JP2004521159A

JP2004521159A - オレフィン重合方法、ポリマー並びにその組成物

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Publication number: JP2004521159A
Application number: JP2002547986A
Authority: JP
Inventors: フランシススツルジョン; ホーンクワックタエ; ジェームスシュレックデイビッド; モーソンサイモン; ゲアリーマッキーマシュー; アンテリーカーステン; グレゴリーグッドマーク; ティー．ホワイトカーグレゴリー; ルーカスエリック
Original assignee: ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー
Priority date: 2000-12-04
Filing date: 2001-11-28
Publication date: 2004-07-15
Also published as: US20020103310A1; EP1392743A2; CA2430517A1; WO2002046250A2; WO2002046250A3; US20050154167A1; BR0115914A; US6897273B2; CN1484658A; AU2002219891A1

Abstract

オレフィン重合の重合操作を改良し、製品特性を増加させ、更に触媒選択の変更を可能とする。
１以上の嵩高配位子メタロセン触媒化合物を含有する溶液、スラリー又は固体を、１以上のフェノキシド触媒化合物を含有する溶液と混合し、その後１以上のオレフィン又はその混合物を重合反応器へ導入して行なわれるオレフィンの重合方法。並びに、ポリマー密度０．９１０〜０．９３０ｇ／ｃｃ、メルトインデックス０．３〜２．０ｄｇ／ｍｉｎのエチレンポリマーであり、及びその１５〜３５μｍ厚ポリマーフィルムは４５°グロスが６０以上、曇価が７％以下で、落槍衝撃強さが６００ｇ以上であるエチレンポリマー。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、１以上の嵩高配位子メタロセン触媒化合物及び１以上の活性化剤を含有する溶液、スラリー又は固体と、１以上のフェノキシド触媒化合物を含有する溶液とが、重合反応器へ導入される前に混合される、オレフィン重合方法を目的とする。
【背景技術】
【０００２】
重合方法及び触媒の進歩により、改良された物理的及び化学的特性を有し、幅広い範囲の優れた製造品及び用途に使用できる多くの新しいポリマーを製造することが可能となった。新しい触媒の発展に伴い、特定のポリマーを製造するための重合方法（溶液、スラリー、高圧又は気相）の選択範囲は、非常に広がっている。同様に、重合技術の進歩により、より効率的、生産的、経済的に発展した方法が提供されている。これらの進歩の例として、嵩高配位子メタロセン触媒系を使用する技術の発展が挙げられる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
スラリー又は気相重合方法において、通常は担持触媒系が使用されているが、最近、非担持触媒系がこれらの方法で使用されるようになった。例えば、米国特許番号第５３１７０３６及び５６９３７２７号、欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０５９３０８３号並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９７／４６５９９号には、液体触媒を反応器へ導入する種々の方法及び技術が記載されている。このような技術を使用する産業では、複雑なプロセスを簡便にし、プロセスの操作性を改良し、製品特性を増加させ、更に触媒の選択を自由にする要求がある。そのため、１以上のこれらの工業的要求を満たすことのできる方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、嵩高配位子メタロセン触媒化合物及び１以上の活性化剤（Ａ成分）を含有する溶液、スラリー又は固体並びに１以上のフェノキシド触媒化合物（Ｂ成分）を含有する溶液が、重合反応器へ導入される前に、好ましくはイン−ラインで混合されるオレフィン重合方法に関する。混合器中でＡ成分及びＢ成分が接触する時間の長さは、通常１２０分まで、好ましくは１〜６０分、更に好ましくは５〜４０分、特に好ましくは１０〜３０分である。
又、本発明は、密度０．９１０〜０．９３０ｇ／ｃｃ及びメルトインデックス０．３〜２．０ｄｇ／ｍｉｎを有するエチレンポリマーに関し、そのポリマーの１５〜３５μｍ厚フィルムは、４５°グロス６０以上、曇価（ヘイズ）７％以下、落槍衝撃強さ６００ｇ以上を有するものに関する。上記フィルムは、好ましくは、
ａ）ＴＤ引張強度３０ＭＰａ以上、
ｂ）ＭＤ引張強度３０ＭＰａ以上、
ｂ）１５０以上のＭＤ又はＴＤ係数、
ｃ）１８０ｇ／ｍｉｌ以上のＭＤエルメンドルフ引裂強度、及び
ｄ）３００ｇ／ｍｉｌ以上のＴＤエルメンドルフ引裂強度、のいずれかを有する。
尚、本発明において「ポリマー」は、ホモポリマー及びコポリマーのいずれをも表す。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の方法により製造されるポリマー及びそれらのブレンドは、フィルム押出、シート押出、ファイバー押出及び共押出成形、ブロー成形、射出成形並びに回転式成形等の成形作業に使用できる。上記フィルムとして、共押出又は積層により形成されたブローフィルム又はキャストフィルムが挙げられ、農業用フィルム、園芸用フィルム、シュリンクフィルム、ラップフィルム、ストレッチフィルム、シーリングフィルム、配向フィルム、スナック菓子包装フィルム、高耐久性バッグ、買い物袋、加熱食品又は冷凍食品の包装フィルム、医療包装フィルム、工業用ライナ、膜等、食品接触又は非接触用途に使用できる。上記ファイバーとして、溶融紡績、溶液紡績又は溶融ブローされたファイバーが挙げられ、織編物又は不織布の形でフィルタ、おむつ布、医療用被服、ジオテキスタイル等に使用できる。上記押出成形品として、医療用チューブ、ワイヤコーティング、ケーブルコーティング、管、ジオメンブラン及び湖沼ライナが挙げられる。成形品として、ボトル、タンク、大型中空品、硬質食品容器、及び玩具等の形状の単層又は複層構造体が挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の目的に対し、触媒系は１以上の活性化剤及び１以上の触媒化合物を含有する。本発明の目的に対し、スラリーは、液体中に固体が存在する懸濁液と定義される。固体は多孔性であってもなくてもよい。
好ましくは、Ａ成分及びＢ成分の両方は、１の溶液又は複数の溶液の形で反応器中へ導入される。複数の溶液状の触媒を重合反応器へ導入する方法の詳細は、米国特許出願第０９／４５１７９２号（１９９９年１２月１日出願）に記載されている。例えば、触媒系、金属化合物又は活性化剤（又はそれらの混合物）は、１以上の溶液として反応器へ導入できる。２種の活性化された金属化合物の、ペンタン、ヘキサン、トルエン、又はイソペンタン等のアルカン溶液が、気相反応器又はスラリー反応器へ導入されてもよい。又、触媒系又は複数の構成成分は、懸濁液又はエマルジョンとして反応器中へ導入できる。例えば、第二の金属化合物は、改質メチルアルモキサン等の活性化剤と溶媒中で混合できるが、その直前に溶液は気体反応器又はスラリー反応器中へ供給される。又、第一の金属化合物の溶液を第二の化合物及び活性化剤の溶液と混合して、反応器へ導入することもできる。溶液は、好ましくは米国特許第５６９３７２７号に記載されたようにプレナム（チャンバー）を通って反応器へ導入できる。
【０００７】
本発明では、例えば、Ａ成分は、支持体、嵩高配位子メタロセン触媒化合物及び１以上の活性化剤（担持されたＡ成分）を含有するスラリー又は固体であり、Ｂ成分は、１以上のフェノキシド触媒化合物を含有する溶液である。
通常、嵩高配位子メタロセン触媒化合物及び支持体は、触媒化合物の５０％以上、好ましくは７０％以上、更に好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上が支持体中又は上に担持されるために充分な時間、互いに混合される。混合時間は、１０時間まで、好ましくは６時間まで、更に好ましくは４〜６時間である。嵩高配位子メタロセン化合物は、鉱物油、トルエン、ヘキサン等の液体中で支持体と混合されるが、次に粉状などの固体状態まで乾燥されてもよい。
【０００８】
担持されたＡ成分とＢ成分とが接触すると、その後、殆ど全て、好ましくは５０％以上、更に好ましくは７０％以上、更に好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上、最も好ましくは９９％以上のＢ成分からの触媒化合物は、Ａ成分中に始めに含まれていた支持体中又はその上に担持される。本発明において、混合物の液体部分中の触媒化合物濃度が触媒化合物の添加後に時間の経過と共に減少した場合、触媒化合物は、支持体中又は上に存在し担持されていると考えられる。触媒化合物濃度は、例えば、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）や質量分光器（ＭＳ）により測定できる。上記ＧＣは、公知の適当な濃度、範囲内で作成された検量線により標準化した後に行なわれる。従って、例えば、（支持体を含まなかった）液体中の触媒化合物の濃度が、その初期濃度から７０％減少すると、触媒化合物の７０％は支持体中又は上に担持されたと考えられる。
Ｂ成分は、更にその他の活性化剤又は触媒化合物を含有してもよい。他の好ましい例では、活性化剤はＢ成分中に存在しない。活性化剤は、Ｂ成分中に、好ましくは１重量％未満、更に好ましくは１０００ｐｐｍ未満、特に好ましくは１００ｐｐｍ未満で存在してもよい。
【０００９】
支持体材料は、どのような公知の不活性な微粒子状キャリア材料でもよく、シリカ、ヒュームドシリカ、アルミナ、クレイ、タルク又は下記記載の他の材料を含むものであるが、これらに限定されるものではない。活性化剤は、好ましくは最初支持体上に置かれて担持された活性化剤となり、次に嵩高配位子メタロセン化合物と接触する。担持された活性化剤は、好ましくはシリカ又はヒュームドシリカに担持されたアルモキサン又は改質アルモキサン、更に好ましくはヒュームドシリカ支持体上に担持されたメチルアルモキサン及び／又は改質メチルアルモキサンである。
【００１０】
好ましくは、アルモキサン、更に好ましくはメチルアルモキサン又は改質メチルアルモキサンが、焼成シリカ又はヒュームドシリカ等の支持体と混合され担持された活性化剤を形成し、担持活性化剤は、脱気された鉱物油等の液体中に分散されてスラリー（分散体）を形成し、次に１以上の嵩高配位子メタロセン触媒化合物が分散体に添加されて混合される。触媒化合物は、好ましくは粉状又は溶液、更に好ましくは鉱物油の溶液として分散体へ添加される。１以上の触媒化合物が分散体へ添加される場合、触媒化合物は順次に添加してもよく、同時に添加してもよい。
担持されたＡ成分中の固体濃度は、例えばＡ成分重量の０重量％を超えて９０重量％まで、好ましくは１〜５０重量％、更に好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％に保たれる。又、支持体上に活性化剤は、例えば０．５〜７ｍｍｏｌ／ｇ、好ましくは２〜６ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは４〜５ｍｍｏｌ／ｇ存在する。
その後、フェノキシド触媒化合物（Ｂ成分）を含有する溶液が、スラリーと混合される。フェノキシド触媒化合物は、溶液中に、例えば溶媒及びフェノキシド触媒化合物の合計重量の２０重量％まで、好ましくは１０重量％まで、更に好ましくは５重量％まで、特に好ましくは１重量％未満、最も好ましくは１００ｐｐｍ〜１重量％で存在する。
【００１１】
支持体上、好ましくは担持された活性化剤上に存在する触媒（メタロセン）化合物の合計量は、例えば１〜４０μｍｏｌ／ｇ、好ましくは１０〜３８μｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは３０〜３６μｍｏｌ／ｇである。
触媒化合物の金属及び活性化剤の金属の最終モル比（即ち、嵩高配位子触媒化合物及びフェノキシド金属化合物の混合後のモル比）は、例えば１０００：１〜０．５：１、好ましくは３００：１〜１：１、更に好ましくは１５０：１〜１：１の範囲であり、ボラン、ボレート、アルミン酸塩等において、モル比は好ましくは１：１〜１０：１であり、アルキルアルミニウム化合物（ジエチルアルミニウムクロライドと水との反応物等）においてモル比は好ましくは０．５：１〜１０：１である。
【００１２】
担持されたＡ成分は、好ましくは鉱物油を含有し、その粘度は、好ましくは２０℃で１３０〜２０００センチポアズ（ｃＰ）、更に好ましくは２０℃で１５０〜１０００ｃＰ、特に好ましくは２０℃で１８０〜１５００ｃＰ、最も好ましくは２０℃で２００〜８００ｃＰである。粘度は、脱窒素ドライボックス（実質的に水分及び酸素フリー、即ち、それぞれ数ｐｐｍｖ未満の環境）中でブルックフィールド型ＬＶ粘度計を使用して測定される。担持されたＡ成分のスラリーは、脱窒素ドライボックス中で調製され、試験開始時での完全な懸濁を確保するために、密閉されたガラス容器中で粘度測定がされる直前まで攪拌される。粘度計の温度は、外側の温度浴を通して熱伝達媒体を粘度計中に循環させて制御される。軸はＳＣ４−３４軸であり、好ましくは、粘度計と共に販売されているレオカルク（Ｒｈｅｏｃａｌｃ）Ｖ１．１ソフトウェア（１９９５年著作権、ブルックフィールドエンジニアリングラボラトリーズ）が使用されてもよい。
担持されたＡ成分をＢ成分と混合して形成される組成物（混合物）は、例えば２０℃で１３０〜２０００ｃＰ、好ましくは２０℃で１５０〜１０００ｃＰ、更に好ましくは２０℃で１８０〜１５００ｃＰ、特に好ましくは２０℃で２００〜６００ｃＰの粘度を有する。
【００１３】
本発明の方法において使用できる触媒化合物としては、１以上の金属原子に結合している１以上の嵩高配位子を有するハーフサンドイッチ化合物及びフルサンドイッチ化合物等の従来の嵩高配位子メタロセン触媒化合物が挙げられる。通常の嵩高配位子メタロセン化合物は、一般に、１以上の金属原子に結合している１以上の嵩高配位子及び１以上の脱離基を含むものとして表される。好ましくは１以上の嵩高配位子は、金属原子にη−結合しており、更に好ましくは金属原子にη⁵−結合している。
嵩高配位子は、一般に、１以上の開環式、非環式、縮合環又は環式系、並びにそれらの組み合わせで表される。これら嵩高配位子、好ましくは環式又は環式系は、通常元素の周期律表の第１３〜１６族元素から選ばれる元素であり、好ましくは炭素、窒素、酸素、ケイ素、硫黄、リン、ゲルマニウム、ボロン及びアルミニウムの群から選ばれた少なくとも一種の原子からなる。最も好ましくは、環式又は環式系は、シクロペンタジエニル配位子又はシクロペンタジエニル配位子構造又はペンタジエン、シクロオクタテトラエンジイル又はイミド配位子等の他の同様の機能を有する配位子構造の炭素原子からなるものであるがこれらに限定されるものではない。金属原子は、好ましくは元素の周期律表の第３〜１５族元素、ランタニド系列元素及びアクチニド系列元素から選ばれる。金属は、好ましくは第４〜１２族、更に好ましくは第４、５及び６族の遷移金属、特に好ましくは第４族の遷移金属である。
【００１４】
本発明の嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、例えば下記式（Ｉ）で表される：
Ｌ^AＬ^BＭＱ_n ・・・式（Ｉ）
但し、Ｍは元素の周期律表の第３〜１２族金属元素、ランタニド系列元素及びアクチニド系列元素から選ばれる金属原子であり、Ｍは好ましくは第４、５又は６族遷移金属、更に好ましくは第４族遷移金属、特に好ましくはジルコニウム、ハフニウム又はチタンである。嵩高配位子Ｌ^A及びＬ^Bは、開環式、非環式若しくは縮合環又は環式系であり、補助配位子である。例えば、非置換又は置換のシクロペンタジエニル配位子、ヘテロ原子置換シクロペンタジエニル配位子又はヘテロ原子含有シクロペンタジエニル配位子が挙げられる。嵩高配位子としては、シクロペンタジエニル配位子、シクロペンタフェナントレニル配位子、インデニル配位子、ベンズインデニル配位子、フルオレニル配位子、オクタヒドロフルオレニル配位子、シクロオクタテトラエンジイル配位子、シクロペンタシクロドデセン配位子、アゼニル配位子、アズレン配位子、ペンタレン配位子、ホスホイル配位子、ホスフィンイミン配位子（ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／４０１２５及びＷＯ００／０５２３６号）、アミノメチルホスフィン配位子（米国特許番号第６０３４２４０号及びＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／４６２７１号）、ピロリル配位子、ピロゾリル配位子、カルバゾリル配位子、ボラベンゼン配位子、β−ジケチミネート配位子（米国特許番号第６０３４２５８号）、及びフラーレン配位子（米国特許番号第６００２０３５号）、並びにテトラヒドロインデニル配位子等のそれらの水素化物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。例えば、Ｌ^A及びＬ^Bは、Ｍへη−結合でき、好ましくはＭへη³−結合でき、更に好ましくはη⁵−結合できる他の配位子構造でもよい。
【００１５】
Ｌ^A又はＬ^Bの分子量（ＭＷ）は、例えば６０ａ．ｍ．ｕ．を超え、好ましくは６５ａ．ｍ．ｕ．を超える。又、Ｌ^A及びＬ^Bは、例えば窒素、ケイ素、ボロン、ゲルマニウム、硫黄及びリン等の１以上のヘテロ原子を含み、炭素原子と共に、開環式、非環式、又は好ましくは縮合環又はヘテロ−シクロペンタジエニル補助配位子等の環式系を形成してもよい。他のＬ^A及びＬ^B嵩高配位子として嵩高の、アミド、リン化物、アルコキシド、アリールオキシド、イミド、フェノール系化合物（ｃａｒｂｏｌｉｄｅｓ）、ホウ素化物（ｂｏｒｏｌｌｉｄｅｓ）、ポルフィリン、フタロシアニン、コリン及び他のポリアゾ大環状分子が挙げられるがこれらに限定されるものではない。それぞれのＬ^A及びＬ^Bは独立して、Ｍに結合している同一でも異なった種類でもよい嵩高配位子である。式（Ｉ）の例として、Ｌ^A又はＬ^Bいずれか１つのみが存在するものが挙げられる。
【００１６】
Ｌ^A及びＬ^Bとして、それぞれ独立して非置換又は置換基Ｒで置換されているものが挙げられる。置換基Ｒとして、水素、又は直鎖状又は分岐したアルキル基、又はアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基、アシル基、アロイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボモイル基、アルキルカルバモイル基又はジアルキルカルバモイル基、アシロキシ基、アシルアミノ基、アロイルアミノ基、直鎖状、分岐した又は環状アルキレン基の群から選ばれた少なくとも一種の基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。置換基Ｒは、好ましくは５０までの非水素原子、更に好ましくは１〜３０の炭素原子を有し、又、ハロゲン又はヘテロ原子で置換されていてもよい。アルキル置換基Ｒとして、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニル基、並びに、例えば、ｔ−ブチル、及びイソプロピル等のそれらの構造異性体全てが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１７】
他のヒドロカルビル基として、フルオロメチル、フルオロエチル、ジフルオロエチル、ヨードプロピル、ブロモヘキシル、クロロベンジル並びにトリメチルシリル、トリメチルゲルミル及びメチルジエチルシリル等のヒドロカルビル置換有機メタロイド基；トリス（トリフルオロメチル）シリル、メチルビス（ジフルオロメチル）シリル及びブロモメチルジメチルゲルミル等のハロカルビル置換有機メタロイド基；ジメチルボロン等の二置換ボロン基；ジメチルアミン、ジメチルホスフィン、ジフェニルアミン、メチルフェニルホスフィン等の二置換プニクトゲン基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキシ等のカルコゲン基；並びにメチルスルフィド及びエチルスルフィドが挙げられる。非水素置換基Ｒは、炭素、ケイ素、ボロン、アルミニウム、窒素、リン、酸素、スズ、硫黄、及びゲルマニウム原子を含んでいてもよく、例えば、ブテン−３−イル、プロペン−２−イル及びヘキセン−５−イル等のビニル末端配位子を含むオレフィン性不飽和置換基等のオレフィンでもよいが、これらに限定されるものではない。同様に、２以上のＲ基、好ましくは２つの隣接したＲ基は、互いに結合し、炭素、窒素、酸素、リン、ケイ素、ゲルマニウム、アルミニウム、ボロン又はそれらの組み合わせから選ばれた３〜３０の原子を有する環構造を形成してもよい。同様に、１−ブタニル等の置換基Ｒ基は、金属Ｍへの炭素シグマ結合を形成してもよい。
【００１８】
１以上の脱離基Ｑ等の他の配位子が、金属Ｍに結合していてもよい。本発明の目的の範囲内において、「脱離基」は、嵩高配位子メタロセン触媒化合物から引き抜かれ、１以上のオレフィンを重合できる嵩高配位子メタロセン触媒カチオンを形成するものならどのような配位子でもよい。Ｑは、例えばＭへのシグマ結合を有するモノアニオン性活性配位子である。金属の酸化状態に応じて、上記式（Ｉ）が、中性嵩高配位子メタロセン触媒化合物を表すように、ｎは０、１又は２の値をとる。
Ｑ配位子として、アミン等の弱塩基、ホスフィン、エーテル、カルボキシレート、ジエン、１〜２０の炭素原子を含有するヒドロカルビル基、ハイドライド、ハロゲン及びこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されるものではない。２以上のＱが、縮合環又は環式系の一部を形成してもよい。Ｑ配位子の他の例として、置換基Ｒとして上記に記載されたもの及びシクロブチル、シクロヘキシル、ヘプチル、トリル、トリフルオロメチル、テトラメチレン、ペンタメチレン、メチリデン、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、フェノキシ、ビス（Ｎ−メチルアニリド）、ジメチルアミド、及びジメチルホスファイド基が挙げられる。
【００１９】
例えば、本発明の嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、式（Ｉ）においてＬ^A及びＬ^Bが１以上の架橋基Ａにより互いに架橋しているものであり、下記式（ＩＩ）により表されるものでもよい。
Ｌ^AＡＬ^BＭＱ_n ・・・（ＩＩ）
これら式（ＩＩ）により表される架橋化合物は、架橋した嵩高配位子メタロセン触媒化合物として公知である。Ｌ^A、Ｌ^B、Ｍ、Ｑ及びｎは、上記に定義されているとおりである。架橋基Ａとして、普通２価の成分とされる炭素、酸素、窒素、硫黄、ケイ素、アルミニウム、ボロン、ゲルマニウム及びスズ原子の群から選ばれた少なくとも一種(但し、これらに限定されるものではない。）の第１３〜１６族元素を含有する架橋基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。好ましくは架橋基Ａは、炭素、ケイ素又はゲルマニウム原子を含み、更に好ましくはＡは、１以上のケイ素原子又は１以上の炭素原子を含む。架橋基Ａは、ハロゲン及び鉄を含有する上記記載の置換基Ｒを含有してもよい。架橋基Ａは、Ｒ’₂Ｃ、Ｒ’₂Ｓｉ、Ｒ’₂ＳｉＲ’₂Ｓｉ、Ｒ’₂Ｇｅ、Ｒ’Ｐで表されてもよく、Ｒ’は独立して、ハイドライド、ヒドロカルビル、置換ヒドロカルビル、ハロカルビル、置換ハロカルビル、ヒドロカルビル−置換有機メタロイド、ハロカルビル−置換有機メタロイド、二置換ボロン、二置換プニクトゲン、置換カルコゲン、又はハロゲンのラジカル基であってもよいが、これらに限定されるものではなく、２以上のＲ’は結合して環式又は環式系を形成してもよい。例えば、式（ＩＩ）の架橋した嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、２以上の架橋基Ａ（欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−６６４３０１号）を有するか、架橋はヘテロ原子によるものである（米国特許番号第５９８６０２５号）。
【００２０】
嵩高配位子メタロセン触媒化合物として、例えば式（Ｉ）及び（ＩＩ）の嵩高配位子Ｌ^A及びＬ^B上のＲ置換基が、それぞれの嵩高配位子上で同一でも異なっていてもよい数の置換基により置換されているものが挙げられる。又、式（Ｉ）及び（ＩＩ）の嵩高配位子Ｌ^A及びＬ^Bは、それぞれ異なるものでもよい。
本発明に使用できる他の嵩高配位子メタロセン触媒化合物及び触媒系は、米国特許番号第５０６４８０２、５１４５８１９、５１４９８１９、５２４３００１、５２３９０２２、５２７６２０８、５２９６４３４、５３２１１０６、５３２９０３１、５３０４６１４、５６７７４０１、５７２３３９８、５７５３５７８、５８５４３６３、５８５６５４７、５８５８９０３、５８５９１５８、５９００５１７、５９３９５０３、５９６２７１８、５９６５０７８、５９６５７５６、５９６５７５７、５９７７２７０、５９７７３９２、５９８６０２４、５９８６０２５、５９８６０２９、５９９００３３及び５９９０３３１号、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９３／０８２２１、ＷＯ９３／０８１９９、ＷＯ９５／０７１４０、ＷＯ９８／１１１４４、ＷＯ９８／４１５３０、ＷＯ９８／４１５２９、ＷＯ９８／４６６５０、ＷＯ９９／０２５４０、ＷＯ９９／１４２２１及びＷＯ９８／５０３９２号並びに欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０５７８８３８、ＥＰ−Ａ−０６３８５９５、ＥＰ−Ｂ−０５１３３８０、ＥＰ−Ａ１−０８１６３７２、ＥＰ−Ａ２−０８３９８３４、ＥＰ−Ｂ１−０６３２８１９、ＥＰ−Ｂ１−０７３９３６１、ＥＰ−Ｂ１−０７４８８２１及びＥＰ−Ｂ１−０７５７９９６号に記載されたものでもよい。
【００２１】
本発明に使用できる嵩高配位子メタロセン触媒化合物として、例えば架橋したヘテロ原子、モノ嵩高配位子メタロセン化合物が挙げられる。これらの触媒及び触媒系の種類は、例えば、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９２／００３３３、ＷＯ９４／０７９２８、ＷＯ９１／０４２５７、ＷＯ９４／０３５０６、ＷＯ９６／００２４４、ＷＯ９７／１５６０２及びＷＯ９９／２０６３７号、米国特許番号第５０５７４７５、５０９６８６７、５０５５４３８、５１９８４０１、５２２７４４０及び５２６４４０５号並びに欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０４２０４３６号に記載されている。
【００２２】
又、嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表されてもよい。
Ｌ^CＡＪＭＱ_n ・・・（ＩＩＩ）
但し、Ｍは元素の周期律表の第３〜１６族金属元素、アクチニド系列元素及びランタニド系列元素から選ばれる金属であり、好ましくは第４〜１２族遷移金属、更に好ましくは第４、５又は６族遷移金属、特に好ましくはどのような酸化状態でもよい第４族遷移金属、最も好ましくはチタンであり；Ｌ^CはＭに結合された非置換又は置換の嵩高配位子であり；ＪはＭに結合し；ＡはＬ^C及びＪに結合し；Ｊはヘテロ原子補助配位子であり；Ａは架橋基であり；Ｑは一価のアニオン性配位子であり；ｎは０、１又は２の整数である。上記式（ＩＩＩ）中、Ｌ^C、Ａ及びＪは、縮合環系を形成する。例えば、式（ＩＩＩ）のＬ^Cは上記Ｌ^Aとして記載されたものと同様であり、式（ＩＩＩ）のＡ、Ｍ及びＱは、上記式（Ｉ）で記載されたものと同様である。
式（ＩＩＩ）中、Ｊはヘテロ原子含有配位子であり、Ｊは元素の周期律表の第１５族元素から選ばれる配位数３の元素又は第１６族元素から選ばれる配位数２の元素である。Ｊは、好ましくは窒素、リン、酸素又は硫黄原子であり、特に好ましくは窒素である。
又、嵩高配位子型メタロセン触媒化合物としては、例えば金属、好ましくは遷移金属、嵩高配位子、好ましくは非置換又は置換のπ結合した配位子、及び１以上のヘテロアリル成分、の錯体が挙げられ、これらは米国特許番号第５５２７７５２及び５７４７４０６号、及び欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−０７３５０５７号に記載されている。
【００２３】
又、嵩高配位子メタロセン触媒化合物は式（ＩＶ）で表されるものでもよい。
Ｌ^DＭＱ₂（ＹＺ）Ｘ_n ・・・式（ＩＶ）
但し、Ｍは第３〜１６族の金属元素、好ましくは第４〜１２族遷移金属、特に好ましくは第４、５又は６族遷移金属であり；Ｌ^DはＭに結合している嵩高配位子であり；Ｑはそれぞれ独立してＭに結合し、Ｑ₂（ＹＺ）は１の電荷を有する多座配位子を形成し；Ａ又はＱは両方ともＭに結合している一価のアニオン性配位子であり；ｎが２の場合、Ｘは一価のアニオン性基であり、ｎが１の場合、２価のアニオン性基であり；ｎは１又は２である。）
式（ＩＶ）中、Ｌ及びＭは、上記式（Ｉ）において記載されたものと同様である。Ｑは、上記式（Ｉ）において記載されたものと同様であり、好ましくはＱは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＲ₂−及び−Ｓ−の群から選ばれた一種であり；ＹはＣ又はＳであり；Ｚは−ＯＲ、−ＮＲ₂、−ＣＲ₃、−ＳＲ、−ＳｉＲ₃、−ＰＲ₂、−Ｈ、及び非置換又は置換のアリール基の群から選ばれた一種であるが、Ｑが−ＮＲ−ならＺは−ＯＲ、−ＮＲ₂、−ＳＲ、−ＳｉＲ₃、−ＰＲ₂及び−Ｈの群から選ばれた一種であり；Ｒは炭素、ケイ素、窒素、酸素及びリンの群から選ばれた一種であり、Ｒは好ましくは１〜２０の炭素原子を含有する炭化水素基、更に好ましくはアルキル、シクロアルキル、又はアリール基であり；ｎは１〜４、好ましくは１又は２の整数であり；ｎが２の場合Ｘは一価のアニオン性基であり、ｎが１の場合Ｘは２価のアニオン性基であり；好ましくはＸはカルバメート、カルボキシレート、又は、Ｑ、Ｙ及びＺの組み合わせで表される他のヘテロアリル成分である。
【００２４】
本発明のメタロセン型触媒化合物は、嵩高配位子の環式又は環式系が１以上のヘテロ原子又はこれらの組み合わせを含むようなヘテロ環状配位子錯体でもよい。ヘテロ原子としては、第１３〜１６族元素、好ましくは窒素、ボロン、硫黄、酸素、アルミニウム、ケイ素、リン及びスズが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらメタロセン触媒化合物の例は、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／３３２０２、ＷＯ９６／３４０２１、ＷＯ９７／１７３７９、ＷＯ９８／２２４８６及びＷＯ９９／４００９５号（ジカルバモイル金属錯体）及び欧州特許番号ＥＰ−Ａ１−０８７４００５号並びに米国特許番号第５６３７６６０、５５３９１２４、５５５４７７５、５７５６６１１、５２３３０４９、５７４４４１７及び５８５６２５８号に記載されている。
新規なメタロセン触媒化合物の他の例として、米国出願番号第０９／１０３６２０号（１９９８年６月２３日出願）に記載されたもの等の、ピリジン又はキノリン成分含有二座配位子をベースとする遷移金属触媒として知られる錯体が挙げられる。又、嵩高配位子メタロセン触媒化合物として、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／０１４８１及びＷＯ９８／４２６６４号に記載されたものが挙げられる。
【００２５】
又、本発明のメタロセン触媒化合物は、下記式（Ｖ）で表されたものでもよい。
（（Ｚ）ＸＡ_t（ＹＪ））_qＭＱ_n ・・・（Ｖ）
但し、Ｍは元素の周期律表の第３〜１３族元素、ランタニド系列元素及びアクチニド系列元素から選ばれる金属であり；
ＱはＭに結合し、Ｑはそれぞれ一価、二価又は三価のアニオンであり；
Ｘ及びＹはＭに結合し；Ｘ及びＹの１以上はヘテロ原子であり、好ましくはＸ及びＹの両方がヘテロ原子であり；Ｙはヘテロ環Ｊを構成し、Ｊは２〜５０の非水素原子、好ましくは２〜３０の炭素原子を有し；ＺはＸに結合し、Ｚは１〜５０の非水素原子、好ましくは１〜５０の炭素原子を含有し、Ｚは好ましくは３〜５０原子、更に好ましくは３〜３０の炭素原子を含有する環状基であり；ｔは０又は１であり；ｔが１の場合、ＡはＸ、Ｙ又はＪの１以上、好ましくはＸ及びＪに結合している架橋基であり、；ｑは１又は２であり；ｎはＭの酸化状態に応じて１〜４の整数である。例えば、Ｘが酸素又は硫黄の場合、Ｚは任意である。又、Ｘが窒素又はリンの場合、Ｚが存在する。Ｚは、好ましくはアリール基、更に好ましくは置換アリール基である。
【００２６】
本発明の範囲内にあるメタロセン触媒化合物として、ジョンソンら著、「新規なエチレン及びα−オレフィン重合用Ｐｄ（ＩＩ）及びＮｉ（ＩＩ）ベースの触媒」、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９９５年、１１７巻、６４１４〜６４１５頁；ジョンソンら著、「パラジウム（ＩＩ）触媒によるエチレン及びプロピレンと機能性化ビニルモノマーとの共重合」、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９９６年、１１８巻、２６７〜２６８頁；ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／２３０１０号（１９９６年８月１日公開）、ＷＯ９９／０２４７２号、並びに米国特許番号第５８５２１４５、５８６６６６３及び５８８０２４１号に記載されているＮｉ²⁺及びＰｄ²⁺の錯体が挙げられる。これら錯体は、記載されたジハライド錯体の、ジアルキルエーテル付加物又はアルキル化反応生成物のどちらでもよく、下記記載のように本発明の活性化剤によりカチオン状態へと活性化できる。他のメタロセン触媒としては、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／５０３１３号に記載されているニッケル錯体が挙げられる。
同様に、メタロセン触媒として、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／２３０１０及びＷＯ９７／４８７３５号並びにギブソン（Ｇｉｂｓｏｎ）らにより、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．、８４９−８５０頁（１９９８年）に開示されている第８〜１０族金属化合物のジイミンベースの配位子が挙げられる。第６族嵩高配位子メタロセン触媒系は、米国特許番号第５９４２４６２号に記載されている。
【００２７】
又、メタロセン触媒として、欧州特許番号ＥＰ−Ａ２−０８１６３８４号及び米国特許番号第５８５１９４５号に記載されている第５、６族金属イミド錯体も挙げられる。更にメタロセン触媒として、Ｄ．Ｈ．マコンビル（ＭｃＣｏｎｖｉｌｌｅ）ら著、ＯｒｇａｎｏＭｅｔｈａｌｉｃｓ、１１９５、１４、５４７８−５４８０頁に記載された架橋したビス（アリールアミド）第４族化合物が挙げられる。更に、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／２７４３９号に記載されている、架橋したビス（アミド）触媒化合物が挙げられる。他のメタロセン触媒として、米国特許番号第５８５２１４６号中に記載されているビス（ヒドロキシ芳香族窒素配位子）も挙げられ、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／４６６５１号に記載された１以上の第１５族原子を含有するものも挙げられる。更に他のメタロセン触媒として、ＷＯ９９／２０６６５号及び６０１０７９４号に記載されているような多核メタロセン触媒、並びに欧州特許番号ＥＰ−Ａ２−０９６９１０１号に記載されている遷移金属メタアラキ酸系（ａｒａｃｙｌｅ）構造が挙げられる。他のメタロセン触媒として、欧州特許番号ＥＰ−Ａ１−０９５０６６７号に記載されたもの、二重架橋したメタロセン触媒（欧州特許番号ＥＰ−Ａ１−０９７００７４号）、つながれているメタロセン（欧州特許番号ＥＰ−Ａ２−９７０９６３号）及び米国特許番号第６００８３９４号に記載されているスルホニル触媒も挙げられる。
上記本発明の嵩高配位子メタロセン触媒は、その構造的、光学的、鏡像的異性体（例えば、米国特許番号第５８５２１４３号記載のメソ及びラセミ構造異性体）を含むことは当然である。
【００２８】
好ましい嵩高配位子メタロセン触媒化合物として、例えば、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジ−ネオペンチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ−ネオペンチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）バナジウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンメチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンエチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンフェニルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムエチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムフェニルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンメチルブロマイド、
シクロペンタジエニルチタントリメチル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリフェニル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリ−ネオペンチル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリメチル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリフェニル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリ−ネオペンチル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリメチル、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド、
ペンタエチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド；
ビス（インデニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジハライド、
ビス（１、２−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（１、２−ジエチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド；
ジメチルシリルジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
メチルホスフィンジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
メチレンジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２、５−ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２，５−ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２、５ジメチルシクロペンタジエニルフルオレニル）チタンジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
エチリデン（１−インデニルテトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（２−メチル−４−ｔ−ブチル−１−シクロペンタジエニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）、ジクロライド、
エチリデン（１−インデニル−２，３，４，５−テトラメチル−１−シクロペンタジエニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、並びに
エチリデン（１−インデニル−２，３，４，５−テトラメチル−１−シクロペンタジエニル）チタン（ＩＶ）ジクロライドが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
特に好ましいメタロセン触媒は、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ラセミ−ジメチルシリルビス（２−メチル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、ラセミ−ジメチルシリルビス（２−メチル−４−（１−ナフチル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、及びラセミ−ジメチルシリルビス（２−メチル−４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライドである。
好ましいフェノキシド触媒として、下記式（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で表されるものが挙げられる。
【００３０】
【化１】

【００３１】
【化２】

【００３２】
但し、Ｒ¹は水素又はＣ₄〜Ｃ₁₀₀基、好ましくはｔ−アルキル基、更に好ましくはＣ₄〜Ｃ₂₀アルキル基、特に好ましくはＣ₄〜Ｃ₂₀ｔ−アルキル基、最も好ましくは中性Ｃ₄〜Ｃ₁₀₀基であり、Ｍに結合してもしなくてもよく、１以上のＲ²〜Ｒ⁵はヘテロ原子含有基であり、残りのＲ²〜Ｒ⁵はそれぞれ独立して水素又はＣ₁〜Ｃ₁₀₀基、好ましくはＣ₄〜Ｃ₂₀アルキル基（更に好ましくはブチル、イソブチル、ペンチルヘキシル、ヘプチル、イソヘキシル、オクチル、イソオクチル、デシル、ノニル、ドデシル基）であり、Ｒ²〜Ｒ⁵のいずれもＭに結合してもしなくてもよく；Ｏは酸素であり；Ｍは第３〜１０族の遷移金属又はランタニド系列元素金属、好ましくは第４族金属、更に好ましくはＴｉ、Ｚｒ又はＨｆであり；ｎは金属Ｍの原子価、好ましくは２、３、４、又は５であり；Ｑはアルキル、ハロゲン、ベンジル、アミド、カルボキシレート、カルバメート、チオレート、ハイドライド又はアルコキシド基、又はＲ¹〜Ｒ⁵のどれでもよいヘテロ原子含有Ｒ基への結合である。
【００３３】
ヘテロ原子含有基は、ヘテロ原子又は、炭素、シリカ若しくはその他のヘテロ原子に結合しているヘテロ原子でもよい。好ましいヘテロ原子として、ボロン、アルミニウム、ケイ素、窒素、リン、砒素、スズ、鉛、アンチモン、酸素、セレン及びテルルが挙げられる。更に好ましいヘテロ原子は、窒素、酸素、リン及び硫黄であり、特に好ましくは、酸素及び窒素である。ヘテロ原子自身は、直接フェノキシド環に結合しても、フェノキシド環に結合している他の１以上の原子に結合してもよい。ヘテロ原子含有基は、１以上の同一でも異なっていてもよいヘテロ原子を含有してもよい。好ましいヘテロ原子基として、イミン、アミン、オキシド、ホスフィン、エーテル、ケテン、ヘテロ環状オキサゾリン、オキサゾリン、及びチオエーテルが挙げられる。特に好ましいヘテロ原子基は、イミンである。２つの隣接したＲ基は環構造、好ましくは５員環又は６員環を形成してもよい。同様に、Ｒ基は、多環構造を形成してもよい。例えば、２以上のＲ基は、５員環を形成しなくてもよい。
これらフェノキシド触媒は、活性化剤で活性化される。活性化剤として、アルキルアルミニウム化合物（ジエチルアルミニウムクロライド等）、アルモキサン、改質アルモキサン、配位していないアニオン、配位していない第１３族金属又はメタロイドアニオン、ボラン及びボレートが挙げられ、好ましい例を下記に記載する。
【００３４】
例えば、米国出願番号第０９／４５１７９２号（１９９９年１２月１日出願）に記載されたフェノキシド触媒化合物の種類が挙げられる。
フェノキシド触媒化合物としては、好ましくは：
ビス（Ｎ−メチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ｔ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ヘキシル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−フェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−メチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジピバレート、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）チタン（ＩＶ）ジピバレート、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジ（ビス（ジメチルアミド））、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−アミルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−オクチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ハフニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソブチル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソブチル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（Ｎ−ヘキシル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−フェニル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’−メチルシクロヘキシル）ｌサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−トリフェニルメチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（トリメチルシリルサリチルイミノ））ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３−（フェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−（２’，６’−ジフェニルフェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−ｔ−ブチル−５−メトキシサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジ（ビス（ジメチルアミド））、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）ハフニウム（ＩＶ）ジベンジル、
（Ｎ−フェニル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリベンジル、
（Ｎ−（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリベンジル、
（Ｎ−（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）チタン（ＩＶ）トリベンジル、及び
（Ｎ−（２’，６’−ジイソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリクロライドの群から選ばれた少なくとも一種が挙げられる。
【００３５】
上記触媒化合物は、通常種々の方法で活性化され、空の配位座を有する触媒系を生成し、それはオレフィンへ配位し、挿入し、重合を行う。本発明の目的の範囲内で、「活性化剤」とは、上記本発明の触媒化合物を活性化できる化合物、構成成分又は方法を表す。活性化剤としては、例えば、ルイス酸又は配位していないイオン性（自らがイオンとなりやすいものをいう）活性化剤又は、イオン化（相手をイオンとするものをいう）活性化剤又はルイス塩基、アルキルアルミニウム、従来の共触媒及びそれらの組み合わせ等の他の化合物等の、中性メタロセン触媒化合物を触媒活性な嵩高配位子メタロセンカチオンへ変換できるものであるが、これらに限定されるものではない。本発明の範囲内で、活性化剤としてアルモキサン又は改質アルモキサンが使用できるが、中性又はイオン性のイオン化活性化剤として、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリスパーフルオロフェニルボロンメタロイド前駆体又はトリスパーフルオロナフチルボロンメタロイド前駆体、ポリハロゲン化ヘテロボランアニオン（ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／４３９８３号）、硼酸（米国特許番号第５９４２４５９号）又はこれらの組み合わせ等も、中性メタロセン触媒化合物をイオン化できるものとして使用できる。
【００３６】
又、活性プロトンを含有しないで、触媒カチオン及び配位していないアニオンの両方を生成可能なイオン性のイオン化化合物を使用する活性化法も、同様に検討されており、欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０４２６６３７、ＥＰ−Ａ−０５７３４０３号及び米国特許番号第５３８７５６８号に記載されている。アルミニウムベースのイオン化活性化剤は、米国特許番号第５６０２２６９号に記載されており、ボロン及びアルミニウムベースのイオン化活性化剤は、ＰＣＴ国際公開番号９９／０６４１４号に記載されており、本発明に使用できる。
アルモキサン及び改質アルモキサンを調製する種々の方法として、例えば、米国特許番号第４６６５２０８、４９５２５４０、５０９１３５２、５２０６１９９、５２０４４１９、４８７４７３４、４９２４０１８、４９０８４６３、４９６８８２７、５３０８８１５、５３２９０３２、５２４８８０１、５２３５０８１、５１５７１３７、５１０３０３１、５３９１７９３、５３９１５２９、５６９３８３８、５７３１２５３、５７３１４５１、５７４４６５６、５８４７１７７、５８５４１６６、５８５６２５６及び５９３９３４６号、欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０５６１４７６、ＥＰ−Ｂ１−０２７９５８６、ＥＰ−Ａ−０５９４−２１８及びＥＰ−Ｂ１−０５８６６６５号並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９４／１０１８０及びＷＯ９９／１５５３４号に記載された方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。好ましいアルモキサンとして、改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）共触媒タイプ３Ａ（アクゾケミカル社（ＡｋｚｏＣｈｅｍｉｃａｌｓ、Ｉｎｃ）から米国特許番号第５０４１５８４号の実施品、商標「改質メチルアルモキサンタイプ３Ａ」として市販されている）が挙げられる。
【００３７】
活性化剤としての有機アルミニウム化合物として、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム及びトリ−ｎ−オクチルアルミニウムが挙げられる。
イオン化化合物は、活性プロトン、又はイオン化化合物の残存イオンに対し、影響されるが配位しない、若しくは緩やかに配位するだけの他のカチオンを含有してもよい。これらの化合物は、欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０５７０９８２、ＥＰ−Ａ−０５２０７３２、ＥＰ−Ａ−０４９５３７５、ＥＰ−Ｂ１−０５００９４４、ＥＰ−Ａ−０２７７００３及びＥＰ−Ａ−０２７７００４号、米国特許番号第５１５３１５７、５１９８４０１、５０６６７４１、５２０６１９７、５２４１０２５、５３８４２９９及び５５０２１２４号並びに米国特許出願公開第０８／２８５３８０号（１９９４年８月３日出願）に記載されている。
他の活性化剤としては、トリス（２，２’，２’’−ノナフルオロビフェニル）フルオロアルミン酸等のＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／０７５１５号に記載されたものが挙げられる。活性化剤の組み合わせも、本発明の範囲内であり、例えば、欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−０５７３１２０号、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９４／０７９２８及びＷＯ９５／１４０４４号並びに米国特許番号第５１５３１５７及び５４５３４１０号に記載されたアルモキサン及びイオン化活性化剤の組み合わせが挙げられる。ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／０９９９６号には、過塩素酸塩、過ヨウ素酸塩、ヨウ素酸塩又はそれらの水和物により、メタロセン触媒化合物を活性化させることが記載されている。ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／３０６０２及びＷＯ９８／３０６０３号には、メタロセン触媒化合物の活性化剤としてリチウム（２，２’−ビスフェニル−ジトリメチルシリケート）・４ＴＨＦを使用することが記載されている。ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／１８１３５号には、有機ボロン−アルミニウム活性化剤を使用することが記載されている。欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−０７８１２９９号には、シリリウム（ｓｉｌｙｌｉｕｍ）塩を、配位していない互換性のあるアニオンと組み合わせて使用することが記載されている。放射線（欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−０６１５９８１号に記載されている）、電気化学酸化等を使用する活性化法が、中性メタロセン触媒化合物又は前駆体からオレフィン重合可能なメタロセンカチオンを提供する活性化法として記載されている。メタロセン触媒化合物の他の活性化剤又は活性化法が、例えば、米国特許番号第５８４９８５２、５８５９６５３及び５８６９７２３号並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／３２７７５、ＷＯ９９／４２４６７号（ジオクタデシルメチルアンモニウムビス（トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン）ベンズイミダゾリド）に記載されている。
【００３８】
本発明の改良された触媒の調製における活性化共触媒として使用できるボロン化合物は、三置換アンモニウム塩であり、例えば：
トリメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、
トリ（ｔ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラフェニルボレート、
トリメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｓｅｃ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリメチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
トリエチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
トリプロピルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
ジメチル（ｔ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、及び
Ｎ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、
ジ（ｉ−プロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルフォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｏ−トリル）フォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及び
トリ（２，６−ジメチルフェニル）フォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００３９】
上記触媒化合物、活性化剤及び／又は触媒系は、１以上の支持体材料又はキャリアと組み合わせることができる。活性化剤は、例えば支持体と混合されて、担持された活性化剤を形成するが、その場合、活性化剤は、支持体又はキャリア上に担持され、支持体等と接触し、気化され、結合され、一体化され、吸着され又は吸収される。又、触媒化合物は、好ましくは支持体と混合されて、担持された触媒化合物を形成する。その場合、触媒化合物は、支持体又はキャリア上に担持され、支持体等と接触し、気化され、結合され、一体化され、吸着され又は吸収される。又、触媒化合物及び活性化剤は、組み合わされ、その後支持体と接触して、担持された触媒系を形成してもよい。その場合、触媒系は、支持体又はキャリア上に担持され、支持体等と接触し、気化され、結合され、一体化され、吸着され又は吸収される。
【００４０】
支持体材料として、好ましくは無機系又は有機支持体材料、更に好ましくは多孔性支持体材料が挙げられる。無機系支持体材として、無機系酸化物及び無機系塩化物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。他のキャリアとして、ポリスチレン等の樹脂系支持体材料、ポリスチレンジビニルベンゼン、ポリオレフィン若しくは高分子系化合物等の機能性化又は架橋された有機支持体、他の有機若しくは無機系支持体材料、又はそれらの混合物が挙げられる。
好ましい支持体材料として、第２，３，４，５，１３又は１４族金属酸化物等の無機酸化物が挙げられる。好ましい支持体として、シリカ、ヒュームドシリカ、アルミナ（ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／６００３３号）、シリカ−アルミナ及びそれらの混合物が挙げられる。他の使用できる支持体として、マグネシア、チタニア、ジルコニア、塩化マグネシウム（米国特許番号第５９６５４７７号）、モンモリロナイト（欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１０５１１６６５号）、フィロケイ酸塩、ゼオライト、タルク、及びクレイ（米国特許番号第６０３４１８７号）が挙げられる。これら支持体材料の組み合わせも同様に使用でき、例えば、シリカ−クロム、シリカ−アルミナ、及びシリカ−チタニアが挙げられる。支持体材料として更に、欧州特許番号ＥＰ−Ｂ１−０７６７１８４号に記載されている多孔性アクリル系ポリマーが挙げられる。他の支持体材料として、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／４７５９８号に記載されているナノ複合物、ＷＯ９９／４８６０５号に記載されているエアロゲル、米国特許番号第５９７２５１０号に記載されている球晶並びにＷＯ９９／５０３１１号に記載されているポリマービーズが挙げられる。又、好ましい支持体として、ヒュームドシリカが挙げられ、商標カボシル（Ｃａｂｏｓｉｌ）ＴＳ−６１０としてキャボット社（ＣａｂｏｔＣｏｒｐ．）から市販されている。ヒュームドシリカは、通常、７〜３０ｎｍの粒径を有する粒子状シリカであり、ジメチルシリルジクロライド処理をして、その水酸基の大部分をキャップしたものである。
【００４１】
支持体材料は、好ましくは無機系酸化物であり、好ましくは１０〜７００ｍ²／ｇの表面積、０．１〜４．０ｃｃ／ｇの孔隙量及び５〜５００μｍの平均粒径を有する。更に好ましくは、支持体材料の表面積は５０〜５００ｍ²／ｇ、孔隙量は０．５〜３．５ｃｃ／ｇ、平均粒径は１０〜２００μｍである。特に好ましくは支持体材料の表面積は１００〜１０００（820は４００）ｍ²／ｇ、孔隙量は０．８〜５．０ｃｃ／ｇ、平均粒径は５〜１００μｍである。本発明の支持体材料の平均孔径は、通常１０〜１０００オングストローム、好ましくは５０〜５００オングストローム、特に好ましくは７５〜４５０オングストロームの範囲である。
【００４２】
担持された活性化剤の製造及び活性化剤を支持体材料と組み合わるための多くの方法が知られている。例えば、支持体材料は、触媒化合物、活性化剤及び／又は触媒系の混合との前に、化学的処理及び／又は脱水処理をされてもよい。
又、アルモキサンは、支持体材料、好ましくは多孔性支持体材料、更に好ましくは無機系酸化物、特に好ましくはシリカと混合される。
更に、様々な脱水レベルの支持体材料、好ましくは２００〜６００℃で脱水されたシリカが有機アルミニウム又はアルモキサン化合物と混合される。有機アルミニウム化合物が使用されることが好ましく、例えば、トリメチルアルミニウム及び水との反応の結果として、活性化剤が支持体材料中又は上に形成される。
又、ルイス塩基含有支持体基体がルイス酸性活性化剤と反応し、ルイス酸化合物に結合した支持体が形成される。ルイス塩基とシリカ水酸基は、支持体へのこの結合方法が起こる金属／メタロイド酸化物の典型である。これらは、米国出願公開第０９／１９１９２２号（１９９８年１１月１３日出願）に記載されている。
【００４３】
活性化剤の担持例は、米国特許番号第５４２７９９１号に記載されており、トリスパーフルオロフェニルボロン由来の担持された、配位していないアニオンが記載されている；米国特許番号第５６４３８４７号には、第１３族ルイス酸化合物と、シリカ等の金属酸化物との反応が論じられ、トリスパーフルオロフェニルボロンとシラノール基（ケイ素の水酸基）との反応が記載されており、遷移金属系有機金属触媒化合物をプロトン化できる結合したアニオンを生成し、結合したアニオンにより釣り合っている触媒作用的に活性なカチオンを形成する。カルボカチオン性重合用に適する固定化ＩＩＩＡ族ルイス酸触媒は、米国特許番号第５２８８６７７号に記載されている；更にＪａｍｅｓＣ．Ｗ．Ｃｈｉｅｎ、Ｊｏｕｒ．Ｐｏｌｙ．Ｓｃｉ．：ＰｔＡ：Ｐｏｌｙ．Ｃｈｅｍ、Ｖｏｌ．２９、１６０３−１６０７（１９９１）には、シリカ（ＳｉＯ₂）及びメタロセンと反応させたメチルアルモキサン（ＭＡＯ）のオレフィン重合有用性が記載されており、シリカの表面水酸基中の酸素原子を通してアルミニウム原子とシリカとの共有結合があることが記載されている。
【００４４】
担持された活性化剤の好ましい調製法は、攪拌され、温度及び圧力が制御された容器中で活性化剤及び適切な溶媒の溶液を調製し、次に支持体材料を０〜１００℃の温度で添加し、支持体を活性化剤溶液と２４時間まで混合し、熱及び圧力を組み合わせて溶媒を除去し、自由流動粉体を製造する。温度は４０〜１２０℃であり、圧力は５〜２０ｐｓｉａ（３４．５〜１３８ｋＰａ）の範囲である。不活性ガスによるスイープも同様に溶媒除去の補助として使用できる。適当な溶媒中で支持体材料のスラリー化をして次に活性化剤を加える等の添加の順序が採用できる。
支持体材料に対する活性化剤の重量％は、例えば１０〜７０重量％、好ましくは２０〜６０重量％、更に好ましくは３０〜５０重量％、特に好ましくは３０〜４０重量％の範囲である。
【００４５】
本発明の方法に使用できる、担持された活性化剤及び嵩高配位子メタロセン触媒化合物を含有するスラリーは、通常担持された活性化剤及び／又は触媒化合物を液体希釈剤中で懸濁して調製される。液体希釈剤は、通常３〜７の炭素原子を有するアルカン、好ましくは分岐したアルカン又は鉱物油等の有機組成物である。本発明で使用される希釈剤は、重合条件下で液体であり、比較的不活性である。スラリー中の成分濃度は、活性化剤に対する触媒化合物の目標割合及び／又は触媒化合物に対する触媒化合物の目標割合が反応器へ供給されるように制御される。成分は、通常鉱物油のスラリーとして重合反応器に供給される。オイル中の固体濃度は、１０〜１５重量％、好ましくは１１〜１４重量％である。
【００４６】
金属化合物及び／又は活性化剤は、微粒子フィラー材料等の支持体材料と組み合わされ、噴霧乾燥され、自由流動粉体を形成してもよい。噴霧乾燥は公知であり、例えば欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０６６８２９５Ｂ１号並びに米国特許番号第５６７４７９５及び米国特許番号第５６７２６６９号に記載されている担持された触媒の噴霧乾燥が挙げられる。通常、触媒化合物及び任意の活性化剤を溶液中に含ませ、（必要なら触媒化合物と活性化剤とを反応させ）触媒を噴霧乾燥し、シリカ又は商標カボシル等のフィラー材料を添加し（上記記載の通り）、次いで溶液を高圧加圧してノズルを通過させる。溶液は、表面上に噴霧され、又は液滴が空中で乾燥するように噴霧される。通常使用される方法は、トルエン中にシリカを分散させ、活性化剤溶液中で攪拌し、次に触媒化合物溶液中で攪拌する。通常のスラリー濃度は５〜８重量％である。この混合割合は、３０分程度の緩やかな攪拌又は手動攪拌でスラリーとして保ち、噴霧乾燥前に懸濁液としておく。乾燥状態での材料の構成割合は、好ましくは４０〜５０重量％の活性化剤（好ましくはアルモキサン）、５０〜６０重量％のＳｉＯ₂及び約２重量％の触媒化合物である。
【００４７】
噴霧乾燥前に、バインダーが混合物に添加されてもよい。これらは、粒子の形態的な改良手段、即ち、粒径分布を狭め、粒子の多孔性を低くして、「バインダー」として作用してしまうアルモキサンを減少させるために添加することができる。
噴霧乾燥した粒子は、通常鉱物油スラリーとして重合反応器へ供給される。オイル中の固体濃度は、１０〜１５重量％、好ましくは１１〜１４重量％である。例えば、噴霧乾燥した粒子は、ラボスケールのブッチ（Ｂｕｃｈｉ）式噴霧乾燥機から得られる約１０μｍを超える粒径を有し、スケールアップした回転式噴霧機は、約２５μｍの粒子を形成できる。一方、従来の担持された触媒の粒径は約５０μｍである。支持体は、好ましくは０．００１〜１ミクロン、更に好ましくは０．００１〜０．１ミクロンの平均粒径を有する。
【００４８】
好ましくは、メチルアルモキサン及びビス（２−メチル、４−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドが担持されたシリカを含有するスラリーは、ビス（Ｎ−イソブチル−３−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル溶液にオンラインで混合され、反応器に導入されてエチレンホモポリマー又はコポリマーが製造される。
好ましくは嵩高配位子メタロセン化合物、支持体及び活性化剤が混合され、スラリーを形成する。スラリーは、通常支持体、活性化剤及び触媒化合物を液体希釈剤（溶媒）中で懸濁することにより調製される。液体希釈剤は、通常３〜６０の炭素原子、好ましくは５〜２０の炭素原子を有するアルカンであり、好ましくは分岐したアルカン、又は鉱物油又はシリコーンオイル等の有機組成物である。使用される希釈剤は、好ましくは重合条件下において液体で比較的不活性なものである。
【００４９】
スラリーは、次にフェノキシド触媒化合物を含有する溶液に混合されることが好ましい。溶液は、通常触媒化合物を液体溶媒に溶解して調製される。液体溶媒は、通常Ｃ₅〜Ｃ₃₀アルカン、好ましくはＣ₅〜Ｃ₁₀アルカン等のアルカンである。トルエン等の環状アルカンも同様に使用できる。好ましい溶媒は、鉱物油である。使用される溶液は、好ましくは重合条件下において液体で比較的不活性なものである。
図１において、好ましくは１以上の支持体、１の嵩高配位子メタロセン化合物、及び１以上の活性化剤、好ましくは１以上の担持された活性化剤を含有するスラリー、好ましくは鉱物油のスラリーが、混合機（Ａ）中で混合される。溶液は、混合機（Ｃ）中で、溶媒及び１以上のフェノキシド触媒化合物又は活性化剤を混合して調製される。次にスラリーがイン−ラインで溶液と混合される。シリカ、アルミナ、ヒュームドシリカ又は他の微粒子状物等の成核剤（Ｂ）が、イン−ライン又は混合機（Ａ）若しくは（Ｃ）（又はそれらの組み合わせ）中でスラリー又は溶液へ添加される。同様に、追加の活性化剤又は触媒化合物（Ｄ）が、粉体又は溶液状態で、スラリー、溶液、又はスラリー及び溶液の混合物へイン−ライン添加される。混合物は、次に好ましくはイン−ライン（Ｅ）で又は混合機中で、通常１２０分まで、好ましくは１〜６０分、更に好ましくは５〜４０分、特に好ましくは１０〜３０分の間、混合される。
【００５０】
他の好ましい例では、例えば、アルキルアルミニウム、エトキシ化アルミニウムアルキル等のアルキル（Ｆ）、アルモキサン、帯電防止剤、又はボレート活性化剤等、例えば、Ｃ₁〜Ｃ₁₅アルキルアルミニウム（例えば、トリ−イソブチルアルミニウム、又はトリメチルアルミニウム）、Ｃ₁〜Ｃ₁₅エトキシ化アルキルアルミニウム又はメチルアルモキサン、エチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン、又は改質アルモキサン等が、イン−ラインでスラリー及び溶液の混合物へ添加される。アルキル、帯電防止剤、ボレート活性化剤及び／又はアルモキサンは、直接に溶液及びスラリーの混合物へ添加しても、アルカン（イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、又はオクタン等）キャリア流（Ｇ）により添加してもよい。アルキル等は、好ましくは５００ｐｐｍまで、更に好ましくは１〜３００ｐｐｍ、特に好ましくは１０〜３００ｐｐｍ、最も好ましくは１０〜１００ｐｐｍ存在する。キャリア流は、好ましくはイソペンタン又はヘキサンである。アルカン（Ｇ）は、通常２０〜６０ｌｂｓ／ｈｒ（２７ｋｇ／ｈｒ）の流速でスラリー及び溶液の混合物へ添加される。同様に窒素、アルゴン、エタン、及びプロパン等のキャリアガス（Ｈ）もイン−ラインでスラリー及び溶液の混合物へ添加される。通常キャリアガスは、１〜１００ｌｂ／ｈｒ（０．４〜４５ｋｇ／ｈｒ）、好ましくは１０〜５０ｌｂ／ｈｒ（５〜２３ｋｇ／ｈｒ）、更に好ましくは１〜２５ｌｂ／ｈｒ（０．４〜１１ｋｇ／ｈｒ）の流速で添加される。
【００５１】
同様に、ヘキセン（又は他のα−オレフィン又はジオレフィン）（Ｊ）がイン−ラインでスラリー及び溶液の混合物へ添加されてもよい。スラリー／溶液混合物は、次に好ましくは注入管（Ｏ）を通り反応器（Ｑ）へと注入される。注入管（Ｏ）の内側は、１インチ（２．５４ｃｍ）管等のより大きな補強管（Ｓ）により補強されてもよい。例えば、注入管は、スラリー／溶液混合物を噴霧化してもよい。好ましくは注入管の直径は、１／１６〜１／２インチ（０．１６〜１．２７ｃｍ）、更に好ましくは３／１６〜３／８インチ（０．５〜０．９ｃｍ）、特に好ましくは１／４〜３／８インチ（０．６〜０．９ｃｍ）である。
【００５２】
ヒュームドシリカ等の成核剤（Ｋ）は、直接に反応器へ導入できる。循環ガス単体又は循環ガスとエチレン又は他のモノマーとの混合物も同様に反応器へ再び導入できる。
他の例では、プレナムが本発明で使用できる。プレナムは、米国特許番号第５６９３７２７号に詳細に記載されているように、流動床気相反応器中で粒子希薄(lean)区域を形成するために使用される装置である。１つのプレナムは、１以上の注入ノズルを有する。
【００５３】
触媒注入管は、圧縮された山形パッキンを通って反応器へ導入され、０．１インチ〜１０フィート（０．２５ｃｍ〜３．１ｍ）、好ましくは１インチ〜６フィート（２．５ｃｍ〜１．８ｍ）、更に好ましくは２インチ〜５フィート（５ｃｍ〜１．５ｍ）の長さで流動床へと延長される。通常、挿入深さは反応器の直径に応じ、反応器の直径の１／２０〜２／３倍、好ましくは１／１０〜１／２倍、更に好ましくは１／５〜１／３倍の範囲で延長される。管の末端は、０〜９０度、好ましくは１０〜８０度の範囲の角度で軸と直角に切断されノズルコーン又はポイントが形成される。孔の縁は、鋭利な刃先形でもよい。管は、樹脂の接着を減少させるように設置したり、防汚性化合物又は帯電防止性化合物で被覆してもよい。管は、同様に管の軸線から０〜８０度、好ましくは０〜６０度斜めにずれた角度で、切断されてもよい。管の開口部は、管の内径と同じか、大きく又は小さくなってノズルを形成し、充分な圧力降下及びその形状構造により、溶液スラリー又は粉体を反応器へ、好ましくはその中の流動床へ分散噴霧することができる。
【００５４】
注入管は、流動床中の構造中で補強されて、構造的欠陥をなくすことができる。この補強管は、通常、内径が１／４〜５インチ（０．６４〜１２．７ｃｍ）、好ましくは１／２〜３インチ（１．３〜７．６ｃｍ）、更に好ましくは３／４〜２インチ（１．９〜５ｃｍ）である厚肉管である。補強管は、好ましくは反応器壁を通って注入管の長さ位まで延長されてもよい。その場合、注入管は、補強管の末端内側で終了してもよく、補強管の末端を通過して１０インチ（２５．４ｃｍ）まで延長されてもよい。注入管は、補強管の末端から好ましくは０．５〜５インチ（１．８〜１２．７ｃｍ）、更に好ましくは１〜３インチ（２．５〜７．６ｃｍ）延長される。反応器中の補強管の末端は、フラットに、管の軸に直角に、又は好ましくは１０〜８０度の角度で先細りにされて切断されてもよい。補強管の末端は、研磨され又は帯電防止材料又は防汚性材料で被覆されてもよい。
【００５５】
媒体（Ｒ）（通常新しいモノマー、エチレン、ヘキサンイソペンタン、及び循環ガス）のパージ流は、好ましくは反応器の外側から導入され、補強管を下って、触媒化合物又は活性化剤を含有する溶液スラリー又は粉体の分散を促進し、凝集を減少させ、０．００５〜０．１０インチ（０．０１〜０．３ｃｍ）のＡＰＳ（平均粒径）を有する良好な形状の粒状の樹脂粒子を製造することを可能とする。媒体のパージ流は、触媒注入管及び補強管の末端の汚染の最小化に寄与する。補強管に導入される媒体としては、水素；オレフィン又はジオレフィン、中でもＣ₂〜Ｃ₄₀α−オレフィン及びＣ₂〜Ｃ₄₀ジオレフィン、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、ノルボルネン、ペンテン、ヘキサジエン、ペンタジエン、イソブチレン、オクタジエン、シクロペンタジエン、重合反応で使用されるコモノマーが挙げられるがこれらに限定されるものではなく；アルカン、中でもＣ₁〜Ｃ₄₀アルカン、例えばイソペンタン、ヘキサン、エタン、プロパン及びブタンが挙げられるがこれらに限定されるものではなく；鉱物油、濃縮液と混合された又は濃縮液なしの循環ガス；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。補強管流は、好ましくは加熱されてもよい未反応エチレン若しくはプロピレン、又は熱交換器通過の前又は後に抜き出された循環ガスである。更に、イソペンタン又はヘキサン等のアルカンは、流体中に流体の０．００１〜５０重量％含有されることができる。アルカンは、流体中に分散されても、分散された液滴として存在しても、補強管出口で気化してもよい。液体の存在は、出口の汚染を減少させる。
【００５６】
補強管中の媒体の流速は、５〜１００００ｐｐｈであり、反応器容積に応じたものである。補強管中の媒体の線速度は、１０〜５００ｆｔ／ｓｅｃ（１１〜５４９ｋｍ／ｈｒ）、好ましくは２０〜３００ｆｔ／ｓｅｃ（２２〜３２９ｋｍ／ｈｒ）、更に好ましくは３０〜２００ｆｔ／ｓｅｃ（３３〜２１９ｋｍ／ｈｒ）である。
一方、補強管の出口は、末端でオリフィス又はノズルとなるように形成され、ガスジェットの形成又はガスの分散を達成し、触媒化合物を含有する溶液、スラリー又は粉体の分散を促進する。例えば、補強管の内径は、末端では３〜８０％、好ましくは５〜５０％となるように徐々に縮小して先細りとなり、ノズルを形成して媒体流を加速又は分散させる。補強管内部の先細部は、注入管の挿入には余り影響しない。
【００５７】
Ａ成分及びＢ成分の接触温度は、例えば０〜８０℃、好ましくは０〜６０℃、更に好ましくは１０〜５０℃、特に好ましくは２０〜４０℃の範囲である。
本発明は、鉱物油又は表面改質剤及びこれらの組み合わせの存在下での固定化触媒系を採用してもよく、これらはＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／１１９６０号及び米国特許出願第０９／１１３２６１号（１９９８年６月１０日出願）に記載されている。好ましくは鉱物油中のステアリン酸アルミニウム塩等の表面改質剤のスラリー（Ｊ）が、スラリー及び溶液の混合物と共に反応器へ導入される。又、ステアリン酸アルミニウム等の表面改質剤がスラリー（Ａ）へ添加されてもよい。
【００５８】
触媒の１つ又は全てが、好ましくは６重量％まで（触媒、支持体及びステアリン酸塩又は帯電防止剤の合計量基準）、更に好ましくは２〜３重量％のステアリン酸金属塩、（好ましくはステアリン酸アルミニウム、更に好ましくは二ステアリン酸アルミニウム）又は帯電防止剤と組み合わされてもよい。例えば、ステアリン酸金属塩又は帯電防止剤の、溶液又はスラリーが反応器へ供給される。ステアリン酸塩又は帯電防止剤は、スラリー（Ａ）又は溶液（Ｃ）と混合されてもよく、スラリー及び溶液の混合物（Ｒ）として供給されてもよい。触媒化合物又は活性化剤は、好ましくはメトキシ化アミン、例えばＩＣＩ社（ＩＣＩＳｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ；ブルーミントン、デラウェア）製造、商標「Ｗｉｔｃｏ’ｓＫｅｍａｍｉｎｅＡＳ−９９０」等の帯電防止剤０．５〜４重量％と混合される。
【００５９】
又、触媒系又はその構成成分は、ベンジル、キシリトール、商標イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）５６５、又はソルビトールと混合され、次に反応器へ供給されてもよい。これら試薬は、触媒化合物及び／又は活性化剤と共に回転式乾燥機で乾燥されるか、触媒系若しくはその構成成分と共に又は単独で溶液として反応器中へ供給されてもよい。同様にこれら試薬は、スラリー（Ａ）又は溶液（Ｃ）と混合され又はスラリー及び溶液の混合物（Ｒ）として供給される。
又、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ００／０２９３０及びＷＯ００／２９３１号に記載されているように、固定化触媒系又は触媒系混合物又はその構成成分が金属カルボキシレートと混合されてもよい。
混合設備が、スラリータンク（Ａ）中に置かれ、スラリーを攪拌することが好ましい。
【００６０】
上記で調製される触媒系は、広い範囲の温度及び圧力下で予備重合及び／又は重合方法に使用できる。温度は、通常−６０〜２８０℃、好ましくは５０〜２００℃の範囲であり、適用される圧力は、通常１〜５００気圧又はそれ以上の範囲である。
重合方法としては、溶液、気相、スラリー及び高圧重合法及びこれらの組み合わせが挙げられる。好ましくは、１以上がエチレン又はプロピレンである１以上のオレフィンの気相重合又はスラリー重合である。
【００６１】
本発明の方法は、例えば２〜３０の炭素原子、好ましくは２〜１２の炭素原子、更に好ましくは２〜８の炭素原子を有する１以上のオレフィンモノマーの、溶液、高圧、スラリー又は気相重合を対象とする。本発明は、特に、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１，４−メチル−ペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１及びデセン−１の２以上のオレフィンモノマーの重合に好適である。
本発明の方法に使用できる他のモノマーとして、エチレン性不飽和モノマー、４〜１８の炭素原子を有するジオレフィン、共役又は非共役ジエン、ポリエン、ビニルモノマー及び環状オレフィンが挙げられる。本発明に使用できるモノマーとしては、ノルボルネン、ノルボルナジエン、イソブチレン、イソプレン、ビニルベンゾシクロブタン、スチレン、アルキル置換スチレン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン及びシクロペンテンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６２】
本発明の好ましい方法は、エチレンと、好ましくは４〜１５の炭素原子、更に好ましくは４〜１２の炭素原子、特に好ましくは４〜８の炭素原子を有する１以上のα−オレフィンを有するコモノマーとが気相プロセスで重合されて、エチレンコポリマーが製造されるものである。
又、本発明の方法では、エチレン又はプロピレンが、２以上の異なるコモノマーであり、それらの１種はジエンであってもよいコモノマーと重合され、ターポリマーを形成するものでもよい。
又、本発明は、プロピレン単体又はエチレン、及び／又は４〜１２の炭素原子を有する他のオレフィンである１以上の他のモノマーとの重合方法、特に気相重合又はスラリー重合をも対象とする。ポリプロピレンポリマーは、米国特許番号第５２９６４３４及び５２７８２６４号に記載されているように、特定の架橋した嵩高配位子メタロセン触媒を使用して製造できる。
【００６３】
通常、気相重合方法では、連続循環系が採用される。反応器系の循環の一部において、循環ガス流、即ちリサイクル流又は流動媒体として知られているものは、重合熱により反応器中で加熱される。この熱は、反応器外部の冷却系により他の循環部分において、リサイクル組成物から除去される。通常、ポリマー製造用ガス流動床プロセス中では、１以上のモノマーを含有するガス流は、触媒が存在して反応条件下にある流動床を通って連続的に循環される。ガス流は流動床から引き出され、反応器へ戻されリサイクルされる。同時に、ポリマー生成物は、反応器から引き出され、新たなモノマーが添加され、重合されたモノマーと置き換わる。これらは、例えば米国特許番号第４５４３３９９、４５８８７９０、５０２８６７０、５３１７０３６、５３５２７４９、５４０５９２２、５４３６３０４、５４５３４７１、５４６２９９９、５６１６６６１及び５６６８２２８号に記載されている。
【００６４】
気相重合中の反応器圧力は、通常１００ｐｓｉｇ（６９０ｋＰａ）〜５００ｐｓｉｇ（３４４８ｋＰａ）、好ましくは２００ｐｓｉｇ（１３７９ｋＰａ）〜４００ｐｓｉｇ（２７５９ｋＰａ）、更に好ましくは２５０ｐｓｉｇ（１７２４ｋＰａ）〜３５０ｐｓｉｇ（２４１４ｋＰａ）の範囲である。
気相重合中の反応器温度は、通常３０〜１２０℃、好ましくは６０〜１１５℃、更に好ましくは７０〜１１０℃、特に好ましくは７０〜９５℃の範囲である。
【００６５】
本発明の方法の対象とされた他の気相重合として、直列又は多段階の重合方法も挙げられる。同様に、他の気相重合は、米国特許番号第５６２７２４２、５６６５８１８及び５６７７３７５号、並びに欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０７９４２００、ＥＰ−Ｂ１−０６４９９９２、ＥＰ−Ａ−０８０２２０２及びＥＰ−Ｂ−６３４４２１号に記載されている。
本発明で使用される反応器の生産能力であり、本発明の方法で製造できるものは、好ましくは１時間当り５００ｌｂｓ（２２７Ｋｇ／ｈｒ）を超え２０００００ｌｂｓ／ｈｒ（９０９００Ｋｇ／ｈｒ）以上のポリマー量、好ましくは１０００ｌｂｓ／ｈｒ（４５５Ｋｇ／ｈｒ）を超え、更に好ましくは１００００ｌｂｓ／ｈｒ（４５４０Ｋｇ／ｈｒ）を超え、更に好ましくは２５０００ｌｂｓ／ｈｒ（１１３００Ｋｇ／ｈｒ）を超え、更に好ましくは３５０００ｌｂｓ／ｈｒ（１５９００Ｋｇ／ｈｒ）を超え、特に好ましくは５００００ｌｂｓ／ｈｒ（２２７００Ｋｇ／ｈｒ）を超え、最も好ましくは６５０００ｌｂｓ／ｈｒ（２９０００Ｋｇ／ｈｒ）を超え１０００００ｌｂｓ／ｈｒ（４５５００Ｋｇ／ｈｒ）を超えるまでである。
【００６６】
スラリー重合方法では、通常１〜５０気圧以上の圧力及び０〜１２０℃の温度を使用する。スラリー重合において、固体微粒子状ポリマーの懸濁液が液体重合溶媒中に形成され、その溶媒にはエチレン及びコモノマー更にしばしば水素が触媒と共に添加される。溶媒を含有する懸濁液は、断続的に又は連続的に反応器から除去され、揮発成分はポリマーから分離され、任意に蒸留した後、反応器へリサイクルされる。重合溶媒に使用される液体希釈剤は、通常３〜７の炭素原子を有するアルカン、好ましくは分岐したアルカンである。使用される溶媒は、重合条件下で液体であり、比較的不活性でなければならない。プロパン溶媒がプロセスで使用される場合は、反応溶媒の臨界温度及び臨界圧力より上で操作される必要がある。好ましくは、ヘキサン又はイソブタン溶媒が使用される。
【００６７】
本発明の好ましい重合技術は、粒子形成重合又はスラリー重合であってもよく、その場合、ポリマーが溶液となる温度より下の温度に保たれる。このような技術は公知であり、例えば、米国特許番号第３２４８１７９号に記載されている。他のスラリー重合として、ループ反応器や複数の攪拌反応器を直列、並列又はそれらの組み合わせで使用することが挙げられる。又、スラリー重合として、連続的なループ又は攪拌タンクプロセスが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、スラリー重合の他の例は、米国特許番号第４６１３４８４及び５９８６０２１号にも記載されている。
【００６８】
本発明のスラリー重合に使用される反応器の生産能力であり、本発明の方法で製造できる量は、通常１時間当り２０００ｌｂｓ（９０７Ｋｇ／ｈｒ）を超えるポリマー量、好ましくは５０００ｌｂｓ／ｈｒ（２２６８Ｋｇ／ｈｒ）を超え、更に好ましくは１００００ｌｂｓ／ｈｒ（４５４０Ｋｇ／ｈｒ）を超える量である。又、本発明の方法に使用されるスラリー反応器の生産能力は、通常１時間当り１５０００ｌｂｓ（６８０４Ｋｇ／ｈｒ）を超えるポリマー量、好ましくは２５０００ｌｂｓ／ｈｒ（１１３４０Ｋｇ／ｈｒ）を超えて１０００００ｌｂｓ／ｈｒ（４５５００Ｋｇ／ｈｒ）以下である。
溶液重合の例は米国特許番号第４２７１０６０、５００１２０５、５２３６９９８、５５８９５５５及び５９７７２５１号並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／３２５２５及びＷＯ９９／４０１３０号に記載されている。
【００６９】
本発明の好ましい方法は、重合が、好ましくはスラリー重合又は気相重合で、本発明の嵩高配位子メタロセン触媒系の存在下で、トリエチルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、トリ−イソブチルアルミニウム及びトリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム並びにジエチルアルミニウムクロライド、ジブチル亜鉛等の不純物除去剤の非存在下又は本質的にフリーな状態で行われるものである。この好ましい方法は、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９６／０８５２０号並びに米国特許番号第５７１２３５２及び５７６３５４３号に記載されている。
本発明は、例えばオレフィン、好ましくはＣ₂〜Ｃ₃₀オレフィン又はα−オレフィン、更に好ましくはエチレン、プロピレン又はそれらの混合物が、主重合に先立ち上記本発明のメタロセン触媒系存在下で予備重合される。予備重合は、バッチ式又は連続的に気相重合、溶液重合又はスラリー重合で、加圧して行うことができる。予備重合は、オレフィンモノマー若しくはその混合物及び／又は水素等の分子量調整剤の存在下で行なうことができる。予備重合操作は、例えば米国特許番号第４７４８２２１、４７８９３５９、４９２３８３３、４９２１８２５、５２８３２７８及び５７０５５７８号、欧州特許番号ＥＰ−Ｂ−０２７９８６３号並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９７／４４３７１号に記載されている。
【００７０】
重合触媒は、例えば担持されていない状態、好ましくは液体状で使用でき、例えば米国特許番号第５３１７０３６及び５６９３７２７号並びに欧州特許番号ＥＰ−Ａ−０５９３０８３等に記載されているものでもよい。液体状の重合触媒は、金属カルボキシレート及び流動性向上剤と共に、固体又は液体として反応器へ注入法を使用して供給でき、これらはＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９７／４６５９９号に記載されている。
【００７１】
本発明の方法で製造されるポリマーは、広く種々の製造品及び最終製品用途に使用できる。本発明の方法で製造されるポリマーとして、直鎖状低密度ポリエチレン、エラストマー、プラストマー、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリプロピレンコポリマーが挙げられる。
ポリマーは、通常エチレンベースのポリマーであり、その密度は通常０．８６〜０．９７ｇ／ｃｃ、好ましくは０．８８〜０．９６５ｇ／ｃｃ、更に好ましくは０．９００〜０．９６ｇ／ｃｃ、更に好ましくは０．９０５〜０．９５ｇ／ｃｃ、特に好ましくは０．９１０〜０．９４０ｇ／ｃｃ、最も好ましくは０．９１０〜０．９２５ｇ／ｃｃの範囲である。密度は、ＡＳＴＭＤ１２３８に準拠して測定される。
【００７２】
本発明の方法により製造されるポリマーは、分子量分布、即ち数平均分子量に対する重量平均分子量の割合（Ｍ_w／Ｍ_n）が、通常１．５を超えて１５以下、好ましくは２を超えて１０以下、更に好ましくは２．２を超えて８未満、特に好ましくは２．５〜８である。
同様に、本発明のポリマーは、組成分布幅インデックス（ＣＤＢＩ）により測定された場合に、好ましくは狭い組成分布を有する。コポリマーのＣＤＢＩを決定する詳細は、公知であり、例えばＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９３／０３０９３号（１９９３年２月１８日公開）に記載されている。本発明で製造されるポリマーは、好ましくはＣＤＢＩが５０％を超えて１００％以下、更に好ましくは５０％を超えて９９％以下、更に好ましくは５５〜８５％、更に好ましくは６０〜８０％、特に好ましくは６０％を超えて８０％以下、最も好ましくは６５％を超えて８０％以下の範囲である。
又、本発明で製造されるポリマーは、５０％未満、更に好ましくは４０％未満、特に好ましくは３０％未満のＣＤＢＩを有してもよい。
【００７３】
本発明のポリマーは、ＡＳＴＭＤ１２３８Ｅに準拠して測定されるメルトインデックス（ＭＩ）又は（Ｉ₂）が、好ましくは０．０１〜１０００ｄｇ／ｍｉｎ、更に好ましくは０．０５〜１００ｄｇ／ｍｉｎ、特に好ましくは０．１〜５０ｄｇ／ｍｉｎ、最も好ましくは０．１〜１０ｄｇ／ｍｉｎの範囲である。
本発明のポリマーのメルトインデックス比（Ｉ₂₁／Ｉ₂）（Ｉ₂₁はＡＳＴＭＤ１２３８Ｆに準拠して測定）は、好ましくは５から４０未満、更に好ましくは１０から３０未満、特に好ましくは１５から２５未満の範囲である。
又、本発明の方法で製造されるエチレンポリマーのＡＳＴＭＤ１５０５に準拠して測定された密度は、０．９０〜０．９５ｇ／ｃｃ、好ましくは０．９０５〜０．９４０ｇ／ｃｃ、更に好ましくは０．９１０〜０．９３０ｇ／ｃｃでもよい。
【００７４】
本発明の方法で製造されるエチレンポリマーは、１５〜３５ミクロンの厚さのフィルムにブロー成形された場合；
ＡＳＴＭＤ２４７５に準拠して測定された４５°グロスが、通常６０以上、好ましくは７０以上、好ましくは７０〜１００、
ＡＳＴＭ１００３−９５（条件Ａ）に準拠して測定された曇価が、通常７％以下、好ましくは６％以下、更に好ましくは４〜８％、及び
ＡＳＴＭＤ１７０９に準拠して測定された落槍衝撃強さが、通常６００ｇ以上、好ましくは７００ｇ以上、好ましくは７５０ｇ以上、の少なくとも１種の物性を有してもよい。
【００７５】
上記１５〜３５μｍ厚フィルムは、好ましくは；
ａ）ＡＳＴＭＤ８８２に準拠して測定されたＴＤ引張強度が、３０ＭＰａ以上、更に好ましくは３５ＭＰａ以上、特に好ましくは４０ＭＰａ以上、
ｂ）ＡＳＴＭＤ８８２に準拠して測定されたＭＤ引張強度が、３０ＭＰａ以上、更に好ましくは３５ＭＰａ以上、特に好ましくは４０ＭＰａ以上、
ｃ）ＡＳＴＭＤ４１２に準拠して測定されたＭＤ係数が、１５０ＭＰａ以上、更に好ましくは１８０ＭＰａ以上、特に好ましくは２００ＭＰａ以上、
ｄ）ＡＳＴＭＤ４１２に準拠して測定されたＴＤ係数が、１５０ＭＰａ以上、更に好ましくは１８０ＭＰａ以上、特に好ましくは２００ＭＰａ以上、
ｅ）ＡＳＴＭＤ１９２２に準拠して測定されたＭＤエルメンドルフ引裂強度が、１８０ｇ／ｍｉｌ以上、更に好ましくは２００ｇ／ｍｉｌ以上、特に好ましくは２５０ｇ／ｍｉｌ以上、及び
ｆ）ＡＳＴＭＤ１９２２に準拠して測定されたＴＤエルメンドルフ引裂強度が、３００ｇ／ｍｉｌ以上、好ましくは３５０ｇ／ｍｉｌ以上、好ましくは４００ｇ／ｍｉｌ以上、の少なくとも１種の物性を有してもよい。
【００７６】
又、本発明の方法でプロピレンベースのポリマーが製造されてもよい。これらポリマーとして、アタクチックポリプロピレン、アイソタクチックポリプロピレン、セミ−アイソタクチック及びシンジオタクチックポリプロピレンが挙げられる。他のプロピレンポリマーとして、プロピレンブロックコポリマー又はプロピレン耐衝撃性コポリマーが挙げられる。これらの種類のプロピレンポリマーは公知であり、例えば米国特許番号第４７９４０９６、３２４８４５５、４３７６８５１、５０３６０３４及び５４５９１１７号に記載されている。
本発明のポリマーは、他のポリマーと混合し及び／又は共押出することができる。他のポリマーとして、従来のチーグラー−ナッタ触媒及び／又は嵩高配位子メタロセン触媒作用により製造される直鎖状低密度ポリエチレン、エラストマー、プラストマー、高圧低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【実施例】
【００７７】
本発明及びその代表的な効果を更に詳細に説明するために、下記に実施例を示す。
Ｍ_n及びＭ_wは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（示差屈折計を備えたウォータース、１５０℃、ＧＰＣ装置）により測定された。尚、ＧＰＣカラムは、一連の分子量標準物を使用して検量され、分子量は、該当するポリマーのマーク−フウィンク係数を使用して計算された。
メルトインデックス（ＭＩ）Ｉ₂及びフローインデックス（ＦＩ）Ｉ₂₁は、ＡＳＴＭＤ１２３８、条件Ｅ、１９０℃に準拠して測定された。
メルトインデックス比（ＭＩＲ）は、ＡＳＴＭＤ１２３８に準拠して求められるＩ₂に対するＩ₂₁の割合である。Ｉ₂₁は、ＡＳＴＭＤ１２３８、条件Ｅ、１９０℃に準拠して測定された。
落槍衝撃強さは、ＡＳＴＭＤ１７０９に準拠して測定された。密度は、ＡＳＴＭＤ１５０５に準拠して測定された。ＭＤ及びＴＤエルメンドルフ引裂強度は、ＡＳＴＭＤ１９２２に準拠して測定された。ＭＤ及びＴＤ引張強度は、ＡＳＴＭＤ８８２に準拠して測定された。ＭＤ及びＴＤ伸度は、ＡＳＴＭＤ４１２に準拠して測定された。ヘイズ（曇価）は、ＡＳＴＭ１００３−９５、条件Ａに準拠して測定された。４５°グロスは、ＡＳＴＭＤ２４５７に準拠して測定された。ＭＤ及びＴＤ係数は、ＡＳＴＭＤ４１２に準拠して測定された。「ＢＵＲ」は、ブローアップ比である。「ＰＰＨ」は、１時間当りのポンド数であり、「ｍＰＰＨ」は、１時間当りのミリポンド数である。「ｐｐｍｗ」は、１００万分の１重量部、「ｐｐｍｖ」は、１００万分の１体積部、「ＭＤ」は縦（ｍａｃｈｉｎｅ）方向、「ＴＤ」は横方向である。
直鎖状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）ポリマーは、ビス（Ｎ−イソブチル−３−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル（触媒１）及びビス（１、３メチル−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド（触媒２）を使用して製造された。
【００７８】
（実施例１）
エチレンヘキセンコポリマー（サンプル１）が、１４インチ（３５．６ｃｍ）パイロットプラント規模の水冷熱交換器を備えた気相流動床反応器中で、８５℃及び合計反応器圧力３５０ｐｓｉｇ（２．４ＭＰａ）で操作して製造された。エチレンが反応器へ流速約４６ＰＰＨ（２１ｋｇ／ｈｒ）で供給され、ヘキセンが反応器へ流速約４．９ＰＰＨ（２．２ｋｇ／ｈｒ）で供給され、水素が反応器へ流速０．７ｍＰＰＨ（０．０００３ｋｇ／ｈｒ）で供給された。エチレンは、反応器中のエチレン分圧２２０ｐｓｉ（１．５ＭＰａ）を保つように供給された。ヘキセンは、Ｃ₆／Ｃ₂モル比０．０２を保つように連続的に供給された。水素供給量は、循環ガス中の水素が１００〜１１０ｐｐｍを保つように制御された。生産量は約２７ＰＰＨ（１２．３ｋｇ／ｈｒ）であった。反応器は、約２１００ｌｂ／ｈｒ（９５３ｋｇ／ｈｒ）の循環ガス流を有するプレナムを備えていた。プレナムは、流動床気相反応器中で粒子希薄区域を形成するために使用される装置であり、米国特許第５６９３７２７号に記載されている。０．０５５インチ（０．１４ｃｍ）口径を有する先細になった触媒注入ノズルが、プレナムガス流中に設置された。０．０２モルの触媒１のトルエン溶液が、０．１ｌｂ／ｈｒ（０．０５ｋｇ／ｈｒ）ヘキセンと、３／１６インチ（０．１ｃｍ）ステンレススチール管中で混合された。触媒１及びヘキセン混合物は共触媒（商標「ＭＭＡＯ−３Ａ」、１重量％アルミニウム、ヘキサン中）とライン中で約１５分間混合された。０．０１モルの触媒２のトルエン溶液が、反応器中へ噴霧される約５分前の活性化された触媒１の溶液へ添加された。触媒２の触媒１に対するモル比は、０．９３であった。溶液に加え、窒素が粒子径の制御を補助するために注入管へ添加された。全ての材料は混合され、注入ノズルを通して流動床へ送られた。触媒に対するＭＭＡＯの割合は、最終Ａｌ：Ｚｒモル比が５００となるように制御された。ポリマーに残存するジルコニウムは、反応器内の物質収支を基に計算して、０．５３ｐｐｍであった。
【００７９】
（実施例２）
エチレンヘキセンコポリマー（サンプル２）も、エチレンが反応器へ流速約５０ＰＰＨ（２２．７ｋｇ／ｈｒ）で供給され、ヘキセンが反応器へ流速約６．１ＰＰＨ（２．８ｋｇ／ｈｒ）で供給され、水素が反応器へ流速０．８ｍＰＰＨ（０．０００４ｋｇ／ｈｒ）で供給された以外は、実施例１の手順と同様にして製造された。エチレンは、反応器中のエチレン分圧２２０ｐｓｉを保つように供給された。水素供給量は、循環ガス中の水素が１２０ｐｐｍを保つように制御された。生産量は約３４ＰＰＨ（１５．４ｋｇ／ｈｒ）であった。触媒２の触媒１に対するモル比は、１．１であった。全ての材料は混合され、注入ノズルを通して流動床へ送られた。触媒に対するＭＭＡＯの割合は、最終Ａｌ：Ｚｒモル比が４５０となるように制御された。ポリマーに残存するジルコニウムは、反応器内の物質収支を基に計算して、０．４２ｐｐｍであった。
【００８０】
（実施例３）
エチレンヘキセンコポリマー（サンプル３）も、エチレンが反応器へ流速約４３ＰＰＨ（１９．５ｋｇ／ｈｒ）で供給され、ヘキセンが反応器へ流速約４．８ＰＰＨ（２．２ｋｇ／ｈｒ）で供給され、水素が反応器へ流速０．５ミリＰＰＨ（０．０００２ｋｇ／ｈｒ）で供給された以外は、実施例１の手順と同様にして製造された。水素供給量は、循環ガス中の水素が８０ｐｐｍを保つように制御された。生産量は約２５ＰＰＨ（１１．３ｋｇ／ｈｒ）であった。触媒２の触媒１に対するモル比は、０．９３であった。触媒に対するＭＭＡＯの割合は、最終Ａｌ：Ｚｒモル比が５２０となるように制御された。ポリマーに残存するジルコニウムは、反応器内の物質収支を基に計算して、０．５ｐｐｍであった。
【００８１】
（実施例４）
サンプル１及び２は、１０００ｐｐｍのイルガノックス１０７６及び１、５００ｐｐｍの商標イルガホス（Ｉｒｇａｆｏｓ）と回転式で混合され、２．５インチ（６．４ｃｍ）単軸スクリュー（ダブル混合ヘッド付き）商標プロデックス（Ｐｒｏｄｅｘ）押出機ラインで混練された。混練されたペレットポリマーは、６インチ（１５．２ｃｍ）直径のダイを備えた３．５インチ（８．９ｃｍ）１軸スクリューグロスターシャー（Ｇｌｏｕｃｅｓｔｅｒ）フィルムラインでブローフィルム押出成形された。ダイ幅はサンプルに応じて６０ｍｍ（１５２４μｍ）〜９０ｍｍ（２２８６μｍ）の間とした。ダイ温度は、サンプルのＭＩに応じて４００°Ｆ（２０４℃）〜４１０°Ｆ（２１０℃）に設定された。排出速度は、１５０ｌｂｓ／ｈｒ（６８ｋｇ／ｈｒ）に保たれ、２．５又は３．０のいずれかのＢＵＲ（ブローアップ比）で１．０ｍｍ（２５．４μｍ）のフィルムサンプルが製造された。比較用ポリマーは、市販ポリマーでそのフロー特性がサンプルのものと近い、種類の類似したポリマーから選ばれた。
【００８２】
２種のポリマー（サンプル１及び２）は、それぞれメルトインデックスが０．７４ｄｇ／ｍｉｎ及び０．９８ｄｇ／ｍｉｎ、メルトフローレートが１８、密度が０．９２１ｇ／ｃｃであり、ブロー成形してフィルムを得た。商標Ｅｘｃｅｅｄ３５０Ｄ６０（エクソンモービル化学会社、ベイタウン、テキサス、から市販されているエチレンポリマーであり、メルトインデックス１．０、メルトフローレート１７、密度０．９１７ｇ／ｃｃ）が比較用ポリマーとして使用された。排出速度１５０ｌｂ／ｈｒ（６８ｋｇ／ｈｒ）、ダイ温度４１０°Ｆ（２１０℃）で、Ｅｘｃｅｅｄ３５０Ｄ６０に比べ、サンプル１は僅かに高いヘッド圧力を示し、サンプル２は低いヘッド圧力／電動機負荷を示した。サンプル１及び２のバブル安定性は、比較用ポリマーのそれと同様であった。特記すべきことには、フィルム成形中にブローされたバブルは、優れた透明度を示した。サンプル１及び２から３．０ブローアップ比で製造した１．０ｍｍ（２５．４μｍ）厚フィルムの落槍衝撃強さは、Ｅｘｃｅｅｄ３５０Ｄ６０の８８０ｇに比べ６１０〜６３０ｇであった。他の機械的物性は、比較用フィルムサンプルのそれと同等であった。サンプル１及び２のフィルムの４５°グロス及び曇価（％）は、Ｅｘｃｅｅｄ３５０Ｄ６０の４１．５及び１７に比べ、６１〜７５及び５．２〜６．９であった。
【００８３】
（実施例５）
サンプル３は、６００ｐｐｍの商標ダイナマル（Ｄｙｎａｍａｒ）９６１３と混合され、プロデックスラインで混合され、上記グロスターシャーフィルムラインで評価された。ポリマーのメルトインデックスは０．５ｄｇ／ｍｉｎ、メルトフローレートは１８．５、密度は０．９２０ｇ／ｃｃであった。この場合、Ｅｘｃｅｅｄ３９９Ｌ６０（エクソンモービル化学会社から市販されているエチレンポリマーであり、メルトインデックス０．７５、メルトフローレート１７、密度０．９２５ｇ／ｃｃ）が比較用ポリマーとして使用された。ＥＸＣＥＥＤ３９９Ｌ６０より低いＭＩを有するため、サンプル３はＥＸＣＥＥＤ３９９Ｌ６０より高い電動機負荷及びヘッド圧力を示した。サンプル３のバブル安定性は、比較用ポリマーと同じであった。３．０ブローアップ比で製造された１．０ｍｍ（２５．４μｍ）厚フィルムサンプルは、Ｅｘｃｅｅｄ３９９Ｌ６０の１８０ｇに比べ８００ｇの落槍衝撃強さを示した。しかし、サンプル３は、Ｅｘｃｅｅｄ３９９Ｌ６０（０．９２５ｇ／ｃｃ）に比べ低い密度（０．９２０ｇ／ｃｃ）であった。サンプル３のフィルム透明度はやはり特徴的であり、曇価（％）は３．９で４５°グロスは８６であった。結果を表１に示す。
【００８４】
【表１】

【００８５】
本発明は、特定の例を使用して記載され例示されているが、当業者は、本発明はここで例示されていない変更にも適用されることを理解すべきものである。例えば、本発明の２以上の触媒溶液は、２以上の担持された活性化剤と共に使用できる。同様に、シリカ及び／又はマグネシウム支持体上の従来のチーグラー−ナッタ触媒は、本発明の担持された活性化剤及び触媒溶液と共に使用できる。従って、本明細書の記載は、単に従属クレームの内容等に関するものであり、本発明の真の範囲を限定するものではない。
上記記載及び例示には、本発明の構成が例示され記載されているとしても、本発明の範囲内で種々の改良改変が可能である。従って、上記記載は、本発明を限定するためのものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の好ましい装置構成例の概略図である。
【符号の説明】
【００８７】
Ａ，Ｃ混合機
Ｏ注入管
Ｓ補強管
Ｑ反応器

Claims

１以上の嵩高配位子メタロセン触媒化合物、支持体及び１以上の活性化剤を含む固体又はスラリーを、１以上のフェノキシド触媒化合物を含有する溶液と混合し、得られる混合物を重合反応器へ導入して行なわれる、触媒組成物の存在下での１以上のオレフィンの重合方法。
スラリーは、担持されたアルモキサン及び／又は担持された改質アルモキサンを含有する請求項１の方法。
スラリーは、担持された活性化剤を液体及び嵩高配位子メタロセン触媒化合物と混合することにより形成される請求項１又は２の方法。
スラリーは、嵩高配位子メタロセン触媒化合物、活性化剤及び支持体を含有する担持された触媒系を含むものである請求項１〜３いずれか１項の方法。
担持された触媒系は、嵩高配位子メタロセン触媒化合物、活性化剤及び支持体を溶媒中で混合し、次に溶媒を除去して調製される請求項４の方法。
担持された触媒系は、触媒化合物、活性化剤及び支持体を溶媒中で混合し、次に混合物を噴霧乾燥して調製される請求項４の方法。
混合した後に、触媒化合物の５０％以上が支持体中又は上に担持される請求項１〜６いずれか１項の方法。
混合した後に、触媒化合物の８０％以上が支持体中又は上に担持される請求項７の方法。
活性化剤は、配位していないアニオン又はイオン化化合物を含むものである請求項１〜８いずれか１項の方法。
活性化剤は、トリメチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリプロピルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｔ−ブチル）アンモニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラフェニルボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｓｅｃ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリメチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔ−ブチル）アンモニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート及びＮ，Ｎ−ジメチル（２，４，６−トリメチルアニリニウム）テトラキス（２，３，４，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、ジ（ｉ−プロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルフォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｏ−トリル）フォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びトリ（２，６−ジメチルフェニル）フォスフォニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの群から選ばれた少なくとも一種である請求項１〜９いずれか１項の方法。
嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかで表されるものである請求項１〜１０いずれか１項の方法。
Ｌ^AＬ^BＭＱ_n ・・・（Ｉ）
Ｌ^AＡＬ^BＭＱ_n ・・・（ＩＩ）
Ｌ^CＡＪＭＱ_n ・・・（ＩＩＩ）
（但し、Ｍは第３〜１２金属元素、ランタニド系列元素又はアクチニド系列元素であり；
Ｌ^A、Ｌ^B及びＬ^Cは、それぞれ独立して、シクロペンタジエニル配位子、シクロペンタフェナントレニル配位子、インデニル配位子、ベンズインデニル配位子、フルオレニル配位子、オクタヒドロフルオレニル配位子、シクロオクタテトラエンジイル配位子、シクロペンタシクロドデセン配位子、アゼニル配位子、アズレン配位子、ペンタレン配位子、ホスホイル配位子、ホスフィンイミン配位子、アミノメチルホスフィン配位子、ピロリル配位子、ピロゾリル配位子、カルバゾリル配位子、ボラベンゼン配位子、β−ジケチミネート配位子、フラーレン及びそれらの水素化物の群から選ばれた嵩高配位子であり；
Ｑはそれぞれ独立して脱離基であり；
Ａは１以上の第１３〜１６族元素を含有する架橋基であり；
Ｊはヘテロ原子補助配位子であり；
ｎは０、１又は２であり；
式（ＩＩＩ）中、ＭはＬ^C及びＪに結合し、ＡはＬ^C及びＪに結合している。）
嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、式（ＩＶ）で表されるものである請求項１〜１０いずれか１項の方法。
Ｌ^DＭＱ₂（ＹＺ）Ｘ_n ・・・（ＩＶ）
（但しＭは第３〜１６族の金属元素であり；
Ｌ^DはＭに結合している嵩高配位子で、シクロペンタジエニル配位子、シクロペンタフェナントレニル配位子、インデニル配位子、ベンズインデニル配位子、フルオレニル配位子、オクタヒドロフルオレニル配位子、シクロオクタテトラエンジイル配位子、シクロペンタシクロドデセン配位子、アゼニル配位子、アズレン配位子、ペンタレン配位子、ホスホイル配位子、ホスフィンイミン配位子、アミノメチルホスフィン配位子、ピロリル配位子、ピロゾリル配位子、カルバゾリル配位子、ボラベンゼン配位子、β−ジケチミネート配位子、フラーレン及びそれらの水素化物の群から選ばれたものであり；
Ｑはそれぞれ独立してＭに結合し、
Ｑ₂（ＹＺ）は１の電荷を有する多座配位子を形成し；
Ａ又はＱは同様にＭに結合している一価のアニオン性配位子であり；
ｎが２の場合、Ｘは一価のアニオン性基であり、ｎが１の場合、Ｘは二価のアニオン性基であり、；ｎは１又は２である。）
嵩高配位子メタロセン触媒化合物は、下記式（Ｖ）で表されるものである請求項１〜１０いずれか１項の方法。
（（Ｚ）ＸＡ_t（ＹＪ））_qＭＱ_n ・・・（Ｖ）
（但し、Ｍは元素の周期律表の第３〜１３族元素、ランタニド系列元素及びアクチニド系列元素から選ばれる金属元素であり；
ＱはＭに結合し、それぞれのＱは一価、二価又は三価のアニオンであり；
Ｘ及びＹはＭに結合し；
Ｘ及びＹの１以上はヘテロ原子であり；
Ｊが２〜５０の非水素原子を有する場合、Ｙはヘテロ環Ｊを構成し、Ｚは１〜５０の非水素原子を有する場合、ＺはＸに結合し；ｔは０又は１；ｔが１の場合、Ａは１以上のＸ、Ｙ又はＪに結合している架橋基であり、ｑは１又は２であり；ｎは１〜４の整数である。）
フェノキシド触媒化合物は、下記式（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で表されるものである請求項１〜１３いずれか１項の方法。

（但し、Ｒ¹は水素又はＣ₄〜Ｃ₁₀₀基であってＭに結合してもしなくてもよく；１以上のＲ²〜Ｒ⁵はヘテロ原子含有基であり、残りのＲ²〜Ｒ⁵は独立して水素又はＣ₁〜Ｃ₁₀₀基であってＲ²〜Ｒ⁵のいずれかもまたＭに結合してもしなくてもよく；
Ｏは酸素であり；
Ｍは第３〜１０族の遷移金属又はランタニド系列元素金属であり；
ｎは金属Ｍの原子価であり；
Ｑはアルキル、ハロゲン、ベンジル、アミド、カルボキシレート、カルバメート、チオレート、ハイドライド若しくはアルコキシド基、又はＲ¹〜Ｒ⁵のいずれかであってもよいヘテロ原子含有Ｒ基への結合である。）
重合反応器は、気相重合用反応器である請求項１〜１４いずれか１項の方法。
重合反応器は、スラリー重合用反応器である請求項１〜１４いずれか１項の方法。
嵩高配位子メタロセン触媒化合物は：
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジフェニル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジ−ネオペンチル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ−ネオペンチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンジベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル、
ビス（シクロペンタジエニル）バナジウムジメチル、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンメチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンエチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンフェニルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムエチルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムフェニルクロライド、
ビス（シクロペンタジエニル）チタンメチルブロマイド、
シクロペンタジエニルチタントリメチル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリフェニル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリ−ネオペンチル、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリメチル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリフェニル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリ−ネオペンチル、
シクロペンタジエニルハフニウムトリメチル、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド、
ペンタエチルシクロペンタジエニルチタントリクロライド；
ビス（インデニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジハライド、
ビス（１、２−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（１、２−ジエチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）チタンジフェニル又はジクロライド；
ジメチルシリルジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
メチルホスフィンジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
メチレンジシクロペンタジエニルチタンジフェニル又はジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２、５−ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２，５−ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ハフニウムジクロライド、
イソプロピル（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジ−ｔ−ブチルメチレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
シクロヘキシリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、
ジイソプロピルメチレン（２，５−ジメチルシクロペンタジエニルフルオレニル）チタンジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
エチリデン（１−インデニルテトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（２−メチル−４−ｔ−ブチル−１−シクロペンタジエニル）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
エチリデン（１−インデニル−２，３，４，５−テトラメチル−１−シクロペンタジエニル）ハフニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−ジメチルシリルビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド
ラセミ−１，１，２，２−テトラメチルシラニレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）チタン（ＩＶ）ジクロライド、並びに
エチリデン（１−インデニル−２，３，４，５−テトラメチル−１−シクロペンタジエニル）チタン（ＩＶ）ジクロライドの群から選ばれた請求項１〜１６いずれか１項の方法。
フェノキシド触媒化合物は、
（Ｎ−メチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ｔ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ヘキシル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−フェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−メチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジピバレート、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）チタン（ＩＶ）ジピバレート、
ビス（Ｎ−ベンジル−３，５−ジ−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジ（ビス（ジメチルアミド））、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−アミルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−ｔ−オクチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ハフニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソブチル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソブチル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（Ｎ−ヘキシル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−フェニル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ（１’−メチルシクロヘキシル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−トリフェニルメチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３，５−ジ−トリメチルシリルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−イソプロピル−３−（フェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−（２’，６’−ジ−イソプロピルフェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−（２’，６’−ジ−フェニルフェニル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（Ｎ−ベンジル−３−ｔ−ブチル−５−メトキシサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジ（ビス（ジメチルアミド））、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−アミルフェノキシド）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）チタン（ＩＶ）ジベンジル、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）チタン（ＩＶ）ジクロライド、
ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）フェノキシド）ハフニウム（ＩＶ）ジベンジル、
（Ｎ−フェニル−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリベンジル、
（Ｎ−（２’，６’−ジ−イソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリベンジル、
（Ｎ−（２’，６’−ジ−イソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）チタン（ＩＶ）トリベンジル、及び
（Ｎ−（２’，６’−ジ−イソプロピルフェニル）−３，５−ジ（１’，１’−ジメチルベンジル）サリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）トリクロライドの群から選ばれた１種である請求項１〜１７いずれか１項の方法。
嵩高配位子メタロセン触媒化合物にはビス（２，４−メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジハライドが含まれ、フェノキシド触媒化合物にはビス（Ｎ−イソブチル−３−ｔ−ブチルサリチルイミノ）ジルコニウム（ＩＶ）ジベンジルが含まれる請求項１７又は１８の方法。
混合前の溶液は活性化剤を１重量％未満で含有する請求項１〜１９いずれか１項の方法。
活性化剤には担持されたアルモキサンが含まれる請求項１９の方法。
スラリーは鉱物油を含有し、２０℃で１３０〜２０００ｃＰの粘度を有する請求項１〜２１いずれか１項の方法。
スラリー及び溶液の混合物は、２０℃で１３０〜２０００ｃＰの粘度を有する請求項１〜２２いずれか１項の方法。
溶液は鉱物油を含有せず、スラリー及び溶液の混合物の２０重量％までを構成する請求項１〜２３いずれか１項の方法。
溶液は鉱物油を含有し、スラリー及び溶液の混合物の９０重量％までを構成する請求項１〜２３いずれか１項の方法。
スラリー及び溶液は、反応器に導入される前１２０分以内に混合される請求項１〜２５いずれか１項の方法。
溶液及びスラリーは、反応器に導入される１〜６０分前に混合される請求項２６の方法。
請求項１〜２７いずれか１項の方法により製造されたポリマー。
エチレンポリマーを含む組成物であり、
上記ポリマーは、密度０．９１０〜０．９３０ｇ／ｃｃ及びメルトインデックス０．３〜２．０ｄｇ／ｍｉｎを有するポリマーであり、そのポリマーの１５〜３５μｍ厚フィルムは、４５°グロス６０以上、曇価（ヘイズ）７％以下、落槍衝撃強さ６００ｇ以上を有するものである組成物。
上記ポリマーのフィルムは、３０ＭＰａ以上の横方向引張強度を有する請求項２９の組成物。
上記ポリマーのフィルムは３０ＭＰａ以上の縦方向引張強度を有する請求項２９又は３０の組成物。
上記ポリマーのフィルムは１５０ＭＰａ以上の縦方向係数を有する請求項２９〜３１いずれか１項の組成物。
上記ポリマーのフィルムは１５０ＭＰａ以上の横方向係数を有する請求項２９〜３２いずれか１項の組成物。
上記ポリマーのフィルムは１８０ｇ／ｍｉｌ以上の縦方向エルメンドルフ引裂強度を有する請求項２９〜３３いずれか１項の組成物。
上記ポリマーのフィルムは３００ｇ／ｍｉｌ以上の横方向エルメンドルフ引裂強度を有する請求項２９〜３４いずれか１項の組成物。
上記ポリマーのフィルムは、横方向引張強度３０ＭＰａ以上、縦方向引張強度３０ＭＰａ以上、縦方向係数１５０ＭＰａ以上、横方向係数１５０ＭＰａ以上、縦方向エルメンドルフ引裂強度１８０ｇ／ｍｉｌ以上、及び横方向エルメンドルフ引裂強度３００ｇ／ｍｉｌ以上を有する請求項３５の組成物。