JP2004358414A - 濾過装置および濾過方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置の大型化を抑制しつつ、フィルタ表面の気泡を効率よく除去する。
【解決手段】レジストフィルタ８の入口面側に配置された粒状部材１０をレジスト濾過装置４内に設け、レジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１をレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出させることにより、粒状部材１０を浮き上がらせて、粒状部材１０をレジストフィルタ８の表面に接触させ、レジストフィルタ８の表面から気泡１１を除去する。
【選択図】 図１
【解決手段】レジストフィルタ８の入口面側に配置された粒状部材１０をレジスト濾過装置４内に設け、レジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１をレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出させることにより、粒状部材１０を浮き上がらせて、粒状部材１０をレジストフィルタ８の表面に接触させ、レジストフィルタ８の表面から気泡１１を除去する。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は濾過装置および濾過方法に関し、特に、レジストフィルタのエア抜き方法に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のレジスト塗布装置では、レジスト内の不純物を除去するため、レジストフィルタを設けたものがある。ここで、レジストフィルタ表面に気泡があると、レジストを濾過する際にレジスト内に気泡が混入し、レジストの塗布むらが発生する。このため、従来のレジストフィルタでは、例えば、特許文献１に開示されているように、レジストフィルタを振動させる振動装置を設け、レジストフィルタを振動させることにより、レジストフィルタ表面の気泡を除去することが行われている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平５−２２８３０４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レジストフィルタを振動させてレジストフィルタ表面の気泡を除去する方法では、レジストフィルタ全体を振動させる必要があり、レジスト塗布装置の大型化を招くとともに、気泡を除去するための効率が悪く、気泡の除去に時間がかかるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、装置の大型化を抑制しつつ、フィルタ表面の気泡を効率よく除去することが可能な濾過装置および濾過方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、液体を濾過する濾過手段と、前記濾過手段に供給される液体を保持する液体保持手段と、前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記液体保持手段内に設けられた粒状部材と、前記粒状部材を前記液体保持手段内で流動させる流動手段とを備えることを特徴とする。
【０００７】
これにより、液体保持手段内で粒状部材を流動させることにより、濾過手段の表面に粒状部材を接触させることが可能となり、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。このため、液体保持手段内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【０００８】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、液体を保持する容器と、前記容器内に前記液体を導入する液体導入管と、前記容器内に導入された前記液体を送出する液体送出管と、前記液体導入管と前記液体送出管とを仕切るようにして前記容器内に設置された濾過手段と、前記液体導入管よりも上方に設けられ、前記容器内に導入された液体を前記濾過手段により濾過される前に排出する液体排出管と、前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記容器内に設けられた粒状部材とを備えることを特徴とする。
【０００９】
これにより、液体導入管を介して容器内に導入された液体を液体排出管から排出させることにより、容器内に設けられた粒状部材を流動させることが可能となり、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。このため、容器内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１０】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体導入管は前記容器の底部に接続され、前記液体排出管は前記容器の上方に接続されていることを特徴とする。
これにより、液体導入管を介して容器内に導入された液体を液体排出管から排出させることにより、容器内に設けられた粒状部材を浮き上がらせることが可能となるとともに、液体排出管から排出される液体の流れを止めることにより、容器内に設けられた粒状部材を沈み込ませることが可能となる。このため、濾過手段で濾過される液体の流れを利用して、粒状部材を容器内で流動させることが可能となり、粒状部材を容器内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。この結果、容器内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記粒状部材の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることを特徴とする。
これにより、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記粒状部材の比重は、前記液体の流動状態に応じて浮き沈み可能な範囲内にあることを特徴とする。
これにより、液体排出管から排出される液体の流れを止めることにより、液体内で浮き上がった粒状部材を自然に沈み込ませることが可能となり、粒状部材を容器内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡を除去することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体排出管により排出された液体を回収する回収手段をさらに備えることを特徴とする。
これにより、液体排出管により排出された液体を再利用することが可能となり、液体排出管により排出された液体が無駄に破棄されることを防止しつつ、濾過手段の表面に付着した気泡を除去することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体送出管内を流れる気泡を検出する気泡検出手段と、前記気泡の検出結果に基づいて、前記液体排出管からの排出制御を行う制御手段とをさらに備えることを特徴とする。
これにより、濾過手段の表面に付着した気泡を直ちに除去することが可能となり、気泡が混入したレジストが知らずに使用されることを防止して、レジストの塗布むらの発生を未然に防止することが可能となる。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る濾過方法によれば、濾過手段で濾過される液体内に沈んだ状態で粒状部材を保持する工程と、前記濾過手段の下方から前記濾過手段の表面に沿って前記液体を流すことにより、前記粒状部材を持ち上げる工程と、前記液体の流れを止めることにより、前記粒状部材を前記液体内に沈ませる工程とを備えることを特徴とする。
【００１６】
これにより、濾過手段の表面に沿って液体を流すことにより、粒状部材を液体内で浮き上がらせることが可能となるとともに、液体の流れを止めることにより、液体内の粒状部材を沈み込ませることが可能となる。このため、濾過手段で濾過される液体の流れを利用して、粒状部材を液体内で流動させることが可能となり、粒状部材を液体内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。この結果、液体内に粒状部材を混入させることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る濾過装置および濾過方法について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
【００１８】
図１において、レジスト貯留部１にはレジストＲ１が貯留されている。そして、レジスト貯留部１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部１に導入するガス導入管２が挿入されている。ここで、ガス導入管２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１が設けられている。また、レジスト貯留部１には、レジストＲ１をレジスト濾過装置４に供給するレジスト供給管３が挿入されている。
【００１９】
また、レジスト濾過装置４の底には、レジスト濾過装置４内にレジストＲ１を導入するレジスト導入管５が設けられ、レジスト導入管５はレジスト供給管３に接続されている。また、レジスト濾過装置４の上方には、コータユニット１３にレジストＲ１を送出するレジスト送出管９が設けられるとともに、レジスト送出管９の外側には、レジストＲ１を排出するレジスト排出管６ａ、６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置４には、レジスト濾過装置４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ１内の不純物を濾過するレジストフィルタ８が設けられている。ここで、レジスト導入管５およびレジスト排出管６ａ、６ｂは、レジストフィルタ８にレジストＲ１を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管９は、レジストフィルタ８で濾過されたレジストＲ１が排出される排出面側に配置されている。
【００２０】
例えば、レジスト濾過装置４の外形は円筒状とすることができ、レジストフィルタ８の形状は断面がＵ字状の釣鐘状とすることができる。そして、レジストフィルタ８の外周面側がレジスト濾過装置４の壁面から離間するようにして、レジストフィルタ８の上端部をレジスト濾過装置４の天上に密着させ、レジストフィルタ８で囲まれる内側の中空部７がレジスト送出管９に接続されるようにすることができる。
【００２１】
そして、レジスト濾過装置４内には、レジストフィルタ８にレジストＲ１を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材１０が設けられている。なお、粒状部材１０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材１０の材質としては、粒状部材１０がレジストＲ１で腐食されることを防止するため、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材１０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材１０の比重は、レジストＲ１の比重よりも大きいことが好ましく、例えば、粒状部材１０の比重を１．０以上に設定することができる。さらに、粒状部材１０の比重は、レジスト濾過装置４にレジストＲ１を流した時に、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がるように設定することが好ましい。ここで、粒状部材１０の材質自体の比重が大きいために、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がり難い場合には、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がり易くするために、粒状部材１０を中空構造にするようにしてもよい。また、粒状部材１０がレジストＲ１内で流動した時に、粒状部材１０から気泡が発生することを防止するため、粒状部材１０の表面は滑らかなことが好ましい。また、レジストＲ１の性質に応じて、疎水性または親水性の表面加工を粒状部材１０に施すことが好ましい。
【００２２】
また、レジスト排出管６ａ、６ｂには、レジストＲ１の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２、Ｖ３がそれぞれ設けられている。また、レジスト導入管５およびレジスト排出管６ａ、６ｂ内には、粒状部材１０がレジスト濾過装置４から流出することを防止するトラップＴＲ１〜ＴＲ３がそれぞれ設けられている。なお、トラップＴＲ１〜ＴＲ３としては、例えば、粒状部材１０よりも隙間の小さな網目部材などを用いることができる。
【００２３】
また、レジスト送出管９は、レジスト供給管１２を介してコータユニット１３に接続されている。ここで、レジスト供給管１２には、レジストＲ１の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ４が設けられている。また、コータユニット１３には、レジストＲ１をウェハＷ１上に噴出させるノズル１４が設けられている。
【００２４】
図２は、図１の濾過装置の動作を示す断面図である。
図２（ａ）において、レジスト濾過装置４内にレジストＲ１を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置４内に気泡１１が付着しているものとする。そして、粒状部材１０の比重がレジストＲ１の比重よりも大きいものとすると、バルブＶ２〜Ｖ４が閉じた状態では、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に滞留し、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込む。ここで、レジスト導入管５にトラップＴＲ１を設けることにより、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込んだ場合においても、粒状部材１０がレジスト導入管５に流出することを防止することが可能となる。
【００２５】
そして、レジスト濾過装置４内の気泡１１を除去する場合、バルブＶ１〜Ｖ３を開放する。そして、ガス導入管２を介してレジスト貯留部１内にガスを送り込み、レジスト貯留部１内のレジストＲ１をレジスト供給管３に供給する。そして、レジスト供給管３に供給されたレジストＲ１を、レジスト導入管５を介しレジスト濾過装置４の底からレジスト濾過装置４内に導入する。
【００２６】
そして、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に導入されると、レジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１がレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ１の流れがレジスト濾過装置４内で発生し、図２（ｂ）に示すように、このレジストＲ１の流れに乗って粒状部材１０が浮き上がる。そして、粒状部材１０が浮き上がると、粒状部材１０がレジストフィルタ８の表面に接触し、粒状部材１０が気泡１１に衝突して、気泡１１がレジストフィルタ８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ８の表面から除去された気泡１１は、レジストＲ１の流れに沿ってレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出される。ここで、レジスト排出管６ａ、６ｂにトラップＴＲ２、ＴＲ３をそれぞれ設けることにより、粒状部材１０がレジスト濾過装置４内で浮き上がった場合においても、粒状部材１０がレジスト排出管６ａ、６ｂに流出することを防止することが可能となる。
【００２７】
そして、レジストフィルタ８の表面から除去された気泡１１が排出されると、バルブＶ１〜Ｖ３を閉じることにより、レジスト濾過装置４内におけるレジストＲ１の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置４内におけるレジストＲ１の流れが停止されると、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に滞留し、図２（ｃ）に示すように、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込む。
【００２８】
そして、ウェハＷ１上にレジストＲ１を塗布する場合、バルブＶ２、Ｖ３を閉じた状態でバルブＶ４を開く。そして、レジスト導入管５を介してレジスト濾過装置４に導入されたレジストＲ１をレジストフィルタ８で濾過させながら、レジストＲ１を中空部７に導く。そして、中空部７に導かれたレジストＲ１を、レジスト送出管９を介してレジスト供給管１２に導き、コータユニット１３のノズル１４を介してウェハＷ１上にレジストＲ１を噴出させる。
【００２９】
これにより、レジスト導入管５を介してレジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１をレジスト排出管６ａ、６ｂから排出させることにより、レジスト濾過装置４内に設けられた粒状部材１０を浮き上がらせることが可能となるとともに、レジスト排出管６ａ、６ｂから排出されるレジストＲ１の流れを止めることにより、レジスト濾過装置４内に設けられた粒状部材１０を沈み込ませることが可能となる。このため、レジストフィルタ８で濾過されるレジストＲ１の流れを利用して、粒状部材１０をレジスト濾過装置４内で流動させることが可能となり、粒状部材１０をレジスト濾過装置４内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、レジストフィルタ８表面に付着した気泡１１に粒状部材１０を衝突させることが可能となる。この結果、レジスト濾過装置４内に粒状部材１０を設けることで、レジストフィルタ８表面に付着した気泡１１を効率よく除去することが可能となり、レジスト濾過装置４の大型化を抑制しつつ、気泡１１の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００３０】
図３は、本発明の第２実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
図３において、レジスト貯留部２１にはレジストＲ２が貯留されている。そして、レジスト貯留部２１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部２１に導入するガス導入管２２が挿入されている。ここで、ガス導入管２２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１１が設けられている。また、レジスト貯留部２１には、レジストＲ２をレジスト濾過装置２４に供給するレジスト供給管２３が挿入されている。
【００３１】
また、レジスト濾過装置２４の底には、レジスト濾過装置２４内にレジストＲ２を導入するレジスト導入管２５が設けられ、レジスト導入管２５はレジスト供給管２３に接続されている。また、レジスト濾過装置２４の上方には、コータユニット３３にレジストＲ２を送出するレジスト送出管２９が設けられるとともに、レジスト送出管２９の外側には、レジストＲ２を排出するレジスト排出管２６ａ、２６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置２４には、レジスト濾過装置２４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ２内の不純物を濾過するレジストフィルタ２８が設けられている。ここで、レジスト導入管２５およびレジスト排出管２６ａ、２６ｂは、レジストフィルタ２８にレジストＲ２を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管２９は、レジストフィルタ２８で濾過されたレジストＲ２が排出される排出面側に配置されている。
【００３２】
そして、レジスト濾過装置２４内には、レジストフィルタ２８にレジストＲ２を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材３０が設けられている。なお、粒状部材３０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材３０の材質としては、粒状部材３０がレジストＲ２で腐食されることを防止するため、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材３０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材３０の比重は、レジストＲ２の比重よりも大きいことが好ましく、例えば、粒状部材３０の比重を１．０以上に設定することができる。さらに、粒状部材３０の比重は、レジスト濾過装置２４にレジストＲ２を流した時に、粒状部材３０がレジストＲ２内で浮き上がるように設定することが好ましい。また、粒状部材３０がレジストＲ２内で流動した時に、粒状部材３０から気泡が発生することを防止するため、粒状部材３０の表面は滑らかなことが好ましい。また、レジストＲ２の性質に応じて、疎水性または親水性の表面加工を粒状部材３０に施すことが好ましい。
【００３３】
また、レジスト排出管２６ａ、２６ｂには、レジストＲ２の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１２、Ｖ１３がそれぞれ設けられている。また、レジスト排出管２６ａ、２６ｂは、レジストＲ２を回収する回収管３５に接続され、回収管３５は、レジスト貯留部２１に挿入されている。また、レジスト導入管２５およびレジスト排出管２６ａ、２６ｂ内には、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４から流出することを防止するトラップＴＲ１１〜ＴＲ１３がそれぞれ設けられている。
【００３４】
また、レジスト送出管２９は、レジスト供給管３２を介してコータユニット３３に接続されている。ここで、レジスト供給管３２には、レジストＲ２の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１４が設けられている。また、コータユニット３３には、レジストＲ２をウェハＷ２上に噴出させるノズル３４が設けられている。
【００３５】
ここで、レジスト濾過装置２４内にレジストＲ２を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置２４内に気泡３１が付着しているものとする。そして、粒状部材３０の比重がレジストＲ２の比重よりも大きいため、バルブＶ１２〜Ｖ１４が閉じた状態では、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に滞留し、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４の底に沈み込んでいるものとする。
【００３６】
そして、レジスト濾過装置２４内の気泡３１を除去する場合、バルブＶ１１〜Ｖ１３を開放する。そして、ガス導入管２２を介してレジスト貯留部２１内にガスを送り込み、レジスト貯留部２１内のレジストＲ２をレジスト供給管２３に供給する。そして、レジスト供給管２３に供給されたレジストＲ２を、レジスト導入管２５を介しレジスト濾過装置２４の底からレジスト濾過装置２４内に導入する。
【００３７】
そして、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に導入されると、レジスト濾過装置２４内に導入されたレジストＲ２がレジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ２の流れがレジスト濾過装置２４内で発生し、このレジストＲ２の流れに乗って粒状部材３０が浮き上がる。そして、粒状部材３０が浮き上がると、粒状部材３０がレジストフィルタ２８の表面に接触し、粒状部材３０が気泡３１に衝突して、気泡３１がレジストフィルタ２８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ２８の表面から除去された気泡３１は、レジストＲ２の流れに沿ってレジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出される。そして、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２は、回収管３５を介してレジスト貯留部２１内に戻される。
【００３８】
これにより、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２を再利用することが可能となり、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２が無駄に破棄されることを防止しつつ、レジストフィルタ２８表面の気泡３１を除去することが可能となる。
そして、レジストフィルタ２８の表面から除去された気泡３１が排出されると、バルブＶ１１〜Ｖ１３を閉じることにより、レジスト濾過装置２４内におけるレジストＲ２の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置２４内におけるレジストＲ２の流れが停止されると、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に滞留し、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４の底に沈み込む。
【００３９】
図４は、本発明の第３実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
図４において、レジスト貯留部４１にはレジストＲ３が貯留されている。そして、レジスト貯留部４１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部４１に導入するガス導入管４２が挿入されている。ここで、ガス導入管４２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２１が設けられている。また、レジスト貯留部４１には、レジストＲ３をレジスト濾過装置４４に供給するレジスト供給管４３が挿入されている。
【００４０】
また、レジスト濾過装置４４の底には、レジスト濾過装置４４内にレジストＲ３を導入するレジスト導入管４５が設けられ、レジスト導入管４５はレジスト供給管４３に接続されている。また、レジスト濾過装置４４の上方には、コータユニット５３にレジストＲ３を送出するレジスト送出管４９が設けられるとともに、レジスト送出管４９の外側には、レジストＲ３を排出するレジスト排出管４６ａ、４６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置４４には、レジスト濾過装置４４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ３内の不純物を濾過するレジストフィルタ４８が設けられている。ここで、レジスト導入管４５およびレジスト排出管４６ａ、４６ｂは、レジストフィルタ４８にレジストＲ３を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管４９は、レジストフィルタ４８で濾過されたレジストＲ３が排出される排出面側に配置されている。
【００４１】
そして、レジスト濾過装置４４内には、レジストフィルタ４８にレジストＲ３を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材５０が設けられている。なお、粒状部材５０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材５０の材質としては、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材５０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材５０の比重は、レジストＲ３の比重よりも大きいことが好ましい。さらに、粒状部材５０の比重は、レジスト濾過装置４４にレジストＲ３を流した時に、粒状部材５０がレジストＲ３内で浮き上がるように設定することが好ましい。
【００４２】
また、レジスト排出管４６ａ、４６ｂには、レジストＲ３の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２２、Ｖ２３がそれぞれ設けられている。また、レジスト導入管４５およびレジスト排出管４６ａ、４６ｂ内には、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４から流出することを防止するトラップＴＲ２１〜ＴＲ２３がそれぞれ設けられている。また、レジスト送出管４９には、レジスト送出管４９内を流れる気泡５１を検出する気泡センサ５５が設けられている。なお、気泡センサ５５としては、例えば、光の透過率を計測する光センサを用いることができ、レジストＲ３と気体との光の透過率の違いにより気泡５１を検出することができる。また、気泡センサ５５としては、例えば、レジストＲ３と気体との誘電率の違いによる容量変化を検出する容量センサを用いるようにしてもよい。
【００４３】
また、レジスト送出管４９は、レジスト供給管５２を介してコータユニット５３に接続されている。ここで、レジスト供給管５２には、レジストＲ３の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２４が設けられている。また、コータユニット５３には、レジストＲ３をウェハＷ３上に噴出させるノズル４４が設けられている。
【００４４】
そして、気泡センサ５５およびバルブＶ２１〜Ｖ２４は制御部５６に接続され、制御部５６は、気泡センサ５５による気泡５１の検出結果に基づいてバルブＶ２１〜Ｖ２４の開閉制御を行う。
ここで、レジスト濾過装置４４内にレジストＲ３を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置４４内に気泡５１が付着しているものとする。そして、粒状部材５０の比重がレジストＲ３の比重よりも大きいため、バルブＶ２２〜Ｖ２４が閉じた状態では、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に滞留し、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４の底に沈み込んでいるものとする。
【００４５】
そして、レジストＲ３がレジスト送出管４９を介してコータユニット５３に送られる際に、気泡センサ５５が気泡５１を検出すると、気泡５１の検出結果が制御部５６に送られる。そして、制御部５６は、気泡センサ５５により気泡５１が検出されると、バルブＶ２１〜Ｖ２３を開放する。そして、制御部５６は、ガス導入管４２を介してレジスト貯留部４１内にガスを送り込ませ、レジスト貯留部４１内のレジストＲ３をレジスト供給管４３に供給させる。そして、レジスト供給管４３に供給されたレジストＲ３を、レジスト導入管４５を介しレジスト濾過装置４４の底からレジスト濾過装置４４内に導入させる。
【００４６】
そして、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に導入されると、レジスト濾過装置４４内に導入されたレジストＲ３がレジスト排出管４６ａ、４６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ３の流れがレジスト濾過装置４４内で発生し、このレジストＲ３の流れに乗って粒状部材５０が浮き上がる。そして、粒状部材５０が浮き上がると、粒状部材５０がレジストフィルタ４８の表面に接触し、粒状部材５０が気泡５１に衝突して、気泡５１がレジストフィルタ４８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ４８の表面から除去された気泡５１は、レジストＲ３の流れに沿ってレジスト排出管４６ａ、４６ｂを介して排出される。
【００４７】
そして、制御部５６は、レジストフィルタ４８の表面から除去された気泡５１が排出されると、バルブＶ２１〜Ｖ２３を閉じることにより、レジスト濾過装置４４内におけるレジストＲ３の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置４４内におけるレジストＲ３の流れが停止されると、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に滞留し、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４の底に沈み込む。
【００４８】
これにより、レジストフィルタ４８表面に付着した気泡５１を直ちに除去することが可能となり、気泡５１が混入したレジストＲ３が知らずに使用されることを防止して、レジストＲ３の塗布むらの発生を未然に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【図２】図１の濾過装置の動作を示す断面図である。
【図３】第２実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【図４】第３実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【符号の説明】
１、２１、４１ レジスト貯留部、２、２２、４２ ガス導入管、３、１２、２３、３２、４３、５２ レジスト供給管、４、２４、４４ レジスト濾過装置、５、２５、４５ レジスト導入管、６ａ、６ｂ、２６ａ、２６ｂ、４６ａ、４６ｂ レジスト排出管、７、２７、４７ 中空部、８、２８、４８ レジストフィルタ、９、２９、４９ レジスト送出管、１０、３０、５０ 粒状部材、１１、３１、５１ 気泡、１３、３３、５３ コータユニット、１４、３４、５４ ノズル、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ レジスト、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３ ウェハ、Ｖ１〜Ｖ４、Ｖ１１〜Ｖ１４、Ｖ２１〜Ｖ２４ バルブ、ＴＲ１〜ＴＲ３、ＴＲ１１〜ＴＲ１３、ＴＲ２１〜ＴＲ２３ トラップ、３５ 回収管、５５ 気泡センサ、５６制御部
【発明の属する技術分野】
本発明は濾過装置および濾過方法に関し、特に、レジストフィルタのエア抜き方法に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のレジスト塗布装置では、レジスト内の不純物を除去するため、レジストフィルタを設けたものがある。ここで、レジストフィルタ表面に気泡があると、レジストを濾過する際にレジスト内に気泡が混入し、レジストの塗布むらが発生する。このため、従来のレジストフィルタでは、例えば、特許文献１に開示されているように、レジストフィルタを振動させる振動装置を設け、レジストフィルタを振動させることにより、レジストフィルタ表面の気泡を除去することが行われている。
【０００３】
【特許文献１】
特開平５−２２８３０４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レジストフィルタを振動させてレジストフィルタ表面の気泡を除去する方法では、レジストフィルタ全体を振動させる必要があり、レジスト塗布装置の大型化を招くとともに、気泡を除去するための効率が悪く、気泡の除去に時間がかかるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、装置の大型化を抑制しつつ、フィルタ表面の気泡を効率よく除去することが可能な濾過装置および濾過方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、液体を濾過する濾過手段と、前記濾過手段に供給される液体を保持する液体保持手段と、前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記液体保持手段内に設けられた粒状部材と、前記粒状部材を前記液体保持手段内で流動させる流動手段とを備えることを特徴とする。
【０００７】
これにより、液体保持手段内で粒状部材を流動させることにより、濾過手段の表面に粒状部材を接触させることが可能となり、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。このため、液体保持手段内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【０００８】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、液体を保持する容器と、前記容器内に前記液体を導入する液体導入管と、前記容器内に導入された前記液体を送出する液体送出管と、前記液体導入管と前記液体送出管とを仕切るようにして前記容器内に設置された濾過手段と、前記液体導入管よりも上方に設けられ、前記容器内に導入された液体を前記濾過手段により濾過される前に排出する液体排出管と、前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記容器内に設けられた粒状部材とを備えることを特徴とする。
【０００９】
これにより、液体導入管を介して容器内に導入された液体を液体排出管から排出させることにより、容器内に設けられた粒状部材を流動させることが可能となり、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。このため、容器内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１０】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体導入管は前記容器の底部に接続され、前記液体排出管は前記容器の上方に接続されていることを特徴とする。
これにより、液体導入管を介して容器内に導入された液体を液体排出管から排出させることにより、容器内に設けられた粒状部材を浮き上がらせることが可能となるとともに、液体排出管から排出される液体の流れを止めることにより、容器内に設けられた粒状部材を沈み込ませることが可能となる。このため、濾過手段で濾過される液体の流れを利用して、粒状部材を容器内で流動させることが可能となり、粒状部材を容器内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。この結果、容器内に粒状部材を設けることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記粒状部材の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることを特徴とする。
これにより、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記粒状部材の比重は、前記液体の流動状態に応じて浮き沈み可能な範囲内にあることを特徴とする。
これにより、液体排出管から排出される液体の流れを止めることにより、液体内で浮き上がった粒状部材を自然に沈み込ませることが可能となり、粒状部材を容器内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡を除去することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体排出管により排出された液体を回収する回収手段をさらに備えることを特徴とする。
これにより、液体排出管により排出された液体を再利用することが可能となり、液体排出管により排出された液体が無駄に破棄されることを防止しつつ、濾過手段の表面に付着した気泡を除去することが可能となる。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記液体送出管内を流れる気泡を検出する気泡検出手段と、前記気泡の検出結果に基づいて、前記液体排出管からの排出制御を行う制御手段とをさらに備えることを特徴とする。
これにより、濾過手段の表面に付着した気泡を直ちに除去することが可能となり、気泡が混入したレジストが知らずに使用されることを防止して、レジストの塗布むらの発生を未然に防止することが可能となる。
【００１５】
また、本発明の一態様に係る濾過方法によれば、濾過手段で濾過される液体内に沈んだ状態で粒状部材を保持する工程と、前記濾過手段の下方から前記濾過手段の表面に沿って前記液体を流すことにより、前記粒状部材を持ち上げる工程と、前記液体の流れを止めることにより、前記粒状部材を前記液体内に沈ませる工程とを備えることを特徴とする。
【００１６】
これにより、濾過手段の表面に沿って液体を流すことにより、粒状部材を液体内で浮き上がらせることが可能となるとともに、液体の流れを止めることにより、液体内の粒状部材を沈み込ませることが可能となる。このため、濾過手段で濾過される液体の流れを利用して、粒状部材を液体内で流動させることが可能となり、粒状部材を液体内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、濾過手段の表面に付着した気泡に粒状部材を衝突させることが可能となる。この結果、液体内に粒状部材を混入させることで、濾過手段の表面に付着した気泡を効率よく除去することが可能となり、装置の大型化を抑制しつつ、気泡の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る濾過装置および濾過方法について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
【００１８】
図１において、レジスト貯留部１にはレジストＲ１が貯留されている。そして、レジスト貯留部１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部１に導入するガス導入管２が挿入されている。ここで、ガス導入管２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１が設けられている。また、レジスト貯留部１には、レジストＲ１をレジスト濾過装置４に供給するレジスト供給管３が挿入されている。
【００１９】
また、レジスト濾過装置４の底には、レジスト濾過装置４内にレジストＲ１を導入するレジスト導入管５が設けられ、レジスト導入管５はレジスト供給管３に接続されている。また、レジスト濾過装置４の上方には、コータユニット１３にレジストＲ１を送出するレジスト送出管９が設けられるとともに、レジスト送出管９の外側には、レジストＲ１を排出するレジスト排出管６ａ、６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置４には、レジスト濾過装置４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ１内の不純物を濾過するレジストフィルタ８が設けられている。ここで、レジスト導入管５およびレジスト排出管６ａ、６ｂは、レジストフィルタ８にレジストＲ１を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管９は、レジストフィルタ８で濾過されたレジストＲ１が排出される排出面側に配置されている。
【００２０】
例えば、レジスト濾過装置４の外形は円筒状とすることができ、レジストフィルタ８の形状は断面がＵ字状の釣鐘状とすることができる。そして、レジストフィルタ８の外周面側がレジスト濾過装置４の壁面から離間するようにして、レジストフィルタ８の上端部をレジスト濾過装置４の天上に密着させ、レジストフィルタ８で囲まれる内側の中空部７がレジスト送出管９に接続されるようにすることができる。
【００２１】
そして、レジスト濾過装置４内には、レジストフィルタ８にレジストＲ１を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材１０が設けられている。なお、粒状部材１０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材１０の材質としては、粒状部材１０がレジストＲ１で腐食されることを防止するため、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材１０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材１０の比重は、レジストＲ１の比重よりも大きいことが好ましく、例えば、粒状部材１０の比重を１．０以上に設定することができる。さらに、粒状部材１０の比重は、レジスト濾過装置４にレジストＲ１を流した時に、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がるように設定することが好ましい。ここで、粒状部材１０の材質自体の比重が大きいために、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がり難い場合には、粒状部材１０がレジストＲ１内で浮き上がり易くするために、粒状部材１０を中空構造にするようにしてもよい。また、粒状部材１０がレジストＲ１内で流動した時に、粒状部材１０から気泡が発生することを防止するため、粒状部材１０の表面は滑らかなことが好ましい。また、レジストＲ１の性質に応じて、疎水性または親水性の表面加工を粒状部材１０に施すことが好ましい。
【００２２】
また、レジスト排出管６ａ、６ｂには、レジストＲ１の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２、Ｖ３がそれぞれ設けられている。また、レジスト導入管５およびレジスト排出管６ａ、６ｂ内には、粒状部材１０がレジスト濾過装置４から流出することを防止するトラップＴＲ１〜ＴＲ３がそれぞれ設けられている。なお、トラップＴＲ１〜ＴＲ３としては、例えば、粒状部材１０よりも隙間の小さな網目部材などを用いることができる。
【００２３】
また、レジスト送出管９は、レジスト供給管１２を介してコータユニット１３に接続されている。ここで、レジスト供給管１２には、レジストＲ１の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ４が設けられている。また、コータユニット１３には、レジストＲ１をウェハＷ１上に噴出させるノズル１４が設けられている。
【００２４】
図２は、図１の濾過装置の動作を示す断面図である。
図２（ａ）において、レジスト濾過装置４内にレジストＲ１を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置４内に気泡１１が付着しているものとする。そして、粒状部材１０の比重がレジストＲ１の比重よりも大きいものとすると、バルブＶ２〜Ｖ４が閉じた状態では、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に滞留し、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込む。ここで、レジスト導入管５にトラップＴＲ１を設けることにより、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込んだ場合においても、粒状部材１０がレジスト導入管５に流出することを防止することが可能となる。
【００２５】
そして、レジスト濾過装置４内の気泡１１を除去する場合、バルブＶ１〜Ｖ３を開放する。そして、ガス導入管２を介してレジスト貯留部１内にガスを送り込み、レジスト貯留部１内のレジストＲ１をレジスト供給管３に供給する。そして、レジスト供給管３に供給されたレジストＲ１を、レジスト導入管５を介しレジスト濾過装置４の底からレジスト濾過装置４内に導入する。
【００２６】
そして、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に導入されると、レジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１がレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ１の流れがレジスト濾過装置４内で発生し、図２（ｂ）に示すように、このレジストＲ１の流れに乗って粒状部材１０が浮き上がる。そして、粒状部材１０が浮き上がると、粒状部材１０がレジストフィルタ８の表面に接触し、粒状部材１０が気泡１１に衝突して、気泡１１がレジストフィルタ８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ８の表面から除去された気泡１１は、レジストＲ１の流れに沿ってレジスト排出管６ａ、６ｂを介して排出される。ここで、レジスト排出管６ａ、６ｂにトラップＴＲ２、ＴＲ３をそれぞれ設けることにより、粒状部材１０がレジスト濾過装置４内で浮き上がった場合においても、粒状部材１０がレジスト排出管６ａ、６ｂに流出することを防止することが可能となる。
【００２７】
そして、レジストフィルタ８の表面から除去された気泡１１が排出されると、バルブＶ１〜Ｖ３を閉じることにより、レジスト濾過装置４内におけるレジストＲ１の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置４内におけるレジストＲ１の流れが停止されると、レジストＲ１がレジスト濾過装置４内に滞留し、図２（ｃ）に示すように、粒状部材１０がレジスト濾過装置４の底に沈み込む。
【００２８】
そして、ウェハＷ１上にレジストＲ１を塗布する場合、バルブＶ２、Ｖ３を閉じた状態でバルブＶ４を開く。そして、レジスト導入管５を介してレジスト濾過装置４に導入されたレジストＲ１をレジストフィルタ８で濾過させながら、レジストＲ１を中空部７に導く。そして、中空部７に導かれたレジストＲ１を、レジスト送出管９を介してレジスト供給管１２に導き、コータユニット１３のノズル１４を介してウェハＷ１上にレジストＲ１を噴出させる。
【００２９】
これにより、レジスト導入管５を介してレジスト濾過装置４内に導入されたレジストＲ１をレジスト排出管６ａ、６ｂから排出させることにより、レジスト濾過装置４内に設けられた粒状部材１０を浮き上がらせることが可能となるとともに、レジスト排出管６ａ、６ｂから排出されるレジストＲ１の流れを止めることにより、レジスト濾過装置４内に設けられた粒状部材１０を沈み込ませることが可能となる。このため、レジストフィルタ８で濾過されるレジストＲ１の流れを利用して、粒状部材１０をレジスト濾過装置４内で流動させることが可能となり、粒状部材１０をレジスト濾過装置４内で流動させるための複雑な機構を設けることなく、レジストフィルタ８表面に付着した気泡１１に粒状部材１０を衝突させることが可能となる。この結果、レジスト濾過装置４内に粒状部材１０を設けることで、レジストフィルタ８表面に付着した気泡１１を効率よく除去することが可能となり、レジスト濾過装置４の大型化を抑制しつつ、気泡１１の除去にかかる時間を短縮することが可能となる。
【００３０】
図３は、本発明の第２実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
図３において、レジスト貯留部２１にはレジストＲ２が貯留されている。そして、レジスト貯留部２１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部２１に導入するガス導入管２２が挿入されている。ここで、ガス導入管２２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１１が設けられている。また、レジスト貯留部２１には、レジストＲ２をレジスト濾過装置２４に供給するレジスト供給管２３が挿入されている。
【００３１】
また、レジスト濾過装置２４の底には、レジスト濾過装置２４内にレジストＲ２を導入するレジスト導入管２５が設けられ、レジスト導入管２５はレジスト供給管２３に接続されている。また、レジスト濾過装置２４の上方には、コータユニット３３にレジストＲ２を送出するレジスト送出管２９が設けられるとともに、レジスト送出管２９の外側には、レジストＲ２を排出するレジスト排出管２６ａ、２６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置２４には、レジスト濾過装置２４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ２内の不純物を濾過するレジストフィルタ２８が設けられている。ここで、レジスト導入管２５およびレジスト排出管２６ａ、２６ｂは、レジストフィルタ２８にレジストＲ２を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管２９は、レジストフィルタ２８で濾過されたレジストＲ２が排出される排出面側に配置されている。
【００３２】
そして、レジスト濾過装置２４内には、レジストフィルタ２８にレジストＲ２を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材３０が設けられている。なお、粒状部材３０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材３０の材質としては、粒状部材３０がレジストＲ２で腐食されることを防止するため、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材３０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材３０の比重は、レジストＲ２の比重よりも大きいことが好ましく、例えば、粒状部材３０の比重を１．０以上に設定することができる。さらに、粒状部材３０の比重は、レジスト濾過装置２４にレジストＲ２を流した時に、粒状部材３０がレジストＲ２内で浮き上がるように設定することが好ましい。また、粒状部材３０がレジストＲ２内で流動した時に、粒状部材３０から気泡が発生することを防止するため、粒状部材３０の表面は滑らかなことが好ましい。また、レジストＲ２の性質に応じて、疎水性または親水性の表面加工を粒状部材３０に施すことが好ましい。
【００３３】
また、レジスト排出管２６ａ、２６ｂには、レジストＲ２の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１２、Ｖ１３がそれぞれ設けられている。また、レジスト排出管２６ａ、２６ｂは、レジストＲ２を回収する回収管３５に接続され、回収管３５は、レジスト貯留部２１に挿入されている。また、レジスト導入管２５およびレジスト排出管２６ａ、２６ｂ内には、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４から流出することを防止するトラップＴＲ１１〜ＴＲ１３がそれぞれ設けられている。
【００３４】
また、レジスト送出管２９は、レジスト供給管３２を介してコータユニット３３に接続されている。ここで、レジスト供給管３２には、レジストＲ２の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ１４が設けられている。また、コータユニット３３には、レジストＲ２をウェハＷ２上に噴出させるノズル３４が設けられている。
【００３５】
ここで、レジスト濾過装置２４内にレジストＲ２を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置２４内に気泡３１が付着しているものとする。そして、粒状部材３０の比重がレジストＲ２の比重よりも大きいため、バルブＶ１２〜Ｖ１４が閉じた状態では、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に滞留し、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４の底に沈み込んでいるものとする。
【００３６】
そして、レジスト濾過装置２４内の気泡３１を除去する場合、バルブＶ１１〜Ｖ１３を開放する。そして、ガス導入管２２を介してレジスト貯留部２１内にガスを送り込み、レジスト貯留部２１内のレジストＲ２をレジスト供給管２３に供給する。そして、レジスト供給管２３に供給されたレジストＲ２を、レジスト導入管２５を介しレジスト濾過装置２４の底からレジスト濾過装置２４内に導入する。
【００３７】
そして、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に導入されると、レジスト濾過装置２４内に導入されたレジストＲ２がレジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ２の流れがレジスト濾過装置２４内で発生し、このレジストＲ２の流れに乗って粒状部材３０が浮き上がる。そして、粒状部材３０が浮き上がると、粒状部材３０がレジストフィルタ２８の表面に接触し、粒状部材３０が気泡３１に衝突して、気泡３１がレジストフィルタ２８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ２８の表面から除去された気泡３１は、レジストＲ２の流れに沿ってレジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出される。そして、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２は、回収管３５を介してレジスト貯留部２１内に戻される。
【００３８】
これにより、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２を再利用することが可能となり、レジスト排出管２６ａ、２６ｂを介して排出されたレジストＲ２が無駄に破棄されることを防止しつつ、レジストフィルタ２８表面の気泡３１を除去することが可能となる。
そして、レジストフィルタ２８の表面から除去された気泡３１が排出されると、バルブＶ１１〜Ｖ１３を閉じることにより、レジスト濾過装置２４内におけるレジストＲ２の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置２４内におけるレジストＲ２の流れが停止されると、レジストＲ２がレジスト濾過装置２４内に滞留し、粒状部材３０がレジスト濾過装置２４の底に沈み込む。
【００３９】
図４は、本発明の第３実施形態に係る濾過装置が適用されるレジスト塗布装置の概略構成を示す図である。
図４において、レジスト貯留部４１にはレジストＲ３が貯留されている。そして、レジスト貯留部４１には、Ｎ２などのガスをレジスト貯留部４１に導入するガス導入管４２が挿入されている。ここで、ガス導入管４２には、ガスの流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２１が設けられている。また、レジスト貯留部４１には、レジストＲ３をレジスト濾過装置４４に供給するレジスト供給管４３が挿入されている。
【００４０】
また、レジスト濾過装置４４の底には、レジスト濾過装置４４内にレジストＲ３を導入するレジスト導入管４５が設けられ、レジスト導入管４５はレジスト供給管４３に接続されている。また、レジスト濾過装置４４の上方には、コータユニット５３にレジストＲ３を送出するレジスト送出管４９が設けられるとともに、レジスト送出管４９の外側には、レジストＲ３を排出するレジスト排出管４６ａ、４６ｂが設けられている。そして、レジスト濾過装置４４には、レジスト濾過装置４４内を区分けするようにして配置され、レジストＲ３内の不純物を濾過するレジストフィルタ４８が設けられている。ここで、レジスト導入管４５およびレジスト排出管４６ａ、４６ｂは、レジストフィルタ４８にレジストＲ３を導入する導入面側に配置され、レジスト送出管４９は、レジストフィルタ４８で濾過されたレジストＲ３が排出される排出面側に配置されている。
【００４１】
そして、レジスト濾過装置４４内には、レジストフィルタ４８にレジストＲ３を導入する導入面側に配置されるようにして、粒状部材５０が設けられている。なお、粒状部材５０としては、例えば、ビーズなどを用いることができる。また、粒状部材５０の材質としては、例えば、弗素樹脂またはフロロカーボン樹脂などを用いることができる。また、粒状部材５０の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることが好ましい。さらに、粒状部材５０の比重は、レジストＲ３の比重よりも大きいことが好ましい。さらに、粒状部材５０の比重は、レジスト濾過装置４４にレジストＲ３を流した時に、粒状部材５０がレジストＲ３内で浮き上がるように設定することが好ましい。
【００４２】
また、レジスト排出管４６ａ、４６ｂには、レジストＲ３の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２２、Ｖ２３がそれぞれ設けられている。また、レジスト導入管４５およびレジスト排出管４６ａ、４６ｂ内には、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４から流出することを防止するトラップＴＲ２１〜ＴＲ２３がそれぞれ設けられている。また、レジスト送出管４９には、レジスト送出管４９内を流れる気泡５１を検出する気泡センサ５５が設けられている。なお、気泡センサ５５としては、例えば、光の透過率を計測する光センサを用いることができ、レジストＲ３と気体との光の透過率の違いにより気泡５１を検出することができる。また、気泡センサ５５としては、例えば、レジストＲ３と気体との誘電率の違いによる容量変化を検出する容量センサを用いるようにしてもよい。
【００４３】
また、レジスト送出管４９は、レジスト供給管５２を介してコータユニット５３に接続されている。ここで、レジスト供給管５２には、レジストＲ３の流れを許容したり、遮断したりするバルブＶ２４が設けられている。また、コータユニット５３には、レジストＲ３をウェハＷ３上に噴出させるノズル４４が設けられている。
【００４４】
そして、気泡センサ５５およびバルブＶ２１〜Ｖ２４は制御部５６に接続され、制御部５６は、気泡センサ５５による気泡５１の検出結果に基づいてバルブＶ２１〜Ｖ２４の開閉制御を行う。
ここで、レジスト濾過装置４４内にレジストＲ３を導入する際に気体が巻き込まれたために、レジスト濾過装置４４内に気泡５１が付着しているものとする。そして、粒状部材５０の比重がレジストＲ３の比重よりも大きいため、バルブＶ２２〜Ｖ２４が閉じた状態では、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に滞留し、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４の底に沈み込んでいるものとする。
【００４５】
そして、レジストＲ３がレジスト送出管４９を介してコータユニット５３に送られる際に、気泡センサ５５が気泡５１を検出すると、気泡５１の検出結果が制御部５６に送られる。そして、制御部５６は、気泡センサ５５により気泡５１が検出されると、バルブＶ２１〜Ｖ２３を開放する。そして、制御部５６は、ガス導入管４２を介してレジスト貯留部４１内にガスを送り込ませ、レジスト貯留部４１内のレジストＲ３をレジスト供給管４３に供給させる。そして、レジスト供給管４３に供給されたレジストＲ３を、レジスト導入管４５を介しレジスト濾過装置４４の底からレジスト濾過装置４４内に導入させる。
【００４６】
そして、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に導入されると、レジスト濾過装置４４内に導入されたレジストＲ３がレジスト排出管４６ａ、４６ｂを介して排出される。このため、下から上に向かうレジストＲ３の流れがレジスト濾過装置４４内で発生し、このレジストＲ３の流れに乗って粒状部材５０が浮き上がる。そして、粒状部材５０が浮き上がると、粒状部材５０がレジストフィルタ４８の表面に接触し、粒状部材５０が気泡５１に衝突して、気泡５１がレジストフィルタ４８の表面から除去される。そして、レジストフィルタ４８の表面から除去された気泡５１は、レジストＲ３の流れに沿ってレジスト排出管４６ａ、４６ｂを介して排出される。
【００４７】
そして、制御部５６は、レジストフィルタ４８の表面から除去された気泡５１が排出されると、バルブＶ２１〜Ｖ２３を閉じることにより、レジスト濾過装置４４内におけるレジストＲ３の流れを停止させる。そして、レジスト濾過装置４４内におけるレジストＲ３の流れが停止されると、レジストＲ３がレジスト濾過装置４４内に滞留し、粒状部材５０がレジスト濾過装置４４の底に沈み込む。
【００４８】
これにより、レジストフィルタ４８表面に付着した気泡５１を直ちに除去することが可能となり、気泡５１が混入したレジストＲ３が知らずに使用されることを防止して、レジストＲ３の塗布むらの発生を未然に防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【図２】図１の濾過装置の動作を示す断面図である。
【図３】第２実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【図４】第３実施形態に係るレジスト塗布装置の構成を示す図。
【符号の説明】
１、２１、４１ レジスト貯留部、２、２２、４２ ガス導入管、３、１２、２３、３２、４３、５２ レジスト供給管、４、２４、４４ レジスト濾過装置、５、２５、４５ レジスト導入管、６ａ、６ｂ、２６ａ、２６ｂ、４６ａ、４６ｂ レジスト排出管、７、２７、４７ 中空部、８、２８、４８ レジストフィルタ、９、２９、４９ レジスト送出管、１０、３０、５０ 粒状部材、１１、３１、５１ 気泡、１３、３３、５３ コータユニット、１４、３４、５４ ノズル、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ レジスト、Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３ ウェハ、Ｖ１〜Ｖ４、Ｖ１１〜Ｖ１４、Ｖ２１〜Ｖ２４ バルブ、ＴＲ１〜ＴＲ３、ＴＲ１１〜ＴＲ１３、ＴＲ２１〜ＴＲ２３ トラップ、３５ 回収管、５５ 気泡センサ、５６制御部
Claims (8)
- 液体を濾過する濾過手段と、
前記濾過手段に供給される液体を保持する液体保持手段と、
前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記液体保持手段内に設けられた粒状部材と、
前記粒状部材を前記液体保持手段内で流動させる流動手段とを備えることを特徴とする濾過装置。 - 液体を保持する容器と、
前記容器内に前記液体を導入する液体導入管と、
前記容器内に導入された前記液体を送出する液体送出管と、
前記液体導入管と前記液体送出管とを仕切るようにして前記容器内に設置された濾過手段と、
前記液体導入管よりも上方に設けられ、前記容器内に導入された液体を前記濾過手段により濾過される前に排出する液体排出管と、
前記濾過手段の表面に接触可能な状態で前記容器内に設けられた粒状部材とを備えることを特徴とする濾過装置。 - 前記液体導入管は前記容器の底部に接続され、前記液体排出管は前記容器の上方に接続されていることを特徴とする請求項２記載の濾過装置。
- 前記粒状部材の粒径は、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内にあることを特徴とする請求項２または３記載の濾過装置。
- 前記粒状部材の比重は、前記液体の流動状態に応じて浮き沈み可能な範囲内にあることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項記載の濾過装置。
- 前記液体排出管により排出された液体を回収する回収手段をさらに備えることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項記載の濾過装置。
- 前記液体送出管内を流れる気泡を検出する気泡検出手段と、
前記気泡の検出結果に基づいて、前記液体排出管からの排出制御を行う制御手段とをさらに備えることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項記載の濾過装置。 - 濾過手段で濾過される液体内に沈んだ状態で粒状部材を保持する工程と、
前記濾過手段の下方から前記濾過手段の表面に沿って前記液体を流すことにより、前記粒状部材を持ち上げる工程と、
前記液体の流れを止めることにより、前記粒状部材を前記液体内に沈ませる工程とを備えることを特徴とする濾過方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003162346A JP2004358414A (ja) | 2003-06-06 | 2003-06-06 | 濾過装置および濾過方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2003162346A JP2004358414A (ja) | 2003-06-06 | 2003-06-06 | 濾過装置および濾過方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004358414A true JP2004358414A (ja) | 2004-12-24 |
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ID=34054523
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003162346A Withdrawn JP2004358414A (ja) | 2003-06-06 | 2003-06-06 | 濾過装置および濾過方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2004358414A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007305765A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP2008041791A (ja) * | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Toppan Printing Co Ltd | 濾過装置及びそれを用いた塗布装置 |
| KR100931854B1 (ko) * | 2008-04-22 | 2009-12-15 | 세메스 주식회사 | 기포 분리 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
| JP2017506838A (ja) * | 2014-01-27 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術 |
-
2003
- 2003-06-06 JP JP2003162346A patent/JP2004358414A/ja not_active Withdrawn
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