JP2004326126A - カラーフィルタの製造方法、薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 液滴吐出ヘッドを用いて基板上に所定のパターンを形成する際、パターンを精度良く形成することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドと基板とを相対的に移動しながら、液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して複数の色からなるカラーフィルタを形成する際、基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、液滴を吐出する。
【選択図】 図８

Description

本発明は、液滴吐出ヘッドから基板に対して液状材料を吐出することによりデバイスを製造するデバイスの製造方法に関し、特に、カラーフィルタの製造方法、薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法に関するものである。

従来より、液晶表示装置においてはカラーフィルタが用いられている。カラーフィルタは液晶表示装置と一体的に構成され、画質を向上させたり各画素に原色それぞれの色彩を与えたりする役割を有している。このようなカラーフィルタの製造方法としては、感光性樹脂の塗膜にフォトマスクを介して光を照射することにより照射部分を硬化させ、その後現像処理を行うことにより塗膜のうち光が照射されていない部分を除去してパターンを形成し、染色する方法（染色法）や、感光性樹脂に赤色、緑色又は青色の着色剤を分散した組成物を順次用いて前記と同様に塗膜形成、光照射及び現像処理を行うことによりカラーフィルタを製造するフォトリソグラフィ法が知られている。これらの方法は、成膜工程やフォトリソグラフィ工程、現像工程等といったように種々の工程を必要とするため、作業性の低下や製造コストの上昇を招く。

一方、カラーフィルタの製造方法として、液滴吐出ヘッドを用いてカラーフィルタのカラーフィルタ層を形成する方法がある。この方法では、カラーフィルタ層形成用材料を含む液状材料（インク）の液滴を吐出する位置の制御が容易で、材料の無駄も少なくなるため、製造コストが低減できる。液滴吐出ヘッドにおいては、液滴を吐出する吐出ノズルを複数備えたマルチノズルヘッドを用いることが生産性の観点から好ましい。下記特許文献１にはマルチノズルヘッドを用いたカラーフィルタの製造方法の一例が開示されている。
特開平９−３００６６４号公報

ところで、液滴吐出ヘッドを用いてカラーフィルタや配線パターンを含むデバイスを製造する際、バルジ（液溜まり）が生じると、パターンを精度良く形成できず、デバイス性能を劣化させる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、液滴吐出ヘッドを用いて基板上に所定のパターンを形成する際、パターンを精度良く形成することができるカラーフィルタの製造方法、薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板に複数の色からなるカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記複数の色からなるカラーフィルタを形成する工程を有し、前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする。

また、本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、基板に電極が形成されてなる薄膜トランジスタの製造方法であって、液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記電極を形成する工程を有し、前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする。

また、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板に配線パターンが形成されてなる電気光学装置の製造方法であって、液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記配線パターンを形成する工程を有し、前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする。上記電気光学装置はプラズマ型表示装置、液晶表示装置、及びエレクトロルミネッセンス装置のうち少なくともいずれか１つを含む。

また、本発明のエレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、基板に正孔注入層、発光層が形成されてなるエレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記正孔注入層、前記発光層の少なくとも一つを形成する工程を有し、前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする。

本発明によれば、基板上に液状材料が過剰に設けられることを防ぎ、バルジの発生を防止することができる。したがって、基板上に液状材料を良好にパターニングできる。

ここで、本発明における液滴吐出ヘッドは、液滴吐出装置に備えられる液滴吐出ヘッドを含む。液滴吐出ヘッドは、液滴吐出法により液状材料を定量的に吐出可能であり、例えば１〜３００ナノグラムの液状材料（流動体）を定量的に断続して滴下可能な装置である。
デバイスの製造方法として液滴吐出方式を採用することにより、安価な設備で反射膜を所定のパターンで形成することができる。

液滴吐出方式としては、圧電体素子の体積変化により流動体（液状材料）を吐出させるピエゾジェット方式であっても、熱の印加により急激に蒸気が発生することにより流動体を吐出させる方式であってもよい。

ここで、流動体とは、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから吐出可能（滴下可能）な粘度を備えた媒体をいう。水性であると油性であるとを問わない。ノズル等から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、流動体に含まれる材料は、溶媒中に微粒子として分散れたものの他に、融点以上に加熱されて溶解されたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。また、基板はフラット基板を指す他、曲面状の基板であってもよい。さらにパターン形成面の硬度が硬い必要はなく、ガラスやプラスチック、金属以外に、フィルム、紙、ゴム等可撓性を有するものの表面であってもよい。

以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の製造方法に用いられる液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の概略外観斜視図である。

図１において、液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と、Ｘ軸方向駆動軸４と、Ｙ軸方向ガイド軸５と、制御装置６と、ステージ７と、クリーニング機構８と、基台９と、ヒータ１５とを備えている。

ステージ７は、この液滴吐出装置ＩＪにより液状材料を設けられる基板１０１を支持するものであって、基板１０１を基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。

液滴吐出ヘッド１は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＹ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１の下面にＹ軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルからは、ステージ７に支持されている基板１０１に対して、例えば導電性微粒子を含む液状材料が吐出される。

図２は液滴吐出ヘッド１をノズル面側（基板１０１との対向面側）から見た図である。図２に示すように、液滴吐出ヘッド１は、複数のヘッド部２１と、これらヘッド部２１を搭載したキャリッジ部２２とを備えている。ヘッド部２１のノズル面２４には液状材料の液滴を吐出する複数の吐出ノズル１０が設けられている。ヘッド部２１（ノズル面２４）のそれぞれは平面視矩形状であって、吐出ノズル１０は、ヘッド部２１の長手方向である略Ｙ軸方向に沿って一定間隔で列状に、且つヘッド部２１の幅方向である略Ｘ軸方向に間隔をあけて２列でノズル面２４のそれぞれに複数（例えば、１列１８０ノズル、合計３６０ノズル）設けられている。また、ヘッド部２１は、吐出ノズル１０を基板１０１側に向けるとともに、Ｙ軸に対して所定角度傾いた状態で略Ｙ軸方向に沿って列状に、且つＸ軸方向に所定間隔をあけて２列に配置された状態でキャリッジ部２２に複数（図２では１列６個、合計１２個）位置決めされて支持されている。

ここで、液滴吐出ヘッド１は、この液滴吐出ヘッド１のＹ軸方向に対する取り付け角度を調整可能な角度調整機構（不図示）を備えている。この角度調整機構により、液滴吐出ヘッド１はＹ軸方向に対する角度θを可変とする。角度調整機構を駆動することにより、吐出ノズル１０のそれぞれをＹ軸方向に並んで配置したり、吐出ノズル１０の並び方向のＹ軸に対する角度を調整できる。

図１に戻って、Ｘ軸方向駆動軸４には、Ｘ軸方向駆動モータ２が接続されている。Ｘ軸方向駆動モータ２は、ステッピングモータ等であり、制御装置６からＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸４を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸４が回転すると、液滴吐出ヘッド１はＸ軸方向に移動する。

Ｙ軸方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。ステージ７は、Ｙ軸方向駆動モータ３を備えている。Ｙ軸方向モータ３は、ステッピングモータ等であり、制御装置６からＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７をＹ軸方向に移動する。

制御装置６は、液滴吐出ヘッド１に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モータ２に液滴吐出ヘッド１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モータ３にステージ７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。

クリーニング機構８は、液滴吐出ヘッド１をクリーニングするものである。クリーニング機構８には、図示しないＹ軸方向の駆動モータが備えられている。このＹ軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も制御装置６により制御される。

ヒータ１５は、ここではランプアニールにより基板１０１を熱処理する手段であり、基板１０１上に塗布された液状材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置６により制御される。

本実施形態において、液滴吐出装置ＩＪは基板１０１上に配線パターンを形成する。したがって、液状材料には、配線パターン形成用材料である導電性微粒子（金属微粒子）が含まれている。液状材料は、金属微粒子を所定の溶媒及びバインダー樹脂を用いてペースト化したものである。金属微粒子としては、例えば、金、銀、銅、鉄等が挙げられる。金属微粒子の粒径は５〜１００ｎｍであることが好ましい。液滴吐出ヘッド１から基板１０１に吐出された液状材料は、ヒータ１５で熱処理されることにより導電性膜に変換（製膜）される。

更に、配線パターン形成用の液状材料としては、有機金属化合物、有機金属錯体、及びそれに類するものを含む液状材料を用いることができる。有機金属化合物としては、例えば有機銀化合物が挙げられ、有機銀化合物を所定の溶媒に分散（溶解）した溶液を配線パターン形成用の液状材料として用いることができる。この場合、溶媒としては例えばジエチレングリコールジエチルエーテルを用いることができる。液状材料として有機銀化合物（有機金属化合物）を用いた場合、液状材料を熱処理又は光処理することで有機分が除去され、銀粒子（金属粒子）が残留して導電性が発現される。

液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１と基板１０１を支持するステージ７とを相対的に走査しつつ基板１０１に対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、Ｘ軸方向を走査方向（所定方向）、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向を非走査方向とする。したがって、液滴吐出ヘッド１の吐出ノズルは、非走査方向であるＹ軸方向に一定間隔で並んで設けられている。

次に、図３〜図７を参照しながら、上記液滴吐出ヘッド１を用いて基板１０１に液滴を吐出することによりデバイスを製造する方法について説明する。
本実施形態における製造方法は、基板１０１上に、液滴が吐出されるべき領域である複数のピクセル（単位領域）からなる格子状のビットマップを設定する工程と、ビットマップのうち所定のピクセルに対して液滴を吐出する工程とを有する。

図３は、液滴吐出ヘッド１に設けられている複数の吐出ノズル１０と、基板１０１上に設定されたビットマップとを模式的に示す図である。
図３に示すように、１つのピクセル（単位領域）は正方形に設定される。すなわち、１つのピクセルのうちＸ軸方向（走査方向）における大きさｂ_ｘ１と、Ｙ軸方向（非走査方向）における大きさｂ_ｙとは同じに設定される。

液滴吐出ヘッド１は長手方向をＹ軸方向に一致させている。また、吐出ノズル１０は、液滴吐出ヘッド１においてＹ軸方向に一定間隔ａで設けられている。複数の吐出ノズル１０のそれぞれは、Ｙ軸方向に沿って並んでいる。

本実施形態において、ピクセルのＹ軸方向における大きさｂ_ｙは吐出ノズル１０どうしの間隔ａより細かく設定される。そして、ビットマップを設定する際、
ｂ_ｙ ＝ ａ／ｎ （ｎは正の整数）
となるように、１つのピクセルのＹ軸方向における大きさが設定される。
図３には、ｎ＝５に設定した例が示されている。

また、本実施形態では、１つのピクセルは正方形に設定されるため、
ｂ_ｘ１ ＝ ａ／ｎ （ｎは正の整数）
となるように、１つのピクセルのＸ軸方向における大きさが設定されている。

図４は、吐出ノズル１０を用いて、１回の走査により基板１０１に液滴を吐出した際の模式図である。なお、図４において、１回目の走査で吐出された液滴には「１」を付している。
そして、図４〜図７を用いた以下の説明では、最終的に、図３のグレーで示す領域のピクセルのそれぞれに液滴を吐出するものとする。

液滴吐出ヘッド１をＸ軸方向に走査しつつ基板１０１に対して液滴を吐出する際、液滴吐出ヘッド１は制御装置６の制御のもとで、Ｘ軸方向に所定間隔あけながら液滴を吐出する。本実施形態では、図４に示すように、Ｘ軸方向において２つ分のピクセル間隔をあけて所定ピクセルに対して液滴が吐出される。

一方、基板１０１に対して吐出された液滴は、基板１０１に着弾することにより基板１０１上で濡れ拡がる。つまり、図４に円で示すように、基板１０１に着弾した液滴は、１つのピクセルの大きさより大きい直径ｃを有するように濡れ拡がる。

ここで、液滴は、Ｘ軸方向において所定間隔（２つ分のピクセル）をあけて吐出されるので、基板１０１上に配置された液滴どうしは重ならないように設定されいる。こうすることにより、Ｘ軸方向において基板１０１上に液状材料が過剰に設けられることを防ぎ、バルジの発生を防止することができる。

なお、図４では、基板１０１に配置された際の液滴どうしは重ならないように配置されているが、僅かに重なるように液滴が配置されるようにしてもよい。例えば、図４ではＸ軸方向において２つ分のピクセルをあけつつ液滴が吐出されているが、１つ分のピクセルをあけつつ液滴が吐出されるようにしてもよい。
この場合、１回の走査において、基板１０１に配置された際の液滴の直径ｃの１０％以下の重なりを生じるように液滴を吐出することにより、バルジの発生を防ぐことができる。

ここで、液滴を基板１０１に配置した際の濡れ拡がり具合、すなわち基板１０１上における液滴の直径ｃは液状材料の特性に応じて変化する。したがって、基板１０１上に配置された際の液滴どうしが重ならないか、あるいは液滴の直径ｃの１０％以下の重なりを生じるようにするために、１回の走査における基板１０１での液滴の配置間隔（ピクセル間隔）を、予め実験的に求めておき、この求めたピクセル間隔に基づいて、１回の走査における吐出動作を行う。

図５は、２回目の走査により吐出ノズル１０から基板１０１に液滴を吐出した際の模式図である。なお、図５において、２回目の走査で吐出された液滴には「２」を付している。２回目の走査時においても、Ｘ軸方向において２つ分のピクセルをあけつつ吐出動作が行われる。また、２回目の走査時において基板１０１に着弾した液滴も直径ｃを有するように濡れ拡がる。

図６は、３回目の走査により吐出ノズル１０から基板１０１に液滴を吐出した際の模式図である。なお、図６において、３回目の走査で吐出された液滴には「３」を付している。３回目の走査時においても、Ｘ軸方向において２つ分のピクセルをあけつつ吐出動作が行われる。また、３回目の走査時において基板１０１に着弾した液滴も直径ｃを有するように濡れ拡がる。

ここで、３回の走査及び吐出動作により、図中、最上段（＋Ｙ側）における液滴は連続する。

図７は、４回目の走査により吐出ノズル１０から基板１０１に液滴を吐出した際の模式図である。ここで、４回目の走査においては、液滴吐出ヘッド１とステージ７に支持されている基板１０１とはＹ軸方向に相対的にステップ移動する。本実施形態では、ステージ７に支持されている基板１０１がＹ軸方向にステップ移動する。

ここで、基板１０１は、ピクセルのＹ軸方向における大きさｂ_ｙの正の整数倍だけＹ軸方向にステップ移動する。図７には、基板１０１が液滴吐出ヘット１に対してｂ_ｙの１倍（すなわちｂ_ｙ）だけＹ軸方向にステップ移動した例が示されている。

距離ｂ_ｙだけステップ移動したら、液滴吐出ヘッド１は基板１０１に対してＸ軸方向に走査しつつ液滴を吐出する。なお、図７において、４回目の走査で吐出された液滴には「４」を付している。また、４回目の走査時において基板１０１に着弾した液滴も直径ｃを有するように濡れ拡がる。

ここで、ステップ移動した後、吐出動作を行う際、基板１０１上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは基板１０１上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、Ｙ軸方向において液滴を吐出するようにしてもよい。すなわち、ステップ移動の距離を、ｂ_ｙの例えば３倍に設定し、ステップ移動するようにしてもよい。こうすることにより、例えば「１」の液滴が濡れている際、Ｙ軸方向においてもバルジの発生を防止することができる。
一方、図７に示す例では、「１」の液滴は乾燥しているものとし、この場合、「１」と「４」とは直径ｃの１０％以上重なってもよい。

以下、同様に、走査を行いながらの吐出動作と、ステップ移動とが繰り返される。そして、本実施形態では、図８に示すように、合計１５回の走査を行うことにより、図中、グレーで示した領域に対応するピクセルのそれぞれに対して液滴が吐出される。なお、図８において、ｎ回目の走査時に吐出された液滴には「ｎ」が付されている。

なお、吐出された液滴は基板１０１上で濡れ拡がるため、実際に形成される配線パターンは、図中、グレーで示した領域より幅広となる。したがって、配線パターンを形成するに際し、この濡れ拡がり分を考慮してパターン設計が行われる。ここで、基板１０１上における液滴の濡れ拡がり具合は、基板１０１と液滴との接触角で決定されるため、基板１０１に対して液状材料の特性に応じた親液処理及び撥液処理を含む表面処理を行い、所望の接触角を得るようにする。こうすることにより、所望の幅を有する配線パターンを形成することができる。

以上説明したように、本実施形態は、基板１０１上にビットマップを設定し、このビットマップのピクセルに対して液滴を吐出するようにする構成である。そして、ビットマップを設定する際、ビットマップのＹ軸方向における大きさｂ_ｙと吐出ノズル１０の間隔ａとが整数比になるように設定することにより、液滴吐出ヘッドを例えばＹ軸に対して傾けるようなことをしなくても、吐出ノズル１０とピクセルとを一致させることができる。したがって、吐出動作に関する複雑な制御を行う必要なく所望のピクセルに液滴を吐出することができる。このように、吐出ノズル１０の間隔ａに応じてビットマップ、すなわちパターン設計ルールを設定することにより、吐出ノズル１０とピクセルとは一致し、走査速度を低下させることなく所望の位置に対して精度良く吐出動作を行うことができる。

本実施形態においては、ピクセルのＸ軸方向における大きさｂ_ｘ１とＹ軸方向における大きさｂ_ｙとは同じであり、ピクセルは正方形に設定されている。こうすることにより、パターン設計を容易に行うことができる。なお、本実施形態のように、液滴吐出ヘッド１（吐出ノズル１０の並び方向）とＹ軸方向とを一致させつつ走査する場合、ピクセルのＸ軸方向における大きさｂ_ｘ１は、必ずしも、Ｙ軸方向における大きさｂ_ｙと同じにする必要はなく、任意の大きさでよい。

基板１０１上に液滴を吐出する際、基板１０１上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは基板１０１上に配置された際の液滴の直径ｃの１０％以下の重なりを生じるように、Ｘ軸方向において液滴を吐出するようにしたので、１回の走査において、基板１０１上に液状材料が過剰に設けられることを防ぎ、バルジの発生を防止することができる。

液滴吐出ヘッド１と基板１０１とをＹ軸方向にステップ移動する際、１つのピクセルのＹ軸方向における大きさｂ_ｙ の正の整数倍だけステップ移動するようにしたので、ステップ移動後においても、吐出ノズル１０とピクセルとを一致させることができる。

なお、上記実施形態では、吐出ノズル１０の間隔ａに基づいてピクセルの大きさを設定し、液滴吐出工程を行う構成であるが、液滴吐出工程の前後の工程、例えば図１０に示した、電気光学装置としてのプラズマ型表示装置の製造の際のフォトリソグラフィ工程において基板上にパターニングを行う際にも、吐出ノズル１０の間隔ａ又はその１／ｎ（ｎは２以上の整数）に基づいて設計及びパターニングを行うようにすると、この前後工程によって形成されたパターンと液滴吐出工程においてパターニングしたパターンとが正確に一致するように、吐出のためのビットマップを設計できる。

図１０に示すプラズマ型表示装置５００は、互いに対向して配置されたガラス基板５０１とガラス基板５０２と、これらの間に形成された放電表示部５１０とから概略構成される。
放電表示部５１０は、複数の放電室５１６が集合されてなり、複数の放電室５１６のうち、赤色放電室５１６（Ｒ）、緑色放電室５１６（Ｇ）、青色放電室５１６（Ｂ）の３つの放電室５１６が対になって１画素を構成するように配置されている。
前記（ガラス）基板５０１の上面には所定の間隔でストライプ状にアドレス電極５１１が形成され、それらアドレス電極５１１と基板５０１の上面とを覆うように誘電体層５１９が形成され、更に誘電体層５１９上においてアドレス電極５１１、５１１間に位置して各アドレス電極５１１に沿うように隔壁５１５が形成されている。なお、隔壁５１５においてはその長手方向の所定位置においてアドレス電極５１１と直交する方向にも所定の間隔で仕切られており（図示略）、基本的にはアドレス電極５１１の幅方向左右両側に隣接する隔壁と、アドレス電極５１１と直交する方向に延設された隔壁により仕切られる長方形状の領域が形成され、これら長方形状の領域に対応するように放電室５１６が形成され、これら長方形状の領域が３つ対になって１画素が構成される。また、隔壁５１５で区画される長方形状の領域の内側には蛍光体５１７が配置されている。蛍光体５１７は、赤、緑、青の何れかの蛍光を発光するもので、赤色放電室５１６（Ｒ）の底部には赤色蛍光体５１７（Ｒ）が、緑色放電室５１６（Ｇ）の底部には緑色蛍光体５１７（Ｇ）が、青色放電室５１６（Ｂ）の底部には青色蛍光体５１７（Ｂ）が各々配置されている。

次に、前記ガラス基板５０２側には、先のアドレス電極５１１と直交する方向に複数のＩＴＯからなる透明表示電極５１２がストライプ状に所定の間隔で形成されるとともに、高抵抗のＩＴＯを補うために、金属からなるバス電極５１２ａが形成されている。また、これらを覆って誘電体層５１３が形成され、更にＭｇＯなどからなる保護膜５１４が形成されている。
そして、前記基板５０１とガラス基板５０２の基板２が、前記アドレス電極５１１…と表示電極５１２…を互いに直交させるように対向させて相互に貼り合わされ、基板５０１と隔壁５１５とガラス基板５０２側に形成されている保護膜５１４とで囲まれる空間部分を排気して希ガスを封入することで放電室５１６が形成されている。なお、ガラス基板５０２側に形成される表示電極５１２は各放電室５１６に対して２本ずつ配置されるように形成されている。
上記アドレス電極５１１と表示電極５１２は図示略の交流電源に接続され、各電極に通電することで必要な位置の放電表示部５１０において蛍光体５１７を励起発光させて、カラー表示ができるようになっている。

本実施形態では、表示電極５１２がフォトリソグラフィ法により形成され、バス電極５１２ａが液滴吐出法により形成される。そして、フォトリソグラフィ法で形成される表示電極５１２どうしの間隔を、液滴吐出ヘッド１の吐出ノズル１０の間隔ａに基づいて設定（設計）し、この設定した値に基づいて、表示電極５１２を形成するためのフォトリソグラフィ工程が行われる。
具体的には、吐出ノズル１０の間隔ａが例えば１４１μｍである場合、ｎ＝１０に設定し、１４１／１０＝１４．１μｍを基本単位としてＩＴＯ透明表示電極５１２のパターン（間隔及び幅）が設計され、この設計値に基づいてフォトリソグラフィ法により表示電極５１２が形成される。この場合、表示電極５１２どうしの間隔は、例えば１４．１×４０＝５６４μｍ、表示電極５１２の幅は、例えば１４．１×３５＝４９３．５μｍ、などと設定される。
なお、ここでは、表示電極５１２を形成する場合を例にして説明したが、その他の部分、例えば不図示の両端の引き出し電極なども、１４．１μｍを基本単位として設計される。

以上説明したように、吐出ノズル１０の間隔ａに基づく値を基本単位とし、液滴吐出法以外の方法（フォトリソグラフィ法）でパターン形成する際の設計を前記基本単位に基づいて行うようにし、図１０を用いて説明したように、フォトリソグラフィ法により形成されたＩＴＯ透明表示電極５１２に対して正確に位置を合わせて、液滴吐出法によりバス電極５１２ａを形成する場合でも、吐出ノズル１０を効率良く使用でき、下地にある構造物（この場合、すなわち表示電極５１２）と完全にピッチが一致したパターンを形成できる。

ところで、例えば液滴吐出工程前後を含むプロセスに何らかの制約があり、Ｙ軸方向におけるピクセルの大きさを吐出ノズル１０の間隔ａに基づいて設定できない場合が考えられる。

例えば、図９（ａ）に示すように、基板上に、液滴の配置位置を設定するための構造物（バンク）ＢＫを複数設けた際、この構造物のＹ軸方向におけるピッチｂ_ｋｙが規定値として規定され、ピクセルのＹ軸方向における大きさを吐出ノズル１０の間隔ａに基づいて設定できない場合について考える。構造物ＢＫを形成するフォトリソグラフィー工程に制約があって、ｂ_ｋｙの値を自由に設計できないため、ｂ_ｋｙ＝ａ／ｎを満たす整数ｎが存在しないか、ｎが非現実的なほど大きな整数になってしまう場合がある。
このような場合、液滴吐出ヘッド１をＹ軸に対して角度θだけ傾けつつ吐出動作を行うことが有効である。この場合、従来ではＸ軸方向において吐出ノズルとピクセルとを一致させることができなかったが、液滴を吐出するためのピクセル（単位領域）のうち、Ｙ軸方向における大きさｂ_ｙ２、及びＸ軸方向における大きさｂ_ｘ２を、
ｂ_ｙ２ ＝ ｂ_ｋｙ／ｎ （ｎは正の整数） 且つ、
ｂ_ｘ２ ＝ （ａ・ｓｉｎθ）／ｍ （ｍは正の整数）、
の条件を満足するように設定することにより、吐出ノズル１０とピクセルとを一致させることができる。

換言すれば、規定値ｂ_ｋｙとａ・ｃｏｓθとが整数比となるように角度θを設定し、この設定した角度θとノズル間隔ａとに基づいて、単位領域（ピクセル）のＸ軸方向における大きさｂ_ｘ２を設定する。

以上のように設定することにより、図９（ｂ）の模式図に示すように、吐出ノズル１０と基板１０１とを走査しながらビットマップそれぞれのピクセルと吐出ノズル１０とを一致させつつ液滴吐出動作を行うことができる。

本発明のデバイスの製造方法は、図１１に示す液晶装置を製造する際にも適用できる。図１１は、液晶装置の第１基板上の信号電極等の平面レイアウトを示すものである。この液晶装置は、この第１基板と、走査電極等が設けられた第２基板（図示せず）と、第１基板と第２基板との間に封入された液晶（図示せず）とから概略構成されている。

図１１に示すように、第１基板３００上の画素領域３０３には、複数の信号電極３１０…が多重マトリクス状に設けられている。特に各信号電極３１０…は、各画素に対応して設けられた複数の画素電極部分３１０ａ…とこれらを多重マトリクス状に接続する信号配線部分３１０ｂ…とから構成されており、Ｙ方向に伸延している。
また、符号３５０は１チップ構造の液晶駆動回路で、この液晶駆動回路３５０と信号配線部分３１０ｂ…の一端側（図中下側）とが第１引き回し配線３３１…を介して接続されている。
また、符号３４０…は上下導通端子で、この上下導通端子３４０…と、図示しない第２基板上に設けられた端子とが上下導通材３４１…によって接続されている。また、上下導通端子３４０…と液晶駆動回路３５０とが第２引き回し配線３３２…を介して接続されている。

本実施形態では、上記第１基板３００上に設けられた信号配線部分３１０ｂ…、第１引き回し配線３３１…、第２引き回し配線３３２…が、各々本発明に係るデバイスの製造方法に基づいて形成されている。

本発明の電子機器の具体例について説明する。
図１２（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１２（ａ）において、１６００は携帯電話本体を示し、１６０１は上記プラズマ型表示装置（あるいは液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス装置）を備えた表示部を示している。
図１２（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１２（ｂ）において、１７００は情報処理装置、１７０１はキーボードなどの入力部、１７０３は情報処理本体、１７０２は上記プラズマ型表示装置（あるいは液晶表示装置）を備えた表示部を示している。
図１２（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２（ｃ）において、１８００は時計本体を示し、１８０１は上記プラズマ型表示装置（あるいは液晶表示装置）を備えた表示部を示している。
図１２（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上記実施形態の表示装置（デバイス）を備えたものであるので、優れた表示性能を有する。
なお、上記電子機器はプラズマ型表示装置あるいは液晶装置を備えるものとしたが、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等、他の電気光学装置を備えた電子機器とすることもできる。

図１３は、本発明のデバイスとしての非接触型カード媒体の一例を示す図である。図１３に示すように、非接触型カード媒体１４００は、カード基体１４０２とカードカバー１４１８から成る筐体内に、半導体集積回路チップ１４０８とアンテナ回路１４１２を内蔵し、図示されない外部の送受信機と電磁波または静電容量結合の少なくとも一方により電力供給あるいはデータ授受の少なくとも一方を行うようになっている。
本実施形態では、上記アンテナ回路１４１２が、本発明のデバイスの製造方法に基づいて形成されている。

なお、上記各実施形態では配線パターンを形成する場合について説明したが、本発明の製造方法は、カラーフィルタをはじめ各種デバイス及び装置の製造に適用可能である。以下、本発明の他の適用例について説明する。

本発明は図１４〜図１６に示す液晶表示装置を製造する際に適用できる。本実施形態の液晶表示装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（ThinFilm Transistor）素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図１４は該透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図１５はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図１６は図１５のＡ−Ａ’線断面図である。なお、図１６においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側（観察者側）である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。

本実施形態の液晶表示装置において、図１４に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極１０９と当該画素電極１０９への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子１３０とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線１０６ａが当該ＴＦＴ素子１３０のソースに電気的に接続されている。データ線１０６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線１０６ａに対してグループ毎に供給される。また、走査線１０３ａがＴＦＴ素子１３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線１０３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極１０９はＴＦＴ素子１３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子１３０を一定期間だけオンすることにより、データ線１０６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。画素電極１０９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極１０９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量１７０が付加されている。

次に、図１５を参照しながら、本実施形態の液晶表示装置の要部の平面構造について説明する。図１５に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極１０９（点線部１０９Ａにより輪郭を示す）が複数、マトリクス状に設けられており、画素電極１０９の縦横の境界に各々沿ってデータ線１０６ａ、走査線１０３ａおよび容量線１０３ｂが設けられている。各画素電極１０９は、走査線１０３ａとデータ線１０６ａとの各交差部に対応して設けられたＴＦＴ素子１３０に電気的に接続されており、各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。データ線１０６ａは、ＴＦＴ素子１３０を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層１０１ａのうち、後述のソース領域にコンタクトホール１０５を介して電気的に接続されており、画素電極１０９は、半導体層１０１ａのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール１０８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１０１ａのうち、後述のチャネル領域（図中左上がりの斜線の領域）に対向するように走査線１０３ａが配置されており、走査線１０３ａはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。容量線１０３ｂは、走査線１０３ａに沿って略直線状に伸びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線１０３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線１０６ａと交差する箇所からデータ線１０６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線１０６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。

次に、図１６を参照しながら、本実施形態の液晶表示装置の断面構造について説明する。図１６は上述した通り、図１５のＡ−Ａ’線断面図であり、ＴＦＴ素子１３０が形成された領域の構成について示す断面図である。本実施の形態の液晶表示装置においては、ＴＦＴアレイ基板１１０と、これに対向配置される対向基板１２０との間に液晶層１５０が挟持されている。ＴＦＴアレイ基板１１０は、透光性の基板本体１１０Ａ、その液晶層１５０側表面に形成されたＴＦＴ素子１３０、画素電極１０９、配向膜１４０を主体として構成されており、対向基板１２０は透光性のプラスチック基板（基板本体）１２０Ａと、その液晶層１５０側表面に形成された共通電極１２１と配向膜１６０とを主体として構成されている。そして、各基板１１０，１２０は、スペーサ１１５を介して所定の基板間隔（ギャップ）が保持されている。ＴＦＴアレイ基板１１０において、基板本体１１０Ａの液晶層１５０側表面には画素電極１０９が設けられ、各画素電極１０９に隣接する位置に、各画素電極１０９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０が設けられている。画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０は、ＬＤＤ（Lightly Doped Drain）構造を有しており、走査線１０３ａ、当該走査線１０３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１０１ａのチャネル領域１０１ａ’、走査線１０３ａと半導体層１０１ａとを絶縁するゲート絶縁膜１０２、データ線１０６ａ、半導体層１０１ａの低濃度ソース領域１０１ｂおよび低濃度ドレイン領域１０１ｃ、半導体層１０１ａの高濃度ソース領域１０１ｄおよび高濃度ドレイン領域１０１ｅを備えている。上記走査線１０３ａ上、ゲート絶縁膜１０２上を含む基板本体１１０Ａ上には、高濃度ソース領域１０１ｄへ通じるコンタクトホール１０５、及び高濃度ドレイン領域１０１ｅへ通じるコンタクトホール１０８が開孔した第２層間絶縁膜１０４が形成されている。つまり、データ線１０６ａは、第２層間絶縁膜１０４を貫通するコンタクトホール１０５を介して高濃度ソース領域１０１ｄに電気的に接続されている。さらに、データ線１０６ａ上および第２層間絶縁膜１０４上には、高濃度ドレイン領域１０１ｅへ通じるコンタクトホール１０８が開孔した第３層間絶縁膜１０７が形成されている。すなわち、高濃度ドレイン領域１０１ｅは、第２層間絶縁膜１０４および第３層間絶縁膜１０７を貫通するコンタクトホール１０８を介して画素電極１０９に電気的に接続されている。

本実施形態では、ゲート絶縁膜１０２を走査線１０３ａに対向する位置から延設して誘電体膜として用い、半導体膜１０１ａを延設して第１蓄積容量電極１０１ｆとし、更にこれらに対向する容量線１０３ｂの一部を第２蓄積容量電極とすることにより、蓄積容量１７０が構成されている。また、ＴＦＴアレイ基板１１０Ａと画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０との間には、画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０を構成する半導体層１０１ａをＴＦＴアレイ基板１１０Ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１１２が形成されている。さらに、ＴＦＴアレイ基板１１０の液晶層１５０側最表面、すなわち、画素電極１０９および第３層間絶縁膜１０７上には、電圧無印加時における液晶層１５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜１４０が形成されている。したがって、このようなＴＦＴ素子１３０を具備する領域においては、ＴＦＴアレイ基板１１０の液晶層１５０側最表面、すなわち液晶層１５０の挟持面には複数の凹凸ないし段差が形成された構成となっている。他方、対向基板１２０には、基板本体１２０Ａの液晶層１５０側表面であって、データ線１０６ａ、走査線１０３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０の形成領域（非画素領域）に対向する領域に、入射光が画素スイッチング用ＴＦＴ素子１３０の半導体層１０１ａのチャネル領域１０１ａ’や低濃度ソース領域１０１ｂ、低濃度ドレイン領域１０１ｃに侵入することを防止するための第２遮光膜１２３が設けられている。さらに、第２遮光膜１２３が形成された基板本体１２０Ａの液晶層１５０側には、その略全面にわたって、ＩＴＯ等からなる共通電極１２１が形成され、その液晶層１５０側には、電圧無印加時における液晶層１５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜１６０が形成されている。

本実施形態では、データ線１０６ａ、ゲート電極を構成する走査線１０３ａ、容量線１０３ｂ、及び画素電極１０９等が、本発明の製造方法に基づいて形成される。

本発明は、カラーフィルタの構成要素となる膜の形成にも用いることができる。図１７は基板Ｐ上に形成されるカラーフィルタを示す図であり、図１８はカラーフィルタの製造手順を示す図である。図１７に示すように、本例では長方形形状の基板Ｐ上に生産性を向上させる観点から複数個のカラーフィルタ領域２５１をマトリクス状に形成する。これらカラーフィルタ領域２５１は、後で基板Ｐを切断することにより、液晶表示装置に適合するカラーフィルタとして用いることができる。カラーフィルタ領域２５１は、Ｒ（赤）の液状体組成物、Ｇ（緑）の液状体組成物、及びＢ（青）の液状体組成物をそれぞれ所定のパターン、本例では従来公知のストライプ型で形成される。なお、この形成パターンとしては、ストライプ型の他に、モザイク型、デルタ型、あるいはスクウェア型などでもよい。そして、ＲＧＢそれぞれの液状体組成物には上述した界面活性剤が添加されている。

このようなカラーフィルタ領域２５１を形成するには、まず図１８（ａ）に示すように透明の基板Ｐの一方の面に対し、バンク２５２が形成される。このバンク２５２の形成方法は、スピンコート後に露光、現像する。バンク２５２は平面視格子状に形成され、格子で囲まれるバンク内部にインクが配置される。このとき、バンク２５２は撥液性を有することが好ましい。また、バンク２５２はブラックマトリクスとして機能することが好ましい。次に、図１８（ｂ）に示すように、前記液滴吐出ヘッドから液状体組成物の液滴２５４が吐出され、フィルタエレメント２５３に着弾する。吐出する液滴２５４の量については、加熱工程における液状体組成物の体積減少を考慮した十分な量とする。このようにして基板Ｐ上の全てのフィルタエレメント２５３に液滴２５４を充填したら、ヒータを用いて基板Ｐが所定の温度（例えば７０℃程度）となるように加熱処理される。この加熱処理により、液状体組成物の溶媒が蒸発して液状体組成物の体積が減少する。この体積現状の激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるまで、液滴吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、液状体組成物に含まれる溶媒が蒸発して、最終的に液状体組成物に含まれる固形分のみが残留して膜化し、図１８（ｃ）に示すようなカラーフィルタ２５５となる。次いで、基板Ｐを平坦化し、且つカラーフィルタ２５５を保護するために、図１８（ｄ）に示すようにカラーフィルタ２５５やバンク２５２を覆って基板Ｐ上に保護膜２５６を形成する。この保護膜２５６の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法などの方法を採用することができるが、カラーフィルタ２５５と同様に、液滴吐出法により行うこともできる。次いで、図１８（ｅ）に示すようにこの保護膜２５６の全面に、スパッタ法や真空蒸着法などによって透明導電膜２５７を形成する。その後、透明導電膜２５７をパターニングし、図１８（ｆ）に示すように画素電極２５８をフィルタエレメント２５３に対応させてパターニングする。なお、液状表示パネルの駆動にＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いる場合には、このパターニングは不用となる。

本実施形態では、カラーフィルタ２５５や画素電極２５８を形成する際に本発明の製造方法を適用できる。

本発明は、有機ＥＬ装置を製造する場合にも適用できる。図１９〜図２１を参照しながら有機ＥＬ装置の製造方法について説明する。なお、図１９〜図２１には、説明を簡略化するために単一の画素についてのみが図示されている。
まず、基板Ｐが用意される。ここで、有機ＥＬ素子では後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特に安価なガラスが好適に用いられる。本例では、基板として図１９（ａ）に示すようにガラス等からなる透明基板Ｐが用いられる。そして、基板Ｐ上にアモルファスシリコン膜からなる半導体膜７００が形成される。次いで、この半導体膜７００に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程が行われ、半導体膜７００がポリシリコン膜に結晶化される。次いで、図１９（ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）７００をパターニングして島状の半導体膜７１０が形成され、その表面に対してゲート絶縁膜７２０が形成される。次いで、図１９（ｃ）に示すようにゲート電極６４３Ａが形成される。次いで、この状態で高濃度のリンイオンが打ち込まれ、半導体膜７１０に、ゲート電極６４３Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域６４３ａ、６４３ｂが形成される。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域６４３ｃとなる。次いで、図１９（ｄ）に示すように、コンタクトホール７３２、７３４を有する層間絶縁膜７３０が形成された後、これらコンタクトホール７３２、７３４内に中継電極７３６、７３８が埋め込まれる。次いで、図１９（ｅ）に示すように、層間絶縁膜７３０上に、信号線６３２、共通給電線６３３及び走査線（図１９に示さず）が形成される。ここで、中継電極７３８と各配線とは、同一工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極７３６は、後述するＩＴＯ膜により形成されることになる。そして、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜７４０が形成され、中継電極７３６に対応する位置にコンタクトホール（図示せず）が形成され、そのコンタクトホール内にも埋め込まれるようにＩＴＯ膜が形成され、さらにそのＩＴＯ膜がパターニングされて、信号線６３２、共通給電線６３３及び走査線（図示せず）に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域６４３ａに電気的に接続する画素電極６４１が形成される。ここで、信号線６３２及び共通給電線６３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述するように正孔注入層や発光層の形成場所となっている。

次いで、図２０（ａ）に示すように、前記の形成場所を囲むようにバンク６５０が形成される。このバンク６５０は仕切部材として機能するものであり、例えばポリイミド等の絶縁性有機材料で形成するのが好ましい。また、バンク６５０は、液滴吐出ヘッドから吐出される液状体組成物に対して非親和性を示すものが好ましい。バンク６５０に非親和性を発現させるためには、例えばバンク６５０の表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ_４、ＳＦ_５、ＣＨＦ_３などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。そして、このような構成のもとに、正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲のバンク６５０との間に、十分な高さの段差６１１が形成される。次いで、図２０（ｂ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、正孔注入層形成用材料を含む液状体組成物６１４Ａが液滴吐出ヘッドによりバンク６５０に囲まれた塗布位置、すなわちバンク６５０内に選択的に塗布される。次いで、図２０（ｃ）に示すように加熱あるいは光照射により液状体組成物６１４Ａの溶媒を蒸発させて、画素電極６４１上に、固形の正孔注入層６４０Ａが形成される。

次いで、図２１（ａ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、液滴吐出ヘッドより、発光層形成用材料（発光材料）を含む液状体組成物６１４Ｂがバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に選択的に塗布される。発光層形成用材料を含む液状体組成物６１４Ｂを液滴吐出ヘッドから吐出すると、液状体組成物６１４Ｂはバンク６５０内の正孔注入層６４０Ａ上に塗布される。ここで、液状体組成物６１４Ｂの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、緑色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物、青色の発色光を発光する発光層形成用材料を含む液状体組成物を、それぞれ対応する画素に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。このようにして各色の発光層形成用材料を含む液状体組成物６１４Ｂを吐出し塗布したら、液状体組成物６１４Ｂ中の溶媒を蒸発させることにより、図２１（ｂ）に示すように正孔層注入層６４０Ａ上に固形の発光層６４０Ｂが形成され、これにより正孔層注入層６４０Ａと発光層６４０Ｂとからなる発光部６４０が得られる。その後、図２１（ｃ）に示すように、透明基板Ｐの表面全体に、あるいはストライプ状に反射電極６５４（対向電極）が形成される。こうして、有機ＥＬ素子が製造される。
なお、画素電極を反射特性を有する電極とし、対向電極として透明性を有する電極（透明電極）を形成する構造であっても構わない。その場合、図面上、上方に発光する光が射出する。更には、画素電極として透明性を有する電極を形成し、画素電極よりも下層に反射性を有する材料を形成することも可能である。この場合、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等の材料を主成分とする材料により形成することができ、前述同様、図面上の上方に光が射出する構造となる。

上述したように、本実施形態では、正孔注入層６４０Ａ及び発光層６４０Ｂが液滴吐出法に基づいて形成され、本発明の製造方法が適用される。また、信号線６３２、共通給電線６３３、走査線、及び画素電極６４１等も、本発明の製造方法に基づいて形成される。

本発明の製造方法に用いられる液滴吐出装置を示す概略斜視図である。 液滴吐出ヘッドの概略外観図である。 本発明の製造方法を説明するための図であり、吐出ノズルの間隔と単位領域とを示す図である。 本発明の製造方法の説明図である。 本発明の製造方法の説明図である。 本発明の製造方法の説明図である。 本発明の製造方法の説明図である。 本発明の製造方法の説明図である。 本発明の製造方法の他の実施例を示す説明図である。 本発明に係るプラズマ型表示装置を示す分解斜視図である。 本発明に係る液晶表示装置を示す平面図である。 本発明に係る電子機器を示す図であって、（ａ）は携帯電話の一例を示す図、（ｂ）は携帯型情報勝利装置の一例を示す図、（ｃ）は腕時計型電子機器の一例を示す図である。 本発明に係る非接触型カード媒体の分解斜視図である。 本発明に係る液晶表示装置のスイッチング素子及び信号線等の等価回路図である。 本発明の製造方法が適用される液晶表示装置のＴＦＴアレイ基板の構造を示す平面図である。 本発明の製造方法が適用される液晶表示装置の要部断面図である。 本発明の製造方法が適用されるカラーフィルタの模式図である。 本発明の製造方法が適用されるカラーフィルタの模式図である。 本発明の製造方法が適用される有機ＥＬ装置の製造工程を示す模式図である。 本発明の製造方法が適用される有機ＥＬ装置の製造工程を示す模式図である。 本発明のデバイスの製造方法が適用される有機ＥＬ装置の製造工程を示す模式図である。

符号の説明

１…液滴吐出ヘッド、１０…吐出ノズル、１０１…基板、ＩＪ…液滴吐出装置

Claims (7)

1. 基板に複数の色からなるカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
   液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記複数の色からなるカラーフィルタを形成する工程を有し、
   前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 基板に電極が形成されてなる薄膜トランジスタの製造方法であって、
   液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記電極を形成する工程を有し、
   前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。
3. 基板に配線パターンが形成されてなる電気光学装置の製造方法であって、
   液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記配線パターンを形成する工程を有し、
   前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
4. 請求項３記載の電気光学装置はプラズマ型表示装置であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. 請求項３記載の電気光学装置は液晶表示装置であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
6. 請求項３記載の電気光学装置はエレクトロルミネッセンス装置であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
7. 基板に正孔注入層、発光層が形成されてなるエレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
   液滴吐出ヘッドと前記基板とを相対的に移動しながら、前記液滴吐出ヘッドより液滴を吐出して前記正孔注入層、前記発光層の少なくとも一つを形成する工程を有し、
   前記工程において、前記基板上に配置された液滴どうしが重ならないか、あるいは前記基板上に配置された際の液滴の直径の１０％以下の重なりを生じるように、前記液滴を吐出することを特徴とするエレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
   

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