JP2004320025A - 電磁波遮蔽フィルタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の電磁波遮蔽フィルタは、電磁波遮蔽のための導電性パターンと、導電性パターンの表面に形成された黒化層88を含む。この製造方法は、ベースフィルム82上に第1黒化層88A、導電層、第2黒化層88Bを次々と形成し、同一のマスクを用いて第2黒化層、導電層、第2黒化層をパターニングして前面及び背面の各々に第1、第2の黒化層88A,88Bが形成された導電パターンを形成する各段階と含む。また、ベースフィルム上に第1黒化層及び導電層を次々と形成し、同一のマスクを用いて導電層及び第1黒化層をパターニングして背面に第1黒化層が形成された導電性パターンを形成し、さらに導電性パターンの前面及び両側面を覆いかぶせる第2、3、4の黒化層を形成することもできる。
【選択図】図7
Description
図1に示した放電セルは、上部基板10上に次々と形成された維持電極対12A、12B、上部誘電体層14及び保護膜16を有する上板15と、下部基板18上に次々と形成されたアドレス電極(データ電極)20、下部誘電体層22、隔壁24及び蛍光体層26を有する下板25を備える。
図2に示したPDPセットは、ケース60、このケース60内に収納される印刷回路基板(以下、PCBという。)50、PDP30、ガラス型前面フィルタ40、及びこのガラス型前面フィルタ40を覆うと共にケース60に結合されるカバー70を備える。
PDP30の背面側に位置するPCB50は、PDP30に形成された維持電極対12A、12B及びアドレス電極20を駆動するための複数の駆動及び制御回路を備える。このようなPCB50とPDP30の間には、PDP30及びPCB50から放出される熱を放出させるための放熱板(図示せず)が設置される。
このように、従来のPDPセットは、電磁波を遮蔽すると共に光学特性を補正するためのガラス型前面フィルタ40を用いる。しかし、ガラス型前面フィルタ40は、相対的に厚いガラス基板、すなわち強化ガラスを含むことによってPDPセットの厚さ及び重量が増加し、製造原価が上昇するという短所を有する。
図7は、本発明の第1実施形態による電磁波遮蔽フィルタの構造を示した断面図であって、図7に示す電磁波遮蔽フィルタは、導電性メッシュ84、導電性メッシュ84を支持するフレーム86で構成された電磁波遮蔽層83、及び電磁波遮蔽層83が形成されたベースフィルム82を備える。
そして、金属材で構成された電磁波遮蔽層83の表面には光反射防止のための黒化層88が形成される。具体的に、黒化層88は電磁波遮蔽層の背面に形成されて表示パネルからの画像光を吸収する第1黒化層88Aと、前面に形成されて外部から入射した光を吸収する第2黒化層88Bで構成される。これにより、黒化層88は電磁波遮蔽層83による外部光反射と画像光反射を防止することによってコントラスト比を向上させることができるようになる。
また、第1、2の黒化層88A、88Bのうち少なくとも一つは、電磁波遮蔽層83を酸化させる方法で形成することができる。
まず、図8Aに示すようにベースフィルム82を用意した後、そのベースフィルム82上に第1黒化層88A、導電層85、第2黒化層88Bを次々と形成する。ここで、導電層85は、スパッタリング等の蒸着方法を介して形成される。そして、第1及び第2の黒化層88A、88Bは、スクリーン印刷法、化合物薄膜コーティング法、電気化学的黒化法などによって形成される。
そして、金属材で構成された電磁波遮蔽層93の表面には、光反射防止のための黒化層98が形成される。具体的に、黒化層98は、電磁波遮蔽層93の前面及び背面と両側面それぞれに形成された第1ないし第4黒化層98Aないし98Dで構成される。ここで、電磁波遮蔽層93の前面に形成された第2黒化層98Bは、外部から入射した光を吸収し、背面に形成された第1黒化層98Aは、表示パネルからの画像光を吸収し、そして両側面それぞれに形成された第3及び第4黒化層98C、98Dの各々は、外部光及び表示光を吸収する。これにより、黒化層98は、電磁波遮蔽層93による外部光反射と画像光反射を防止することによって、コントラスト比を向上させることができる。
まず、図10Aに示すように、ベースフィルム92を用意した後、そのベースフィルム92上に、第1黒化層98A、導電層95を次々と積層する。ここで、導電層95は、スパッタリング等の蒸着方法によって形成される。そして、第1黒化層98Aは、スクリーン印刷法、化合物薄膜コーティング法等によって形成される。
14;上部誘電体層 15;上板
16;保護膜 18;下部基板
20;アドレス電極 22;下部誘電体層
24;隔壁 25;下板
26;蛍光体層 40;ガラス型前面フィルタ
42;ガラス基板 46;電磁波遮蔽フィルタ
48;近赤外線遮蔽膜 50;印刷回路基板
52;色補正膜 54;第2反射防止膜
60;ケース 62;反射防止膜
64;電磁波遮蔽フィルタ 66;近赤外線遮蔽膜
68;色補正膜 70;カバー
72;フレーム 74;導電性メッシュ
75;電磁波遮蔽層 76;ベースフィルム
82;ベースフィルム 83;電磁波遮蔽層
84;導電性メッシュ 86;フレーム
88;黒化層 92;ベースフィルム
93;電磁波遮蔽層 94;導電性メッシュ
95;導電層 96;フレーム
98;黒化層
Claims (13)
- 電磁波遮蔽のための導電性パターンと、
前記導電性パターンの表面に形成された黒化層が含まれることを特徴とする電磁波遮蔽フィルタ。 - 前記導電性パターンを支持するベースフィルムがさらに含まれることを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
- 前記黒化層は、前記導電性パターンの前面及び背面に形成されることを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
- 前記黒化層は、前記導電性パターンの側面に形成されることを特徴とする請求項2に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
- 前記導電性パターンは、導電性メッシュと、その導電性メッシュを覆いかぶせるフレームを備えることを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽フィルタ。
- ベースフィルムを用意する段階と、
前記ベースフィルム上に第1黒化層、導電層、第2黒化層を次々と形成する段階と、
同一なマスクを利用して前記第2黒化層、導電層、第2黒化層をパターニングし、前面及び背面の各々に前記第1、第2の黒化層が形成された導電パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする電磁波遮蔽フィルタの製造方法。 - 前記第1、第2の黒化層は、スクリーン印刷法または薄膜コーティング法により形成されることを特徴とする請求項6に記載の電磁波遮蔽フィルタの製造方法。
- ベースフィルムを用意する段階と、
前記ベースフィルム上に第1黒化層及び導電層を次々と形成する段階と、
同一のマスクを利用して前記導電層及び第1黒化層をパターニングし、背面に前記第1黒化層が形成された導電性パターンを形成する段階と、
前記導電性パターンの前面及び両側面を覆いかぶせる第2、第3、第4の黒化層を形成する段階と、を含むことを特徴とする電磁波遮蔽フィルタの製造方法。 - 前記第2、第3、第4の黒化層は、無電解メッキ法、スクリーン印刷法及び薄膜コーティング法のうちいずれか一つによって形成されることを特徴とする請求項8に記載の電磁波遮蔽フィルタの製造方法。
- プラズマディスプレイパネルの前面フィルタにおいて、
前記前面フィルタは、電磁波遮蔽のための導電性パターンと、前記導電性パターンを支持するベースフィルムが備わる電磁波遮蔽フィルタを含み、かつ前記導電性パターンの一側に、黒化層が形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの前面フィルタ。 - 前記黒化層は、前記導電性パターンの前面及び背面に形成されることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの前面フィルタ。
- 前記黒化層は、前記導電性パターンの側面に形成されることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの前面フィルタ。
- 前記導電性パターンは、導電性メッシュと、その導電性メッシュを覆いかぶせるフレームを備えることを特徴とする請求項10に記載のプラズマディスプレイパネルの前面フィルタ。
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