JP2004285080A - 新規なビスフェノール化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
で表されることを特徴とする。
で表されるビス(ヒドロキシイソプロピル)ベンゼンとを反応させることによって得ることができる。
2−シクロヘキシル−5−メチルフェノール228g(1.2モル)と1,4−ビス(ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン29.1g(0.15モル)をフラスコに仕込み、これにメタノール115.2gを加えて、溶解させた。この溶液に濃塩酸68.4gを加え、50℃にて攪拌下に24時間反応させた。反応終了後、得られた反応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した後、トルエン230gを加え、有機層から水層を分液した。得られた有機層からトルエンと未反応の2−シクロヘキシル−5−メチルフェノールを蒸留にて留去した。
元素分析値(%)(C38H50O2 として):
C H O
実測値 85.4 9.0 5.6
計算値 84.8 9.3 5.9
赤外線吸収スペクトル(cm-1):
OH 3550
CH2 又はCH3 2840,2920
芳香族環 1500,1580
C−O 1200
マスペクトル:
親ピーク 538
フラグメントピーク 523, 333, 262
プロトン核磁気共鳴スペクトル
2−シクロヘキシル−5−メチルフェノール304g(1.6モル)と1,3−ビス(ヒドロキシイソプロピル)ベンゼン38.8g(0.2モル)をフラスコに仕込み、これにメタノール153.6gを加えて、溶解させた。この溶液に濃塩酸91.2gを加え、50℃にて攪拌下に24時間反応させた。反応終了後、得られた反応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した後、トルエン200gを加え、有機層から水層を分液した。得られた有機層からトルエンと未反応の2−シクロヘキシル−5−メチルフェノールを蒸留にて留去した。
元素分析値(%)(C38H50O2 として):
C H O
実測値 85.3 9.0 5.7
計算値 84.8 9.3 5.9
赤外線吸収スペクトル(cm-1):
OH 3400
CH2 又はCH3 2820,3000
芳香族環 1500,1590
C−O 1205
マススペクトル:
親ピーク 538
フラグメントピーク 523,333,262
プロトン核磁気共鳴スペクトル
Claims (1)
- 1,4−ビス〔2−メチル−5−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ)フェニルジメチルメチル〕ベンゼン。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004207639A JP2004285080A (ja) | 2004-07-14 | 2004-07-14 | 新規なビスフェノール化合物及びその製造方法 |
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JP2004207639A JP2004285080A (ja) | 2004-07-14 | 2004-07-14 | 新規なビスフェノール化合物及びその製造方法 |
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