JP2004524146A5

JP2004524146A5 -

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Publication number: JP2004524146A5
Application number: JP2002564025A
Authority: JP
Filing date: 2002-02-08
Publication date: 2005-12-22

Claims

ガス流中のガス状汚染物と反応できる構成要素を持つシステムにおいて、前記ガス流中で前記構成要素の上流に位置決めできる浄化装置アッセンブリは、粒状材料でできた床及び繊維質の材料の塊のうちの少なくとも一方を含む浄化媒体を含み、前記浄化媒体の材料は、前記構成要素がガス状汚染物と反応するのと実質的に同様の方法でガス状汚染物と反応し、これによってガス流中のガス状汚染物を減少する、浄化装置アッセンブリ。
請求項１に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記浄化媒体は、粒状材料でできた床を含み、前記粒状材料の粒子は少なくとも金属の表面を有し、粒径が約１００μｍ以下である、浄化装置アッセンブリ。
請求項２に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記金属は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、及びクロム、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択される、浄化装置アッセンブリ。
請求項２に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記粒状材料でできた床は、粒径が約１００μｍ以下の非結合プラチナ粒子でできた充填床を含み、前記浄化装置アッセンブリは、前記プラチナ粒子を収容するため、前記床の上流及び下流に多孔質障壁を更に含む、浄化装置アッセンブリ。
請求項１に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記浄化媒体は、繊維質の材料の塊を含み、前記繊維質の材料の繊維は、少なくとも、金属の表面を有する、浄化装置アッセンブリ。
請求項５に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記繊維質の材料の塊はプレフォームからなる、浄化装置アッセンブリ。
ガス流中のガス成分と反応できる構成要素を持つシステムで使用するための浄化装置において、前記浄化装置は前記ガス流中に前記構成要素の上流で位置決めでき、フィルタ及び浄化媒体を含み、前記浄化媒体は前記ガス流中に前記フィルタとは別個に位置決めされており、前記浄化媒体は、前記構成要素がガス状汚染物と反応するのと実質的に同じ方法でガス状汚染物と反応する材料を含む、浄化装置。
請求項７に記載の浄化装置において、前記フィルタは高効率フィルタを含む、浄化装置。
請求項８に記載の浄化装置において、前記高効率フィルタのガス除去効率は、３ｎｍの粒子に対して１０ｅ９程度である、浄化装置。
請求項７、８、又は９に記載の浄化装置において、前記浄化媒体は、少なくとも金属の表面を有し粒径が約１００μｍ以下である粒子でできた床を含み、前記金属は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、及びクロム、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択される、浄化装置。
請求項１０に記載の浄化装置において、前記金属にはプラチナが含まれる、浄化装置。
請求項７、８、又は９に記載の浄化装置において、前記浄化媒体は繊維質の材料の塊を含み、前記繊維質の材料の繊維は少なくとも金属の表面を有し、前記金属は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、及びクロム、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択される、浄化装置。
請求項１２に記載の浄化装置において、前記繊維質の材料の塊はプレフォームからなる、浄化装置。
ガス流を浄化するための浄化装置アッセンブリにおいて、この浄化装置アッセンブリは、粒状材料でできた床及び繊維質の材料の塊のうちの少なくとも一方を含む浄化媒体を有し、前記材料は、少なくとも金属の表面を有し、前記金属は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、及びクロム、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択される、浄化装置アッセンブリ。
請求項１４に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記金属にはプラチナが含まれる、浄化装置アッセンブリ。
請求項１４又は１５に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記浄化媒体は、粒状材料でできた床を含み、前記粒状材料の粒子の粒径は約１００μｍ以下である、浄化装置アッセンブリ。
請求項１４又は１５に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記浄化媒体は、プレフォームからなる繊維質の材料の塊を含む、浄化装置アッセンブリ。
ガス流から汚染物を除去するための浄化装置において、入口及び出口を持ち、これらの入口と出口との間にガス流通路を画成するハウジング、粒子汚染物を除去するために前記ハウジングの前記ガス流通路内に配置されたフィルタ、及び前記ハウジングの前記ガス流通路内に協働的に前記フィルタとは別個に配置された浄化装置アッセンブリを含み、前記浄化装置アッセンブリは、前記ガス流中のガス状汚染物と反応できる少なくとも金属の表面を持つ浄化媒体を含む、浄化装置。
請求項１８に記載の浄化媒体において、前記浄化装置アッセンブリは前記ハウジング内に配置されている、浄化媒体。
請求項１８又は１９に記載の浄化装置において、前記浄化媒体は前記フィルタの上流に位置決めされている、浄化装置。
請求項１８、１９、又は２０に記載の浄化装置において、前記浄化媒体は、粒状金属でできた床を有し、前記金属は、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銅、銀、金、亜鉛、バナジウム、及びクロム、及びこれらの金属の混合物からなる群から選択され、前記金属粒子の粒径は、約１００μｍ以下である、浄化装置。
請求項１８乃至２１のうちのいずれか一項に記載の浄化装置アッセンブリにおいて、前記フィルタは高効率フィルタを含む、浄化装置アッセンブリ。
ガス流中のガス状汚染物と反応できる構成要素を保護するための方法において、前記ガス流を前記構成要素の上流の浄化媒体と接触させる工程を含み、前記ガス流を前記浄化媒体と接触させる前記工程は、前記構成要素がガス状汚染物と反応するのと実質的に同じ方法でガス状汚染物と反応する粒状材料でできた床及び繊維質の材料の塊の少なくとも一方と前記ガス流を接触させる工程を含む、方法。
請求項２３に記載の方法において、前記ガス流を前記浄化媒体と接触させる前記工程は、前記ガス流中のほぼ全てのガスを前記浄化媒体に通す工程を含む、方法。