JP2004502307A - 光電素子 - Google Patents

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Abstract

LED(D)に導電層(EL)を被覆し、発光層(LU)を導電層(EL)上に配置する。導電層(EL)の導電率を、導電層を電気泳動中に電極の一方として使用できるように選択し、同時に、通常の動作中にLED(D)が前記層によって短絡されないようにする。

Description

【0001】
技術の分野
本発明は、電気的な絶縁材料から形成した基板材料上に設けられた半導体ボディを具え、その半導体ボディから発生した第1の波長範囲の電磁放射を互いに相違する波長範囲の可視光に変換する発光層を前記半導体ボディに設けた光電素子に関する。
また、本発明は、光電素子に発光層を被覆する方法に関する。
【0002】
背景技術
冒頭で説明したような光電素子は、米国特許番号第5,813,752号に開示されている。既知の光電素子において、半導体ボディ及び基板は、LEDの一部を形成する。発光素子は、LEDから発生したUV光又は青色光を、互いに相違する波長の可視光に変換する。このようにして、そのようなLEDを、互いに相違する色の可視光を必要とする互いに相違するアプリケーションでの使用に対して適切なものとすることができる。しかしながら、容易に制御されるほぼ均一の厚さの密接層が得られるように発光層を光電層に設けるのがしばしば困難であるという問題がある。
【0003】
発明の開示
したがって、本発明の目的は、比較的簡単に設けることができる、均一な厚さの密接した発光層を具える光学素子を提供することである。
このために、本発明による冒頭に記載した発光素子は、前記基板と前記発光層との間に導電層を配置し、その導電率Xを、前記光電素子の動作中、前記導電層を流れる電流が最大でも前記半導体素子を流れる電流の5%となるように選択したことを特徴とする。
【0004】
実際には、導電層は、通常、光電素子の互いに相違する電極に互いに接続する。この層の導電率を非常に低く選択しているので、この層によって光電素子の電極間に短絡が生じなく、かつ、光電素子の機能にほとんど悪影響が及ぼされない。驚くべきことには、同時に、導電率は、適切に選択したスラリーから蛍光材料を電気泳動によって堆積するのに十分に高く、このプロセスにおいて、導電層は、電極の一方としての役割を果たす。このように、光電素子の光電特性が導電層によって悪影響が及ぼされないので、光電素子の一部を形成する密接な発行層を均一な厚さで容易に設けることができる。
【0005】
本発明による光電素子を、前記光電素子の動作中、前記導電層を流れる電流を、最大でも前記半導体素子を流れる電流の1%として実施することができる。
前記導電層が、前記半導体素子から発生した電磁放射に対して透明である場合、本発明による光電素子は比較的高い効率を有する。
【0006】
前記導電層が、透明な酸化金属含み、更に好適には、前記導電層が、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ及び酸化スズからなる群から選択した一つ以上の酸化物を含む本発明による光電素子の例を用いて、好適な結果が達成される。 前記半導体ボディがLEDの一部を形成する本発明による光電素子の例を用いても、好適な結果が達成される。
【0007】
方法は、本明細書の第2段落で説明したように、電気的な絶縁材料の基板上に設けた半導体ボディを具える光電素子に発光層を被覆する方法であって、その基板に導電層を被覆した後、少なくとも前記導電層を発光材料のサスペンションに接触させ、その発光材料を、電気泳動によって前記導電層の表面上に配置し、前記導電層が第1電極としての役割を果たし、前記サスペンション中に第2電極が存在し、これら電極間で所定の電位差を維持し、前記導電層の導電率Xを、前記サスペンションの導電率より高くするとともに、前記半導体素子の導電率より低くする。
方法を、LEDを具える光電素子を被覆するのに非常に好適に用いることができる。
【0008】
本発明による方法は、複数の光電素子が設けられる支持プレート上に接続した光電素子に対して良好に適用することができ、その結果、これら全ての光電素子は発光層で同時に被覆される。
【0009】
発明を実施するための最良の形態
図1において、LFは、導電材料の支持プレートを表す。Aは、支持プレートLFの孔に設けられるとともに金属で構成されたヒートシンクを示す。ヒートシンクAに対して、アルミニウム層を被覆したSiウェファで構成したサブマウントBを設ける。サブマウントBの両端にボンディングワイヤをそれぞれ接続し、それぞれの盆ディングワイヤに支持プレートLFを接続する。Dは、半導体材料からなる複数のエピタキシャル層を設けた絶縁性のセラミック材料から構成した基板を具えるLEDを表す。これらエピタキシャル層は、半導体ボディを共同して形成する。Cは、LED DとサブマウントBとの間の電気的なコンタクトを形成する半田玉をあらわす。STは、発光材料のサスペンションSの小滴を表す。小滴STは、ヒートシンクA、サブマウントB、コンタクトC及びLED Dの外壁の一部に接触する。サスペンションに接触するヒートシンクA、サブマウントB、コンタクトC及びLED Dの外壁の一部に導電層ELを設け、その導電率を、サスペンションの導電率より高くするとともに半導体の導電率より低くなるように選択する。サスペンションは、ポンプによって矢印で示した方向に移動し、その結果、LED Dの表面の近辺にあるサスペンションの一部が連続的に入れ替えられる。電源Vgのカソードは、支持プレートLF及びボンディングワイヤBDを通じて導電層に接続され、その結果、この層は、サスペンションに接触したカソードを形成する。電源Vgのアノードは、サスペンション中に配置された電極Eに接続される。電源から発生した電圧の影響の下で、発光材料の層は、電気泳動によって導電層の表面に配置される。
【0010】
図1に示す方法のステップの実施の形態において、導電材料を、酸化アンチモンスズ(antimony tin oxide)によって構成し、その厚さを約50nmとする。この導電層を、光電素子の表面を酸化アンチモンスズによって湿らすことによって設ける。光電素子は、半導体ボディ上に設けられたエピタキシャル層AlGaInNからなるサファイヤ基板を具える。電流がこの半導体ボディを流れると、青色光が発生する。使用されるサスペンションは、リン酸ストロンチウム(strontium phosphate)を含む。このサスペンションの導電率を約300pS/mとする。200Vの電圧の影響下では、LED Dの表面は、50秒で約50μmの発光層が電気泳動的に被覆される。
【0011】
図2において、図1に示すパーツに対応するパーツに同一参照符号を付す。導電層ELは、ヒートシンクA、サブマウントB、コンタクトC及びLED Dの外側の一部をカバーする。導電層ELは、発光層LUによって完全にカバーされる。その結果、ヒートシンクから離間したLED Dの表面だけでなく、それに対して垂直方向に延長材する側面も発光材料によって被覆される。発光層から発生した光の方向に影響を及ぼすために、半球状のボディをLED D上に設け、その半球状のボディに、可視光に対して透明な壁部Eと、可視光に対して透明なFとを設ける。支持プレートLFに接触するボンディングワイヤの両端間に電圧が印加されると、LED Dは、第1の波長範囲の電磁放射を発生し、その放射は、発光層LUによって、互いに相違する波長範囲の可視光に変換される。壁部E及び透明な充填物Fが存在することによって、光は、ほぼ光電素子の長手方向の軸線方向に出射する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による方法のステップの一例を示す。
【図2】本発明による光電素子の一例を示す。

Claims (9)

  1. 電気的な絶縁材料から形成した基板材料上に設けられた半導体ボディを具え、その半導体ボディから発生した第1の波長範囲の電磁放射を互いに相違する波長範囲の可視光に変換する発光層を前記半導体ボディに設けた光電素子において、前記基板と前記発光層との間に導電層を配置し、その導電率Xを、前記光電素子の動作中、前記導電層を流れる電流が最大でも前記半導体素子を流れる電流の5%となるように選択したことを特徴とする光電素子。
  2. 前記光電素子の動作中、前記導電層を流れる電流を、最大でも前記半導体素子を流れる電流の1%としたことを特徴とする請求項1記載の光電素子。
  3. 前記導電層が、前記半導体素子から発生した電磁放射に対して透明であることを特徴とする請求項1又は2記載の光電素子。
  4. 前記導電層が、透明な酸化金属含むことを特徴とする請求項1,2又は3記載の光電素子。
  5. 前記導電層が、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ及び酸化スズからなる群から選択した一つ以上の酸化物を含むことを特徴とする請求項1,2,3又は4記載の光電素子。
  6. 前記半導体ボディがLEDの一部を形成することを特徴とする請求項1から5のうちのいずれか1項に記載の光電素子。
  7. 電気的な絶縁材料の基板上に設けた半導体ボディを具える光電素子に発光層を被覆する方法であって、その基板に導電層を被覆した後、少なくとも前記導電層を発光材料のサスペンションに接触させ、その発光材料を、電気泳動によって前記導電層の表面上に配置し、前記導電層が第1電極としての役割を果たし、前記サスペンション中に第2電極が存在し、これら電極間で所定の電位差を維持し、前記導電層の導電率Xを、前記サスペンションの導電率より高くするとともに、前記半導体素子の導電率より低くすることを特徴とする方法。
  8. 前記光電素子がLEDを具えることを特徴とする請求項7記載の方法。
  9. 前記光電素子を、複数の光電素子が設けられる支持プレート上に接続することを特徴とする請求項7又は8記載の方法。
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003235489A1 (en) 2002-05-08 2003-11-11 Tom Mcneil High efficiency solid-state light source and methods of use and manufacture
US6828596B2 (en) * 2002-06-13 2004-12-07 Lumileds Lighting U.S., Llc Contacting scheme for large and small area semiconductor light emitting flip chip devices
US6864110B2 (en) * 2002-10-22 2005-03-08 Agilent Technologies, Inc. Electrophoretic processes for the selective deposition of materials on a semiconducting device
WO2005043954A2 (en) * 2003-10-31 2005-05-12 Phoseon Technology, Inc. Series wiring of highly reliable light sources
WO2005041632A2 (en) * 2003-10-31 2005-05-12 Phoseon Technology, Inc. Collection optics for led array with offset hemispherical or faceted surfaces
DE202005002110U1 (de) * 2004-02-19 2005-05-04 Hong-Yuan Technology Co., Ltd., Yonghe Lichtemittierende Vorrichtung
TWI257718B (en) 2004-03-18 2006-07-01 Phoseon Technology Inc Direct cooling of LEDs
US7638808B2 (en) 2004-03-18 2009-12-29 Phoseon Technology, Inc. Micro-reflectors on a substrate for high-density LED array
US7816638B2 (en) * 2004-03-30 2010-10-19 Phoseon Technology, Inc. LED array having array-based LED detectors
DK1756876T3 (da) * 2004-04-12 2011-07-18 Phoseon Technology Inc LED-opstilling med høj densitet
WO2005100961A2 (en) * 2004-04-19 2005-10-27 Phoseon Technology, Inc. Imaging semiconductor strucutures using solid state illumination
KR101288758B1 (ko) * 2004-12-30 2013-07-23 포세온 테크날러지 인코퍼레이티드 산업 공정에서 광원을 사용하는 시스템 및 방법
US8748923B2 (en) * 2005-03-14 2014-06-10 Philips Lumileds Lighting Company Llc Wavelength-converted semiconductor light emitting device
US7341878B2 (en) * 2005-03-14 2008-03-11 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Wavelength-converted semiconductor light emitting device
US7642527B2 (en) * 2005-12-30 2010-01-05 Phoseon Technology, Inc. Multi-attribute light effects for use in curing and other applications involving photoreactions and processing
US8062925B2 (en) * 2006-05-16 2011-11-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Process for preparing a semiconductor light-emitting device for mounting
WO2008099315A2 (en) * 2007-02-12 2008-08-21 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Large area light emitting diode light source
KR100967952B1 (ko) * 2008-01-10 2010-07-06 (주)삼우아이엠씨 도로포장의 덧씌우기 공법
KR100973238B1 (ko) 2008-03-26 2010-07-30 서울반도체 주식회사 형광체 코팅방법 및 장치 그리고 형광체 코팅층을 포함하는led
EP2541631A4 (en) 2010-02-25 2015-03-18 Lightizer Korea Co Ltd LIGHT EMITTING DIODE AND METHOD OF MANUFACTURE
US9062847B2 (en) * 2011-04-13 2015-06-23 Osram Gmbh Method for manufacturing a phospor device and lighting apparatus comprising such phosphor device
DE102013109031B4 (de) * 2013-08-21 2021-11-04 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips
DE102015106635A1 (de) * 2015-04-29 2016-11-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronische Anordnung
US10573843B2 (en) 2015-08-05 2020-02-25 Apple Inc. Light-emitting device having an electrode with varying sheet resistance

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5950200A (ja) * 1982-09-14 1984-03-23 Sony Corp 粉体の非水溶液系電着法
JPH1140858A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Nichia Chem Ind Ltd 発光ダイオード及びその形成方法
JPH1187778A (ja) * 1997-09-02 1999-03-30 Toshiba Corp 半導体発光素子、半導体発光装置およびその製造方法
JP2001111109A (ja) * 1999-10-07 2001-04-20 Sharp Corp 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS586252B2 (ja) 1978-09-29 1983-02-03 伊勢電子工業株式会社 陰極線表示パネルの製造方法
DE69214780T2 (de) 1991-12-11 1997-05-15 Agfa Gevaert Nv Methode zur Herstellung eines radiographischen Schirmes
US5226053A (en) * 1991-12-27 1993-07-06 At&T Bell Laboratories Light emitting diode
US5557115A (en) * 1994-08-11 1996-09-17 Rohm Co. Ltd. Light emitting semiconductor device with sub-mount
JP2795194B2 (ja) 1994-09-22 1998-09-10 株式会社デンソー エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法
US5537738A (en) * 1995-02-10 1996-07-23 Micron Display Technology Inc. Methods of mechanical and electrical substrate connection
JPH11510968A (ja) 1996-06-11 1999-09-21 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 紫外発光ダイオード及び紫外励起可視光放射蛍光体を含む可視発光ディスプレイ及び該デバイスの製造方法
DE19638667C2 (de) 1996-09-20 2001-05-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Mischfarbiges Licht abstrahlendes Halbleiterbauelement mit Lumineszenzkonversionselement
US5813752A (en) * 1997-05-27 1998-09-29 Philips Electronics North America Corporation UV/blue LED-phosphor device with short wave pass, long wave pass band pass and peroit filters
US5813753A (en) 1997-05-27 1998-09-29 Philips Electronics North America Corporation UV/blue led-phosphor device with efficient conversion of UV/blues light to visible light
EP0924966A1 (en) * 1997-06-30 1999-06-23 Aventis Research & Technologies GmbH & Co. KG Thin film electrode for planar organic light-emitting devices and method for its production
US6236060B1 (en) * 1997-11-19 2001-05-22 International Business Machines Corporation Light emitting structures in back-end of line silicon technology
US5952681A (en) 1997-11-24 1999-09-14 Chen; Hsing Light emitting diode emitting red, green and blue light
US6153075A (en) * 1998-02-26 2000-11-28 Micron Technology, Inc. Methods using electrophoretically deposited patternable material
DE29804149U1 (de) * 1998-03-09 1998-06-18 Chen, Hsing, Hsinchu Leuchtdiode (LED) mit verbesserter Struktur
US6366018B1 (en) 1998-10-21 2002-04-02 Sarnoff Corporation Apparatus for performing wavelength-conversion using phosphors with light emitting diodes
JP2000150966A (ja) * 1998-11-16 2000-05-30 Matsushita Electronics Industry Corp 半導体発光装置及びその製造方法
US6373188B1 (en) 1998-12-22 2002-04-16 Honeywell International Inc. Efficient solid-state light emitting device with excited phosphors for producing a visible light output
US6203681B1 (en) 1999-05-07 2001-03-20 Micron Technology, Inc. Methods of fabricating display screens using electrophoretic deposition

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5950200A (ja) * 1982-09-14 1984-03-23 Sony Corp 粉体の非水溶液系電着法
JPH1140858A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Nichia Chem Ind Ltd 発光ダイオード及びその形成方法
JPH1187778A (ja) * 1997-09-02 1999-03-30 Toshiba Corp 半導体発光素子、半導体発光装置およびその製造方法
JP2001111109A (ja) * 1999-10-07 2001-04-20 Sharp Corp 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子

Also Published As

Publication number Publication date
KR100869866B1 (ko) 2008-11-24
US20020014838A1 (en) 2002-02-07
DE60143152D1 (de) 2010-11-11
US6686581B2 (en) 2004-02-03
EP1228540B1 (en) 2010-09-29
JP4928046B2 (ja) 2012-05-09
EP1228540A1 (en) 2002-08-07
KR20020027589A (ko) 2002-04-13
WO2002001649A1 (en) 2002-01-03
CN1263168C (zh) 2006-07-05
TW511302B (en) 2002-11-21
CN1383583A (zh) 2002-12-04

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