JP2004523913A5 - - Google Patents
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Claims (11)
- 波長が１９３ｎｍのＵＶ光出力を発生させるための、繰返しレート４ｋＨｚ以上のフッ化アルゴンエキシマーレーザシステムであって、
前記レーザシステムが、４ｋＨｚ以上のパルス繰返しレートで１９３ｎｍレーザ光を発生させるためのチャンバであるフッ化アルゴンエキシマーレーザチャンバを有し、前記エキシマーレーザチャンバが、繰返しレートが４ｋＨｚ以上のエキシマーレーザの１９３ｎｍ光出力として前記１９３ｎｍレーザ光を出力するためのフッ化マグネシウム結晶光学窓を少なくとも１つ備え、前記フッ化マグネシウム光学窓が、０.０８吸収/４２ｍｍより小さい、４０ｍＪ/ｃｍ２/パルス以上のフルエンスで１９３ｎｍ光の５百万パルス露光時における２５５ｎｍ誘起吸収、及び少なくとも３０％の４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率を有してなるレーザシステムにおいて、
前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が、波長が２００〜２１０ｎｍの範囲の光に対して０.００１７ｃｍ −１ より小さい吸収係数を有することを特徴とするレーザシステム - 前記４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
- 前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が重量で、０.１５ｐｐｍ Ｆｅより低い鉄汚染レベル、０.０６ｐｐｍ Ｃｒより低いクロム汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｃｕより低い銅汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｃｏより低いコバルト汚染レベル、０.７ｐｐｍ Ａｌより低いアルミニウム汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｎｉより低いニッケル汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｖより低いバナジウム汚染レベルを有することを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
- 前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が重量で０.０２ｐｐｍ Ｐｂより低い鉛汚染レベルを有することを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
- 前記レーザシステムがフッ化マグネシウム結晶光学プリズムを備え、前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムが、前記エキシマーレーザチャンバの外部にあり、前記繰返しレートが４ｋＨｚ以上のエキシマーレーザの１９３ｎｍ光出力が前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムを透過し、前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムは、０.０８吸収/４２ｍｍより小さい、４０ｍＪ/ｃｍ ２ /パルス以上のフルエンスで１９３ｎｍ光の５百万パルス露光時における２５５ｎｍ誘起吸収、及び少なくとも３０％の４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率を有し、
前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムが、波長が２００〜２１０ｎｍの範囲の光に対して０.００１７ｃｍ −１ より小さい吸収係数を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。 - ２００ｎｍより短波長のＵＶ光出力を発生させるための、繰返しレートが４ｋＨｚ以上のフッ化物エキシマーレーザシステムであって、
前記レーザシステムが、４ｋＨｚ以上のパルス繰返しレートで２００ｎｍより短波長のＵＶレーザ光を発生させるためのチャンバであるエキシマーレーザチャンバを有し、前記エキシマーレーザチャンバが、繰返しレートが４ｋＨｚ以上の２００ｎｍより短波長のエキシマーレーザ光出力として、前記２００ｎｍより短波長のレーザ光を出力するためのフッ化マグネシウム結晶光学窓を少なくとも１つ備え、前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が、０.０８吸収/４２ｍｍより小さい、４０ｍＪ/ｃｍ ２ /パルス以上のフルエンスで１９３ｎｍ光の５百万パルス露光時における２５５ｎｍ誘起吸収、少なくとも３０％の４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率及び、０.００１７ｃｍ −１ より小さい、波長が２００〜２１０ｎｍの範囲の光に対する吸収係数を有してなるレーザシステムにおいて、
前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が、０.００１７ｃｍ −１ より小さい、波長が２０３〜２０７ｎｍの範囲の光に対する吸収係数を有することを特徴とするレーザシステム。 - 前記レーザ光の中心波長が約１９３ｎｍであることを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
- 前記４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
- 前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が重量で、０.１５ｐｐｍ Ｆｅより低い鉄汚染レベル、０.０６ｐｐｍ Ｃｒより低いクロム汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｃｕより低い銅汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｃｏより低いコバルト汚染レベル、０.７ｐｐｍ Ａｌより低いアルミニウム汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｎｉより低いニッケル汚染レベル、０.０２ｐｐｍ Ｖより低いバナジウム汚染レベルを有することを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
- 前記フッ化マグネシウム結晶光学窓が重量で０.０２ｐｐｍ Ｐｂより低い鉛汚染レベルを有することを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
- 前記レーザシステムがフッ化マグネシウム結晶光学プリズムを備え、前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムは前記エキシマーレーザチャンバの外部にあり、前記繰返しレートが４ｋＨｚ以上のエキシマーレーザの２００ｎｍより短波長の光出力が前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムを透過し、前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムは、０.０８吸収/４２ｍｍより小さい、４０ｍＪ/ｃｍ ２ /パルス以上のフルエンスで１９３ｎｍ光の５百万パルス露光時における２５５ｎｍ誘起吸収、及び少なくとも３０％の４２ｍｍ結晶１２０ｎｍ光透過率を有し、
前記フッ化マグネシウム結晶光学プリズムが、０.００１７ｃｍ −１ より小さい、波長が２００〜２１０ｎｍの範囲の光に対する吸収係数を有することを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
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