JP2004522676A - シリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システム - Google Patents

シリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システム Download PDF

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Abstract

本発明は、基本的にガラス製品を処理および成型する機構である作動機構のシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体を管理するシステムに関し、前記システムはアセンブリを迅速に変更させることが可能であり、シリンダおよび支持構造を中心とするリングの流体排出および吸い込み通路に接続するシリンダカバー上の通路ネットワークを有し、流体が上下に流れる際にシリンダおよびピストンアセンブリからの流体の排出速度を制御するためのシリンダカバー上の通路ネットワークに設置された速度制御弁もまた有する。

Description

【技術分野】
【0001】
(発明の属する技術分野)
本発明は、シリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムに関し、さらに詳しくは、シリンダおよびピストンアセンブリと、それによって作動する、主にI.S.ガラス製品成型機上のガラス製品成型処理機構である作動機構との両方の迅速な変更を可能にするシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムに関する。
【0002】
(従来の技術)
ガラス製品成型機は、同時に上部不作動開口部から振動され、下降されることにより空の鋳型の上に設置されて、そこへ供給される溶融ガラス塊を受け、誘導する漏斗機構と、通常は漏斗機構と同様に作動して、空の鋳型の上に置かれ、その底部として機能するバッフル機構と、同様に空の鋳型の上に置かれて吹き込まれる沈殿物を供給し、また吹き型の上に置かれてその中にパリソンを吹き込み、製品を成型する圧縮ヘッドおよびブローヘッド機構等の成型処理機構と、成型されたばかりの製品を取り出して、冷却デッド板に設置する取り出しヘッドと、を含み、これらは特に、その操作のための前記成型処理機構に連結されたシリンダおよびピストンアセンブリによって操作される。
【0003】
典型的に、前記成型処理機構は、シリンダおよびピストンアセンブリにねじで取り付けられている堅固な金属製導管のネットワークによって、作動液供給源に接続するシリンダおよびピストンアセンブリのピストンロッドに連結されている。通常、流体の供給および排出は、堅固な金属製導管に設けられ、シリンダおよびピストンアセンブリのピストンの上下運動の速度を制御するニードル弁によって制御される。
【0004】
シリンダおよびピストンアセンブリの清掃、あるいは、修理もしくは部品の交換のためにメンテナンスが必要な場合、または例えばガラス製品成型機で異なる種類のガラス製品を製造する必要がある時にその機構あるいは部品の変更が必要な場合においては必ず、まず、シリンダおよびピストンアセンブリに接続するあらゆる堅固な導管を取り外し、その後必要に応じて、シリンダおよびピストンアセンブリを作動機構から分離する必要があり、これらはすべて煩雑な作業であり、多くの時間を要し、堅固な金属製導管の変形および破損の原因となり、製造コストに影響を与える。
【0005】
機構の経済的、簡便、容易且つ迅速な変更を追求し、本発明者らは、シリンダおよびピストンアセンブリのシリンダキャップと一体化され、これによって、流体の供給のためと、流体の排出、および成型処理機構のシリンダおよびピストンアセンブリのピストンの上下運動の速度を制御するためとに用いられていた堅固な金属製導管を除去し、そのあらゆる導管を取り外しその後取り付ける必要がなく、単一の作業で機械への着脱が可能であり、その結果、汎用で、経済的且つ実用的であるシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための新たな流体管理システムを発明した。
【0006】
前記流体管理システムは一般的に、作動機構の操作のための機械のシリンダ、センタリングリングおよび取り付けフレームの供給および排出通路に接続された流体流入および流出通路のネットワークと、シリンダキャップに組み込まれ、流体の供給、および流体の排出、また前記シリンダおよびピストンアセンブリのピストンの上下運動の速度を制御する制御弁システムと、によって構成される。
【0007】
(本発明の概要)
従って、本発明の主な目的は、シリンダおよびピストンアセンブリと、主にガラス製品成型処理機構である作動機構の迅速な取り付けおよび取り外しを可能にする、シリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムを提供することである。
【0008】
また、本発明の主な目的は、前記の性質を持ち、シリンダおよびピストンアセンブリのシリンダキャップと一体化され、その堅固な金属製導管の通常のネットワークを除去することを可能としたシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムを提供することである。
【0009】
さらに、本発明の主な目的は、前記の性質を持ち、単一の作業で成型処理機構のシリンダおよびピストンアセンブリに対する着脱が可能である、シリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムを提供することである。
【0010】
さらに、本発明の主な目的は、前記の性質を持ち、多用途で、経済的且つ実用的なシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムを提供することである。
【0011】
本発明のシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムの、これらおよび他の目的と利点は、本発明を限定するものではなく例証として提供される本発明の以下の具体的な実施形態の説明より明らかとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
まず、ガラス製品を成型および処理する機構の操作に実際に使用される駆動システムを、後述するガラス製品成型機内の成型機構を迅速に変更することを目的とする本発明の駆動システムと比較するために説明する。
【0013】
さらに、従来技術および本発明の駆動システムを、その性能について、まず、構造的に、その後機能的に、ピストンの両運動(上昇および下降)において説明する。
【0014】
図1および図2を参照すると、ガラス製品成型機内の成型機構の典型的な駆動アセンブリは、
圧力下で空気を供給する、この場合は機械のマニホルドである、流体供給源FSと、
流体を供給するために流体供給源FSに接続する第1の端部1と、第2の端部と、を有する流体供給導管FCと、
流体を排出し、駆動システムのピストン運動を制御する導管ネットワークであって、
排出マニホルドEに接続され、流体排出速度を制御する第1のカートリッジニードル弁NV1を含む第1の端部3と、第2の端部4と、を有する第1の導管C1と、
排出マニホルドEに接続され、流体排出速度を制御する第2のカートリッジニードル弁NV2を含む第1の端部5と、第2の端部6と、を有する第2の導管C2と、
流体排出速度を制御する第3のカートリッジニードル弁NV3によって互いに接続された各第1の端部7、7’と、各第2の端部8、8’と、を各々有する第3の導管C3および第4の導管C4と、を備える導管ネットワークと、
機械の機構支持フレームSF上に取り付けられたセンタリングリングCRであって、前記センタリングリングCRおよび機構支持フレームSFは、流体供給源FSから流体を供給、あるいは排出マニホルドEを通して流体を排出する第1の一致した内部縦通路PFと、以下に説明する目的でパイロット流体を供給する第2の縦通路PPと、を各々有する、センタリングリングCRと、
センタリングリングCRを中心として取り付けられ、中心底部通路11と開放上端部12とを有する上部開口チャンバ10と、センタリングリングCRおよび機構支持フレームSFの通路PFおよびPPにそれぞれ一致する第1の通路13および第2の通路14と、第1の端部16およびチャンバ10の上部に接続する第2の端部17を有する第3の通路15と、を含むシリンダCYと、
チャンバ10の開放上端部12に連結されたシリンダキャップCCであって、中央通路20と、キャップ23を含む上端部22と下端部24とを有するバルブハウジング21と、シリンダCYの通路14と一致し、パイロット流体をバルブハウジング21内へ供給する通路25と、導管ネットワークに接続された、流体供給および流体排出制御のための以下に説明される通路の内部ネットワークと、を有するシリンダキャップCCと、
バルブハウジング21の中に設置され、第1、第2、第3および第4の接続部a、b、c、dを有するリールバルブRVであって、接続部a、b、c、dは、パイロット通路PPを通って上部流体供給開口部(図1)へ供給されるパイロット流体と、バルブハウジング21の上端部22のキャップ23に支えられかつリールバルブRVに接触し、パイロット流体供給が遮断された時にリールバルブRVを下部流体供給開口部(図2)に配置するスプリングSと、によって各々操作される、リールバルブRVと、
成型処理機構(図示せず)の操作のための、シリンダキャップCCの上部中央通路20を貫通する第1の上部ピストンロッド26と、シリンダCYのチャンバ10の底部中央通路11を貫通する第2の下部ピストンロッド27と、を含むチャンバ10内へ入るピストンPと、
ピストンPの下で、流体を供給するために、シリンダCYのチャンバ10の底部へ通路13およびPFを接続する第5の導管C5と、によって構成される。
【0015】
前述したシリンダキャップCCの通路の内部ネットワークは、実際に構成される際に、
供給導管FCの第2の端部2が接続している第1の端部30と、リールバルブRVの第3の流入接続部cと一致し、流体を分配するリールバルブRVへ流体を流入させ、バルブハウジング21の第3の開口部3rdに通じる第2の端部31とを有する第1の水平通路P1と、
バルブハウジング21の第2の開口部2ndに通じ、リールバルブRVが上部開口部(図1)にある時、このリールバルブRVの第1の流出接続部aと一致する第1の端部40と、シリンダCYの内部通路13へ接続し、センタリングリングCRおよび機構支持フレームSFの通路PFと一致し、ピストンPの上昇運動では、第5の導管C5を通して、ピストンPの下のシリンダCYのチャンバ10内へ流体を流入させる第2の端部41と、を有する第2の通路P2と、
バルブハウジング21の第4の開口部4thに通じる第1の端部50と、シリンダCYの第3の通路15の第1の端部16に接続し、ピストンPの上の、シリンダCYのチャンバ10の上部に通じる第2の端部51と、を有し、また、内部逆止め弁CVを含み、シリンダCYの上部開放端部12に通じる第1のブランチと、ピストンPの上昇運動におけるピストンP上の流体の排出を制御する、第3の導管C3の第2の端部8が接続している第2のブランチと、を有する第3の通路P3と、
バルブハウジング21の第5の開口部に通じる第1の端部60と、導管C1の第2の端部4が接続する第2の端部61と、を有する第4の通路P4と、
第4の導管C4の第2の端部8’が接続している第1の端部70と、シリンダCYのチャンバ10の上部開放端部12に通じる第2の端部71と、を有する第5の通路P5と、
第2の導管C2の第2の端部6が接続している第1の端部80と、バルブハウジング21の第1の開口部1stに通じる第2の端部81と、を有する第6の通路P6と、を有する。
【0016】
従来技術の駆動システムの操作において、図面の図1で示したように、ピストンPの上昇運動では、まずパイロット流体が通路14および25を通ってバルブハウジング21へ供給され、リールバルブRVを上部作動開口部に上昇させる。
【0017】
その後、リールバルブRVが上部開口部にある時、作動液が流体供給源FSから導管FCを通って、リールバルブRVの接続部cと一致するバルブハウジング21の第3の開口部3rdに通じる通路P1に供給され、そしてバルブハウジング21の第2の開口部2ndにあるリールバルブRVの接続部aを通って、通路P2および13、PFおよび第5の導管C5へ達し、シリンダCYの下部を通ってピストンPの下のシリンダCYのチャンバ10へ供給されて、ピストンPを上部作動開口部に上昇させ、ピストンロッド26もまた上昇させる。
【0018】
ピストンPの上のチャンバ10に存在する如何なる流体も、通路P5を通って導管C4へ達し、また通路15、51、および第2のブランチB2を通って導管C3に達して、ニードル弁NV3によってピストンPの上昇運動を制御し、また、通路P3を通ってバルブハウジング21の第4の開口部4thに達し、通路P4を通って第1の導管C1に達して、ニードル弁NV1によってピストンPの上昇運動をさらに和らげる。
【0019】
ピストンPの下降運動では、パイロット流体はバルブチャンバによって遮断されているため、バルブハウジング21のキャップ23に支えられているスプリングsがリールバルブRVを下向に下部作動開口部へ押圧する。
【0020】
その後、作動液が流体供給源FSから導管FCを通って、リールバルブRVの第1の接続部「a」がバルブハウジングの開口部3rdにある時、このリールバルブRVの第1の接続部「a」に通じる通路P1に供給され、そしてバルブハウジング21の第4の開口部4thにあるリールバルブRVの接続部「d」を通って、通路P3へ達し、そして逆止め弁CVが開口部にあるブランチB1に達して、流体がピストンP上のチャンバ10の上部開放端部12まで通過することが可能となり、また、通路51および15を通って同様にピストンPの上のシリンダCYの上部に達して、ピストンPを下部作動開口部に下降させ、ピストンロッド27をもまた下降させる。
【0021】
ピストンPの下のチャンバ10に存在する流体は、第5の導管C5を通り、また通路PF、13、およびP2を通って、バルブハウジング21の第2の開口部に達し、通路P6を通って第2の導管C2に達して、第2のニードル弁NV2によってピストンPの下降運動を制御する。この場合、導管C3およびC4はニードル弁NV3によって遮断されたままとなる。
【0022】
さて、主にガラス製品成型機構である作動機構の迅速な変更を可能にする駆動システムの好ましい実施の形態は、
流体供給源FSに接続されて流体を供給する第1の端部101と、第2の端部102と、を有する単一導管100と、
流体供給通路201を有し、機械の機構支持フレームSF上に取り付けられたセンタリングリング200であって、前記センタリングリング200および前記機構支持フレームSFは、両方とも以下に説明する複数の一致する通路を有するセンタリングリング200と、
センタリングリング200を中心として取り付けられるシリンダ300であって、中心底部通路302と開放上端部303とチャンバ301の下部に接続する第1の流体供給通路304および第2の流体通路305を有する上部開口チャンバ301と、センタリングリング200および支持フレームSFの複数の通路と一致する以下に説明する複数の通路と、を含むシリンダ300と、
チャンバ301の開放上端部303に連結するシリンダキャップ400であって、中央通路401と、キャップ404を含む上端部403および下端部405を有する、シリンダキャップ400に対して縦方向にされたバルブハウジング402と、以下で説明される導管の内部ネットワークと、を有するシリンダキャップ400と、
バルブハウジング402の中に設置され、第1、第2、第3および第4の接続部「a」、「b」、「c」および「d」を有するリールバルブRVであって、バルブハウジング402の下端部405に接続されるパイロット通路406を通って上部流体供給開口部に供給されるパイロット流体によって操作されるリールバルブRVと、
バルブハウジング402の上端部のキャップ403に支えられかつリールバルブRVに接触し、パイロット流体供給が遮断された時にリールバルブRVを下部流体供給開口部に配置する、バルブハウジング402内のスプリング407と、
成型あるいは処理機構(図示せず)の操作のための、シリンダキャップ400の上部中央通路401を貫通する第1のピストンロッド501と、シリンダ300のチャンバ301の底部中央通路302を貫通する第2のピストンロッド502と、を含む、チャンバ301内へ入るピストン500と、によって構成される。
【0023】
シリンダ300、センタリングリング200および支持フレームSFの前記複数の一致する通路は:
パイロット流体をバルブハウジング402に供給する通路PPと、通路PFと、通路PD1と、通路PD2とを含み、これらはすべて以下に説明する目的のために、シリンダ300、センタリングリング200および支持フレームSFを通過する。
【0024】
従来技術の駆動システムの導管C1乃至C4を除去する本発明の駆動システムによる、シリンダキャップ400の通路の上述した内部ネットワークは、
シリンダ300の流体供給通路304とセンタリングリングの流体供給通路201に接続された第1の端部E1と、リールバルブRVの第3の接続部「c」と一致するバルブハウジング402の第3の開口部3rdに通じる第2の端部E2と、を有する第1の通路P1と、リールバルブRVの第1の接続部「a」と一致するバルブハウジング402の第2の開口部2ndに通じる第1の端部E3と、シリンダ300、センタリングリング200および支持フレームSFを通過する通路PFに接続され、ピストン500の上昇運動では、ピストン500の下のシリンダ300のチャンバ301の下部に接続された第2の導管C2を通して流体を供給する第2の端部E4と、を有する第2の通路P2と、
バルブハウジング402の第4の開口部4thに通じる第1の端部E5と、ピストン500を越えて通じる開口部を通ってシリンダ300のチャンバ301の上部に通じる通路305に接続された第2の端部E6と、を有し、また逆止め弁CHVによって第3の通路P3に接続された第1の端部E7と、シリンダ300のチャンバ301の上部に通じる第2の端部E8と、を有する第1のブランチB1と、第3の通路P3に接続された第1の端部E9と、同様にチャンバ301の上部に通じる、シリンダ300に接続された第2の端部E10と、を有するニードル弁600を含む第2のブランチB2と、を有する第3の通路P3と、
バルブチャンバ402の第5の開口部5thに通じる第1の端部E11と、シリンダ300の開放上部を通って導入された、ピストン500の上昇運動の速度を制御する第2のニードル弁700を含む中間部E12と、シリンダ300、センタリングリング200および機構支持フレームSFを通過する通路PD1に接続された第2の端部E13と、を有する第4の通路P4と、
バルブチャンバ402の第1の開口部1stに通じる第1の端部E14と、シリンダ300の開放上部を通って導入された第3のニードル弁800を含む中間部E15と、シリンダ300、センタリングリング200および支持フレームSFを通過する通路PD2に接続された第2の端部E16と、を有する第5の通路P5と、を有する。
【0025】
通路PDFをチャンバ301の下部と接続する導管C2を、その厚みを変化することによって、通路CP2として、シリンダ300の壁と都合よく一体化させて、さらなる導管および接続をより回避することができる。
【0026】
図面の図3で示される本発明の駆動システムの操作において、ピストンPの上昇運動では、まずパイロット流体が通路PPを通ってバルブチャンバ402へ供給されて、リールバルブRVを上部作動開口部に上昇させる。
【0027】
その後、作動液が流体供給源FSから導管100を通ってセンタリングリング200の流体供給通路201およびシリンダ300の通路PFに供給され、またリールバルブRVが上部開口部にある時、このリールバルブRVの第3の接続部「c」へ供給され、リールバルブRVの接続部「a」を通って、通路P2、PFおよび第2の導管C2に達して、シリンダ300の下部を通ってピストン500の下のチャンバ301へ供給されて、ピストン500を上部作動開口部に上昇させる。
【0028】
ピストン500の上のチャンバ301に存在する如何なる流体も、シリンダ300の通路305、通路P3を通り、逆止め弁CVを通り、また、導管P3の第2のブランチB2を通り、ニードル弁600、通路P3を通って、バルブハウジング402の第4の開口部4thに達し、バルブハウジング402の第5の開口部5thを通り、そして第2のニードル弁700によってさらに制御される通路P4、および通路PD1を通って排出され、これによって500の上昇運動の速度が前記ニードル弁600および700に制御される。
【0029】
ピストン500の下降運動では、パイロット流体はバルブチャンバ402に遮断されているため、バルブチャンバ402のキャップ403に支えられているスプリング407がリールバルブRVを下向に下部作動開口部へ押圧する。
【0030】
その後、作動液が流体供給源FSから導管100を通ってセンタリングリング200の通路201および通路P1に供給され、リールバルブRVが上部開口部にある時、このリールバルブRVの第1の接続部「a」へ供給され、リールバルブRVの接続部「d」を通って、通路P3および通路304を通ってピストン500を越えてチャンバ301へ供給され、逆止め弁CVが開口部にある第1のブランチB1を通って、作動液がピストン500を越えてチャンバ301の上部開放端部303を通過することが可能となり、また第1のニードル弁600によって制御された速度で第2のブランチB2を通って、同様にピストン500を越えてチャンバ301の上部開放端部303に供給される。
【0031】
ピストンPの下のチャンバ301に存在する流体は、第2の導管C2を通り、また通路PDFおよびP2を通って、バルブチャンバ402の第2の開口部に達し、通路P5およびPD2を通って、ニードル弁800によってピストン500の下降運動を制御する。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】図1は、バッフル機構を対象とした上昇運動における従来技術の典型的なシリンダおよびピストンアセンブリの比較のための概略断面図である。
【図2】図2は、下降運動における同シリンダおよびピストンアセンブリの図1と同様の図である。
【図3】図3は、ガラス製品成型機のバッフル機構を対象としたシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための上昇運動における流体管理システムの第1の実施の形態の概略断面図である。
【図4】図4は、対象とされる同ガラス製品成型機のための下降運動における流体管理システムの図3と同様の図である。
【図5】図5は、ガラス製品成型機の漏斗機構を対象としたシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための上昇運動における流体管理システムの第2の実施の形態の概略断面図である。
【図6】図6は、対象とされる同漏斗機構のための下降運動における流体管理システムの図3と同様の図である。

Claims (5)

  1. 支持フレームと、支持フレーム上に取り付けられたセンタリングリングと、センタリングリングを中心として取り付けられ、内部チャンバと、作動機構に連結されたピストンロッドを有する前記チャンバ内へ入るピストンと、を含むシリンダと、第1、第2、第3、第4および第5の開口部を含むバルブハウジングと、前記バルブハウジング内にあり、第1、第2、第3および第4の接続部を有し、バルブハウジングの開口部と一致し、ピストンおよびシリンダアセンブリへの作動液の供給および排出を制御する作動バルブ手段と、を組み合わせて含むタイプの、作動機構のシリンダおよびピストンアセンブリの操作のための流体管理システムであって、
    シリンダ、センタリングリングおよび支持フレームで構成され、ピストンの上昇および下降運動のためにシリンダおよびピストンアセンブリに作動液を供給し、前記シリンダおよびピストンアセンブリからの流体の排出を可能にする流体供給および排出通路のネットワークと、
    シリンダキャップで構成され、流体流入および排出通路のネットワークに接続され、通路のネットワークでの速度制御弁手段を含み、シリンダおよびピストンアセンブリからの流体の排出速度およびシリンダおよびピストンアセンブリの上昇および下降運動の速度を制御する通路ネットワークと、を備える流体管理システム。
  2. 作動バルブ手段はパイロット流体によって操作されるリールバルブを含み、速度制御弁手段はシリンダおよびピストンアセンブリから排出される流体の速度を制御するニードル弁を含む、請求項1に記載の流体管理システム。
  3. 流体供給および排出通路のネットワークは、
    流体を供給するための流体供給源に接続された第1の端部と、第2の端部と、を有し、作動液をシリンダおよびピストンアセンブリへ供給する第1の流体供給導管と、
    センタリングリングおよびシリンダを通過し、流体供給導管の第2の端部に接続する第1の端部と、第2の端部と、を有する第1の流体供給通路と、
    シリンダ、センタリングリングおよび支持フレームを通過し、第1の端部および第2の端部を有する第2の流体通路と、
    第2の流体通路の第2の端部に接続する第1の端部と、シリンダの内部チャンバへ連通するシリンダの下部に接続する第2の端部と、を有し、ピストンの上昇運動では、リールバルブがその上部作動開口部にある時、ピストンの下の、シリンダのチャンバの下部に流体を供給し、ピストンの下降運動では、リールバルブがその下部作動開口部にある時、シリンダのチャンバの下部から流体を排出する第2の導管と、
    支持フレーム、センタリングリングおよびシリンダを通過し、バルブ手段を上部開口部へ動かすために、パイロット流体をバルブハウジングへ供給するパイロット流体通路と、
    シリンダの上部へ連通して接続する第1の端部および第2の端部を有する、シリンダ側の第3の流体供給通路と、
    そのすべてがシリンダ、センタリングリングおよび支持フレームを通過し、シリンダから流体を通過および排出させる第4および第5の通路と、を有する請求項1に記載の流体管理システム。
  4. 第2の導管は、第2の流体通路の第2の端部に接続する第1の端部と、シリンダの内部チャンバと連通するシリンダの下部に接続する第2の端部と、を有する通路としてシリンダの壁と一体化される請求項1に記載の流体管理システム。
  5. シリンダキャップの通路ネットワークは、
    センタリングリングおよびシリンダを通過する第1の流体通路に接続し、シリンダのチャンバへ作動液を供給する第1の端部と、バルブハウジング内のリールバルブの第3の接続部と一致する、バルブハウジングの第3の開口部へ通じる第2の端部と、を有する第1の通路と、バルブハウジングのリールバルブの第1の接続部と一致するバルブハウジングの第2の開口部へ通じる第1の端部と、シリンダ、センタリングリングおよび支持フレームを通過する第2の通路に接続し、ピストンの上昇運動では、第2の導管を通って、ピストンの下のシリンダのチャンバへ連通するシリンダの下部へ流体を供給する第2の端部と、を有する第2の通路と、
    バルブハウジングの第4の開口部に通じる第1の端部と、ピストンの上のシリンダのチャンバと連通するシリンダの上部に通じ、流体供給排出通路の第3の通路に接続する第2の端部とを有する第3の通路であって、逆止め弁によって第3の通路に接続する第1の端部と、シリンダのチャンバの上部に通じる第2の端部と、を有する第1のブランチと、第1のニードル弁を含み、第3の通路に接続する第1の端部と、同様にシリンダの前記チャンバの上部に通じる第2の端部と、を有する第2のブランチと、を有し、リールバルブが上部作動開口部にある時、ピストンの上昇運動では、ピストンの上の流体の排出速度を制御し、ピストンの下降運動では、リールバルブがその下部作動開口部にある時、流体を供給する第3の通路と、
    バルブハウジングの第5の開口部に通じる第1の端部と、シリンダの開放上部を通って導入された、第2のニードル弁を含む中間部と、シリンダ、センタリングリングおよび支持フレームを通過する流体供給排出通路のネットワークの第1の通路に接続された第2の端部と、を有し、リールバルブがその上部作動開口部にある時、ピストンの上の、シリンダのチャンバの上部から流体を排出する速度を制御する第4の通路と、
    バルブチャンバの第1の開口部に通じる第1の端部と、シリンダの開放上部を通って導入される第3のニードル弁を含む中間部と、シリンダ、センタリングリングおよび機構支持フレームを通過する通路の流体供給排出ネットワークの第2の通路に接続された第2の端部と、を有し、リールバルブがその下部作動開口部にある時、ピストンの下のシリンダのチャンバの下部からの流体の排出速度を制御する第5の通路と、を有する請求項1に記載の流体管理システム。
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