JP2004517356A5

JP2004517356A5 -

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Publication number: JP2004517356A5
Application number: JP2002553716A
Authority: JP
Filing date: 2001-09-28
Publication date: 2005-06-09

Claims

少なくとも一つのレンズ（１、２、３、４、５）を備えた光学系におけるインコヒーレント光内での光学像形成の方法であって、
前記方法は、連続で以下のステップ、
光学系に挿入された、振幅及び位相を符号化するマスクによって光学的光線の動きの予め決定された歪曲、
光学的光線の動きの予め決定された歪曲は、前記予め決定された歪曲の関数の回転対称の達成と共に前記光学系の誤った焦点合わせに関係した収差によって引き起こされた歪曲に直交するものに近いか又は一致する方向で行われている、
光学−電子変換によって前記物体の前記形成された歪曲した中間の像（６）を獲得すること、及び
前記歪曲した中間の像の前記調和した空間濾過の援助と共に全体として振幅及び位相を符号化するマスク並びに前記光学系によって生じた前記歪曲を取り除くこと、を含む方法。
光学的光線の動きの予め決定された歪曲のメリジオナル及びサジタル成分の比は、
前記中間の像の最適な焦点合わせの前記板との前記光線の交差が、
その大きさが、その中心から同一の距離で前記振幅及び位相を符号化するマスクを焦点はずれさせる及び交差することの絶対値において等しくされた全ての光線に対する誤った焦点合わせに関係した収差によって引き起こされる光線の側方の変位の値を超える、
いくつかの半径の環の地帯内にあるような方法で、
設定される請求項１記載の方法。
前記歪曲した中間の像の調和した空間濾過が、二重光学フーリエ変換の適用と共にコヒーレント光内で成し遂げられている一方で、歪曲した中間の像の光学−電子変換は、光学的にアドレスされた空間光変調器による処理である請求項１記載の方法。
前記振幅−位相マスクによって光学的光線の動きの予め決定された歪曲を通じて物体（６）の歪曲した中間の像を形成する中で、回転運動は、前記後者に伝えられている請求項１乃至３いずれか１項記載の方法。
連続で位置決めされるのみならず、少なくとも一つのレンズ（１、２、３、４、５）を備えた光学系、
前記振幅及び位相を符号化するマスクとして実現された光学的光線の動きの歪曲用の手段、
前記形成された歪曲した中間の像の光学−電子変換器（９）並びに
一般に振幅−位相マスクによって及び前記光学系によって生じた前記歪曲を取り除く前記機能、を含むインコヒーレント光内での前記物体の光学像形成のデバイスであって、
前記振幅及び位相を符号化するマスクは、各々のスクリーン内における前記同心の円周に沿ったレンズ（１４）の配置と共に同軸に及び共焦点で位置決めされた二つのレンズ状のスクリーン（１２、１３）の形態で実現され、それに対し、
前記レンズ状のスクリーン（１２、１３）の少なくとも一つは、前記系の光学的光線の運動の予め定義された歪曲の値によって規制される角度だけ前記系の前記光学的車軸のまわりを旋回する保証されたオプションと取り付けられるデバイス。
少なくとも、前記振幅−位相マスクの前記レンズ状スクリーン（１２、１３）の一つにおいて、前記レンズは、半径方向に近い回折構造の線素の方向を伴う、回折素子の中心からの距離が増大するときの前記述べた方向の及び線素の周波数の単調な変化を伴う、前記光学系の焦点が不変なインパルス応答を保証する可能性を伴う、回折光学素子の形態で実現される請求項５記載のデバイス。
回折光学素子の回折構造の線素の前記方向は、以下のパターンの式

によって決定されており、ここで、
【外１】
は、振幅−位相マスクの前記平面における規格化された極座標を意味し、
【外２】
は、原点（座標の点）におけるｉ番目の線素の前記方向を定義する極角度を意味し、
【外３】
は、定数係数を意味する、請求項６記載のデバイス。
回折光学素子の回折構造の前記線素は、三角形の輪郭で成し遂げられ、その高さは、その構造の最大の回折効率の獲得の準備を受けて選択される請求項６又は７記載のデバイス。