JP2004531699A - チューンド加速度計を用いたマイクロマシン加工のシリコンジャイロ - Google Patents

チューンド加速度計を用いたマイクロマシン加工のシリコンジャイロ Download PDF

Info

Publication number
JP2004531699A
JP2004531699A JP2002562944A JP2002562944A JP2004531699A JP 2004531699 A JP2004531699 A JP 2004531699A JP 2002562944 A JP2002562944 A JP 2002562944A JP 2002562944 A JP2002562944 A JP 2002562944A JP 2004531699 A JP2004531699 A JP 2004531699A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pendulum
gyro according
accelerometer
vibrating structure
accelerometer gyro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002562944A
Other languages
English (en)
Inventor
ロバート、 イー. スチュワート、
Original Assignee
リトン システムズ,インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by リトン システムズ,インコーポレーテッド filed Critical リトン システムズ,インコーポレーテッド
Publication of JP2004531699A publication Critical patent/JP2004531699A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Gyroscopes (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

マイクロマシン加工のシリコンチューンド加速度計ジャイロを、シリコンウェハからマイクロマシン加工で形成する。頂上部および底面部を覆うカバーは、ドライバ用、フォーサ用、チューニング用そしてガードリング用の要素を有し、これらの部品は、SOIウェハ上に配列の形でマイクロマシン加工されている。頂上部と底面部との間の中心にある要素(従動・検知要素)は、4インチ幅のシリコンウェハの配列の形でマイクロマシン加工されている。従動・検知構造体は、フレキシャジョイントによって振動構造体に取り付けられたチューンド振子であり、振動構造体の方は、平行四辺形のディザ支持部材によって支えられている。振子は、DC信号の振幅を調節することによって振子の固有周波数を振動構造体の固有振動周波数に一致させる、という形でチューンされる。振動構造体のディザ支持部材フレキシャの形はユニークに規定され、しかも容易に機械加工できるが、さらに、高周波歪みなしで振動構造体をその振動面の範囲内に保持するディザ支持部材を実現する。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は慣性機器に関し、さらに詳しく言えば、移動体の線形加速度および回転速度を計測するマルチセンサとして使用される単軸振動加速度計に関する。
【背景技術】
【0002】
ジャイロスコープおよび加速度計は、角速度および加速度を検知して、移動中の車両の所在地(location)、方向、位置(position)そして速度を求める、という用途で広く知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
小型化と性能向上という2つの要望を同時に満たそうとすれば、加速度計の実際の構造ではほとんど不可能な程度の精度が求められることになる。
【課題を解決するための手段】
【0004】
そこで、本発明が提供するのは、シリコンウェハからマイクロマシン技術で作られた3つの部品から成るチューンド加速度計ジャイロである。検知および駆動素子は、チューンドシリコン振子を有し、当該振子はその頂上部分でフレキシャヒンジによって振動構造体に取り付けられている。一方、その振動構造体は、振動構造体の動きをその運動面に制限する4つのディザ支持フレキシャ(dither suspension flexure)によってフレームに取り付けられている。振子はそのヒンジを基準にして、振動運動面から揺れる。4つのディザ支持フレキシャは、振子をはさむ形で対になって、振子の頂上部そして底面部の近くに配置されている。
【発明の効果】
【0005】
こうした構成により、小型化と性能向上という目的が達成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0006】
本発明の本質、並びに、その目的および効果については、添付図面と関連付けて以下の明細書の内容を考察すれば、容易に明らかになるであろう。なお、当該図面では、全ての図を通じて、同じ参照番号は同じ構成部品を指している。
本発明のシリコン加速度計ジャイロの基礎となっているのは、回転を受ける振動加速度計に加わるコリオリ誘導加速度(Coriolis induced accelerations)の検知および計測であり、これを角回転速度の計測の手段としている。本加速度計は3つの要素で構成される。すなわち、従動・検知要素(図1参照)、ドライバ用、フォーサ用そしてチューニング用の電極を備えた頂上側カバー(図2参照)、そして、ドライバ用、フォーサ用そしてチューニング用の電極を備えた底面側カバー(図2参照)である。
【0007】
従動・検知要素30については、幅4インチ以上、厚み500ミクロン以上のシリコンウェハ上に配列をなす形でマイクロマシン加工するのが好ましい。従動・検知要素は、振子フレキシャヒンジ41によって支えられたチューンド振子またはプルーフマス43で構成され、一方のヒンジ41は、4つのディザ支持フレキシャ39、40、42、44を有する振動駆動構造体32に固定されている。また、従動・ピックオフ要素37が、構造体32上にマイクロマシン加工されている。チューンド振子またはプルーフマス43は、フレキシャヒンジ41を基準にして、図1の描かれた紙の面に対して垂直な方向に曲がる。振子43の周縁は、振動駆動構造体32から切り抜かれた開チャネル35の内側に位置する。
【0008】
振動駆動構造体32は、フレーム31の内側に支持され、図1の描かれた紙の面においてOA軸23に沿って振動する。振動駆動構造体の形は、構造体32とフレーム31との間の切り抜きスペース33によってユニークに規定されて、4つのディザ支持フレキシャ39、40、42、44が形成される。これらのフレキシャは、振動駆動構造体32および振子43に対し、高度な線形ディザ支持(linear dither suspension)を実現する。
【0009】
閉ループの動作においては、フレキシャヒンジ41を基準とした単純回転に関する振子43の固有周波数が、4つのディザ支持フレキシャ39、40、42、44に支えられた振動駆動構造体32と振子43とを併せた全体の固有周波数よりも1%から2%高くなるように設計する。
【0010】
振子43を含む振動構造体32は、駆動させられると、その固有周波数と規定された振幅とで発振するが、そのために静電気力と要素37とを利用する。フォーシングおよびピックオフ要素の設計の詳細は、ディザドライブのために選択された特定の電気回路の設計によって決まる。この種の回路構成および設計については本分野では公知であるため、ここではこれ以上の説明はしない。
【0011】
頂上側そして底面側両方を覆うカバーには、ドライバ用、フォーサ用、およびチューニング用の電極が設置され、これらの部品は、4インチ以上の幅のSOI(silicon on insulator)ウェハ上に、配列の形でマイクロマシン加工されている。SOIウェハは、ハンドルウェハとデバイスウェハとが二酸化シリコンの誘電層をはさむ形で融着接合(fusion bonded)されて成る。
【0012】
ここで、本発明のチューンド加速度計ジャイロの頂上部44を示す図2を参照する。同図が示すように、SOIウェハのうちハンドルウェハ部分に、カバー45が形成されている。また、SIOウェハのデバイス層もマイクロマシン加工されて、ガードリング47、チューニング用およびフォーシング用の電極51、53、そしてドライバおよびピックオフ用の電極49が形成されている。デバイス層47は、ハンドルウェハまたはカバー45から、間にはさまれた二酸化シリコン誘電層(図示せず)によって、誘電的に隔てられている。また、カバー45にはマイクロマシン加工されたスルーホールがあって、二酸化シリコン誘電分離層を貫通しているが、これにより、カバーのデバイス層にある電極(言いかえると、チューニング用およびフォーシング用の電極、そして、ドライバ用およびピックオフ用の電極)に対し、カバー上のコンタクトから金属加工することが可能となる。なお、図2に示す内容は、本発明の加速度計ジャイロの従動・検知要素の頂上側にあるカバーだけでなく、底面側のカバーにもそのまま当てはまることを理解すべきである。
【0013】
二酸化シリコン誘電層はまた、従動・検知要素30のフレーム31(図1参照)の両面にも、パターンを成す形で熱生成される。また、それとは別に、頂上側および底面側のカバーのドライバ、フォーサおよびチューニング要素ウェハについても、二酸化シリコン誘電層が、パターンを有する形でガイドリング47上に熱生成される。
【0014】
二酸化シリコン層(頂上側および底面側カバーのガードリング上にあるもの、そして、従動・検知要素のフレーム上にあるもの)は、振子43とフォーサ用およびチューニング用の電極51、53との間隔、ならびに、3つのウェハが結合された時点でのドライバおよびピックオフ電極49とドライバおよびピックオフ電極との間隔、を規定する。
【0015】
次いで、図3を参照する。同図は、頂上部44、従動・検知要素30、そして底面部55が、本発明による完成形の加速度計ジャイロを作り上げる状態を示している。これら3つの要素は、上でも述べたとおり、直接的なウェハ融着接合を用いて一体に結合される。
【0016】
動作時、シリコンチューンド加速度計ジャイロは、そのドライブ用およびサーボ用のエレクトロニクス(開ループでも閉ループでもよい)と組み合わされる。閉ループでの動作の場合、ドライブ用エレクトロニクスは、振動構造体の位置を検知し、ドライバ電極に信号を入力して、振動構造体が固有周波数と規定された振幅とで振動するよう、これを静電的に制御する。また、サーボ用エレクトロニクスは、振子の位置を検知し、フォーサ用、ピックオフ用そしてチューニング用の電極に信号を入力することで、フレキシャにおける振子の振動周波数を振動構造体に一致させる。チューニング電極にDC信号を提供することで、負の静電スプリング力を振子に導入する。DC信号の振幅は、振子およびフレキシャの固有周波数を振動構造体の固有周波数に一致するまで下げるのに必要な負スプリングの振幅によって決められる。サーボエレクトロニクスの出力は、検知されたコリオリ加速度の振幅に比例したDC信号である。一方、当該コリオリ加速度は、計測された角回転速度に比例する。
【0017】
ここまでに説明したシリコンチューンド加速度計ジャイロの構成は、単軸の非平衡閉ループジャイロに対するものである。また、留意すべき点として、2つのシリコンチューンド加速度計ジャイロチップを、それらの加速度計の撃心(center of percussion)が同一線上に並ぶ形で組み立てることにより、線形および角の振動と音響ノイズとに対する同相信号除去(common mode rejection)が達成される。また、それと並んで、適度の平衡の導入も達成される。
【0018】
2つのシリコンチューンド加速度計ジャイロチップをそれらの撃心が同一線上に並ぶ形で組み立てた構造では、角振動に対する感度がほとんどなくなる。線形振動の同相信号除去は、2つのジャイロの出力をディファレンシング(differencing)することで達成される。さらに、出力のディファレンシングは、ジャイロのスケールファクタが等しくされた場合には線形振動信号をキャンセルし、そして、角速度信号を2倍にする。
【0019】
また、これまでに説明したシリコンチューンド加速度計ジャイロは、開ループで動作させてコストを低減することもできるが、その代わりに性能が低下する。開ループ構造では、振動構造体および振子の固有周波数は、必要とされる帯域よりも大きい桁数(order of magnitude)によって分割(separated)される。これらの周波数の差分は、それぞれの用途において必要とされる帯域と感度との間のトレードオフである。
【0020】
これまでに説明したチューンド加速度計ジャイロは、同等の大きさのチップや小さなチップ(1つのウェハからより多くのチップを取れる)に対しては、より高いSN比を示し、それはすなわち、SN比が同じ場合のチップコストがより低くなるということである。こうした利点は、検知要素(振子)全体が、従来技術のシリコンジャイロのように、角振動検知要素の中央でディザ速度をゼロにまで低減するのでなく、むしろ、そこで最大のディザ速度を有する、という事実による。加えて、ディザ運動の振幅がより大きいことにより、SN比は潜在的に高まる。これは、ディザ支持フレキシャにおけるストレスがより低いことによる。
【0021】
また、本シリコンチューンド加速度計ジャイロが示す、振動構造体のディザドライブ位置および速度に関する高周波歪みはより小さくなる。振動構造体のディザ位置および速度に関する精度の復調および再変調は、いかなるジャイロの場合でも、性能に対して決定的な意味を持つ。高周波歪みの低減は、従来技術のシリコンジャイロのディザドライブに付き物だった固いスプリングを除去したことによる。こうした固いスプリングの特性は、角変位に伴うディザドライブのフレキシャの緊張の結果として生じるものである。本発明のシリコンチューンド加速度計ジャイロの振動構造体を支持するフレキシャは、線形変位によって緊張させられることがない。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本発明による加速度計の従動・検知要素(driven and sensing)を示す頂上平面図である。
【図2】本発明による加速度計に用いられるドライバ用、フォーサ用、そしてチューニング用の電極を有する、頂上側/底面側カバーを示す頂上平面図である。
【図3】本発明のチューンド加速度計が有する3つの要素を組み立て前の状態で示す側面図である。

Claims (18)

  1. ほぼ平らなモノリシック素材から形成された検知要素を有し、角運動および線形加速度を検知する加速度計ジャイロであって、当該加速度計ジャイロの検知要素が、
    フレーム部分と、
    頂上部、底面部そして側面を有する振動構造体であって、前記フレーム部分の内側に配置されて、底面部周辺にある2つのフレキシャと、頂上部周辺にある2つのフレキシャとにより、前記フレーム部分に接続されている、という振動構造体と、
    前記振動構造体の内側に配置され、フレキシャジョイントによって前記振動構造体に接続されている振子と、を有すること
    を特徴とする前記加速度計ジャイロ。
  2. 前記振動構造体は固有の振動周波数を有し、
    振子およびそのフレキシャは、振動構造体の固有振動周波数よりも高い、固有の発振周波数を有するように設計されていること、
    を特徴とする請求項1に記載の加速度計ジャイロ。
  3. 振子の固有発振周波数は、振動構造体の固有振動周波数よりも最大で2%高いこと、
    を特徴とする請求項2に記載の加速度計ジャイロ。
  4. 振動構造体および振子は、最低でも500ミクロンの厚みを有するシリコンウェハからマイクロマシン加工したものであること、
    を特徴とする請求項3に記載の加速度計ジャイロ。
  5. 振動構造体の4つのフレキシャは各々、長軸と短軸とを有し、かつ、サイズおよび形状が同様であり、各フレキシャの長軸は振子の側面に平行に走っていること、
    を特徴とする請求項1に記載の加速度計ジャイロ。
  6. フレーム部分のための頂上部および底面部カバーをさらに有し、当該カバーは、二酸化シリコンの誘電層を間にはさむ形で一体に融着接合されたハンドルウェハとデバイスウェハとを有するSOI(silicon on insulator)ウェハから製造されていること、
    を特徴とする請求項1に記載の加速度計ジャイロ。
  7. 頂上部および底面部カバーは、ドライバ用、フォース用およびチューニング用の電極とデバイスウェハに形成された回路とを有すること、
    を特徴とする請求項6に記載の加速度計ジャイロ。
  8. 二酸化シリコン層を、フレームの両側面に、そして、頂上部および底面部カバーの周囲を囲む形でさらに有し、当該層の厚みを選択することで、頂上部、底面部、そしてフレームがつながれた時点での振子とフォーサ用およびチューニング用電極との間の間隔が規定されること、
    を特徴とする請求項7に記載の加速度計ジャイロ。
  9. 前期振動構造体は固有振動周波数を有しており、
    振子とそのフレキシャとは、振動構造体の固有振動周波数よりも高い、固有の発振周波数を有するように設計されていること、
    を特徴とする請求項8に記載の加速度計ジャイロ。
  10. 振子の固有発振周波数は、振動構造体の固有振動周波数よりも最大で2%高いこと、
    を特徴とする請求項8に記載の加速度計ジャイロ。
  11. 振動構造体および振子は、最低でも500ミクロンの厚みを有するシリコンウェハからマイクロマシン加工されたものであること、
    を特徴とする請求項10に記載の加速度計ジャイロ。
  12. 振子およびそのフレキシャの固有周波数を振動構造体の固有振動周波数にまで下げるために、予め定められた振幅のDC信号を提供する信号発生器をさらに有すること、
    を特徴とする請求項2に記載の加速度計ジャイロ。
  13. 振子の固有発振周波数は、振動構造体の固有振動周波数よりも最大で2%高いこと、
    を特徴とする請求項12に記載の加速度計ジャイロ。
  14. 振動構造体および振子は、最低でも500ミクロンの厚みを有するシリコンウェハからマイクロマシン加工されたものであること、
    を特徴とする請求項13に記載の加速度計ジャイロ。
  15. 振動構造体の4つのフレキシャは各々、長軸と短軸とを有し、かつ、サイズおよび形状が同様であり、各フレキシャの長軸は振子の側面に平行に走っていること、
    を特徴とする請求項14に記載の加速度計ジャイロ。
  16. フレーム部分のための頂上部および底面部カバーをさらに有し、当該カバーは、二酸化シリコンの誘電層を間にはさむ形で融着接合されたハンドルウェハとデバイスウェハとを有するSOIウェハから製造されていること、
    を特徴とする請求項15に記載の加速度計ジャイロ。
  17. 頂上部および底面部カバーは、ドライバ用、フォース用およびチューニング用の電極、そして、デバイスウェハに形成された回路、を有すること、
    を特徴とする請求項16に記載の加速度計ジャイロ。
  18. 二酸化シリコン層を、フレームの両側面に、そして、頂上部および底面部カバーの周囲を囲む形でさらに有し、当該層の厚みを選択することで、頂上部、底面部、そしてフレームがつながれた時点での振子とフォーサ用およびチューニング用電極との間の間隔が規定されること、
    を特徴とする請求項17に記載の加速度計ジャイロ。
JP2002562944A 2001-02-07 2001-10-11 チューンド加速度計を用いたマイクロマシン加工のシリコンジャイロ Pending JP2004531699A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/778,434 US6595056B2 (en) 2001-02-07 2001-02-07 Micromachined silicon gyro using tuned accelerometer
PCT/US2001/042695 WO2002063242A1 (en) 2001-02-07 2001-10-11 Micromachined silicon gyro using tuned accelerometer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004531699A true JP2004531699A (ja) 2004-10-14

Family

ID=25113335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002562944A Pending JP2004531699A (ja) 2001-02-07 2001-10-11 チューンド加速度計を用いたマイクロマシン加工のシリコンジャイロ

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6595056B2 (ja)
EP (1) EP1358445A1 (ja)
JP (1) JP2004531699A (ja)
KR (1) KR20030090634A (ja)
CN (1) CN1318821C (ja)
CA (1) CA2435817A1 (ja)
WO (1) WO2002063242A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7666699B2 (en) 2006-05-01 2010-02-23 Tanita Corporation Semiconductor strain gauge and the manufacturing method

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6854315B2 (en) * 2002-04-22 2005-02-15 Northrop Grumman Corporation Quadrature compensation technique for vibrating gyroscopes
US7152836B2 (en) * 2003-01-09 2006-12-26 Csav, Inc. Adjustable tilt mount
US6868725B2 (en) * 2003-04-23 2005-03-22 Northrop Grumman Corporation Hinge position location that causes pendulous axis to be substantially parallel with drive component direction
US7219548B2 (en) * 2003-04-23 2007-05-22 Northrop Grumman Corporation Pickoff sensor obtaining of value of parameter from substantially zero net dampening torque location of pendulous sensor component
US6904805B2 (en) * 2003-06-03 2005-06-14 Cherry Corporation Accelerometer
US7640803B1 (en) 2004-05-26 2010-01-05 Siimpel Corporation Micro-electromechanical system inertial sensor
US7337671B2 (en) 2005-06-03 2008-03-04 Georgia Tech Research Corp. Capacitive microaccelerometers and fabrication methods
US7578189B1 (en) * 2006-05-10 2009-08-25 Qualtre, Inc. Three-axis accelerometers
US8109145B2 (en) * 2007-07-31 2012-02-07 Northrop Grumman Guidance And Electronics Company, Inc. Micro hemispheric resonator gyro
DE102009001856A1 (de) * 2009-03-25 2010-09-30 Robert Bosch Gmbh Vorrichtung zum resonanten Antreiben eines mikromechanischen Systems
CN101634556B (zh) * 2009-08-26 2011-07-13 北京航天控制仪器研究所 一种小型整体式挠性接头及微型大速率动调陀螺仪
TWI461692B (zh) * 2011-12-01 2014-11-21 Nat Univ Tsing Hua 具有應力隔絕結構之慣性感測器
RU2490592C1 (ru) * 2012-02-27 2013-08-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Нижегородский государственный технический университет им. Р.Е. Алексеева (НГТУ) Микрогироскоп профессора вавилова
GB201204355D0 (en) * 2012-03-13 2012-04-25 Atlantic Inertial Systems Ltd Vibratory ring structure
US20140013845A1 (en) * 2012-07-13 2014-01-16 Robert E. Stewart Class ii coriolis vibratory rocking mode gyroscope with central fixed post
US9383384B2 (en) * 2013-05-31 2016-07-05 Honeywell International Inc. Extended-range closed-loop accelerometer
CN107063223B (zh) * 2017-04-17 2019-04-30 东南大学 单片式谐振加速度计陀螺仪结构

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4336718A (en) 1980-09-08 1982-06-29 Lear Siegler, Inc. Control circuit for accelerometer
CH642461A5 (fr) 1981-07-02 1984-04-13 Centre Electron Horloger Accelerometre.
US4553436A (en) 1982-11-09 1985-11-19 Texas Instruments Incorporated Silicon accelerometer
FR2541775B1 (fr) 1983-02-28 1985-10-04 Onera (Off Nat Aerospatiale) Accelerometres a suspension electrostatique
US4592233A (en) 1983-09-02 1986-06-03 Sundstrand Data Control, Inc. Angular base sensor utilizing parallel vibrating accelerometers
US4510802A (en) 1983-09-02 1985-04-16 Sundstrand Data Control, Inc. Angular rate sensor utilizing two vibrating accelerometers secured to a parallelogram linkage
US4512192A (en) 1983-09-02 1985-04-23 Sundstrand Data Control, Inc. Two axis angular rate and specific force sensor utilizing vibrating accelerometers
GB2146697B (en) 1983-09-17 1986-11-05 Stc Plc Flexible hinge device
US4584885A (en) 1984-01-20 1986-04-29 Harry E. Aine Capacitive detector for transducers
US4699006A (en) 1984-03-19 1987-10-13 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Vibratory digital integrating accelerometer
US4679434A (en) 1985-07-25 1987-07-14 Litton Systems, Inc. Integrated force balanced accelerometer
US4744248A (en) 1985-07-25 1988-05-17 Litton Systems, Inc. Vibrating accelerometer-multisensor
JPS6293668A (ja) 1985-10-21 1987-04-30 Hitachi Ltd 角速度・加速度検出器
US4795258A (en) 1987-04-06 1989-01-03 Litton Systems, Inc. Nonplanar three-axis ring laser gyro with shared mirror faces
US4841773A (en) 1987-05-01 1989-06-27 Litton Systems, Inc. Miniature inertial measurement unit
US4766768A (en) 1987-10-22 1988-08-30 Sundstrand Data Control, Inc. Accelerometer with isolator for common mode inputs
US5016072A (en) 1988-01-13 1991-05-14 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Semiconductor chip gyroscopic transducer
US4945765A (en) 1988-08-31 1990-08-07 Kearfott Guidance & Navigation Corp. Silicon micromachined accelerometer
US5007289A (en) 1988-09-30 1991-04-16 Litton Systems, Inc. Three axis inertial measurement unit with counterbalanced, low inertia mechanical oscillator
US5025346A (en) 1989-02-17 1991-06-18 Regents Of The University Of California Laterally driven resonant microstructures
US4996877A (en) 1989-02-24 1991-03-05 Litton Systems, Inc. Three axis inertial measurement unit with counterbalanced mechanical oscillator
US5008774A (en) 1989-02-28 1991-04-16 United Technologies Corporation Capacitive accelerometer with mid-plane proof mass
US5006487A (en) 1989-07-27 1991-04-09 Honeywell Inc. Method of making an electrostatic silicon accelerometer
US5065627A (en) 1990-03-20 1991-11-19 Litton Systems, Inc. Three axis inertial measurement unit with counterbalanced, low inertia mechanical oscillator
US5205171A (en) 1991-01-11 1993-04-27 Northrop Corporation Miniature silicon accelerometer and method
US5241861A (en) 1991-02-08 1993-09-07 Sundstrand Corporation Micromachined rate and acceleration sensor
WO1994017363A1 (en) * 1993-01-29 1994-08-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. Angular velocity sensor
US5987986A (en) 1994-07-29 1999-11-23 Litton Systems, Inc. Navigation grade micromachined rotation sensor system
US5962788A (en) * 1994-08-18 1999-10-05 Btg International Limited Transducer
US5996411A (en) * 1996-11-25 1999-12-07 Alliedsignal Inc. Vibrating beam accelerometer and method for manufacturing the same
US5932803A (en) 1997-08-01 1999-08-03 Litton Systems, Inc. Counterbalanced triaxial multisensor with resonant accelerometers
US6105427A (en) 1998-07-31 2000-08-22 Litton Systems, Inc. Micro-mechanical semiconductor accelerometer
US6338274B1 (en) * 1999-05-21 2002-01-15 Milli Sensor Systems & Actuators, Inc. Tuned flexure accelerometer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7666699B2 (en) 2006-05-01 2010-02-23 Tanita Corporation Semiconductor strain gauge and the manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
CN1318821C (zh) 2007-05-30
US20020104378A1 (en) 2002-08-08
WO2002063242A1 (en) 2002-08-15
CA2435817A1 (en) 2002-08-15
US6595056B2 (en) 2003-07-22
KR20030090634A (ko) 2003-11-28
CN1488066A (zh) 2004-04-07
EP1358445A1 (en) 2003-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5392650A (en) Micromachined accelerometer gyroscope
JP4047377B2 (ja) 振動式ジャイロのマイクロマシンの振動子
JP2004531699A (ja) チューンド加速度計を用いたマイクロマシン加工のシリコンジャイロ
US7093486B2 (en) Isolated resonator gyroscope with a drive and sense plate
US8176779B2 (en) Vibrating micro-mechanical sensor of angular velocity
JP3834397B2 (ja) レートセンサ
US7243542B2 (en) Closed loop analog gyro rate sensor
KR101105059B1 (ko) 수직으로 집적화된 일렉트로닉스 및 웨이퍼 스케일 밀봉패키징을 갖는 x―y축 듀얼 매스 튜닝 포크자이로스코프를 제조 방법
JP5021312B2 (ja) 角速度センサ及びその製造方法
US7461552B2 (en) Dual axis rate sensor
US5987986A (en) Navigation grade micromachined rotation sensor system
JP3839720B2 (ja) 角速度センサデバイスに関する改良
JP4719751B2 (ja) 角速度のための振動マイクロ−メカニカルセンサー
WO2001001153A1 (en) Z-axis vibratory gyroscope
JP2000074673A (ja) 複合運動センサ
JPS60135815A (ja) マルチセンサ
KR100442823B1 (ko) 마이크로자이로스코프
KR100319920B1 (ko) 비대칭 내부 비틀림 짐벌을 가진 측면 구동 방식의 짐벌형 자이로스코프
JPH0989569A (ja) 振動ジャイロ
JPH07301536A (ja) 角速度センサ
JPH04118515A (ja) 角速度検出器および加速度検出器
JPH09325033A (ja) 角速度センサ
JPH08327369A (ja) 角速度センサ
JPH08271266A (ja) 角速度センサの電極構造
JPH0587574A (ja) 振動ジヤイロ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040903

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061023

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061031

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071002

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080304