JP2004522558A

JP2004522558A - Ｘ線治療のためのデバイス

Info

Publication number: JP2004522558A
Application number: JP2003528620A
Authority: JP
Inventors: ムラジンアブベキロビッチクマホフ，
Original assignee: ムラジンアブベキロビッチクマホフ，
Priority date: 2001-09-19
Filing date: 2001-09-19
Publication date: 2004-07-29
Also published as: WO2003024527A1; US20040013230A1; CN1299781C; US7231015B2; HK1063747A1; EP1428554A1; CN1507361A; EP1428554A4

Abstract

本発明は、悪性および良性の新生物ならびに特定の他の疾患の放射線治療のための手段に関する。本発明は、中空プローブ（５）であって、患者の身体へ導入して、病理学的位置に該中空プローブの遠位端（７）を接近させるため、または病理学的位置に直接的に導入するための、中空プローブ（５）；放射線の供給源（１）；および該プローブの長手軸方向に配向された該放射線の粒子ビームを形成する手段（４）、を備え、放射線の該供給源（１）が、Ｘ線またはγ量子または中性子の形態の中性粒子の供給源であり、そして該プローブの長手軸方向に配向された該粒子ビームを形成する手段（４）が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むコリメータまたはレンズの形態で形成されることを特徴とする、放射線治療のためのデバイスを提供する。

Description

【０００１】
（発明の分野）
本発明は、悪性および良性の新生物ならびに特定の他の疾患の放射線治療のための手段に関する。
【０００２】
（発明の背景）
現在、電離放射線を用いる処置は、悪性新生物の治療だけでなく、良性腫瘍および一連の炎症ならびに他の非新生物性の性質の疾患治療においても同様に、広範に使用されている（ＡｓｐｅｃｔｏｆＣｌｉｎｉｃａｌＤｏｓｉｍｅｔｒｙ、Ｒ．Ｖ．Ｓｔａｖｉｔｓｋｉｊ編、Ｍｏｓｃｏｗ、「ＭＮＰＩ」、２０００［１］（ロシア語））。
【０００３】
Ｘ線供給源を備え、これを用いて生成された放射線を病理学的部位領域に向ける目的のために指向される、放射線治療のためのデバイスが公知である。病理学的部位を取り囲む健康な組織の照射を最小にするために、このようなデバイスは、いくつかのＸ線供給源を備え得る。これによって生成された照射を、異なる方向から、病理学的部位領域に向ける（ＲａｄｉａｔｉｏｎＴｈｅｒａｐｙｏｆＭａｌｉｇｎａｎｔＴｕｍｏｒｓ．ＧｕｉｄｅｆｏｒＰｈｙｓｉｃｉａｎｓ．Ｐｒｏｆ．Ｅ．Ｓ．Ｋｉｓｅｌｅｖａ編、Ｍｏｓｃｏｗ、「Ｍｅｄｉｔｓｉｎａ」ＰｕｂｌｉｓｈｉｎｇＨｏｕｓｅ、１９９６［２］（ロシア語））。
【０００４】
いくつかのＸ線供給源を備える、放射線治療のためのデバイスもまた、公知であり、異なる方向から病理学的部位領域に向けられるその放射は、Ｘ線レンズに焦点が当てられる（国際出願ＰＣＴ／ＲＵ００／００２７３、ＷＯ０１／２９８４５Ａ１δ ２６．０４．２００１［３］）。この焦点合わせに起因して、各レンズからの放射は、健康な組織を通過する際には、病理学的部位における集光よりも低い集光である。
【０００５】
病理学的部位を取り囲む健康な組織の照射を減少させるための、より極端な方法は、外側からの照射を含まないが、内側からの照射を含む。
【０００６】
このような方法は、特に、病理学的部位への、放射性物質を含むカプセルの直接の移植によって実現される［２］。この方法は、外科的介入を必要とし、そして照射持続期間の制御の困難を伴う、欠点を有する。
【０００７】
提案されたデバイスに最も近いのは、米国特許第第５，１５３，９００号［４］（ロシアの同様な特許番号第２，１５５，４１３号）およびＰｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎに属する多数の他の特許において開示される既知のデバイスである。この既知のデバイスは、病理学的部位に直接導入するか、または病理学的部位に近づくためのプローブデバイスを備える。このデバイスのプローブは、Ｘ線チューブである。このアノードは、プローブデバイスの遠位端に配置される。プローブデバイスの近位端は、電子ビーム生成のための手段の出口に接続され、このビームは、プローブデバイスの長手軸に沿って、アノードの方に向けられる。
【０００８】
このデバイスのプローブ内では、（任意のＸ線チューブ内のように）減圧が維持されるべきである。薄く長いプローブの遠位端に配置されたアノードに対する高電圧供給の必要性、および電子ビームの制御位置に対する必要性と組み合わせたこの事実は、デバイスの設計の複雑性に寄与する。そこで、放射エネルギーは、アノード物質によって実質的に決定される。脱気されたプローブにおけるアノード交換が不可能性なので、所望される各放射エネルギーについての別個のデバイスを有することの必要性が生じる。プローブの遠位端の異なる部分の放射線透過率を一致させることによって、空間的放射パターンを変化することについても、同じことが言える。電子ビームを利用するデバイスの操作は、外部の磁場によって影響され、従って、対応するシールド上に配置することを必要とする。Ｘ線チューブの一部としてのプローブの認識は、実質的にその滅菌を困難にする。取り外し可能なシースを有するプローブを提供することによる、この欠点の克服は、その直径を増加させ、そしてこのデバイスの利用の際の外傷の上昇に関連する。従って、このデバイスの利用の主な場は、穿刺を必要とせず、そして他の環境と直接連絡して配置された、中空の器官（例えば、膀胱、直腸など）の腫瘍の処置である。さらに、Ｘ線チューブの構成部分としてプローブを備えるこのデバイスは、Ｘ線放射のみを用いる処置に適用可能である。
【０００９】
（発明の開示）
本発明の目的は、以下の技術的成果を提供することである：
Ｘ線だけでなく、中性粒子の束のような他種の放射線も利用する治療についての適用の可能性；
減圧および高電圧の利用の回避、ならびに電子ビームおよび磁気シールドの制御手段の排除に起因する、設計の単純化および費用の低減；
特にそのサイズの変化、ならびにエネルギーおよび病理学的部位に作用する方向性放射パターンの変化について、プローブの交換による容易な変形；
プローブの滅菌の容易さ、および交換可能かまたは使い捨てのプローブの利用の可能性；
デバイスの残りの部分からプローブが断絶して、患者の体内に残ることの可能性、および現時点での他のプローブを有するデバイスの利用。
【００１０】
上記の種類の技術的成果を達成するために、上記の公知のデバイスと類似する、放射線治療について提案されたデバイスは、患者の体内への導入、および病理学的部位へのこのデバイスの遠位端の接近または病理学的部位への直接導入のためのプローブデバイス、照射供給源、ならびにこのプローブの長手軸に沿って配向した、この放射の粒子ビーム生成手段、を備える。
【００１１】
提唱されるデバイスの、公知のデバイスからの区別は、上記放射線源が、Ｘ線粒子またはγ量子または中性子の形態の、中性粒子の源であるという事実にある。その点で、プローブの長手方向軸に沿って配向された、上記放射線の粒子ビームの形成の手段は、全反射での放射線透過率のための彎曲チャネルの集合体を備える、コリメータまたはレンズとして実施される。
【００１２】
公知のデバイスとは異なって、提唱されるデバイスのこのような設計を用いると、病理学的位置は、薄いプローブを通って病理学的位置またはその内部に達する、使用される中性粒子源の放射と同時に活性化される。上記放射は、疾患したヒトの身体の外に源を位置させて生じるという事実にもかかわらず、病理学的位置への途中にある健常組織に影響を与えない。このことは、この放射線の、プローブの内側の伝播に起因して達成される。
【００１３】
プローブにおける減圧および高い電圧の非存在に起因して、このプローブは、取り外し可能なプローブとして実施され得、従って、その滅菌を容易にする。このデバイスは、異なる大きさを有するプローブのセットを備え得る。
【００１４】
このプローブは、その遠位端および別個の部分を除いて、放射源で放出される粒子に対して非透過性に実施され得、そして病理学的位置に対する作用が意図され得る。
【００１５】
プローブの長手方向軸に沿って配向した粒子ビームの形成の手段は、プローブの外側（プローブと、高エネルギー中性粒子の源との間）と、プローブの部分的にかまたは完全に内側との両方に位置し得る。
【００１６】
プローブの長手方向軸に沿って配向された粒子ビームの形成の手段が、プローブの完全に内側に位置し、そしてコリメータである場合には、このコリメータは、単一のチャネルを有し得る。
【００１７】
プローブの長手方向軸に沿って配向された粒子ビーム形成の手段が、内部反射での放射線透過率のための彎曲チャネルの集合体を備える、レンズの形態で実施される場合には、このようなレンズは、特に、プローブの長手方向軸の延長線上に、このプローブの外側に焦点が位置する、焦点レンズであり得る。この場合には、焦点は、患者の体内の、病理学的位置の近くまたは内部に位置する。
【００１８】
上記レンズはまた、プローブを通り、そしてこのプローブの遠位端から出る、擬似平行ビームの形成のためのレンズであり得る。
【００１９】
放射源がＸ線源である場合には、このＸ線源は、粒子エネルギーのオンライン変化のための区画化されたアノードを用いて実施され得る。
【００２０】
二次標的は、プローブの遠位端に位置し得る。この場合、二次標的によって散逸される源の放射線、または二次標的物質の励起放射が、放射線曝露のために使用される。
【００２１】
プローブの長手方向軸に沿って配向された粒子ビーム形成の手段が、内部反射での放射線透過率のための彎曲したチャネルの集合体を備えるレンズの形態で作製される場合には、このようなレンズは、特に、焦点が二次標的上に位置する、焦点レンズであり得る。
【００２２】
二次標的物質において散逸および励起される放射線の特徴を変化させるために、プローブの遠位端は、その内部に取り付けられる二次標的の交換の可能性を有して、別個に作製され得る。その点で、プローブの遠位端の内部に取り付けられた二次標的は、例えば、異なる金属で作製される、供給されるデバイスセットのいくつかのうちの１つである。
【００２３】
プローブの遠位端から発し、そして病理学的位置に対して作用する、所望の指向性放射パターンのオンライン変化のために、このプローブの遠位端は、取り外し可能に作製され得る。この場合、プローブは、二次標的物質において散逸および励起される放射線に対するプローブの遠位端表面の一部の、異なる透過率比で実施される、デバイスセットからのいくつかの遠位端の１つを有する。
【００２４】
プローブでの穿刺の過程で、処置手順の完了後に生じる損傷チャネルの凝固を確実にするために、このプローブは、導電性に、そして外側に（遠位端の最も離れた部分を除いて）絶縁コーティングを有して、作製され得る。この場合、このプローブは、電気凝固器に接続される可能性を有するはずである。
【００２５】
（発明の実施形態）
提案するデバイス（図１、Ａ）は、中性粒子（Ｘ線またはγ量子または中性子）の供給源、供給源１の出口開口部の前に位置する、ダイヤフラム３を備える防護シールド２、プローブ５の長手軸に沿って配向される粒子ビーム形成の手段４を備える。プローブ５は、先細の遠位端７を有する。プローブ５の近位端６は、プローブの取り外しの可能性を確実にするような方法（例えば、滅菌および別のものとの交換のために）で、製作され得る。デバイスのセットは、例えば、異なる長さのいくつかのプローブを備え得る（図１、ＢおよびＣ）。
【００２６】
このプローブは、生検のための穿刺針と類似の形態および寸法であり得る。
【００２７】
デバイス使用の間に、プローブは、病理学的位置の局在に依存して、患者の体の通常の経路のうちの１つに導入されるか、または生検手順と類似の穿刺を実行する。
【００２８】
図２は、患者１１の体内でのプローブ５の位置を示す。照射の準平行ビーム１０は、プローブの近位端６に来る。このビームは、プローブ５の内部チャネルを通って伝達され、そしてラジオルーセントの遠位端７を通過して出る。図２に示される場合、遠位端７は、拡大した腫瘍１２のすぐ近位に位置する。プローブ導入の方向は、遠位端７から出て行く照射が腫瘍１２に入り、そしてより大きい寸法の方向に伝達するように、選択される。腫瘍を貫く照射は、そのように位置する腫瘍の中央部分にて、組織に直接影響を与える。中央の部分を取り囲む腫瘍組織は、中央組織において励起された二次的照射によって影響を及ぼされる。プローブの遠位端から生じる照射は、実質的に、健康な組織に対して何の影響も与えないので、供給源の一次照射の強度は、腫瘍の周縁に達する中央組織の二次的照射の強度が、周縁組織を損傷させるのに十分な最小限のレベルであることを確実にするように、選択され得る。この場合、腫瘍限界を超えて達する二次的照射は、腫瘍限界を取り囲む健康な組織に損傷を与えない。
【００２９】
小さいサイズを有する新生物に影響を与えるために、プローブ５の遠位端７から出る集束ビームを使用することが好都合である。図３は、小さい開口部１４を有するＸ線供給源からの発散照射がＸ線レンズ１５を用いて集束され、そしてプローブ５を通して伝達して、患者の体内の腫瘍１３の中心１６に導入されるデバイスの実施形態を示す。上記の考慮した場合と類似して、腫瘍１３の周縁組織は、励起された二次的発光によって照射される。
【００３０】
照射源として中性子の供給源を使用する場合、提案するデバイスの使用は、腫瘍５におけるホウ素濃縮を保証するホウ素捕獲治療の方法と組合され得る（ＡｄｖａｎｃｅｓｉｎＮｅｕｔｒｏｎＣａｐｔｕｒｅＴｈｅｒａｐｙ．、Ｂ．Ｌａｒｓｓｏｎ，Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ，Ｒ．Ｗｅｉｎｒｅｃｈ編、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，１９９７［５］）。
【００３１】
Ｘ線製造の最新の技術によって、プローブの部分的に内側または全体的に内側での配置に対して受容可能である小さいサイズの単一片のレンズを得ることが可能である（例えば、Ｍ．Ａ．Ｋｕｍａｋｈｏｖ．、ＡｈｉｓｔｏｒｙｏｆｔｈｅＸ−Ｒａｙａｎｄｎｅｕｔｒｏｎｃａｐｉｌｌａｒｙｏｐｔｉｃｓ．、Ｏｐｔｉｃｏｆｂｅａｍｓ、３−１７頁、Ｍｏｓｃｏｗ、１９９３［６］を参照のこと）。このデバイスの対応する実施形態を、図４および図５に示す。
【００３２】
図４において、焦点レンズ１５は、プローブ５の内側に位置し、小さい開口部１４を有する供給源からの発散照射が、投入部に入る。集束は、プローブ５のラジオルーセントな遠位端７の、その長手軸の延長上の、外側に位置する点１６にて達成される。
【００３３】
図５において、レンズ１８は、相対的に大きい出口開口部１７を有する供給源１の照射から出て、病理学的位置１３の内側に位置する点１６において集束されるビームを形成する。レンズ１８の上部は、平行チャネルを有し、そしてコリメータの役割を果たす。レンズのこの一部において、粒子の準平行ビームが形成され、このビームは、そのチャネルを通して伝達される。この後、準平行照射集束のための通常のレンズと同様に、このビームは、レンズ１８の底部末端から出る集束されたビームに変換される。防護シールド２は、レンズ１８を過ぎて散乱する供給源１の照射に対して、患者１１を保護する。
【００３４】
考慮した全ての場合において、使用される照射は、患者の体外に位置する供給源によって作製されたが、これは、病理学的位置に行く途中に位置する健康な組織に影響を与えない。このことは、健康な組織がプローブ壁によって照射ビーム経路から機械的に隔離されているという事実、ならびにそれらの遮蔽効果に起因して、確実である。このために、プローブ壁は、使用される照射に対して照射不伝導性に作製される。プローブ中へ指向された配向照射ビームは、十分正確に形成された場合、プローブの壁を横切り得ないが、この手段は、この照射が本目的に対して意図されたプローブの遠位端の部分を介してのみ発光されることの、さらなる保証である。
【００３５】
図６は、プローブ５の遠位端７から出るほぼ平行のビームの形成がプローブ自体によってもたらされるデバイスの利用を実証する。この所定の場合において、これは、プローブ５の側壁によって形成された単一チャネルを有するコリメータとして機能する。プローブ長およびプローブの近位端６と照射源の出口開口部１４との間の距離の対応する選択に従って、遠位端７から現れる照射２０は、小さい発散角を有し、かつ平行に近い。デバイスのこのような作動は、プローブの内側に成形される準平行粒子ビームの手段を配置することと等価である。
【００３６】
照射処置を実施するために、腫瘍の異なる部分に導入されるいくつかのプローブを同時に使用することが可能である。
【００３７】
照射源としてＸ線供給源を利用する全ての場合において、後者のものは、粒子エネルギーにおけるオンライン変化に対する分離したアノードを用いて実行され得る。
【００３８】
プローブによる穿刺の過程において生じた創傷チャネルの凝固を処置手順の完了後に確実にするために、プローブは、電気伝導性であり、そして遠位端の最も遠い部分２２を除いて、絶縁コーティング２３をその外側に有するように作製され得る（図７を参照のこと）。この場合、プローブは、電気凝固器２４に連結される可能性を有するべきである。プローブ取り外しの過程における、プローブ５と患者の身体１１との間での凝固器からの電圧の印加に際して（図７の矢印２５）、創傷チャネル２６の「溶接」が生じる。これは、腫瘍１３の細胞がその悪性部位を越えて伝播するのを妨げる（この場合、使用される技術は、ロシア連邦特許第２１２０７８７号［７］に記載の技術に類似する）。
【００３９】
二次標的が、プローブの遠位端に配置され得る。この場合、二次標的によって散乱される供給放射線または標的の二次放射線が、放射線処置に使用される。
【００４０】
図８は、二次標的材料中で励起された放射線２９を利用する場合を示し、放射線２９は、この種の放射線について透過性であるウインドウ２８を通して発せられる。二次標的材料は、発生する放射線の所望の方向パターンを形成するような様式で配置される。例えば、遠位端７の全周にわたる狭いストリップにおいて均一に分布したウインドウが存在する場合、放射線は、狭い球面扇形に集中される。患者の身体内（特に、腫瘍内）へのプローブ導入の深さを変えることによって、この扇形の位置が、腫瘍の選択された部分の処置について調節され得る。さらに、異なる処置方法が認識され得る。例えば、プローブは、そのプローブの長手方向軸に対して垂直な方向のサイズに依存して、可変速度で移動され得るか、または、異なる位置において異なる期間にわたって停止され得、従って、腫瘍の異なる部分の放射線曝露の程度を調節する。
【００４１】
図９は、二次標的２７によって散乱された放射線の利用を示す。二次標的の等方性の性質に起因して、プローブの遠位端７をラジオルーセントにし、そしてその遠位端の最も遠い部分の近くに標的を配置することによって、ほぼ全方向性の放射線２９（部分的に後方（図９において上方）に拡散される放射線を含む）が得られ得る。腫瘍内への遠位端７の直接的な導入は、この端の周辺にある腫瘍組織の最も大きい部分の照射を保証する。
【００４２】
二次標的を利用することによって、この提唱されたデバイスの利点（プローブの取り外しを必要としない）がより高い程度に認識される。使用された１つの型の二次標的を別の二次標的に交換するために、プローブ全体としての交換だけでなく、その遠位端７の交換もまた可能である。図１０は、取り外し可能な遠位端７を有するプローブ５の実現、ならびに議論された上記２つの型の二次標的２７を有する遠位端の実施形態および二次放射線２８、２９の２種類の方向パターンの形成（それぞれ、図１０Ａ、ＢおよびＣを参照のこと）を示す。
【００４３】
散乱された二次放射線の特性を変えるために、プローブの遠位端を分割して、その中に取り付けられる標的の交換を可能にし得る。さらに、プローブの遠位端に取り付けられる二次標的は、供給されるデバイスセットにおけるいくつかの二次標的のうちの１つであり、これらは、例えば、異なる金属から作製される。
【００４４】
プローブ５は、デバイスセットにおいて実行されるいくつかの遠位端のうちの１つを有し得、これらは、二次標的材料において散乱および励起される放射線に対する異なる透過率の、プローブの遠位端の表面部分を有する。
【００４５】
（産業上の利用可能性）
提唱されたデバイスは、代表的な産業的に生産される放射線供給源（例えば、Ｘ線管）ならびに中性子放射線および放射性同位体の供給源の両方の利用によって、実現され得る。
【００４６】
（情報の供給源）
１．ＡｓｐｅｃｔｓｏｆＣｌｉｎｉｃａｌＤｏｓｉｍｅｔｒｙ，Ｒ．Ｖ．Ｓｔａｖｉｔｓｋｉｊ編，Ｍｏｓｃｏｗ，「ＭＮＰＩ」，２０００（ロシア）。２．ＲａｄｉａｔｉｏｎＴｈｅｒａｐｙｏｆＭａｌｉｇｎａｎｔＴｕｍｏｒｓ．ＧｕｉｄｅｆｏｒＰｈｙｓｉｃｉａｎｓ．Ｐｒｏｆ．Ｅ．Ｓ．Ｋｉｓｅｌｅｖａ編，Ｍｏｓｃｏｗ，「Ｍｅｄｉｔｓｉｎａ」ＰｕｂｌｉｓｈｉｎｇＨｏｕｓｅ，１９９６（ロシア）。
３．Ｍ．Ａ．Ｋｕｍａｋｈｏｖ．Ｘ−ｒａｙｍｅａｎｓｏｆｌｏｃａｔｉｏｎｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎａｎｄｒａｄｉａｔｉｏｎｔｈｅｒａｐｙｏｆｍａｌｉｇｎａｎｔｎｅｏｐｌａｓｍｓ．国際出願ＰＣＴ／ＲＵ００／００２７３，国際公開ＷＯ０１／２９８４５Ａ１，２００１年４月２６日。
４．ＮｏｍｉｋｏｓらＭｉｎｉａｔｕｒｉｚｅｄｌｏｗｐｏｗｅｒＸ−ｒａｙｓｏｕｒｃｅ．米国特許第５，１５３，９００号（１９９２年１０月６日公開）。
５．ＡｄｖａｎｃｅｓｉｎＮｅｕｔｒｏｎＣａｐｔｕｒｅＴｈｅｒａｐｙ．Ｂ．Ｌａｒｓｓｏｎ，Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ，およびＲ．Ｗｅｉｎｒｅｃｈ．編，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ、１９９７。
６．Ｍ．Ａ．Ｋｕｍａｋｈｏｖ．ＡｈｉｓｔｏｒｙｏｆｔｈｅＸ−Ｒａｙａｎｄｎｅｕｔｒｏｎｃａｐｉｌｌａｒｙｏｐｔｉｃｓ．Ｏｐｔｉｃｏｆｂｅａｍｓ，３−１７頁，Ｍｏｓｃｏｗ，１９９３。
７．Ｓ．Ａ．Ａｓｔｒａｋｈａｎｔｓｅｖら，Ｎｅｅｄｌｅｄｅｖｉｃｅｆｏｒｂｉｏｐｓｙａｎｄｃｏａｇｕｌａｔｉｏｎ．ロシア連邦特許第２１２０７８７号（１９９８年１０月２７日公開）。
【図面の簡単な説明】
提唱される本発明は、図面を用いて説明される。
【図１】
図１は、セットにされたいくつかのプローブと一緒にした、全体としてのデバイスの概略図である。
【図２】
図２は、拡大した腫瘍の照射のためのデバイスの利用である。
【図３】
図３は、小さな腫瘍の照射のための、プローブの外側に位置するレンズを備える、デバイスの利用である。
【図４】
図４は、部分的にプローブの内側に位置するレンズである。
【図５】
図５は、源放射線の平行化および集束をもたらすレンズを備えるデバイスである。
【図６】
図６は、単一のチャネルを有するコリメータと同時に働くプローブである。
【図７】
図７は、凝固器と組み合わせたデバイスの利用である。
【図８】
図８は、二次標的が内部に取り付けられたプローブの遠位端であり、この標的は、擬似平行ビームで照射される。
【図９】
図９は、二次標的が内部に取り付けられたプローブの遠位端であり、この標的は、集束ビームで照射される。
【図１０】
図１０は、いくつかの取り外し可能な遠位端を備えるプローブである。

Claims

放射線治療のためのデバイスであって、該デバイスは、以下：
中空プローブ（５）であって、患者の身体へ導入して、病理学的位置に該中空プローブの遠位端（７）を接近させるため、または病理学的位置に直接的に導入するための、中空プローブ（５）；
放射線の供給源（１）；および
該プローブの長手軸方向に配向された該放射線の粒子ビームを形成する手段（４）、を備え、
放射線の該供給源（１）が、Ｘ線またはγ量子または中性子の形態の中性粒子の供給源であり、そして該プローブの長手軸方向に配向された該粒子ビームを形成する手段（４）が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むコリメータまたはレンズの形態で形成されることを特徴とする、
デバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項２に記載のデバイス。
請求項１に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段（４）が、前記プローブ（５）内に部分的または全体的に配置されていることを特徴とする、デバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項４に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項５に記載のデバイス。
前記遠位端（７）または前記プローブ（５）の別個の部分を除く、該プローブ（５）が、使用される放射線の粒子に対して非透過性であることを特徴とする、請求項４に記載のデバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項７に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項８に記載のデバイス。
請求項１に記載のデバイスであって、前記プローブ（５）が、電気凝固器（２４）に接続可能な状態で、電気的に伝導性であり、そして前記遠位端（７）の最も離れた部分（２２）を除いて、外側に絶縁コーティング（２３）を有することを特徴とする、デバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項１０に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項１１に記載のデバイス。
前記遠位端（７）または前記プローブ（５）の別個の部分を除く、該プローブ（５）が、使用される放射線の粒子に対して非透過性であることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項１３に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
請求項１３に記載のデバイスであって、前記プローブ（５）が、電気凝固器（２４）に接続可能な状態で、電気的に伝導性であり、そして前記遠位端（７）の最も離れた部分（２２）を除いて、外側に絶縁コーティング（２３）を有することを特徴とする、デバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項１６に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
請求項１に記載のデバイスであって、前記プローブ（５）が、電気凝固器（２４）に接続可能な状態で、電気的に伝導性であり、そして前記遠位端（７）の最も離れた部分（２２）を除いて、外側に絶縁コーティング（２３）を有することを特徴とする、デバイス。
前記プローブ（５）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項１９に記載のデバイス。
前記デバイスセットの、異なる長さを有するいくつかの前記プローブのうち、１つのプローブが装着されていることを特徴とする、請求項２０に記載のデバイス。
請求項１〜２１のいずれか１項に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段（４）が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むレンズの形態で作製され、該プローブ（５）の長手軸方向の該プローブ（５）の外側に位置する焦点（１６）を有する焦点レンズ（１５）であることを特徴とする、デバイス。
放射線供給源（１）としてＸ線供給源を含むことを特徴とする、請求項２２に記載のデバイス。
前記Ｘ線供給源が、分離されたアノードから作製されることを特徴とする、請求項２３に記載のデバイス。
請求項１〜２１のいずれか１項に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段（４）が、全体として該プローブの内側に配置された、単一のチャネルを有するコリメータであることを特徴とする、デバイス。
放射線供給源（１）としてＸ線供給源を含むことを特徴とする、請求項２５に記載のデバイス。
前記Ｘ線供給源が、分離されたアノードから作製されることを特徴とする、請求項２６に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）に配置された、二次標的（２７）を有することを特徴とする、請求項２６または請求項２７に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項２８に記載のデバイス。
請求項１〜２１のいずれか１項に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段（４）が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むレンズの形態で作製される、準平行ビーム（１０）を形成するレンズ（１５）であることを特徴とする、デバイス。
放射線供給源（１）としてＸ線供給源を含むことを特徴とする、請求項３０に記載のデバイス。
前記Ｘ線供給源が、分離されたアノードから作製されることを特徴とする、請求項３１に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）に配置された、二次標的（２７）を有することを特徴とする、請求項３１または請求項３２に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項３３に記載のデバイス。
請求項２９または請求項３４に記載のデバイスであって、前記プローブ（５）が、前記デバイスセットのいくつかの前記遠位端（７）のうちの１つを有し、前記二次標的（２７）材料において散乱および励起された放射線に対して、異なる透過率の該プローブの遠位端の表面部分で形成されることを特徴とする、デバイス。
放射線供給源（１）としてＸ線供給源を含むことを特徴とする、請求項１〜２１のいずれか１項に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）に配置された、二次標的（２７）を有することを特徴とする、請求項３６に記載のデバイス。
請求項３７に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むレンズの形態で作製され、前記二次標的（２７）上に位置する焦点を有する焦点レンズ（１５）であることを特徴とする、デバイス。
前記Ｘ線供給源が、分離されたアノードから作製されることを特徴とする、請求項３６に記載のデバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）に配置された、二次標的（２７）を有することを特徴とする、請求項３９に記載のデバイス。
請求項３９に記載のデバイスであって、前記プローブの長手軸方向に配向された前記粒子ビームを形成する手段が、全反射による放射線伝達のための湾曲したチャネルの集合体を含むレンズの形態で作製され、前記二次標的（２７）上に位置する焦点を有する焦点レンズ（１５）であることを特徴とする、デバイス。
前記プローブ（５）の遠位端（７）が、取り外し可能であることを特徴とする、請求項３７〜４１のいずれか１項に記載のデバイス。
請求項４２に記載のデバイスであって、前記プローブ（５）が、前記デバイスセットのいくつかの前記遠位端（７）のうちの１つを有し、前記二次標的（２７）材料において散乱および励起された放射線に対して、異なる透過率の該プローブの遠位端の表面部分で形成されることを特徴とする、デバイス。