行なわれる。従って、両方の位置では、一義的な領域信号B(図10)が使用可能である。従来技術とは異なり、参照マーク4の両側に、ゼロより大きい領域信号が使用可能であり、従って、例えば汚染による走査光路の中断も識別することができる。
【0021】
本発明による措置により、参照マーク4及び領域マーク5,6を共通のトラック内に、即ち測定方向Xに相前後して配設することが可能であり、従って、領域4,5,6は、共通の光ビーム12によって走査される。光検出器131又は光検出器133,134への転向は、スケール1における領域5及び6の方向選択的な反射機能によって行なわれる。領域5及び6の方向選択的な反射は、他の方法でも、例えば、透過光走査原理の場合に異なるように傾斜させられた反射面又は楔状のガラス面によって、又は縦方向に(X方向に)又は横方向に(Y方向に)偏向させる振幅格子又は位相格子の形の偏向させる種々の格子領域によって行なわれる。
【0022】
図10に図示された領域信号Bを発生させるため、光検出器131の出力信号R1及び光検出器133,134の出力信号B1は、差回路20に供給される。領域信号Bの振幅から、走査装置2が参照マーク4の右側に存在するのか、左側に存在するのかが、一義的に識別可能である。レベルの相互の間隔は比較的大きいことが、明らかである。減算によって、領域信号Bは、十分に照明強さに依存しない。
【0023】
図9には、詳細に、領域信号Bを形成するための特に有利な評価ユニットが図示されている。逆脈動参照マーク信号R1と脈動参照マーク信号R2は、加算装置21において、信号B2=R1+1.45・R2へと異なって重み付けされるように加算される。これにより、参照マーク4の領域内で、更に比較的強く発振する領域信号Bの平滑化が得られる。加算装置21の出力信号B2並びに信号B1は、領域信号B=B2−3・B1を形成するための差回路2に供給される。領域信号Bは、比較装置22に供給され、この比較装置において、領域信号Bは、参照値B0と比較される。領域信号Bが参照値B0よりも大きい場合、これは、走査装置2が参照マーク4の右側に存在することを意味する。領域信号Bが参照値B0よりも小さい場合、これは、走査装置2が参照マーク4の左側に存在することを意味する。
【0024】
導入部で言及した従来技術(特許文献1)の場合、領域マークに加えて、参照マークの左右に、いわゆる制御マークがスケールの端部に取り付けられている。これらの制御マークは、走査装置の極限位置を限定し、終端位置スイッチ又はリミットマークとも呼ばれる。この様式の終端位置スイッチもしくはリミットマークを有する位置測定装置は、独国特許第41 11 873号明細書及び欧州特許第0 145 844号明細書にも記載されている。
【0025】
本発明により形成される領域マークを有する位置測定装置の場合、限界位置スイッチの機能は、領域マーク5,6がリミット領域50,60内で部分的にカバーされることによって、特に有利に実現可能である。このため、図2に図示されているように、ブラインド51,61がスケール1に取り付けられている。これらのブラインド51,61は、スケール1を包囲するバネ板から成る摺動可能なクランプの形で実現されていても良く、又はこれらのブラインドが、スケール1の表面に、蒸着、接着、又はフィルタガラスの形で構成されていても良い。ブラインド51,61は、特に、光検出器133,134;131の出力信号B1;R1に、従ってリミット領域50,60内の領域信号Bのレベルにも、影響を与える。領域信号Bの経過を基にして、スケール1の異なった4つの領域、即ち左のリミット領域50、参照マーク4の左の領域5、参照マーク4の右の領域6、並びに右のリミット領域60を識別することができる。走査ビーム12の異なった偏向がリミット領域50,60内に維持されたままなので、リミット領域50,60内にも、方向情報−参照マーク4の右側もしくは左側−が包含されている。
【0026】
図9には、特に有利な回路装置が図示されており、この回路装置により、図11に図示されているようなリミット信号Lが発生可能である。これにより発生させられるリミット信号Lは、リミット領域50,60と残りの領域との間の比較的高いレベル差を備える。従って、SN比は比較的大きい。
【0027】
リミット信号Lを発生させるため、回路装置は、加算装置21を備え、この加算装置は、逆脈動参照マーク信号R1及び脈動参照マーク信号R2を、信号B2=R1+1.45・R2へと異なって重み付けされるように加算する。加算装置21の出力信号B2並びに信号B1は、信号L1=B2+3・B1を形成するための別の加算装置23に供給される。信号L1は、リミット信号L=L1−Mを形成するための差回路24に供給され、その際、Mは、加算装置25内で加算される測定目盛り3の測定信号M1,M2,M3の合計である。リミット信号Lは、比較装置26に供給され、この比較装置において、リミット信号Lは、参照値B0と比較される。リミット信号Lが参照値B0よりも大きい場合、これは、走査装置2が許容可能な領域内に存在することを意味する。リミット信号Lが参照値B0よりも小さい場合、これは、走査装置2がリミット領域50又は60内に存在することを意味する。走査装置2が、右のリミット領域に存在するのか、左のリミット領域に存在するのかは、領域信号Bを基にして確認される。
【0028】
リミット領域50,60内での領域マーク5,6の光学的な影響によって、光検出器131もしくは133,134への方向選択的な偏向は維持されたままであり、従って、リミット領域50,60を走査するための付加的な光検出器は何ら必要ない。更に、領域マーク5,6及びリミット領域の場所を節約する配設が保証されている。走査信号R1,B1が、第1の結合規則により回路装置内で領域信号Bを形成するため及びこの第1の結合規則から逸脱する第2の結合規則によりリミット信号Lを形成するために組み合わせられ、その際、第1の結合規則が走査信号の減算(R1−B1)を、また第2の結合規則が加算(R1+B1)を包含する場合が有利である。スケール1の汚染もしくは走査光路の中断が生じた場合、リミット信号Lは、参照値B0以下に低下する。エラーの場合、この例では、リミット領域に達した場合と同じ情報が発生させられる。
【0029】
選択的に、リミットマークは、回折次数の強度が変化させられることによっても形成することができ、このため、線と間隙の比の格子パラメータが使用され、位相格子の場合には位相深度が使用される。この選択肢の場合、偏向させられた光の方向、従って領域情報は、同様に維持されたままである。
【0030】
リミットマークは、別の偏向させる領域によっても形成することができ、これらの領域は、領域マーク5,6とは、これらの領域が、入射する光を他の方向に別の光検出器へと転向させるようにして区別される。その際、特に、リミットマークは、領域マーク5,6の格子として他の格子パラメータ(目盛り周期及び/又は格子方向)を有する格子である。1次の回折次数が検出された場合、リミット領域とは異なるレンズの焦点面内の場所が、これにより異なった光要素が使用可能である。
【0031】
図示された例を基にして、スケール2は、反射するように形成されている。図示されてない方法では、スケールは、透明に形成されていても良く、従って、格子3及び6は、透明な回折格子として形成されている。即ち、本発明は、入射光並びに透過光の走査をする場合に実現可能である。
【0032】
異なった光検出器131,133,134は、不連続の個別要素又は要素の配列である。
【0033】
スケールに沿った複数の測定領域を識別するための領域マークは、上で表現した有利な例においては、異なった格子パラメータを有する格子であり、その際、格子パラメータは、ある測定領域から他の測定領域へと飛躍的に変化する。これに対して選択的に、格子パラメータは、多数の測定領域を互いに識別可能に形成するために、連続的に変化しても良い。
【0034】
領域マークの別の応用は、参照マークの両側の周辺フィールドのマークである。従って、参照マークの両側の領域内で、領域信号を発生させることができ、この領域信号は、位置測定の場合には、期待の参照マークを指摘し、従って、場合によっては処理速度を低減することができる。
【0035】
要約すると、本発明は、即ち、スケールとこのスケールに対して相対的に測定方向に可動の走査装置とを有し、
−スケールが、測定目盛りを備え、この測定目盛りを走査することによって周期的な測定信号が発生可能であり、
−スケールが、少なくとも1つの参照マークを備え、この参照マークを走査することによって、参照マーク信号が発生可能であり、
−スケールが、光学的に走査可能な領域マークを備え、この領域マークを走査ビームにより光電走査することによって、領域信号が発生可能であり、この領域信号の特性によって、複数の測定領域が参照マーク以外に識別可能であり、そして、
−領域マークが、光学的に異なるように偏向させる要素であり、これらの要素が、入射する走査ビームを、複数の測定領域内で異なった光検出器に偏向させる、ように構成されている位置測定装置を提供する点にある。
【図面の簡単な説明】
【0036】
【図1】位置測定装置の概略断面図を示す。
【図2】図1による位置測定装置のスケールに対する平面図を示す。
【図3】光検出装置に対する平面図を示す。
【図4】走査プレートに対する平面図を示す。
【図5】参照マークの領域内の走査光路を示す。
【図6】参照マーク信号を示す。
【図7】参照マークの一方の側の走査光路を示す。
【図8】参照マークの他方の側の走査光路を示す。
【図9】回路装置を示す。
【図10】領域信号を示す。
【図11】リミット信号を示す。
【符号の説明】
【0037】
1 スケール
2 走査装置
3 測定目盛り
4 参照マーク
5,6 領域マーク
7 光源
8 コリメータ
9 走査プレート
10 光検出装置
11 走査ビーム
12 走査ビーム
13 走査フィールド
13.1 フィールド
13.2 フィールド
20 差回路
21 加算装置
22 比較装置
23 加算装置
24 差回路
25 加算装置
26 比較装置
50,60 リミット領域
51,61 ブラインド
111〜113 光検出器
131〜134 光検出器
B 領域信号
B0 参照値
B1 信号
B2 信号
L リミット信号
L1 信号
M 合計
M1〜M3 測定信号
R 参照マーク信号
R1 逆脈動参照マーク信号
R2 脈動参照マーク信号
X 測定方向

Claims (11)

  1. スケール(1)とこのスケールに対して相対的に測定方向(X)に可動の走査装置(2)とを有し、
    −スケール(1)が、測定目盛り(3)を備え、この測定目盛り(3)を走査することによって周期的な測定信号(M1,M2,M3)が発生可能であり、
    −スケール(1)が、少なくとも1つの参照マーク(4)を備え、この参照マーク(4)を走査することによって、参照マーク信号(R1,R2)が発生可能であり、
    −スケール(1)が、光学的に走査可能な領域マーク(5,6)を備え、この領域マーク(5,6)を走査ビーム(12)により光電走査することによって、領域信号(B)が発生可能であり、この領域信号の特性によって、複数の測定領域(5,6,50,60)が参照マーク(4)以外に識別可能である、ように構成されている位置測定装置において、
    −領域マークが、光学的に異なるように偏向させる要素(5,6)であり、これらの要素が、入射する走査ビーム(12)を、複数の測定領域(5,6,50,60)内で異なった光検出器(131,133,134)に偏向させることを特徴とする位置測定装置。
  2. 光学的に偏向させる要素が、異なった格子パラメータを有する格子(5,6)であることを特徴とする請求項1に記載の位置測定装置。
  3. 測定目盛り(3)、参照マーク(4)及び領域マーク(5,6)が、位相格子であることを特徴とする請求項2に記載の位置測定装置。
  4. 領域マーク(5,6)及び参照マーク(4)が、共通のトラック内に配設されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の位置測定装置。
  5. 異なった光検出器(131,133,134)が、参照マーク(4)に入射する走査ビーム(12)が同様にこれらの光検出器(131;133,134)の少なくとも1つに整向されているように配設されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の位置測定装置。
  6. 入射する走査ビーム(12)が第1の光検出器(131)に命中するように、領域マーク(5)が参照マーク(4)の第1の側に形成されており、また入射する走査ビーム(12)が少なくとも1つの第2の光検出器(133,134)に命中するように、領域マーク(6)が参照マーク(4)の第2の側に形成されていることによって、走査装置(2)が参照マーク(4)の第1の側に存在するのか、第2の側に存在するのかが、領域信号(B)によって識別可能であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の位置測定装置。
  7. 参照マーク(4)の第1の側の領域マーク(5)が、反射するように又は透明に形成されており、参照マーク(4)の第2の側の領域マーク(6)が、回折格子として形成されていることを特徴とする請求項6に記載の位置測定装置。
  8. スケール(1)が、リミット領域(50,60)を備え、その際、リミット領域(50,60)が、領域マーク(5,6)の光学的な作用を部分的に変化させることによって形成されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の位置測定装置。
  9. リミット領域(50,60)が、領域マーク(5,6)を部分的にカバーすることによって形成されていることを特徴とする請求項8に記載の位置測定装置。
  10. リミット領域(50,60)を形成するために、それぞれ1つのブラインド(51,61)が領域マーク(5,6)に取り付けられていることを特徴とする請求項9に記載の位置測定装置。
  11. 参照マーク(4)を光電走査することによって、少なくとも1つの参照マーク信号(R1,R2)が発生可能であり、領域マーク(5,6)を光電走査することによって、それぞれ第1の光検出器(131)及び少なくとも第2の光検出器(133,134)から、第2の走査信号(B1)が発生可能であり、その際、領域信号(B)を形成するために、これらの信号(R1,B1)が、評価ユニットにおいて第1の結合規則により組み合せられており、またリミット信号(L)を形成するために、第1の結合規則から逸脱する第2の結合規則により組み合わされていることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1つに記載の位置測定装置。
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