JP2004508971A - 印刷プレート - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の分野】
本発明はデジタル制御レーザー照射による画像化に適した印刷プレート物質に関する。更に詳しくは、本発明は1層以上の有機組成物を担持した印刷プレート物質に関する。
【0002】
【発明の背景】
デジタル制御レーザー照射による画像化に適した印刷プレートは、そこに被覆された複数の画像化層および中間層を含んでいる。印刷プレートを画像化するために適したレーザー光は、好ましくは、約400〜1500nmの可視または近赤外領域の波長を有している。ソリッドステートレーザー源(“半導体レーザー”と通常称される)は、様々な画像化装置で用いられる経済的で使いやすい光源である。可視波長のCO2レーザーおよびレーザー放射光のような他のレーザー源も有用である。
【0003】
レーザーのアウトプットはレンズまたは他のビームガイド部品を介してプレート表面へ直接もたらされるか、あるいはファイバーオプティックケーブルで遠隔レーザーからブランク印刷プレートの表面へ伝達される。コントローラーおよび連携箇所配置ハードウェアはプレート表面に対して正確な向きでビームアウトプットを維持し、表面上でアウトプットをスキャンして、プレートの選択ポイントまたはエリア近くの位置でレーザーを作働する。コントローラーは、オリジナルの正確なネガティブまたはポジティブ画像を作製するために、プレート上に写される原図または文に対応した入射画像シグナルに応答する。画像シグナルはコンピューターにビットマップデータファイルとして貯えられる。このようなファイルは、ラスターイメージプロセッサー(RIP)または他の適切な手段により作製してもよい。例えば、RIPは、印刷プレートへ移す必要のある特徴のすべてを定めるページ記述言語で、またはページ記述言語と1以上のイメージデータファイルとの組合せとして、データを受け取ることができる。ビットマップは、スクリーン周波数および角度はもちろん、色合いも定めるように構築される。
【0004】
画像化装置はそれのみで作働させて、プレートメーカーとして単独で機能させても、あるいはリソグラフ印刷プレスへ直接組み込んでもよい。後者の場合には、ブランクプレートへの画像の適用直後に印刷を始めることで、プレスセットアップ時間をかなり減らせる。画像化装置は平台型レコーダーまたはドラムレコーダーとして形造られ、リソグラフプレートブランクがそのドラムの内部または外部シリンダー表面へ取り付けられる。明らかに、外部ドラムデザインの方がリソグラフプレスでそのまま用いるためには適しており、その場合に印刷シリンダー自体がレコーダーまたはプロッターのドラム部品を構成している。
【0005】
ドラム形態では、レーザービームとプレートとで必要な相対的動きは、ドラム(およびその上に取り付けられたプレート)をその軸の回りで回転させ、回転軸と垂直にビームを動かして、プレートの周辺をスキャンすることにより生じさせ、こうして画像が軸方向に“形成されていく”。一方、ビームはドラム軸と並行に動いてもよく、プレート上の各通過後、角度が増して、プレート上で画像が周辺に“形成されていく”。双方の場合とも、ビームによるスキャン完了後、原文または図に(ポジティブまたはネガティブに)相当する画像がプレートの表面へ適用されていく。
【0006】
平台型形態では、ビームはプレートの軸を横切り、各通過後に他の軸に沿い割出される。もちろん、ビームとプレートとで必要な相対的動きは、ビームの動きよりもむしろ(またはそれに加えて)プレートの動きにより生じさせてもよい。
【0007】
ビームがスキャンされる方式にかかわらず、複数のレーザーを用いて、それらのアウトプットを単一の書き込みアレー(writing array)へ導くことが、(速度の理由から)通常好ましい。次いで書き込みアレーが割出され、プレートを横切るまたはそれに沿う各通過の終了後に、距離がそのアレーから出るビームの数および望ましい解像度(即ち、単位長当たり画像ポイントの数)により定められる。
【0008】
レーザーアブレーションによる画像化に適した印刷プレートについて開示する一部の先行特許は、LewisらのUS特許5,339,737、5,996,496および5,996,498である。
【0009】
これら従来の印刷プレートは十分に機能するが、それらのうちあるものは吸収層が親油性ポリエステル層上に蒸着されることから製造費用が高い。金属基体へのポリエステル層の接着結合もコストを増す。
【0010】
【発明の要旨】
本発明は、基体を1層以上のポリマー組成物で被覆した印刷プレート物質に関する。その基体は金属、好ましくはアルミニウム合金または鋼、紙またはプラスチックである。
【0011】
一態様において、ポリマー組成物を含めた、レーザーアブレーションしうる材料が、基体の片側に設けられる。基体が金属であるとき、主要な表面は少くとも1回のロールテクスチャリング、機械的テクスチャリング、化学的テクスチャリングまたは電気化学的テクスチャリングにより仕上げてもよい。そのレーザーアブレーション材は、親水性アクリル系ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子を含有したポリマー組成物から好ましくは形成され、レーザーがレーザー感受性粒子を照射したときに、そのポリマー組成物がアブレーションされうる。好ましいアクリル系ポリマーは有機リン化合物を含有したコポリマー、特にアクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーである。レーザー感受性粒子は、好ましくは染料、金属、鉱物または炭素である。レーザーアブレーション材は親油性の熱可塑性または弾性ポリマーから形成してもよく、その場合にレーザーアブレーション材の上側部分は親水性となるように処理される。
【0012】
レーザーアブレーション材の一部には、レーザー感受性粒子を有しない層を含む。レーザー感受性粒子を有しない層は、レーザー感受性粒子を有するレーザーアブレーション材の残部とは異なる親和性を、印刷液に対して有している。この層はレーザーアブレーション材の残部の下にあるか、レーザーアブレーション材の残部の上にあるか、またはレーザーアブレーション材の残部の中間に置かれる。レーザー感受性粒子を有しない層がレーザーアブレーション材の下にあるとき、下の層は硫酸バリウム、二酸化チタン、アルミナ、シリカまたはそれら組合せの粒子のような多数の絶縁粒子を含有してもよい。絶縁粒子は、レーザーアブレーション材でレーザー感受性粒子の照射により生じた熱が基体へ伝わることを妨げる。
【0013】
一方、レーザーアブレーション材の一部は、ポリマー組成物とは異なる親和性を印刷液に対して有する、第二ポリマーを含有してもよい。適切な第二ポリマー組成物は、レーザー感受性粒子のないアクリル系ポリマー、シリコーンポリマーまたは熱可塑性もしくは弾性ポリマーを含有している。
【0014】
本発明の別な態様において、印刷プレートは基体、基体の上にある第一ポリマー組成物からなる第一層、および第一層の上にある第二ポリマー組成物からなる第二層を含んでおり、ここで第一層および第二層は印刷液に対して異なる親和性を有している。第一ポリマー組成物は、アクリル系ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子を含有している。第二ポリマー組成物は、親水性ポリプロピレン組成物、アクリル系ポリマーまたはシリコーンポリマーもしくはコポリマーを含有している。好ましくは、アクリル系ポリマーはアクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーである。印刷プレートは、第一層の下に第三層を更に含んでもよい。第三層は、親水性ポリプロピレン組成物、アクリル系ポリマーまたは熱可塑性もしくは弾性ポリマーから形成される。第三層は、ロールコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング、エマルジョンコーティング、パウダーコーティングまたは真空コーティングにより基体へ適用してよい。一方、第三層はZn、Cr、P、Zr、TiまたはMoの塩または化合物のコンバージョンコーティングでも、あるいはそれはエポキシ樹脂を基体上へ電気被覆して形成してもよい。
【0015】
本発明の更に別な態様において、像照射はいかなるポリマー層のアブレーションも起こさない。この態様では、基体の主要表面上に設けられて、像照射によりアブレーションしえないポリマー組成物から上側の表面を形成させた印刷材を含んでいる。上側表面は印刷液に対して初期の親和性を有しており、印刷材が像照射へ付されたときに、印刷液へ対して異なる親和性に変化しうる。ポリマー組成物は好ましくはアクリル系ポリマーを含有し、更に好ましくは有機リン化合物を含有する。印刷材は上側表面の下に第一層を含んでもよい。第一層は、ポリマー、好ましくはアクリル系ポリマーと、染料、金属、鉱物または炭素のような多数の照射照射吸収粒子から形成される。第二層は第一層の下にあって、アクリル系ポリマーあるいはZn、Cr、P、Zr、TiまたはMoの塩または化合物のコンバージョンコーティングであってもよい。一方、印刷材は、像照射によりアブレーションされて下層のポリマーを露出させうる、上側表面を有してもよい。像照射は、アブレーションで露出した下層ポリマーへ印刷液に対する親和性を生じさせ、印刷液に対して異なる親和性へ変化させる。
【0016】
【好ましい態様の詳細な説明】
下記の目的にとり、“上側”、“下側”、“右”、“左”、“垂直”、“水平”、“最上部”、“底部”という用語およびそれらの派生語は、図面で配置されているように、本発明に関するものである。しかしながら、本発明では様々な代替バリエーションおよびステップ順序を想定しうることが理解されるべきであるが、その逆に明記されている場合を除く。添付図面で示され、下記の明細書で記載された具体的な装置およびプロセスは、単に本発明の例示態様であることも、理解されるべきである。そのため、ここで開示された態様に関する具体的寸法および他の物理的特徴は、限定して解釈するべきではない。
【0017】
その最も基本的な形において、本発明は、基体と、その上に置かれた、レーザーアブレーションしうる1以上の親水性アクリル系ポリマー層とを有した、画像化用の印刷プレートに関する。レーザーアブレーションしうるという用語は、物質または層、およびアブレーションされる物質の上にある物質が、そのアブレーションを引き起こす赤外レーザー光を吸収しやすいことを意味する。上層のポリマーが完全にアブレーションされるされるかどうかに応じて、基体は印刷に関与してもそうでなくてもよい。
【0018】
下記態様の各々において、その基体は金属、好ましくはアルミニウム合金または鋼、紙またはプラスチックである。適切なアルミニウム合金には、AA1000、3000および5000シリーズの合金がある。適切な鋼基体には、軟鋼シートおよびステンレス鋼シートがある。
【0019】
アルミニウム合金基体は、好ましくは、約1〜30ミル、好ましくは約5〜20ミル、更に好ましくは約8〜20ミルの厚さを有している。約8.8ミルの厚さを有する非陽極酸化アルミニウム合金基体が特に好ましい。
【0020】
基体はミル仕上げしても、またはロールテクスチャリング、化学的テクスチャリング、電気化学的テクスチャリングまたはそれらの組合せにより更に仕上げてもよい。ロールテクスチャリングは、放電テクスチャリング(EDT)、レーザーテクスチャリング、電子ビームテクスチャリング、機械的テクスチャリング、化学的テクスチャリング、電気化学的テクスチャリングまたはそれらの組合せにより行える。好ましい機械的テクスチャリングには、ショットピーニングおよびブラシグレイニングがある。得られるテクスチャー処理表面はミル仕上げ表面よりも拡散した表面をもたらし、同時に表面に高い均一性を有する。レーザーアブレーションに際して、非均一な表面欠陥はレーザー逆反射を伴った。本発明の製品のテクスチャー処理表面はレーザー逆反射を最少に抑えて、レーザーアブレーションプロセスの均一性および効率を改善する。
【0021】
金属表面の主要表面は、潤滑油残留物のような表面汚染物質を除去するために浄化される。一部の適切な化学表面クリーナーには、アルカリ性および酸性水溶液がある。プラズマ照射、コロナ放電およびレーザー照射も利用してよい。
【0022】
図1aおよび1bで示された本発明の印刷プレート2の第一態様において、基体4はレーザーアブレーション材6で被覆されている。レーザーアブレーション材6はアクリル系ポリマーから形成され、アクリル系ポリマー中に分散された多数のレーザー感受性(光吸収性)粒子8を含有している。
【0023】
この第一態様において、後で記載されるように、アクリル系ポリマーは親水性である。好ましいアクリル系ポリマーは有機リン化合物とのコポリマーである。ここで用いられている“有機リン化合物”という用語には、有機リン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸と、様々な塩、エステル、部分塩およびその部分エステルを含む。有機リン化合物はアクリル酸またはメタクリル酸と共重合させてもよい。ビニルホスホン酸のコポリマー、特に約20,000〜100,000の分子量を有する約5〜50モル%ビニルホスホン酸および約50〜95モル%アクリル酸のコポリマーが好ましい。約70モル%アクリル酸基および約30モル%ビニルホスホン酸基を有するコポリマーが特に好ましい。アクリル系ポリマーは、シートのバッチプロセッシングで、またはロールコーティング、パウダーコーティング、スプレーコーティング、真空コーティング、エマルジョンコーティングまたは浸漬コーティングを含めた慣用的コーティングプロセスによるコイルプロセッシングで適用してよい。好ましくは、アクリル系ポリマーは、典型的には約0.01〜1.0ミル、好ましくは約0.1〜0.3ミルの厚さで、ロールコーティングにより適用される。ビニルホスホン酸およびアクリル酸のコポリマーを含めたアクリル系ポリマーは親水性である。
【0024】
レーザー感受性粒子8は赤外線を吸収するタイプの物質から形成される。好ましい粒子は、約7ミクロン以下の平均粒径を有する染料または無機粒子である。好ましい染料は、約500〜約1100ナノメーター範囲の光を吸収する、アジン化合物、アジド化合物または他の染料である。特に好ましい染料は、Pittsburgh,PennsylvaniaのBayer Corporation市販のNigrosine Base BAである。レーザーアブレーション材6がアクリル酸‐ビニルホスホン酸コポリマーおよびアジン染料を含有しているとき、染料の好ましい濃度は約1〜10wt%、好ましくは約3〜5wt%である。無機粒子には金属、鉱物または炭素の粒子がある。金属粒子にはマグネシウム、銅、コバルト、ニッケル、鉛、カドミウム、チタン、鉄、ビスマス、タングステン、タンタル、ケイ素、クロム、アルミニウムまたは亜鉛、好ましくは鉄、アルミニウム、ニッケルまたは亜鉛がある。レーザーアブレーション材6がアクリル酸‐ビニルホスホン酸コポリマーおよび酸化マンガンを含有しているとき、約0.6ミクロンの平均粒径を有する酸化マンガン粒子の好ましい濃度は、約1〜15wt%である。鉱物粒子には、上記金属の酸化物、ホウ化物、炭化物、硫化物、ハロゲン化物または窒化物、または粘土がある。粘土には、長石およびカオリネートのようなアルミニウムシリケートおよび水和シリケートがある。炭素はカーボンブラック、グラファイト、ランプブラックまたは他の市販炭質粒子の形で用いてもよい。異なる組成を有する粒子の組合せも本発明の範囲内である。アクリル系ポリマーは本来親水性であるが、十分量のレーザー感受性粒子の含有はレーザー感受性粒子入りアクリル系ポリマーの組成物を親油性にする。本発明では、ポリマー組成物を親油性にするために、アクリル系ポリマーおよび十分量のレーザー感受性粒子を有するポリマー組成物を用いる。
【0025】
使用時、図1bで示されたように基体を露出させるために、インキを入れる印刷プレートの領域で、レーザーアブレーション材6をアブレーションするレーザーにより、印刷プレート2が画像化される。材6のアブレーションは基体の領域10を露出させて、非アブレート領域12を残す。領域10および12は印刷液に対して異なる親和性を有している。レーザーアブレーション材6の水親和性およびインキ親和性に応じて、アルミニウムは親水性または親油性として作用することから、アルミニウムが好ましい基体である。この場合に、レーザーアブレーション材が親油性であるとき、アルミニウム基体は親水性として作用する。水またはファンテン液(fountain solution)を含有した印刷液のインキは領域12(非アブレート材6)へ接着し、その一方で領域10(アルミニウム基体4)は水またはファンテン液で覆われる。
【0026】
一方、図1cおよび1dで示されているように、プレート2′は、アクリル系ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子8を含有したポリマー組成物から形成されたレーザーアブレーション材6′と、基体4とを含有している。レーザーアブレーション材6′の上側部分14は、その上側部分14を親油性とするように処理される。好ましい処理には、コロナ放電、電子ビーム放電、レーザー照射または加熱がある。図1dで示されているように、上側部分14を完全に除去して、親水性領域16を露出させ、非アブレート親油性領域18を残すように、プレート2′は好ましくはレーザーで画像化される。一方、レーザーアブレーション材6′は親油性ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子8から形成してもよい。適切な親油性ポリマーには、熱可塑性または弾性ポリマーがある。好ましい熱可塑性ポリマーには、ポリビニルクロリド、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアミドおよびポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)がある。適切な弾性ポリマーには、ポリブタジエン、ポリエーテルウレタンおよびポリ(ブタジエン‐コ‐アクリロニトリル)がある。熱可塑性または弾性ポリマーは、各々参考のためここに組み込まれる、US特許5,711,911、5,795,647および5,988,066で開示された方法により、基体4へ適用される。上記の方法による親油性ポリマーの上側部分14の処理は、上側部分14を親水性にする。親油性ポリマーがレーザーアブレーション材6′で用いられるとき、露出領域16は親油性で、非アブレート領域18は親水性である。
【0027】
本発明の第二態様において、レーザーアブレーション材はその一部のみにレーザー感受性粒子を含有している。図2aおよび2bで示されているように、プレート20は、レーザー感受性粒子8を層28中に分散させた、アクリル系ポリマーのレーザーアブレーション材26で被覆された基体4を含んでいる。層28はレーザーアブレーション材26の底部近くまたはそれに隣接して置かれ、レーザー感受性粒子を全く有しない材26の上側部分30により覆われている。図2bで示されているように、その部分30を完全に除去し、層28を部分的にアブレーションして、領域32を露出させ、非アブレート領域34を残すように、プレート20は好ましくはレーザーで画像化される。アブレート領域32は親油性であり、非アブレート領域34は親水性である。水またはファンテン液を含有した印刷液のインキは領域32へ接着し、その一方で領域34は水またはファンテン液で覆われる。
【0028】
一方、図3aおよび3bで示されているように、プレート40は、上側部分50と下側部分52との間の位置でレーザー感受性粒子を含有したアクリル系ポリマーの層48を有するレーザーアブレーション材46と、基体4とを含んでいる。上側部分50および下側部分52は、そこにレーザー感受性粒子8を全く有していない。下側部分52は硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子(示さず)を含有してもよい。他の適切な絶縁粒子には、二酸化チタン、アルミナ、シリカまたはそれら組合せがある。下側部分52における絶縁粒子の濃度は、好ましくは約60wt%、更に好ましくは約50wt%である。絶縁粒子は、照射処理レーザー感受性粒子8により生じた熱が金属基体4へ伝わることを防ぐと考えられている。
【0029】
図3bで示されているように、上側部分50を完全に除去し、層48を部分的にアブレーションして、下側部分52をアブレーションせずに、親油性領域54を露出させ、非アブレート親水性領域56を残すように、プレート40は好ましくはレーザーで画像化される。
【0030】
更に、図4aおよび4bで示されているように、本発明は、レーザーアブレーション材66の最上部に隣接したまたはその近くの位置でレーザー感受性粒子8を含有したアクリル系ポリマーの層68を担持するレーザーアブレーション材66と、基体4とを有する、プレート60に関する。レーザー感受性粒子を全く有しない材66の下側部分70は、層68の下にある。下側部分70は、プレート40に関して前記されたように、硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子(示さず)を含有してもよい。図4bで示されているように、層68を完全にアブレーションして、下側部分70の領域72を露出させ、非アブレート領域74を残すように、プレート60は好ましくはレーザーで画像化される。領域74は親油性で、領域72は親水性である。
【0031】
各プレート20、40および60の各々において、層28、48および68の位置が各レーザーアブレーション材26、46および66のレーザーアブレーションの深さを決める。プレート20、40および60において、各層28、48および68は親油性で、各上側部分30および50と下側部分70は親水性である。印刷液中のインキが各露出層28、48および68へ接着して、水またはファンテン液が部分30、50および70の各非アブレート領域へ接着するように、レーザーアブレーションによる画像化は図2b、3bおよび4bで示された構造を好ましくはもたらす。
【0032】
プレート20は、レーザー感受性粒子8を含有したアクリル系ポリマーを基体4へ最初に適用して、層28を作り、次いでレーザー感受性粒子を含有しないアクリル系ポリマーを層28へ適用して、上側部分30を形成させることにより形成してもよい。プレート60も同様に作製してよいが、但し、レーザー感受性粒子を含有しない層70が、レーザー感受性粒子を含有する層68の前に適用される。プレート40も同様に、レーザー感受性粒子を含有しないアクリル系ポリマーを基体4へ最初に適用して、下側部分52を作り、次いでレーザー感受性粒子8を含有したアクリル系ポリマーを下側部分52へ適用して、層48を作り、レーザー感受性粒子を含有しないアクリル系ポリマーを層48へ適用して、上側部分50を形成させることにより形成してもよい。レーザー感受性粒子を含有するまたは含有しないアクリル系ポリマーを適用する適切な方法には、ロールコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング、エマルジョンコーティング、パウダーコーティングおよび真空コーティングがある。
【0033】
本発明の第三態様が図5a、5bおよび5cで示されており、基体4、アクリル系ポリマーから形成されたレーザーアブレーション材86、および中間層88を有するプレート80からなる。レーザー感受性粒子8は、レーザー感受性粒子を有しない材86の上側部分92により覆われたレーザーアブレーション材86の底部近くまたはそれに隣接して置かれた層90で、レーザーアブレーション材86に分散されている。中間層88は前記のような熱可塑性または弾性ポリマーから形成してよい。レーザーアブレーション材と基体との界面にレーザー感受性粒子を介在させたあるレーザーアブレーション材は、中間層がその間に置かれたときに、基体へ改善された接着性を示すことがわかった。中間層88は、基体4へのレーザーアブレーション材86の接着性を高めるように働く。プレート40に関して前記されたように、層88は硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子(示さず)を含有してもよい。
【0034】
図5bで示されているように、部分92を完全に除去し、層90を部分的にアブレーションして、領域94を露出させ、非アブレート領域96を残すように、プレート80は好ましくはレーザーで画像化される。領域94は親油性であり、領域96は親水性である。一方、レーザーアブレーション材86は、層90を十分にアブレーションして、親油性中間層88の領域98を露出させ、非アブレート領域96を残すことにより、図5cで示されたように完全に除去してもよい。いずれの場合にも、印刷液のインキは露出領域94(図5b)または98(図5c)へ接着し、その一方で水またはファンテン液は非アブレート領域96へ接着する。
【0035】
図6a、6bおよび6cは、基体4、レーザーアブレーション材106および任意の中間層108を有する印刷プレート100を含めた、本発明の第四態様について示している。中間層108はプレート80の層88と類似しており、上記のような熱可塑性または弾性ポリマーから形成して、プレート40に関して前記されたように、硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子(示さず)を含有してもよい。レーザーアブレーション材106は、レーザー感受性粒子8を分散させたアクリル系ポリマーから形成された第一層110と、層108および110のうち1以上と異なる親和性を印刷液に対して有するポリマーから形成された第二層112とを含有している。第二層112に適したポリマーはシリコーンポリマーまたはコポリマー(以下では包括してシリコーンポリマーと称される)であり、典型的には疎水性かつ疎油性である。適切なシリコーンポリマーには、フルオロシリコーン、ジメチルシリコーン、ジフェニルシリコーンおよびニトリルシリコーンがある。
【0036】
図6bで示されているように、第二層112を完全に除去し、層110を部分的にアブレーションして、領域114を露出させ、非アブレート領域116を残すように、プレート100は好ましくはレーザーで画像化される。領域116は疎水性かつ疎油性であり、領域114は親油性である。一方、レーザーアブレーション材106は、層110を十分にアブレーションして、親油性中間層108の領域118を露出させ、非アブレート領域116を残すことにより、図6cで示されているように完全に除去してもよい。プレート100は無水印刷液で用いてもよい。インキは露出親油性領域114(図6b)または118(図6c)へ接着し、非アブレート領域116によりはじかれる。
【0037】
図7aおよび7bで示された本発明の第五態様は、任意の前処理部分122およびレーザーアブレーション材126を担持する基体4を有した印刷プレート120に関する。基体4の前処理部分122は別層のポリマーでも、または一体コンバージョンコーティングでもよい。適切なポリマーはアクリル系ポリマー、親水性ポリプロピレン組成物および熱可塑性または弾性ポリマーであり、ロールコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング、エマルジョンコーティング、パウダーコーティングまたは真空コーティングにより基体4へ適用してよい。ポリプロピレンは本来親油性であるが、十分量のフィラー粒子を含有した組成物は親水性である。適切なフィラー粒子には、前記のレーザー感受性粒子がある。前処理部分122に適した他のポリマーは、参考のためここに組み込まれる、本出願の譲受人に譲渡された“リソグラフシート物質を製造するための電気被覆方法”と題される2000年3月3日付で出願されたUS09/519,018で記載されているエポキシ樹脂のような電気被覆ポリマーである。前処理部分122が別層のポリマーであるとき、部分122は、プレート40に関して前記されたように、硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子(示さず)を含有してもよい。基体4がアルミニウムまたは他の金属であるとき、前処理部分122は、追加層が基体4へ適用される代わりに、コンバージョンコーティング(基体4の反応表面)でもよい。前処理部分122にとり好ましいコンバージョンコーティングは、Zn、Cr、P、Zr、TiおよびMoの塩または化合物を含有している。
【0038】
レーザーアブレーション材126は、レーザー感受性粒子8を分散させたアクリル系ポリマーから形成された第一層128と、層128とは異なる親和性を印刷液に対して有するポリマーから形成された第二層130とを含有している。第二層130に適した物質は、アクリル系ポリマーのような親水性ポリマーおよび親水性ポリプロピレン組成物である。第二層130のポリマーは、シリコーンポリマーまたはコポリマーのような疎水性または疎油性でもよい。適切なシリコーン組成物には、フルオロシリコーン、ジメチルシリコーン、ジフェニルシリコーンおよびニトリルシリコーンがある。
【0039】
図7bで示されているように、第二層130を完全に除去し、層128を部分的にアブレーションして、親油性領域132を露出させ、非アブレート領域134を残すように、プレート120は好ましくはレーザーで画像化される。第二層130がアクリル系ポリマーから形成されるとき、領域134は親水性である。印刷液のインキは露出領域132へ接着し、その一方で水またはファンテン液は非アブレート領域134へ接着する。第二層130がシリコーンポリマーから形成されるとき、領域134は疎水性かつ疎油性であり、プレート120は無水印刷液で用いてもよい。インキはシリコーン含有第二層130によりはじかれ、インキは親油性領域132へ接着する。
【0040】
一方、図7cおよび7dで示されているように、プレート120′は基体4、およびプレート120のレーザーアブレーション材126と類似したレーザーアブレーション材126′を含んでいるが、但し第二層130′は上記の熱可塑性または弾性ポリマーのような親油性ポリマーから形成されている。第二層130′の上側部分136は、プレート2′に関して前記されたように、上側部分136を親水性とするように処理される。図7dに関して、第二層130′を完全に除去し、層128の親油性ポリマーを露出させ、非アブレート領域134′を残すように、プレート120′は好ましくはレーザーで画像化される。第二層130′は多数のレーザー感受性粒子を更に含有してもよい。親水性上側領域136をアブレーションして、第二層130′の親油性ポリマーを露出させることも可能である。
【0041】
本発明の重要な面は、アクリル系ポリマーまたは他の親水性ポリマーと多数のレーザー感受性粒子を有するポリマー組成物を少くとも一部含有した、レーザーアブレーション材の使用である。このポリマー組成物を取り入れた印刷プレートはレーザーアブレーションによりうまく画像化され、多数の印刷サイクルで用いるほど十分耐久性のあることがわかった。本発明はアブレーションしうるポリマー層にレーザー感受性粒子を含有するとして記載されてきたが、これは限定する意味ではない。レーザー照射は、レーザー感受性粒子を含有させずに、望ましいポリマー層をアブレーションするように制御してもよい。
【0042】
本発明は、画像化照射によりアブレーションされないか、または部分的にのみアブレーションされる印刷材を有した印刷プレート、およびその画像化方法にも関する。図8aおよび8bは、基体4およびポリマー印刷材146を有する印刷プレート140について示している。印刷材146のポリマーは印刷液に対して初期の親和性を有しており、印刷材146の上側表面148が親水性となるようにアクリル系ポリマーから好ましくは形成される。この態様において、レーザー感受性粒子は印刷材146に含有されない。図8aで示されているように、レーザーなどから画像化照射へ曝されると、上側表面の部分150は親油性になるが、非露出部分152は親水性のままであるため(図8b)、印刷可能な像を作る。照射のエネルギーは上側表面148の表面化学を引き起こして、上側表面146による印刷液の親和性が変わるように変化させる、と考えられている。一方、図8cで示されているように、照射は部分150′を部分的にアブレーションして、表面148の下にある部分150′のインキに対する親和性に変化をもたらし、そこをアブレーションに際して露出させる。例えば、印刷材146が最初に親水性かつ疎油性であるとき、露出部分150′は照射処理後に親油性となるが、非露出部分154は親水性かつ疎油性のままである。
【0043】
レーザー感受性粒子8を含有した印刷プレート160が図9aおよび9bで示されている。印刷プレート160は基体4およびポリマー印刷材166を有している。印刷材166のポリマーは印刷液に対して初期の親和性を有しており、印刷材166の上側表面168が親水性となるようにアクリル系ポリマーから好ましくは形成される。印刷材166は、図3aで示されたプレート40と類似して、レーザー感受性粒子8を分散させた、アクリル系ポリマーから形成された第一層170を含んでいる。図9aで示されているように、レーザーなどから画像化照射へ曝されると、上側表面168の部分172は親油性になるが、非露出部分174は親水性のままであるため(図9b)、印刷可能な像を作る。光は粒子8により吸収されて、粒子8を振動させ、発熱させて、上側表面168へ伝えられる、と考えられている。印刷液に対する上側表面168の親和性が変化するように、上側表面168の発熱は上側表面168の表面化学を変化させる、と考えられている。一方、図9cで示されているように、照射は部分172′を部分的にアブレーションして、インキに対する部分172′の親和性も変化させる。例えば、印刷材166が最初に親水性かつ疎油性であるとき、露出部分172′は照射処理後に親油性になるが、非露出部分174は親水性かつ疎油性のままである。
【0044】
印刷材166は、プレート40の層52(図3a)またはプレート120の層122(図7a)と同様の物質から形成された第二層176を更に含んでもよい。層176は、プレート40に関して前記されたように、硫酸バリウムの粒子のような絶縁粒子を含有してもよい。一方、レーザー感受性粒子8を含有した層170が基体4に隣接して置かれても(示さず)、または上側表面168がレーザー感受性粒子8を含有するように印刷材166の最上層であってもよい(示さず)。レーザー感受性粒子8は、プレート2のレーザーアブレーション材6と類似した印刷材166の全体に分布させてもよい(図1a)。
【0045】
他のポリマー組成物も印刷材146および166に用いてよいが(例えば、最初に親油性であり、画像化照射に曝されたとき親水性へ変化するポリマー)、但し印刷液に対する上側表面148または168の初期および最終親和性は、リソグラフ印刷を行えるように、異なっている。プレート140および160は、プレート2、20、40および60に関して前記されたように製造してよい。
【0046】
前記で開示された概念から逸脱することなく本発明に修正を加えてもよいことは、当業者にとり明白であろう。このような修正は、請求の範囲がそれらの用語で明らかに別記していないかぎり、請求の範囲内に含まれるとみなされる。したがって、ここで詳細に記載された具体的態様は説明のためのみであって、本発明の範囲を限定するためではなく、その範囲は添付された請求の範囲およびそのあらゆる相当物の全域におよぶ。
【0047】
本発明の完全な理解は、同じ参照記号が全体を通して同じ部分を表わしている添付図面と関連付けられたときに、以下の記載から得られるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1a】
本発明に従い作製された印刷プレートの第一態様の断面図である。
【図1b】
本発明に従い作製された印刷プレートの第一態様の断面図である。
【図1c】
本発明に従い作製された印刷プレートの第一態様の断面図である。
【図1d】
本発明に従い作製された印刷プレートの第一態様の断面図である。
【図2a】
本発明の印刷プレートの第二態様の断面図である。
【図2b】
本発明の印刷プレートの第二態様の断面図である。
【図3a】
図2aおよび2bで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図3b】
図2aおよび2bで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図4a】
図2aおよび2bで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図4b】
図2aおよび2bで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図5a】
本発明に従い作製された印刷プレートの第三態様の断面図である。
【図5b】
本発明に従い作製された印刷プレートの第三態様の断面図である。
【図5c】
本発明に従い作製された印刷プレートの第三態様の断面図である。
【図6a】
印刷プレートの第四態様の断面図である。
【図6b】
印刷プレートの第四態様の断面図である。
【図6c】
印刷プレートの第四態様の断面図である。
【図7a】
本発明に従い作製された印刷プレートの第五態様の断面図である。
【図7b】
本発明に従い作製された印刷プレートの第五態様の断面図である。
【図7c】
本発明に従い作製された印刷プレートの第五態様の断面図である。
【図7d】
本発明に従い作製された印刷プレートの第五態様の断面図である。
【図8a】
本発明に従い作製された印刷プレートの第六態様の断面図である。
【図8b】
本発明に従い作製された印刷プレートの第六態様の断面図である。
【図8c】
本発明に従い作製された印刷プレートの第六態様の断面図である。
【図9a】
図8a、8bおよび8cで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図9b】
図8a、8bおよび8cで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
【図9c】
図8a、8bおよび8cで示された印刷プレートのバリエーションの断面図である。
Claims (63)
- 主要表面を有する基体と、
前記主要表面上に設けられた、ポリマー組成物を含んでなるレーザーアブレーション材であって、該レーザーアブレーション材が、アクリル系ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子を含むポリマー組成物を含んでなり、該ポリマー組成物が、レーザーが該レーザー感受性粒子を照射したときに、アブレーションされうるものと
を含んでなる印刷プレート。 - 基体が、金属、紙またはプラスチックを含んでなる、請求項1に記載の印刷プレート。
- 基体がアルミニウムを含んでなる、請求項2に記載の印刷プレート。
- 主要表面が、ロールテクスチャリング、機械的テクスチャリング、化学的テクスチャリングまたは電気化学的テクスチャリングの少なくとも一つにより仕上げられている、請求項3に記載の印刷プレート。
- アクリル系ポリマーが有機リン化合物を含んでなる、請求項1に記載の印刷プレート。
- アクリル系ポリマーが、アクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる、請求項5に記載の印刷プレート。
- レーザー感受性粒子が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される、請求項1に記載の印刷プレート。
- レーザーアブレーション材の一部がレーザー感受性粒子を有しない層を含み、該レーザー感受性粒子を有しない層が、該レーザー感受性粒子を有する該レーザーアブレーション材の残部とは異なる親和性を、印刷液に対して有している、請求項1に記載の印刷プレート。
- 前記層が、レーザーアブレーション材の前記残部の下にある、請求項8に記載の印刷プレート。
- 前記層が、レーザーアブレーション材の前記残部の中間に設けられている、請求項8に記載の印刷プレート。
- 前記層が、レーザーアブレーション材の前記残部の上にある、請求項8に記載の印刷プレート。
- レーザーアブレーション材の一部が、ポリマー組成物とは異なる親和性を印刷液に対して有する第二ポリマー組成物を含んでなる、請求項1に記載の印刷プレート。
- 第二ポリマー組成物が、親水性アクリル系ポリマー、親水性ポリプロピレン組成物、熱可塑性または弾性ポリマー、またはシリコーンポリマーを含んでなる、請求項12に記載の印刷プレート。
- 第二ポリマー組成物が熱可塑性または弾性ポリマーを含んでなり、第二層の上側表面が親水性である、請求項13に記載の印刷プレート。
- 基体と、
該基体上に設けられ、第一ポリマー組成物を含んでなる第一層であって、該第一ポリマー組成物がアクリル系ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子を含んでなるものと、
該第一層上に設けられ、第二ポリマー組成物を含んでなる第二層と、
を含んでなり、
該第一ポリマー組成物および第二ポリマー組成物が印刷液に対して異なる親和性を有している、印刷プレート。 - アクリル系ポリマーが、アクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる、請求項15に記載の印刷プレート。
- 基体がアルミニウムを含んでなる、請求項15に記載の印刷プレート。
- 主要表面が、ロールテクスチャリング、機械的テクスチャリング、化学的テクスチャリングまたは電気化学的テクスチャリングの少なくとも一つにより仕上げられている、請求項17に記載の印刷プレート。
- 第二ポリマー組成物が、アクリル系ポリマー、親水性ポリプロピレン組成物、熱可塑性または弾性ポリマー、またはシリコーンポリマーを含んでなる、請求項15に記載の印刷プレート。
- 第一層の下に第三層を更に含んでなる、請求項19に記載の印刷プレート。
- 第三層が、アクリル系ポリマー、親水性ポリプロピレン組成物および熱可塑性または弾性ポリマーからなる群より選択される組成物を含んでなる、請求項20に記載の印刷プレート。
- 第二ポリマー組成物がアクリル系ポリマーまたはシリコーンポリマーを含んでなり、第三層が熱可塑性または弾性ポリマーを含んでなる、請求項21に記載の印刷プレート。
- 第三層が、ロールコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング、エマルジョンコーティングまたは真空コーティングにより、基体上へ被覆されている、請求項21に記載の印刷プレート。
- 第三層が、Zn、Cr、P、Zr、TiまたはMoの塩または化合物を含むコンバージョンコーティングを含んでなる、請求項20に記載の印刷プレート。
- 第三層が、基体上へ電気被覆されたエポキシ樹脂を含んでなる、請求項20に記載の印刷プレート。
- 主要表面を有する基体と、
上側部分および下側部分を有するレーザーアブレーション材であって、該レーザーアブレーション材が、上記の主要表面上に設けられたポリマー組成物を含んでなり、該上側部分の該ポリマー組成物が、該ポリマー組成物による印刷液に対する該上側部分の親和性を第一親和性から第二親和性へと変化させるように処理され、それにより該上側部分が印刷液に対して該下側部分とは異なる親和性を有するようになるため、レーザーが該上側部分を照射したときに、該上側部分が除去されて、該下側部分を露出させるものと
を含んでなる印刷プレート。 - 上側部分が、コロナ放電、電子ビーム放電、レーザー照射または加熱により処理される、請求項26に記載の印刷プレート。
- ポリマー組成物が、ポリマーおよび多数のレーザー感受性粒子を含んでなる、請求項26に記載の印刷プレート。
- 主要表面を有する基体と、
ポリマー組成物を含んでなる上側表面を有する、該主要表面上に設けられた印刷材であって、該上側表面が画像化照射によりアブレーションされず、該上側表面が印刷液に対して初期親和性を有し、該印刷材が画像化照射に付されたときに、印刷液に対して異なる親和性に変化しうるものと
を含んでなる、レーザー照射により画像化しうる印刷プレート。 - ポリマー組成物がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項29に記載の印刷プレート。
- ポリマー組成物が有機リン化合物を含んでなる、請求項30に記載の印刷プレート。
- アクリル系ポリマーが、アクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる、請求項31に記載の印刷プレート。
- 印刷材が上側表面の下に第一層を含み、該第一層がポリマーおよび多数の照射吸収粒子を含んでなる、請求項29に記載の印刷プレート。
- 照射吸収粒子が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される、請求項33に記載の印刷プレート。
- 第一層がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項33に記載の印刷プレート。
- 第一層の下に第二層を更に含んでなる、請求項33に記載の印刷プレート。
- 第二層がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項36に記載の印刷プレート。
- 第二層が、Zn、Cr、P、Zr、TiまたはMoの塩または化合物を含むコンバージョンコーティングを含んでなる、請求項36に記載の印刷プレート。
- (a)ポリマー組成物を含む上側表面を有した印刷材を用意し、ここで、上側部分が画像化照射によりアブレーションされず、上側表面が印刷液に対して初期親和性を有し、印刷材が画像化照射に付されたときに、印刷液に対して異なる親和性に変化しうるものであり、
(b)上側表面の露出部分が、上側印刷表面の未露出部分とは印刷液に対して異なる親和性を有するように、印刷材の上側表面の一部を、像に対応する画像化照射のパターンへ、該材のアブレーションを起さずに露出させること
からなる、リソグラフ印刷プレートの画像化方法。 - ポリマー組成物がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項39に記載の方法。
- 印刷材が上側表面の下に第一層を含み、該第一層がポリマーおよび多数の照射吸収粒子を含んでなる、請求項39に記載の方法。
- 照射吸収粒子が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される、請求項41に記載の印刷プレート。
- 第一層がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項42に記載の印刷プレート。
- 主要表面を有する基体と、
ポリマー組成物を含んでなる上側表面を有する、該主要表面上に設けられた印刷材であって、該上側表面が、該印刷材の下層部分を露出させるように、画像化照射によりアブレーションされうるものであり、該下層部分が印刷液に対して初期親和性を有し、該印刷材が画像化照射に付されたときに、印刷液に対して異なる親和性に変化しうるものと
を含んでなる、レーザー照射により画像化しうる印刷プレート。 - ポリマー組成物がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項44に記載の印刷プレート。
- ポリマー組成物が有機リン化合物を含んでなる、請求項45に記載の印刷プレート。
- 有機リン化合物が、アクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる、請求項46に記載の印刷プレート。
- 印刷材が上側表面の下に第一層を含み、該第一層がポリマーおよび多数の照射吸収粒子を含んでなる、請求項44に記載の印刷プレート。
- 照射吸収粒子が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される、請求項48に記載の印刷プレート。
- 第一層の下に第二層を更に含んでなる、請求項48に記載の印刷プレート。
- 第二層がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項50に記載の印刷プレート。
- (a)ポリマー組成物を含む上側表面を有した印刷材を用意し、ここで、印刷材の上側表面が画像化照射によりアブレーションされうるもので、ポリマー組成物が印刷液に対して初期親和性を有し、画像化照射に付されたときに、印刷液に対して異なる親和性に変化しうるものであり、
(b)印刷材の上側表面を像に対応する画像化照射のパターンへ露出させ、それにより該材をアブレーションして下層部分を露出させ、露出された下層部分の印刷液に対する初期親和性を印刷液に対して異なる親和性へ変化させること
からなる、リソグラフ印刷プレートの画像化方法。 - ポリマー組成物がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項52に記載の方法。
- 印刷材が上側表面の下に第一層を含み、該第一層がポリマーおよび多数の照射吸収粒子を含んでなる、請求項52に記載の方法。
- 照射吸収粒子が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される、請求項54に記載の印刷プレート。
- 第一層がアクリル系ポリマーを含んでなる、請求項54に記載の印刷プレート。
- 主要表面を有する基体と、
ポリマー組成物および多数の絶縁材を含んでなる絶縁層と、
該絶縁層上に設けられたポリマー組成物を含んでなる印刷材と、
を含んでなる印刷プレート。 - 絶縁材基体が、硫酸バリウム、二酸化チタン、アルミナ、シリカまたはそれら組合せの粒子を含んでなる、請求項57に記載の印刷プレート。
- ポリマー組成物が有機リン化合物を含んでなる、請求項57に記載の印刷プレート。
- ポリマー組成物が、アクリル酸およびビニルホスホン酸のコポリマーを含んでなる、請求項59に記載の印刷プレート。
- 印刷材が、染料、金属、鉱物および炭素からなる群より選択される照射吸収粒子を更に含んでなる、請求項57に記載の印刷プレート。
- 印刷材がレーザーアブレーションされうる、請求項57に記載の印刷プレート。
- 印刷材が印刷液に対して初期親和性を有し、該印刷材が画像化照射に付されたときに、印刷液に対して異なる親和性に変化しうる、請求項57に記載の印刷プレート。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010530316A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-09-09 | イーストマン コダック カンパニー | フレキソ印刷用印刷版を製造するためのアブレート可能要素 |
JP2014209516A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 機能性素子の製造方法および機能性素子 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6521391B1 (en) * | 2000-09-14 | 2003-02-18 | Alcoa Inc. | Printing plate |
DE10061114A1 (de) * | 2000-12-07 | 2002-06-13 | Basf Drucksysteme Gmbh | Fotoempfindliches flexographisches Druckelement mit Polyether-Polyurethane umfassender IR-ablativer Schicht |
ES2625345T3 (es) | 2003-12-19 | 2017-07-19 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Métodos para fabricar micro- y nanoestructuras usando litografía blanda o de impresión |
US8349462B2 (en) | 2009-01-16 | 2013-01-08 | Alcoa Inc. | Aluminum alloys, aluminum alloy products and methods for making the same |
US8114572B2 (en) | 2009-10-20 | 2012-02-14 | Eastman Kodak Company | Laser-ablatable elements and methods of use |
CN107850838A (zh) * | 2015-06-17 | 2018-03-27 | 爱克发有限公司 | 柔性版印刷原版及其磁性显影 |
CN106835857A (zh) * | 2015-12-04 | 2017-06-13 | 陈宣达 | 一种带防伪纹理的纸板及用于该纸板印刷的油墨板 |
CA3052308C (en) | 2017-03-06 | 2023-03-07 | Ali Unal | Methods of preparing 7xxx aluminum alloys for adhesive bonding, and products relating to the same |
EP3752885A1 (en) * | 2018-02-16 | 2020-12-23 | Miraclon Corporation | Mask element precursor and relief image - forming system |
WO2023141739A1 (en) * | 2022-01-25 | 2023-08-03 | Leica Biosystems Nussloch Gmbh | Composite structure and its preparation method and use |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US35778A (en) * | 1862-07-01 | Improvement in machinery for cutting veneers | ||
BE606888A (ja) | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
GB1448838A (en) | 1972-11-14 | 1976-09-08 | Kansai Paint Co Ltd | Lithography |
US5711911A (en) | 1988-04-18 | 1998-01-27 | 3D Systems, Inc. | Method of and apparatus for making a three-dimensional object by stereolithography |
US5339737B1 (en) | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
AU674518B2 (en) | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
US5353705A (en) | 1992-07-20 | 1994-10-11 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus |
USRE35512F1 (en) | 1992-07-20 | 1998-08-04 | Presstek Inc | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging |
US5919517A (en) | 1993-05-05 | 1999-07-06 | Aluminum Company Of America | Method for coating a metal strip |
US5407702A (en) | 1993-05-05 | 1995-04-18 | Aluminum Company Of America | Method for coating a metal strip |
US5368974A (en) | 1993-05-25 | 1994-11-29 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plates having a hydrophilic barrier layer comprised of a copolymer of vinylphosphonic acid and acrylamide overlying an aluminum support |
US5570636A (en) | 1995-05-04 | 1996-11-05 | Presstek, Inc. | Laser-imageable lithographic printing members with dimensionally stable base supports |
US5868074A (en) | 1995-05-08 | 1999-02-09 | Flex Products, Inc. | Laser imageable direct-write printing member |
US6110644A (en) | 1995-10-24 | 2000-08-29 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making a lithographic printing plate involving on press development |
US5807658A (en) | 1996-08-20 | 1998-09-15 | Presstek, Inc. | Self-cleaning, abrasion-resistant, laser-imageable lithographic printing contructions |
US5795647A (en) | 1996-09-11 | 1998-08-18 | Aluminum Company Of America | Printing plate having improved wear resistance |
US5786129A (en) | 1997-01-13 | 1998-07-28 | Presstek, Inc. | Laser-imageable recording constructions utilizing controlled, self-propagating exothermic chemical reaction mechanisms |
US5829353A (en) | 1997-06-18 | 1998-11-03 | Presstek, Inc. | Method of modulating lithographic affinity and printing members made thereby |
US6030710A (en) | 1997-06-30 | 2000-02-29 | Alcoa Inc. | Copolymer primer for aluminum alloy food and beverage containers |
EP0924102B1 (en) | 1997-12-19 | 2003-07-02 | Agfa-Gevaert | A method for lithographic printing by use of a lithographic printing plate provided by a heat sensitive non-ablatable wasteless imaging element and a fountain containing water-insoluble compounds |
US5988066A (en) | 1998-01-26 | 1999-11-23 | Aluminum Company Of America | Process of making lithographic sheet material for laser imaging |
US6006667A (en) | 1998-03-12 | 1999-12-28 | Presstek, Inc. | Method of lithographic imaging with reduced debris-generated performance degradation and related constructions |
US5996498A (en) | 1998-03-12 | 1999-12-07 | Presstek, Inc. | Method of lithographic imaging with reduced debris-generated performance degradation and related constructions |
AU3471099A (en) | 1998-04-03 | 1999-10-25 | Cabot Corporation | Modified pigments having improved dispersing properties |
US6020030A (en) | 1998-05-07 | 2000-02-01 | Aluminum Company Of America | Coating an aluminum alloy substrate |
US6095048A (en) | 1998-09-11 | 2000-08-01 | Presstek, Inc. | Lithographic imaging and plate cleaning using single-fluid ink systems |
US6073559A (en) | 1998-09-11 | 2000-06-13 | Presstek, Inc. | Lithographic imaging with constructions having inorganic oleophilic layers |
US6190830B1 (en) | 1998-09-29 | 2001-02-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive crosslinked vinyl polymer with organoonium group and methods of imaging and printing |
US6055906A (en) | 1998-11-04 | 2000-05-02 | Presstek, Inc. | Method of lithographic imaging without defects of electrostatic origin |
GB2343680A (en) * | 1998-11-16 | 2000-05-17 | Agfa Gevaert Nv | Lithographic printing plate support |
JP2000238449A (ja) | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なし平版印刷原版 |
US6087069A (en) | 1999-04-16 | 2000-07-11 | Presstek, Inc. | Lithographic imaging and cleaning of printing members having boron ceramic layers |
US6374737B1 (en) * | 2000-03-03 | 2002-04-23 | Alcoa Inc. | Printing plate material with electrocoated layer |
-
2001
- 2001-07-14 US US09/905,782 patent/US6673519B2/en not_active Expired - Fee Related
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010530316A (ja) * | 2007-04-23 | 2010-09-09 | イーストマン コダック カンパニー | フレキソ印刷用印刷版を製造するためのアブレート可能要素 |
JP2014209516A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 機能性素子の製造方法および機能性素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1309560C (zh) | 2007-04-11 |
DE60115067D1 (de) | 2005-12-22 |
CN1555314A (zh) | 2004-12-15 |
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ATE309907T1 (de) | 2005-12-15 |
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