JP2004530369A - アンテナアレイを制御する方法および装置 - Google Patents

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Abstract

MEMSスイッチを光学的に制御することによってアンテナアレイを再構成する方法および装置。MEMSスイッチへの作動バイアス電圧の供給を制御する光感応性の個々の素子に光を向ける光源が設けられている。光源は、制御照明を導くが、小さな移相でアンテナ動作周波数範囲にわたって電磁放射を反射する高インピーダンスの電磁反射面を形成し、かつアンテナアレイの非常に近くに配置された構造によって、アンテナアレイから分離されることが好ましい。光感応性の素子は、MEMSスイッチが形成された基板に形成されるのが最適である光抵抗素子を含むことが好ましく、光起電力素子を含んでいてもよい。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、遠隔的に再構成可能なアンテナに関し、特に、機械的スイッチを光学的に制御することによるアンテナの再構成に関する。具体的には、本発明では、再構成可能な広帯域反射アンテナ用の光学的に制御される無線周波数(RF)微小電気機械システム(MEMS)スイッチアレイについて説明する。
【背景技術】
【0002】
本発明は、T.Y.Hsu、R.Loo、G.Tangonan、およびJ.F.Lanによって発明され、1999年10月28日に出願され米国特許出願第09/429234号を有し、本願に引用して援用される、同一出願人による同時係属米国出願「Optically Controlled MEM Switches」に関連する。
【0003】
再構成可能なアンテナシステムは、帯域幅が重要であり、アンテナ開口を様々な機能について連続的に再構成しなければならない衛星および空中通信ノード(ACN)システムに適用されている。このようなアンテナシステムは、個々に再構成可能なアンテナ素子のアレイを備えている。各アンテナ素子は、ダイポール素子の有効長を変えることなどによって、アンテナ素子の無線周波数を修正するように個々に再構成することができる。個々の素子の無線周波数を変えることによって、アンテナは様々な周波数で動作することができ、かつその指向性を制御することができる。
【0004】
ダイポールアンテナの共振長を変える1つの手段は、アンテナをその供給点の各側で長さ方向にセグメント化することである。次いで、互いに隣接するダイポールセグメントの連続する対を接続するかまたは切り離すことによってアンテナの共振長を変えることができる。互いに隣接するダイポールセグメントの対の接続は、各セグメントをスイッチに結合することによって行うことができる。次いで、スイッチを閉じることによって、互いに隣接するセグメントが連結される。
【0005】
光伝導スイッチをアンテナアレイ内のアンテナ素子の一体部分として組み込んだ、再構成可能なアンテナの従来の構成が提案されている。「Optoelectronically Reconfigurable Monopole Antenna」、J.L.Freeman、B.J.Lamberty、およびG.S.Andrews、Electronics Letters、第28巻、第16号、1992年7月30日、1502〜1503頁を参照されたい。さらに、再構成可能なアンテナにおける光起電力によって作動するスイッチの使用可能性が追及されている。C.K.Sun、R.Nguyen、C.T.Chang、およびD.J.Albares「Photovoltaic−FET For Optoelectronic RF/Microwave Switching」IEEE Trans.On Microwave Theory Tech.、第44巻、第10号、1996年10月、1747〜1750頁を参照されたい。しかし、このような構造に関する問題は、このような種類のスイッチを用いた超帯域システム(すなわち、約0〜40GHzの動作周波数範囲を有するシステム)の性能が挿入損失および電気絶縁に関して悪影響を受けることである。
【0006】
RF MEMS(微小電気機械)スイッチは、0〜40GHz周波数範囲にわたって動作することが証明されている。この種のスイッチの代表的な例は、Yaoの米国特許第5578976号、Larsonの米国特許第5121089号、およびLoo等の米国特許第6046659号に開示されている。RF MEMSスイッチを用いた再構成可能なアンテナの従来の構成は、作動電圧を基板の縁部からRF MEMSスイッチバイアスパッドに印加する金属供給構造を組み込んでいた。作動電圧をスイッチに印加する金属供給構造を用いることに伴う問題は、アンテナアレイにおいて、スイッチの数が数千個に及ぶことがあり、各スイッチすべてにわたってルーティングされたバイアス線の複雑な回路網が必要になることである。このようなバイアス線は、アンテナ放射電磁界に結合され、アンテナアレイの放射パターンを劣化させる可能性がある。バイアス線が金属接地平面の後方に隠れているときでも、アンテナアレイ内の各素子が数十個のスイッチを収容しているため、導体を介した供給線と基板のフィードスルーを非常に慎重に構成しないかぎり、放射パターンおよび帯域幅の劣化が起こる恐れがある。この問題は、再構成可能な素子の数が増えるにつれて非常に深刻化する。
【0007】
導電接地平面は一般に、電磁波が反射するときに180°の移相を引き起こす。実際的には、導電接地平面を少なくとも1波長の4分の1だけアンテナ素子から分離して、アンテナ素子で直接受信された電磁波と接地平面からの反射を介して受信された波との、アンテナ素子における破壊的な干渉を回避すべきである。したがって、各スイッチが導電接地平面よりも上に配置されている場合、スイッチ用のバイアス線は接地平面から上方に少なくとも1波長の4分の1だけ延びる。接地平面から上方にこの長さだけ延びるバイアス線は、上述の放射パターンおよび帯域幅の劣化を引き起こす可能性がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
したがって、制御線からの干渉を抑制する一方、アレイ内の選択可能なRF MEMSスイッチを制御してアンテナ素子を制御する手段が求められている。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、アンテナ素子を修正するMEMスイッチのアレイを光学的に制御する機構を提供することによって上記の問題を解決する。
【0010】
MEMスイッチは、アンテナ構造の互いに隣接する素子同士を選択的に接続するようにアンテナ基板上に取り付けられている。各スイッチは、好ましくはアクティブLEDマトリックスまたはLCDマトリックスによって光学的に制御される。制御は、光学制御回路を遮蔽し、好ましくはアンテナを助ける反射面を形成する、アンテナアレイに隣接する構造によって行われることが好ましい。この低電力電圧制御MEMスイッチには、反射面が使用される場合には反射面を通した直接接続によって作動バイアス電圧が供給され、または照明される一連の光(PV)電池によって供給される。各MEMスイッチの光学的制御は、バイアス源を分流してスイッチを停止させる光抵抗素子によって行われることが好ましい。
【0011】
反射面は、好ましくはアンテナ動作周波数範囲の電磁波に対して高いインピーダンスを示し、したがって、ほとんどまたはまったく移相なしに(90°未満、好ましくは0°に近い)電磁波を反射する。これによってアレイ・レフレクタ間隔距離が短くなり、この間隔によって課される帯域幅制約が軽減される。本発明の好ましい実施態様は、各導電パッドが、隣接するパッドに対する調節されるキャパシタンスを有し、かつビアの中心から基板の反対側の共通の平面まで接続する調節されるインダクタンスを含むビアを有する、導電パッドのマトリックスとして多層プリント基板上に作られた高インピーダンス反射面を含んでいる。反射面を貫通するインダクタンス調節ビアまたはその他のビアは、アクティブマトリックス光学パネルから光電素子まで光を透過させてMEMスイッチを制御することができ、また、スイッチ用のバイアス電圧を導くことができる。アンテナアレイ素子は、回路基板の高インピーダンス面の前面より上方に、かつ高インピーダンス反射面の前面から4分の1波長よりずっと短い距離で配置された基板上に配置することが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
アンテナ素子よりも下に位置する導電反射面を備える接地平面は、たいていの無線周波数アンテナに共通する特徴である。接地平面は、放射の大部分を、アンテナ素子が位置する一半球に向ける有用な機能を実行するのに用いることができる。上述のように、接地平面は、アンテナ性能を劣化させないように、アンテナ制御機能をアンテナ素子自体から電気的に絶縁するのに用いることもできる。本発明の反射面は導電性であるが、そのため、反射面とアンテナアレイとの間の間隔に、波長に依存する制限的な制約が課される。導電反射面ではなく、非導電反射面を使用することが好ましい。
【0013】
当技術分野では、移相が零に近い電磁波を反射し、本発明の好ましい実施形態に関連する反射面が知られている。特に、このような「高インピーダンス」面は、YablonovitchおよびSievenpiperによる国際特許出願PCT/US99/06884号の公開WO9950929号に記載されているようにプリント回路基板上に形成することができる。YablonovitchおよびSievenpiperは、各素子が、隣接する素子に容量結合され、かつ共通に誘導結合された共振回路を備え、各素子が露出された表面を有する、個別の導電素子のアレイを開示している。各導電素子は、アンテナ素子を、反射面の、1波長の4分の1よりもずっと小さい領域内に配置するのを可能にする反射面として集合的に働く。反射面とアンテナ素子との間の距離が短くなるため、各アンテナ素子を接続するかまたは切り離すのに用いられるアンテナ素子またはスイッチ素子に対して行わなければならない接続の長さが短くなる。
【0014】
高周波数の場合、電磁波の波長は短く、たとえば、30GHzでは波長は約1cmである。上述のように、この周波数で動作するアンテナ素子用の導電反射面は、各素子よりも1波長の4分の1、すなわち2.5mmだけ下に配置すべきである。この間隔は、結果として得られるアンテナアレイの全体的な高さを高くし、また、アンテナ制御線が1波長の4分の1程度の長さを有するため、アンテナ制御線がアンテナの性能に干渉する可能性を高くする。30GHzで高インピーダンス面を用いた場合、アンテナ素子から高インピーダンス反射面までの間隔は好ましくは2.5mmよりもかなり小さく、理想的には250μm以下である。基本的に、アンテナ素子は反射面上に位置し、したがって、反射面よりも上に位置する制御線の長さはほぼ無視することができる。
【0015】
図1は、本発明の実施形態による再構成可能なアンテナアレイ100を示している。再構成可能なアンテナアレイ100は、アンテナ基板110の表面上に形成された複数の再構成可能なダイポールアンテナ素子200と、アンテナ基板110よりも下に配置された光透過構造層120と、光源層130とを備えている。光透過構造層120は、高インピーダンスの電磁的な反射構造を備えることが好ましい。高インピーダンスの電磁的な反射構造は、WO9950929号に開示されており上記で簡単に論じた種類の構造であってもよい。
【0016】
アンテナ素子200の再構成は、各素子200の個々のセグメントを結合する、アンテナ基板110上のRF MEMSスイッチ(図1には示さず)によって行われる。アンテナ素子200およびRF MEMSスイッチは、アンテナ素子200を光透過構造層120に密に位置させるのを可能にし、各スイッチを光源層130内の光源から与えられる光エネルギーによって照明するのを可能にするように、アンテナ基板110の下側に形成されている。図1には2つの代表的なアンテナ素子200しか示されていないが、特定の用途で実際に用いられる素子の数がその用途の特定の要件に依存することが理解されよう。多くの用途は、数百個、場合によっては数千個のアンテナ素子を有する大きなアンテナアレイを必要とする。さらに、スロットアンテナ素子やパッチアンテナのアレイのような、ダイポール素子以外のアンテナ素子を備えるアンテナ構成が、本発明の他の実施形態によって提供される。
【0017】
図2は、アンテナアレイ100の代表的な再構成可能なダイポールアンテナ素子200を詳しく示している。アンテナ素子200は、ツインアンテナ供給構造205と、基板110(図2には示さず)上に形成され供給構造205の各側に延びている一連の互いに隣接する金属ストリップセグメント240を備える放射構造と、互いに隣接する金属ストリップセグメント240の連続する各対を電気的に接続するRF MEMSスイッチ300とを備えている。隙間218によって、互いに隣接する各金属ストリップセグメント420が分離されている。互いに隣接する金属ストリップセグメント420間の隙間218は、以下に説明するようにRF MEMSスイッチ300によって電気的に橋絡されている。
【0018】
図3は、本発明に組み込むことのできるRF MEMSスイッチの一形態を示している。適用可能なRF MEMSスイッチの実施形態は、引用によって本明細書に組み込まれる係属米国特許出願第09/429234号に詳しく記載されている。全般的に300で指定されたRF MEMSスイッチは、マスキング、エッチング、蒸着、リフトオフのような一般に知られている微細製造技術を用いて製造される。好ましい実施形態では、RF MEMSスイッチ300は、アンテナ基板110上に直接形成され、金属セグメント240とモノリシックに一体化される。あるいは、各RF MEMSスイッチ300を離散的に形成し、次いでアンテナ基板110に結合することができる。図2を再び参照すると、1つのRF MEMSスイッチ300は、基板110上に形成された互いに隣接する金属セグメント240の各対間の隙間218の近くに位置している。
【0019】
図3に示されているように、スイッチ300は基板静電プレート320および作動部326を備えている。(通常グラウンドに接続される)基板静電プレート320はMEMS基板310上に形成されている。基板静電プレート320は一般に、MEMS基板310上に蒸着された、たとえば金のような容易に酸化されない金属のパッチを備えている。スイッチ300を作動させると、以下に説明するように、隣接する金属セグメント240が電気的に切り離されたり接続されたりして隙間218を開閉する。MEMS基板310は、光伝導特性を有する半絶縁材料を含むことが好ましい。
【0020】
スイッチ300の作動部326は、MEMS基板310に取り付けられたカンチレバーアンカー328と、カンチレバーアンカー328から延びているアクチュエータアーム330とを備えている。アクチュエータアーム330は、一端がカンチレバーアンカー328に取り付けられ、基板静電プレート320の上方および電気接点340、341の上方を延びている懸垂されたマイクロビームを形成している。カンチレバーアーム328は、たとえば蒸着や周囲の材料のエッチングによってMEMS基板310上に直接形成することができる。あるいは、カンチレバーアーム328をアクチュエータアーム330と共に、離散した構成要素として形成し、次いでMEMS基板310に取り付けることができる。アクチュエータアーム330は、二層カンチレバー(またはバイモルフ)構造を有してよい。バイモルフ構造は、その機械的特性のために、変位と作動電圧との比が非常に高い。すなわち、バイモルフカンチレバーでは、比較的低い切換え電圧(約20V)に応答して比較的大きな変位(約300マイクロメートル)を引き起こすことができる。
【0021】
アクチュエータアーム構造の第1の層336は、多結晶シリコンなどの半絶縁材料または絶縁材料を含んでいる。アクチュエータアームの第2の層332は、第1の層336上に蒸着された金属膜(通常アルミニウムまたは金)を備えている。第2の層332は通常、スイッチの動作中に静電プレートとして働く。説明の残りの部分では、「第1の層」および「静電プレート」という語を相互交換可能に使用する。図3に示されているように、第2の層は、カンチレバーアンカー328に結合され、カンチレバーアンカー328からアクチュエータアーム330上の、電気接点334が形成された位置の方へ延びている。MEMS基板310からのカンチレバーアーム328の高さは、既知の製造方法を用いて厳密に調節することができるので、第2の層332をカンチレバーアンカー328の近くに位置させると、それに対応して、MEMS基板310より上方の第2の層332の高さを厳密に調節することができる。
【0022】
スイッチ作動電圧は、基板静電プレート320とアーム静電プレート332との間の距離に依存し、したがって、所望の作動電圧を繰り返し実現するには静電プレート同士の間の間隔を厳密に調節する必要がある。さらに、第2の層332の少なくとも、アーム静電プレートを備える部分と、アクチュエータアーム330の対応する、第2の層332が形成された部分とは、静電作動可能な構造を形成するように基板静電プレート320よりも上に位置している。電気接点334は、たとえば金や白金や金パラジウムのような容易に酸化しない金属を含み、アクチュエータアーム330上に形成され、かつ電気接点334は、MEMS基板310上に配置された電気接点340、341と向かい合うようにアーム上に位置している。電気接点340、341は、隣接する金属セグメント240が、スイッチ300が閉じられたときには電気的に接続され、スイッチ300が開かれたときには電気的に絶縁されるように、隣接する金属セグメント240に電気的に結合されている。
【0023】
図4は、図3に示されているRF MEMSスイッチの平面図であり、スイッチの動作も概略的に示している。電圧源VappはRF MEMSスイッチ300に結合されている。電圧源Vappは、基板プレート接点321およびアームプレート接点333に結合されている。アームプレート接点333は、抵抗値Rseを有する基板上に配置された抵抗経路360を通して静電アームプレート332に接続されている。抵抗経路360は、6ミクロンの線幅を有するスパッタリングされたCrSiOを含んでよく、電流をアームプレート接点333から好ましくは約1メグオームの適切な抵抗を通して静電アームプレート332まで導く。基板プレート接点321は基板静電プレート20に電気的に接続されている。スイッチ接点321、333の両端間に電圧Vappが印加され、それに対応して基板静電プレート320およびアーム静電プレート332の両端間に電圧Vappが印加されると、RF MEMSスイッチ300は、MEMS基板310上に位置する基板静電プレート320とアクチュエータアーム330上に位置するアーム静電プレート332との間のこの静電引力によって閉じられる。
【0024】
スイッチ300が開状態になると、ダイポールアンテナ素子200を構成する互いに隣接する金属セグメント240は互いに電気的に絶縁される。静電プレート320および332の両端間に電圧Vappが印加されると、アーム静電プレート332が静電気によって基板静電プレート320の方へ引かれ、アクチュエータアーム330をMEMS基板310の方へ変位させる。アクチュエータアーム330が図3の矢印311に示されている方向に基板静電プレート320の方へ変位すると、電気接点334が電気接点340、341に接触し、それによって金属セグメント240同士の間の隙間218が電気的に橋絡される。RF MEMSスイッチ300を閉じるのに必要な電圧は、静電プレート320、332のサイズおよびアーム330を製造するのに用いられる材料に応じて7Vほどの低い電圧であっても、それよりも低い電圧であってもよい。
【0025】
基板静電プレート320およびアーム静電プレート332はアンテナ素子200を構成する金属セグメント240から絶縁され、静電プレート320、332は、スイッチ300が閉じられたときにのみ電気的に絶縁される。したがって、プレート320、332間に電圧差を印加したときにのみスイッチ300が作動し、定常バイアス電流がなくてもスイッチ300は動作することができる。さらに、印加電圧から定常DC電流が流れることがない(静電プレートの両端間に電界を蓄積する遷移電流のみ)ので、低電流電圧源は必要とされない。
【0026】
次に、ダイポールアンテナ素子200を再構成するためにRF MEMSスイッチ300を開くことについて説明する。RF MEMSスイッチ300に作動電圧Vappが印加されると、基板静電プレート320およびアーム静電プレート332の両端間に現れる電圧VSAは、以下の関係によって与えられる。
【0027】
SA=Vappst/Rst+Rse
上式で、RStは、基板静電プレート320とアーム静電プレート332との間の半絶縁基板110の抵抗(図4に示されている抵抗器370として表される)であり、Rseは、抵抗経路360である。RF MEMSスイッチ300が照明されていないとき、Rstは直列抵抗Rseよりもずっと大きく、したがって、印加電圧Vappによって生成される電圧のほぼ全体がRF MEMSスイッチ静電プレート320、332の両端間に現れる。
【0028】
しかし、半絶縁基板は、ヒ化ガリウムや多結晶シリコンなどの基板を含み、光伝導性を有している。したがって、光エネルギーhが、半絶縁MEMS基板310の、RF MEMSスイッチ基板静電プレート320をRF MEMSスイッチアーム静電プレート332から絶縁する部分を照明すると、光エネルギーhがMEMS基板310に伝達され、基板の構成原子の外側価電子のある割合がその原子結合から解放され、したがって、自由キャリアを形成する。このような自由電子は、電流を保持することができる。したがって、RF MEMSスイッチ300が照明されると、光伝導プロセスによってRstが小さくなり、Rseよりもずっと小さくなる。したがって、各静電プレートの両端間の電圧降下はRF MEMSスイッチ300を閉じるのに必要なレベルよりも低くなり、スイッチ300が開き、互いに隣接する金属セグメント240同士の間の接続を妨害し、ダイポールアンテナ素子200の共振長を変える。
【0029】
図5は、3つの金属セグメント240を電気的に結合するように配置された2つのRF MEMSスイッチ300の下から見た図である。各スイッチ300は、上記で説明したように、セグメント240同士の間の隙間を電気的に橋絡する。図5では、電気接点340、341は、金属接点245によって金属セグメント240に電気的に接続されるように示されている。金属接点245は、はんだ接続、蒸着された金属、または当技術分野で知られている他の伝記的接続手段を含んでよい。微小製造技術を用いてRF MEMSスイッチ300の電気接点340、341と金属セグメント240を一体的に製造し、したがって、RF MEMSスイッチ電気接点340、341と金属セグメント240との間の個別の電気接点245を不要にすることができることに留意されたい。図5は、RF MEMSスイッチ300を作動させるバイアス電圧を供給するのに用いられるバイアス線580、590も示している。図5では、バイアス線580、590は、図を明確にするためにのみ、RF MEMSスイッチ300の側面に配置されるように示されている。バイアス線580、580は、RF MEMSスイッチ300との接続を短くするようにRF MEMSスイッチ300の真下に配置することが好ましい。後述のように、バイアス線580、590の大部分は、バイアス線580、590とアンテナ素子200との間のRF結合効果を最低限に抑えるように遮蔽接地プレートよりも下に配置することが好ましい。図5は、RF MEMSスイッチ300に一対のバイアス線を示しており、この場合、単一の電圧源を用いてアレイ内のすべてのRF MEMSスイッチ300を作動させることができる。本発明の他の実施形態はそれぞれ、アンテナアレイ内の各RF MEMSスイッチ300に接続された個々に制御可能なバイアス線を有してよい。
【0030】
図6は、本発明の好ましい実施形態の様々な層の断面図である。図6は、アンテナ基板110の底面側に配置された金属セグメント240およびRF MEMSスイッチ300を示している。アンテナ基板110は、電磁エネルギーと金属セグメント240との結合に与える影響が最低限である材料を含むことが好ましい。アンテナ基板110は、半絶縁材料または誘電材料を含んでよく、通常プリント回路基板(PCB)を構成するのに用いられる材料で製造することができる。あるいは、RF MEMSスイッチ300は、アンテナ基板110とMEMS基板310が同じ材料を含むように、前述のようにアンテナ基板110と一体化することができる。
【0031】
アンテナ基板110よりも下に光透過構造層120が位置している。光透過構造層120が高インピーダンスの電磁的な反射面を備えている場合、光透過構造層120は反射時の電磁波の移相を最低限に抑え、それによって、金属セグメント240と高インピーダンス表面層120との間の、距離Dを有する隙間を最小限に抑えることができる。上述のように、高インピーダンス電磁反射面は、隙間距離Dをアンテナの最低動作周波数の4分の1波長よりずっと小さくすることを可能にする。しかし、金属セグメント240は高インピーダンス電磁反射面に接触してはならない。なぜなら、接触すると実際上すべてのセグメント240が短絡するからである。隙間は単なるエアギャップであってよく、アンテナ基板110は、高インピーダンス面の表面上に分散された非導電構造によって高インピーダンス面よりも上に支持される。あるいは、隙間は、アンテナ基板を支持するように製造され、かつ金属セグメント240を高インピーダンス電磁反射面から電気的に絶縁しつつ、RF MEMSスイッチを開閉するための空間をもたらす、多結晶層またはプラスチック層などの誘電薄膜材料層を含んでよい。
【0032】
光透過構造層120は、バイアス線580、590の、光透過構造層120の表面よりも上に突き出る長さを最小限に抑えつつ、バイアス電圧をバイアス線580、590によって各RF MEMSスイッチ300に印加するのを可能にするバイアス線ビアホール126、128を含んでよい。図6は、光透過構造層120の下部に水平方向に配置され、光透過構造層120を通して垂直方向にRF MEMSスイッチ300に接続するバイアス線580、590を示している。本発明の他の実施形態では、バイアス線580、590を光源層130に配置することができ、また、光透過構造層120または光源層130よりも下に位置し、ビアホール126、128を通して垂直方向にRF MEMSスイッチ300に接続するバイアス線層(図6には示さず)内に、バイアス線580、590を別々に配置することもできる。バイアス線580、590は接地平面によって金属セグメント240から遮蔽されることが好ましい。前述のように、高インピーダンス電磁反射面は、接地平面として働き、したがって、バイアス線580、590を金属セグメント240から遮蔽するのに用いることができる。
【0033】
バイアス線ビアホール126、128は、必要な穴を有する層120を製造するか、光透過構造層120を掘削するか、または当技術分野で知られている任意の他の手段を用いて光透過構造層120を貫通する穴を形成することによって設けることができる。光透過構造層120が導電部を備えている場合、絶縁材料をバイアス線ビアホール126、128内で用いるかまたはビアホール126、128自体の一部として用いて、バイアス線580、590を光透過構造層120から電気的に絶縁することができる。
【0034】
光源層130は、上述のようにRF MEMSスイッチを開くのに用いられる光エネルギー源135を照明する複数の基板を備えている。光エネルギーは、光透過構造層120(および光源とRF MEMSスイッチとの間の任意の他の層)内に含まれる光学ビアホール125によってRF MEMSスイッチに結合される。図6では、バイアス線580、590が光学ビアホール125の後方に配置されるように示されていることに留意されたい。光学ビアホール125に対するバイアス線580、590の他の位置を使用してもよい。上述のように、光エネルギー源によって半絶縁基板310を照明するとRF MEMSスイッチ300が開き、したがって、アンテナ基板110上に配置された金属セグメント240のセグメント間結合を制御することができる。光源層130は、市販のアクティブマトリックスLEDパネルまたはLCDパネルによって実現されるようなアクティブマトリックス光源を備えてよい。光学ビアホール125は、必要な穴を有する光透過構造層120を製造するか、光透過構造層120を掘削するか、または当技術分野で知られている任意の他の手段を用いて光透過構造層120を貫通する穴を形成することによって設けることができる。各光学ビアホール125を単に、光透過構造層120に開口部を備えるものとしても、光学レンズ、光ファイバのようなチューブまたはその他の集光手段を用いて、個々の各光源135に対応するRF MEMSスイッチ300に光を向けるかまたは集光してもよい。
【0035】
動作時に、バイアス線580、590はアンテナ内のあらゆるRF MEMSスイッチ300にバイアス電圧を供給することが好ましい。このバイアス電圧を印加すると、あらゆるRF MEMSスイッチ300が最初は閉状態になる。次いで、光源層130内の各光エネルギー源135が、対応する各RF MEMSスイッチ300に光エネルギーを選択的に供給するように個々に制御される。光エネルギーは、光学ビアホール125を通して伝達され、対応するRF MEMSスイッチ300に上に向けられる。光エネルギーがMEMS基板240上に伝達されると、スイッチが開き、したがって、スイッチ300によって結合される金属セグメント240が効果的に再構成される。ノートブックコンピュータに用いられるアクティブマトリックスLEDパネル、液晶表示(LCD)パネルのような、ランダムアクセス明るさ調節機能を備える市販の光学光マトリックス製品は、RF MEMSスイッチ300のアレイを制御する制御可能なマトリックス化光源として働くことができる。
【0036】
本発明の他の実施形態は、DCバイアス線を不要にすることができ、その代わりに、RF MEMSスイッチを閉じるのに必要な電圧を、光電池を用いて供給する。図7は、金属セグメント240に結合されたRF MEMSスイッチ700を示しており、この場合、RF MEMSスイッチ700は、光電池750がアームプレート接点333に結合されており、かつ前述のバイアス線ではなく基板プレート接点321を用いてバイアス電圧が供給されることを除いて、前述のRF MEMSスイッチと同じ素子を備えている。当技術分野で知られているように、光電池は、光エネルギーによって照明されたときに電圧を生成する。したがって、図7に示されているように、光電池750は、バイアス線の代わりに、RF MEMSスイッチ700を閉じるのに必要な作動電圧を供給するように働くことができる。光電池750が照明されると、スイッチ700のアーム静電プレート332と基板静電プレートとの間に静電引力を生じさせるバイアス電圧が生成され、それによってスイッチ700が閉じる。スイッチ基板が照明されると、さらにアーム静電プレートと基板静電プレートとの間の抵抗が弱くなり、スイッチが開く。
【0037】
図8は、図7に示されている実施形態の様々な層の断面図である。アンテナ基板110および光透過構造層120は、前述と同じ構造および材料を含んでよい。上述のように、この実施形態はDCバイアス線を必要とせず、したがって、DCバイアス線ビアは必要とされない。その代わり、光エネルギーを光電池光源137から、アンテナ基板110上に位置する光電池750に結合する第2の光学ビアホール127が設けられている。光源層130は、上述のLEDパネルやLCDパネルのような、当技術分野でよく知られている装置を用いて基板照明光源125および光電池光源137を実現することができ、または第2の層(図8には示さず)を用いて光電池光源137用の個別の光源を実現することができる。個々に制御可能な光電池光源137を使用することができるが、基板照明光源125が各RF MEMSスイッチ300の開閉を制御することができるので、このような光電池光源137を使用する必要はない。
【0038】
本発明の他の実施形態は、スロットアンテナ素子を備えるアンテナアレイを再構成することができる。図9は、各RF MEMSスイッチ300が内部に配置された複数のスロットアンテナ素子920を備えたアンテナアレイ900を示している。図9には、平行構成として配向したいくつかのスロットアンテナ素子920しか示されていないが、スロットアンテナアレイに用いられるスロットアンテナ素子の数およびスロット素子の配向がアンテナアレイの特定の要件に依存することを理解されたい。多くのスロットアンテナアレイは数百個または数千個の個々のスロットアンテナ素子を備えてよい。
【0039】
図9では、各スロットアンテナ素子920は、接地平面層910内に作られスロットを備えている。本発明の前述の実施形態と同様に、アンテナ基板層110はスロットアンテナ素子920よりも上に配置されている。各RF MEMSスイッチ300は、アンテナ基板110の一体部分として形成しても、基板110上に互いに離散した構成要素として配置してもよい。光透過構造層120は、スロットアンテナ素子920用の反射面を形成し、スロットアンテナ素子920およびRF MEMSスイッチ300とのRF接続部および電気接続部を遮蔽するように接地平面層910よりも下に配置されている。各RF MEMSスイッチは、前述のように光源層130内の各光源から照明される。
【0040】
図10は、接地平面層910の、4つのRF MEMSスイッチ300が2つのスロットアンテナ素子920を再構成するように配置された部分の図である。各RF MEMSスイッチ300は、RFスロットアンテナ素子920の一方の側をこのスロット素子920の他方の側に電気的に接続し、効果的に短絡し、したがって、その点で素子920を短くする。金属接点245を用いて各RF MEMSスイッチ300の電気接点340、341をスロットアンテナ素子920の反対側、または接地平面層910に接続してもよく、電気接点340、341を接地平面層910と一体化できるように各RF MEMSスイッチ300を形成してもよい。バイアス線580、590は、各RF MEMSスイッチを作動させるのに用いられるバイアス電圧を供給するのに用いられる。バイアス線580、590は、接地平面層910の真下に接地平面層910から電気的に絶縁して配置することも、本発明の他の実施形態に関してすでに説明したように配置することもできる。本発明の他の実施形態は、前述のように光電池に向けられた光エネルギーを用いることによって、各スロットアンテナ素子920内のRF MEMSスイッチ300を作動させる。
【0041】
したがって、読者には、本発明によれば、アンテナ素子の近くに位置する金属バイアス線の複雑な回路網の必要なしに、再構成可能なアンテナにおけるスイッチを確実に作動させることができることが理解されよう。
【0042】
本発明によってより小さなアンテナサブアレイ同士を組み合わせることによってより大きなアンテナアレイを形成することができる。これらのより小さなサブアレイは、上述のアンテナ基板110、光透過構造層120、および光源層130を有するモジュールを備えている。さらに、各モジュールを接続し組み立てて、高インピーダンスバックプレーンを有するより大きなアレイを形成することができる。結果として得られるより大きなアレイを、モジュール同士の間のMEMSスイッチまたはハード配線スイッチ接続を用いることによって大雑把に再構成することができ、かつ所望の動作周波数帯域について各アンテナ素子の最終寸法を変えるように個々のモジュールを制御することができる。個別のモジュールまたは複数のモジュールを用いてカセグレン式反射アンテナのような既知の反射アンテナトポロジを製造することができる。
【0043】
図11Aは、カセグレン式アンテナ1100を形成する複数のアンテナサブアレイ1130の組合せを示している。カセグレン式アンテナ1100は、複数のアンテナサブアレイ1130がアンテナの一次リフレクタを形成するように配置された湾曲したバックプレート1150を備えている。二次リフレクタ1110は、無線周波数エネルギーを供給ホーン1120に向け、かつ供給ホーン1120からの無線周波数エネルギーを受け入れるようにアンテナサブアレイの前方に位置している。湾曲したバックプレート1150が、前述のアンテナ基板110、光透過構造層120、および光源層130を備えても、湾曲したバックプレート1150が単に、これらの層の構造的な基礎を形成してもよい。カセグレン式アンテナ1100は、平坦なバックプレートまたはバックプレート用のその他の形状を用いてもよく、その場合、バックプレート上のアンテナ素子からの放射を二次リフレクタ1110に向け、かつ二次リフレクタ1110からの放射を受け入れるのに追加の素子が用いられる。
【0044】
図11Aに示されているカセグレン式アンテナのアンテナサブアレイ1130は、図11Bに示されているように、各RF MEMSスイッチ300によって相互接続された9つのパッチアンテナ素子1160のマトリックスを備えている。パッチアンテナ素子1160のこの構成は、説明のためのみに与えられている。アンテナサブアレイ1130は、複数の構成においてRF MEMSスイッチによって相互接続される任意の数のアンテナ素子を備えてよい。アンテナ素子はダイポールアンテナ素子であっても、スロットアンテナ素子であっても、当技術分野で知られているその他のアンテナ素子であってもよい。
【0045】
本発明についてその特定の実施形態に関して説明したが、当業者によって、本発明の範囲から逸脱せずに様々な変更および修正を実施することができる。たとえば、本明細書に記載されていない再構成可能なアンテナサブアレイおよびアンテナアレイの他の構成を、本発明の他の実施形態によって実現することができる。したがって、本発明は添付の特許請求の範囲内のこのような変更および修正を包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【0046】
【図1】再構成可能なアンテナアレイと、光透過構造層と、光源層とを組み込んだアンテナ基板を示す本発明の実施形態の斜視図である。
【図2】代表的な再構成可能なダイポールアンテナ素子を示す図である。
【図3】本発明で用いられる代表的なRF MEMSスイッチの断面図である。
【図4】スイッチを制御する素子を概略的に表す、図3に示されているRF MEMSスイッチの平面図である。
【図5】複数のアンテナセグメントとRF MEMSスイッチの結合を示す図である。
【図6】RF MEMSスイッチに接続するのに用いられるビアを示す、アンテナ基板、光透過構造層、および光源層の断面図である。
【図7】バイアス電圧を供給する光電池を有するRF MEMSスイッチを有する複数のアンテナセグメントの結合を示す図である。
【図8】図7に示されているRF MEMSスイッチを制御するのに用いられる光学機器を示す、アンテナ基板、光透過構造層、および光源層の断面図である。
【図9】スロットアンテナ素子を用いる本発明の実施形態の斜視図である。
【図10】スロットアンテナ素子を再構成するのにRF MEMSスイッチが用いられるスロットアンテナ素子を有する接地平面の一部を示す図である。
【図11A】本発明による再構成可能なアンテナサブアレイのアレイを用いるカセグレン式アンテナを示す図である。
【図11B】図11Aに示されたカセグレン式アンテナで使用される代表的なアンテナサブアレイの拡大図である。

Claims (34)

  1. アンテナアレイ素子の副素子同士を接続する電気的に作動する複数の機械的スイッチを設けるステップと、
    前記複数の機械的スイッチのうちの少なくとも1つの対応するスイッチの作動を制御する少なくとも1つの光感応性の電気制御素子を設けるステップと、
    光透過構造の第1の側から前記光透過構造の第2の側へ光を透過させる領域を有する前記光透過構造を設けるステップと、
    前記光透過構造の前記第1の側の所定の位置に前記アンテナアレイ素子を配置するステップと、
    前記光透過構造の前記第2の側に、選択的に制御可能な光エネルギーの供給源を配置するステップと、
    前記光透過構造の透過領域を通して光感応性の特定の制御素子を照明し、それによって対応するスイッチの位置を変更して前記アンテナアレイ素子の構成を変えるように前記光エネルギーを選択的に調節するステップと、
    を含む方法。
  2. 前記方法は、前記アンテナアレイ素子の電磁構成を光学的に制御する方法を含む、請求項1に記載の方法。
  3. アンテナ副素子のアレイと、
    各アンテナ副素子を選択的に接続する複数の微小電気機械(MEMS)スイッチと、
    各々が対応するMEMSスイッチを制御する光感応性の複数の素子と、
    光感応性の各素子を選択的に照明する光パワー調節素子のマトリックスと、
    光透過構造と、
    を備え
    前記光パワー調節素子のマトリックスは、光パワーを前記光透過層の透過領域にその第1の側から入射するような方向に向け、前記光感応性の複数の素子は、前記光透過層の第2の側に位置している装置。
  4. 前記装置は、再構成可能なアンテナアレイである、請求項3に記載のアンテナアレイ。
  5. 前記複数のMEMSスイッチは、互いに隣接するアンテナ副素子を選択的に接続する、請求項3に記載の装置。
  6. 前記光透過構造は、高インピーダンスの電磁反射面を備える、請求項1または2に記載の方法あるいは請求項3から5のいずれか1つに記載のアンテナアレイ。
  7. アンテナアレイ素子の副素子同士を接続する電気的に作動する複数の機械的スイッチを設けるステップと、
    前記複数の機械的スイッチのうちの少なくとも1つの対応するスイッチの作動を制御する光感応性の少なくとも1つの電気制御素子を設けるステップと、
    反射構造の第1の側から前記反射構造の第2の側へ光を透過させる領域を有する高インピーダンスの電磁的な前記反射構造を設けるステップと、
    前記反射構造の前記第1の側の所定の位置に前記アンテナアレイ素子を配置するステップと、
    前記反射構造の前記第2の側に、選択的に制御可能な光エネルギーの供給源を配置するステップと、
    前記反射構造の透過領域を通して光感応性の特定の制御素子を照明し、それによって対応するスイッチの位置を変更してアンテナアレイ素子の構成を変えるように前記光エネルギーを選択的に調節するステップと、
    を含む方法。
  8. 前記方法は、前記アンテナアレイ素子の電磁構成を光学的に制御する方法を含む、請求項7に記載の方法。
  9. アンテナ副素子のアレイと、
    各アンテナ副素子を選択的に接続する複数の微小電気機械(MEMS)スイッチと、
    各MEMSスイッチを選択的に制御する光感応性の素子と、
    アンテナアレイの電磁構成を変えるように各MEMSスイッチに対応する光感応性の素子を選択的に照明させる光パワー調節素子のマトリックスと、
    高インピーダンスの電磁的な反射層を備える光透過構造と、
    を備え、
    前記光パワー調節素子のマトリックスが、前記反射層の透過領域の第1の側に入射するよう光パワーを調節し、前記光感応性の素子は、前記反射層の第2の側に位置している装置。
  10. 前記装置は再構成可能なアンテナアレイを備える、請求項9に記載の装置。
  11. 前記複数のMEMSスイッチは、隣接するアンテナ副素子を選択的に接続する、請求項9に記載の装置。
  12. 少なくとも1つの前記機械的スイッチを第1の位置に作動させるのを可能にするバイアス電圧を供給するステップを含む、請求項1、2、7、または8のいずれか1つに記載の方法。
  13. バイアス電圧を供給する前記ステップは、前記バイアス電圧を前記構造に導くことを含む、請求項12に記載の方法。
  14. バイアス電圧を供給する前記ステップは、光起電力アレイを照明するように光エネルギー源を制御することを含む、請求項12に記載の方法。
  15. 光感応性の制御素子を設ける前記ステップは、少なくとも1つの光抵抗素子を設けることを含み、前記方法は、前記光抵抗素子を照明し、それによって少なくとも1つの前記機械的スイッチを第2の位置に変更させるように前記光エネルギー源を制御するさらなるステップを含む、請求項12に記載の方法。
  16. 光透過性の前記領域は、前記構造を通過し、光エネルギーを前記光感応性の制御素子に伝達するチューブを備える、請求項1、2、7、または8のいずれか1つに記載の方法。
  17. 構造を設ける前記ステップは、前記構造と前記アンテナアレイ素子との間に絶縁体層を設けることを含む、請求項1、2、7、または8のいずれか1つに記載の方法。
  18. 前記アンテナアレイ素子からアンテナ動作周波数の4分の1波長未満離れた位置に前記構造の表面を配置するステップを含む、請求項17に記載の方法。
  19. 前記光抵抗素子を設ける前記ステップは、少なくとも1つの前記機械的スイッチが形成される基板に前記光抵抗素子を形成することを含む、請求項15に記載の方法。
  20. 前記アンテナアレイ素子は、ダイポールアンテナ素子、パッチアンテナ素子、およびスロットアンテナ素子から成る群から選択される素子である、請求項1から2、7から8、または12から19のいずれか1つに記載の方法。
  21. バイアス電圧を与えて各前記MEMSスイッチを作動させ第1の状態にするバイアス電圧源を含む、請求項3から5または9から11のいずれか1つに記載の装置。
  22. 選択されたMEMスイッチの光感応性の素子の電気抵抗は、照明されたとき小さくなり、前記選択されたMEMスイッチを作動させて第2の状態にする、請求項21に記載の装置。
  23. 前記バイアス電圧源は、光パワー調節素子の前記マトリックスの制御の下で照明される光起電力アレイである、請求項21に記載の装置。
  24. 前記バイアス電圧源は、照明がないときにすべての前記MEMSスイッチを作動させて第1の状態にする、請求項21に記載の装置。
  25. 前記光起電力アレイは、すべての前記MEMSスイッチを作動させて第1の状態にするように照明される、請求項23に記載の装置。
  26. 前記アンテナアレイは、前記複数のMEMSスイッチおよび前記副素子アレイが配置された基板層をさらに備え、
    前記光透過構造は、
    高インピーダンスの電磁的な反射層と、
    前記副素子と前記反射層との間に配置された絶縁材料層と、を備える、請求項3、4、または5のいずれか1つに記載の装置。
  27. 前記アンテナアレイは、
    前記複数のMEMSスイッチおよび前記副素子アレイが配置された基板層と、
    前記アンテナ副素子と前記反射層との間に配置された絶縁材料層と、をさらに備える、請求項9、10、または11のいずれか1つに記載の装置。
  28. 前記光透過領域は、前記光透過構造を貫通する複数の開口を含む、請求項26に記載の装置。
  29. 少なくとも1つの前記開口は、導電性を有し、バイアス電圧を少なくとも1つの前記MEMスイッチに導く、請求項28に記載の装置。
  30. 前記光透過構造は、多層プリント回路基板を備え、前記複数の開口は、多層プリント回路基板を貫通するビアである、請求項28に記載の装置。
  31. 前記光透過構造は、前記副素子アレイからアンテナ動作周波数の4分の1波長未満離れた位置に位置している、請求項3から5または9から11のいずれか1つに記載の装置。
  32. 前記アレイは、複数のサブアレイモジュールのうちの1つを備える、請求項3から5または11のいずれか1つに記載の装置。
  33. 複数の前記サブアレイモジュールは、カセグレン式アンテナの一次リフレクタを形成するように構成されている、請求項32に記載の装置。
  34. 少なくとも1つの前記アンテナ副素子は、ダイポール素子、パッチアンテナ素子、およびスロットアンテナ素子から成る群から選択される、請求項3から5または9から11のいずれか1つに記載の装置。
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