【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板上に形成された液晶表示装置用カラーフィルタの着色層の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用カラーフィルタは、一般に、ガラス基板上に設けられた開口部を有するブラックマトリックス上に着色層が形成されたものであるが、着色層の周縁部をブラックマトリックス端部に重ねた状態で形成されている。
【０００３】
このブラックマトリックスが、例えば、樹脂ブラックマトリックスのように膜厚が厚いと、着色層の周縁部がブラックマトリックス端部上で突起となる。
この突起は、カラーフィルタの表面を凹凸のあるものとし、平坦性を悪化させる。このような突起のある、表面の平坦性が悪化したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、突起の影響によって液晶分子の配向が乱され、表示ムラなど表示品質を低下させることになる。
【０００４】
多くの場合、カラーフィルタ表面への研磨によって、突起を除去し、同時に、例えば、着色層上、及びガラス基板の周縁部に残存しているフォトレジストの残渣も取り除き、後工程、例えば、透明導電膜の成膜における透明導電膜の密着性にとって、或いは、周縁部を対向基板とのシール部とする際におけるシール剤の密着性にとって好ましいものとしている。
【０００５】
図１、及び図２は、３２０ｍｍ×４００ｍｍ〜４００ｍｍ×５５０ｍｍ程度のサイズのガラス基板を用いた液晶表示用カラーフィルタの着色層を研磨する際に、一般的に使用されているオスカー型研磨機の一例の概略を示した説明図である。図１は、オスカー型研磨機の回転部分の平面図、図２は断面図である。
図１、及び図２に示すように、この研磨機の回転部分は、円盤状の下定盤（１）、下定盤と一体的に固定され下定盤を回転させる回転軸（２）、摩擦によって下定盤の回転に追従した回転をする円盤状の上定盤（３）、上定盤の回転軸（４）で構成されたものである。
【０００６】
上定盤（３）のサイズは、下定盤（１）より小さなものであり、上記摩擦によって下定盤の回転に追従した回転をしながら、下定盤（１）の上面上を円弧状に揺動（Ｃ）するようになっている。また、上定盤（３）の上部からは設定した研磨圧力（Ｄ）をかけられるようになっている。
下定盤（１）の上面上には、研磨クロス（５）が貼り合わされており、上定盤（３）の下面上には、研磨処理中のガラス基板（カラーフィルタ）（６）が外れてしまうのを防止する為に、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の板厚よりも薄いテンプレート枠（７）が設けられている。
【０００７】
研磨方法は、先ず、上定盤（３）の下面のテンプレート枠（７）内に、カラーフィルタの着色層が下向きになるようにガラス基板（カラーフィルタ）（６）を貼り付ける。この貼り付けは、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の裏面、及び上定盤（３）の下面を水で濡らし、水の表面張力を利用して上定盤（３）の下面に貼り付ける。
【０００８】
次に、研磨液（図示せず）を研磨クロス（５）の上方より滴下し、上定盤（３）を下ろし、設定した研磨圧力（Ｄ）をかけ、モーター（図示せず）により回転軸（２）を駆動させ、下定盤（１）を一定方向に回転（Ａ）させる。上定盤（３）の回転軸（４）には駆動を与えず、上定盤（３）には下定盤（１）の回転に追従した回転（Ｂ）をさせる。また、上定盤（３）に円弧状の揺動（Ｃ）をさせる。
このようにして、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の表面への研磨を行うといった方法である。
【０００９】
研磨クロス（５）としては、ＪＩＳ硬度８５程度の発泡樹脂素材、不織繊維素材などが用いられる。また、研磨液としては、一次粒子径０．１〜１．０μｍのアルミナ、ジルコニア、セリウム、二酸化マンガン、シリコンカーバイト、シリカなどの研磨材を分散させたものが用いられる。研磨材の含有量は１ｗｔ％程度である。
研磨圧力は１６００Ｐａ程度、下定盤の回転数は３０ｒｐｍ程度、所要時間は４０秒間程度である。
【００１０】
研磨液は、下定盤（１）の上面上に貼り合わされた研磨クロス（５）上に滴下されるが、研磨液が滴下される位置は、図３に示すように、下定盤（１）の上面上をガラス基板（カラーフィルタ）（６）が回転し、揺動する領域（Ｅ）内の定位置（Ｆ）である。
滴下回数は、１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理する所要時間内に数回、例えば、４０回行われる。滴下１回当たりの研磨液の吐出量は、０．３５ｇ程度、すなわち、１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理するのに滴下する研磨液の総量は、０．３５ｇ×４０回＝１４ｇ程度である。
尚、研磨液を滴下するチューブの吐出口の開口面積は、０．７５ｍｍ２ 〜８．０ｍｍ２ 程度のものである。
【００１１】
しかしながら、上記のような研磨処理によってカラーフィルタ表面の突起を除去し、フォトレジストの残渣を取り除くと、カラーフィルタ表面の全面は必ずしも均一なものにならず、着色層の膜厚に差が生じる。
１枚のガラス基板（カラーフィルタ）内では、例えば、中央部と周縁部とで膜厚に差が生じたり、或いはガラス基板（カラーフィルタ）間では、同一の部位の膜厚に差が生じるなどである。
【００１２】
着色層の膜厚に差が生じることは、結果としてカラーフィルタの色度のバラツキとなるので好ましいことではない。
この相応の色度のバラツキは、これまでは許容されていたものであるが、液晶表示装置の高品質化に伴い、この色度のバラツキをより縮小させることが強く要望されてきた。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記要望に対応してなされたものであり、液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際の、オスカー型研磨機を用いたカラーフィルタ表面の研磨処理において、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできる、すなわち、カラーフィルタの色度のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法を提供することを課題とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、オスカー型研磨機を用い、研磨液を研磨クロスに供給しながらカラーフィルタ表面を研磨する液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法において、研磨液をチューブポンプにて滴下して研磨クロスに供給する際に、滴下回数を５回／秒以上とし、研磨中は継続して供給することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法である。
【００１５】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法において、前記チューブポンプの吐出口の開口面積が０．７５〜８．０ｍｍ２ であり、前記研磨液の滴下１回当たりの吐出量が２５〜４５ｍｇであることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
オスカー型研磨機において、着色層の膜厚にバラツキを発生させる要因としては、研磨圧力、下定盤の回転数、研磨クロスの硬度、パッキングの有無、研磨時間、研磨液の組成、研磨液の滴下方法などが挙げられる。
本発明者は、上記要因を検討し、研磨液の滴下方法が大きな要因となっていること、すなわち、研磨クロス上への研磨液の滴下が研磨クロス面において局在していることに起因している点に着目した。
そして、実験を重ねた結果、研磨液の局在を解消し、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨することのできる研磨液の滴下条件を見出すことができた。
【００１７】
３２０ｍｍ×４００ｍｍ〜４００ｍｍ×５５０ｍｍ程度のサイズのガラス基板を研磨する大きさのオスカー型研磨機において、研磨クロスとして、ＪＩＳ硬度８５程度の発泡樹脂素材を用い、一次粒子径０．１〜１．０μｍの研磨材を含有量１ｗｔ％程度に分散させた研磨液を用い、研磨圧力は１６００Ｐａ程度、下定盤の回転数は３０ｒｐｍ程度の際に、研磨液の滴下条件として、以下のものが好ましい。
【００１８】
すなわち、滴下回数は、１秒間当たり５回以上とし、研磨中は継続して供給すると研磨液の局在が解消されカラーフィルタの着色層の膜厚のバラツキを縮小させることのできることを見出した。更に、滴下１回当たりの研磨液の吐出量を２５〜４５ｍｇ程度、研磨液を滴下するチューブの吐出口の開口面積を０．７５〜８．０ｍｍ２ 程度とすることにより、膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできることを見出した。
１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理するのに滴下する研磨液の総量は、例えば、所要時間を３５秒間とすると、４０ｍｇ×３５０回＝１４ｇ程度のものとなる。
【００１９】
図４は、本発明において用いられるチューブポンプの一例の概略を説明する正面図である。また、図５は側面図である。
図４、及び図５に示すように、チューブポンプは、ポンプブロック（１１）、回転ローラ（１２）、押し出しローラ（１３）、回転軸（１４）、及びチューブ（１５）で構成されている。
ポンプブロック（１１）の下部は、その巾方向が一様な円弧状の凹部となっている。押し出しローラ（１３）は、前後２個の回転ローラ（１２）の間、回転ローラ（１２）の周縁部に複数個が取り付けられている。その軸心で回転するようになっているが駆動は与えられていない。
【００２０】
ポンプブロック（１１）と回転ローラ（１２）との間には隙間が設けられており、チューブ（１５）はポンプブロック（１１）と回転ローラ（１２）との間に挿入されている。
チューブ（１５）は、ポンプブロック（１１）の円弧状の凹部と、回転ローラ（１２）との隙間において、２個の押し出しローラ（１３）の間（ａ）では、押し出しローラ（１３）によって押し潰されない状態になっており、また、押し出しローラ（１３）の位置（ｂ）では、押し出しローラ（１３）によって押し潰された状態になっている。
【００２１】
チューブ（１５）は、回転ローラ（１２）の回転に伴いポンプブロック（１１）の円弧状の凹部から押し出されないように固定具（１６）によって固定されている。
また、チューブ（１５）の左方端（ｃ）は、研磨液の供給タンク（図示せず）に接続され、研磨液が加圧された状態で供給されている。チューブ（１５）の右方端（ｄ）は、研磨機に接続されており、その末端部がチューブの吐出口となっている。
【００２２】
回転ローラ（１２）は、モーター（図示せず）により回転軸（１４）が所定方向に回転されることにより、チューブ（１５）の左方端（ｃ）から供給された研磨液を上記２個の押し出しローラ（１３）の間（ａ）にあるチューブの部分に押し出し、引き続きチューブ（１５）の右方端（ｄ）へと押し出す。
押し出された研磨液は、チューブの吐出口から研磨クロス上に滴下される。
【００２３】
この際、吐出１回あたりの研磨液の容量は、チューブの内径と２個の押し出しローラ（１３）の間の距離によって定まり、また、単位時間あたりの吐出回数（滴下回数）は、回転ローラ（１２）回転数によって定まる。
【００２４】
本発明においては、上記のように、研磨液の滴下間隔を短縮したことによって、研磨液の局在が解消されたものとなり、カラーフィルタの着色層の膜厚のバラツキが大幅に減少したものとなる。
着色層の膜厚のバラツキを色度のバラツキで換言すると、従来の１枚のガラス基板（カラーフィルタ）内の中央部と周縁部とでの色度のバラツキを６０、ガラス基板（カラーフィルタ）間での色度のバラツキを４０、合計の色度のバラツキを１００とすると、本発明によると、合計の色度のバラツキは略４８であり、大幅に減少したものとなった。
【００２５】
【発明の効果】
本発明は、研磨液をチューブポンプにて滴下して研磨クロスに供給する際に、滴下回数を５回／秒以上とし、研磨中は継続して供給するオスカー型研磨機を用いた液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法であるので、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法となる。
【００２６】
また、滴下１回当たりの研磨液の吐出量を２５〜４５ｍｇ程度、研磨液を滴下するチューブの吐出口の開口面積を０．７５〜８．０ｍｍ２ 程度とすることにより、膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできる、すなわち、カラーフィルタの色度のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】オスカー型研磨機の平面図である。
【図２】オスカー型研磨機の断面図である。
【図３】研磨液を滴下する位置の説明図である。
【図４】本発明において用いられるチューブポンプの一例の概略を説明する正面図である。
【図５】チューブポンプの一例の概略を説明する側面図である。
【符号の説明】
１・・・下定盤
２・・・下定盤を回転させる回転軸
３・・・上定盤
４・・・上定盤の回転軸
５・・・研磨クロス
６・・・ガラス基板（カラーフィルタ）
７・・・テンプレート枠
１１・・・ポンプブロック
１２・・・回転ローラ
１３・・・押し出しローラ
１４・・・回転軸
１５・・・チューブ
１６・・・固定具
Ａ・・・下定盤の回転
Ｂ・・・上定盤の回転
Ｃ・・・揺動
Ｄ・・・研磨圧力
Ｅ・・・カラーフィルタが回転、揺動する領域
Ｆ・・・研磨液が滴下される位置
ａ・・・２個の押し出しローラ間
ｂ・・・押し出しローラの位置[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for polishing a colored layer of a color filter for a liquid crystal display device formed on a glass substrate.
[0002]
[Prior art]
A color filter for a liquid crystal display device generally has a color layer formed on a black matrix having an opening provided on a glass substrate. It is formed with.
[0003]
When this black matrix has a large thickness, for example, like a resin black matrix, the peripheral portion of the colored layer becomes a protrusion on the end of the black matrix.
These projections make the surface of the color filter uneven, and deteriorate the flatness. When a color filter having such projections and having a deteriorated surface flatness is used for a liquid crystal display device, the orientation of liquid crystal molecules is disturbed by the influence of the projections, and display quality such as display unevenness is reduced.
[0004]
In many cases, the projections are removed by polishing the surface of the color filter, and at the same time, the photoresist residue remaining on, for example, the coloring layer and the peripheral portion of the glass substrate is also removed. This is preferable for the adhesiveness of the transparent conductive film in forming the film or for the adhesiveness of the sealant when the peripheral portion is used as a seal portion with the counter substrate.
[0005]
FIGS. 1 and 2 show an Oscar-type polishing machine generally used when polishing a colored layer of a liquid crystal display color filter using a glass substrate having a size of about 320 mm × 400 mm to 400 mm × 550 mm. It is explanatory drawing which showed the outline of an example. FIG. 1 is a plan view of a rotating part of the Oscar-type polishing machine, and FIG. 2 is a sectional view.
As shown in FIGS. 1 and 2, the rotating part of the polishing machine has a disk-shaped lower platen (1), a rotating shaft (2) fixed integrally with the lower platen and rotating the lower platen, and a lower plate by friction. It comprises a disk-shaped upper platen (3) that rotates following the rotation of the platen, and a rotation axis (4) of the upper platen.
[0006]
The size of the upper stool (3) is smaller than that of the lower stool (1), and swings in an arc on the upper surface of the lower stool (1) while rotating following the rotation of the lower stool due to the friction. (C). Further, a set polishing pressure (D) can be applied from above the upper surface plate (3).
A polishing cloth (5) is bonded on the upper surface of the lower surface plate (1), and a glass substrate (color filter) (6) being polished is removed on the lower surface of the upper surface plate (3). To prevent this, a template frame (7) thinner than the thickness of the glass substrate (color filter) (6) is provided.
[0007]
In the polishing method, first, a glass substrate (color filter) (6) is attached to a template frame (7) on the lower surface of the upper stool (3) such that the colored layer of the color filter faces downward. In this attachment, the back surface of the glass substrate (color filter) (6) and the lower surface of the upper stool (3) are wetted with water, and attached to the lower surface of the upper stool (3) using the surface tension of water. .
[0008]
Next, a polishing liquid (not shown) is dropped from above the polishing cloth (5), the upper platen (3) is lowered, a set polishing pressure (D) is applied, and the rotating shaft is rotated by a motor (not shown). (2) is driven, and the lower platen (1) is rotated (A) in a certain direction. No drive is applied to the rotation axis (4) of the upper stool (3), and the upper stool (3) is caused to rotate (B) following the rotation of the lower stool (1). Further, the upper platen (3) is caused to swing in an arc shape (C).
In this manner, the surface of the glass substrate (color filter) (6) is polished.
[0009]
As the polishing cloth (5), a foamed resin material having a JIS hardness of about 85 or a nonwoven fiber material is used. Further, as the polishing liquid, one in which an abrasive such as alumina, zirconia, cerium, manganese dioxide, silicon carbide, silica or the like having a primary particle diameter of 0.1 to 1.0 μm is dispersed is used. The content of the abrasive is about 1 wt%.
The polishing pressure is about 1600 Pa, the rotation speed of the lower platen is about 30 rpm, and the required time is about 40 seconds.
[0010]
The polishing liquid is dropped on the polishing cloth (5) bonded to the upper surface of the lower platen (1), and the polishing liquid is dropped at the position of the lower platen (1) as shown in FIG. This is a fixed position (F) in a region (E) in which the glass substrate (color filter) (6) rotates and swings on the upper surface.
The number of times of dropping is several times, for example, 40 times, within the time required for polishing one glass substrate (color filter). The discharge amount of the polishing liquid per drop is about 0.35 g. That is, the total amount of the polishing liquid dropped to polish one glass substrate (color filter) is 0.35 g × 40 times = 14 g. It is about.
Incidentally, the opening area of the discharge port of the tube dropping a polishing liquid is of the order of 0.75mm 2 ~8.0mm 2.
[0011]
However, when the protrusions on the color filter surface are removed by the above-described polishing treatment and the photoresist residue is removed, the entire surface of the color filter surface is not necessarily uniform, and a difference occurs in the thickness of the colored layer.
Within one glass substrate (color filter), for example, a difference occurs in the film thickness between the central portion and the peripheral portion, or a difference occurs in the film thickness of the same portion between the glass substrates (color filters). It is.
[0012]
It is not preferable that a difference occurs in the thickness of the coloring layer because the chromaticity of the color filter varies as a result.
The corresponding variation in chromaticity, which has been accepted so far, has been strongly demanded to further reduce the variation in chromaticity as the quality of liquid crystal display devices is improved.
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in response to the above demands, and when manufacturing a color filter for a liquid crystal display device, in the polishing treatment of the color filter surface using an Oscar type polishing machine, the entire surface of the color filter surface is more Provided is a method of polishing a color filter for a liquid crystal display device, which can be uniformly polished and can greatly reduce the variation in the thickness of the colored layer, that is, can significantly reduce the variation in the chromaticity of the color filter. It is a subject.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a method for polishing a color filter for a liquid crystal display device, in which an Oscar-type polishing machine is used, and a polishing liquid is supplied to a polishing cloth while the polishing liquid is supplied to the polishing cloth. A method of polishing a color filter for a liquid crystal display device, characterized in that the number of drops is set to 5 times / second or more during supply, and the supply is continued during polishing.
[0015]
Further, the present invention provides the method for polishing a color filter for a liquid crystal display device according to the above invention, wherein the opening area of the discharge port of the tube pump is 0.75 to 8.0 mm 2 , and per one drop of the polishing liquid. A method for polishing a color filter for a liquid crystal display device, wherein a discharge amount is 25 to 45 mg.
[0016]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
In the Oscar-type polishing machine, the factors that cause variation in the thickness of the colored layer include polishing pressure, rotation speed of the lower platen, hardness of the polishing cloth, presence or absence of packing, polishing time, polishing liquid composition, polishing liquid dropping. And the like.
The present inventor studied the above factors and found that the method of dropping the polishing liquid is a major factor, that is, the drop of the polishing liquid on the polishing cloth is localized on the polishing cloth surface. We paid attention to that point.
As a result of repeated experiments, it was possible to find out the conditions for dropping the polishing liquid, which can eliminate the localization of the polishing liquid and can polish the entire surface of the color filter more uniformly.
[0017]
In an Oscar-type polishing machine having a size for polishing a glass substrate having a size of about 320 mm × 400 mm to 400 mm × 550 mm, using a foamed resin material having a JIS hardness of about 85 as a polishing cloth, and having a primary particle diameter of 0.1 to 1.0 μm The following conditions are preferred as the dropping conditions of the polishing liquid when the polishing pressure is about 1600 Pa and the rotation speed of the lower platen is about 30 rpm, using a polishing liquid in which the abrasive is dispersed to a content of about 1 wt%.
[0018]
That is, it has been found that the number of drops is set to 5 times or more per second, and that if the polishing liquid is continuously supplied during polishing, the localization of the polishing liquid is eliminated and the variation in the thickness of the colored layer of the color filter can be reduced. Further, the variation in the film thickness can be reduced by setting the discharge amount of the polishing liquid per drop to about 25 to 45 mg and the opening area of the discharge port of the tube for dropping the polishing liquid to about 0.75 to 8.0 mm 2. We have found that it can be significantly reduced.
The total amount of the polishing liquid dropped to polish one glass substrate (color filter) is, for example, about 40 mg × 350 times = 14 g when the required time is 35 seconds.
[0019]
FIG. 4 is a front view schematically illustrating an example of a tube pump used in the present invention. FIG. 5 is a side view.
As shown in FIGS. 4 and 5, the tube pump includes a pump block (11), a rotating roller (12), an extruding roller (13), a rotating shaft (14), and a tube (15).
The lower part of the pump block (11) is an arc-shaped concave part whose width direction is uniform. A plurality of extruding rollers (13) are attached to the peripheral edge of the rotating roller (12) between the front and rear two rotating rollers (12). It rotates about its axis, but no drive is provided.
[0020]
A gap is provided between the pump block (11) and the rotating roller (12), and the tube (15) is inserted between the pump block (11) and the rotating roller (12).
The tube (15) is pushed by the pushing roller (13) between the two pushing rollers (13) in the gap between the arc-shaped concave portion of the pump block (11) and the rotating roller (12). It is not crushed, and at the position (b) of the pushing roller (13), it is crushed by the pushing roller (13).
[0021]
The tube (15) is fixed by a fixture (16) so as not to be pushed out of the arc-shaped concave portion of the pump block (11) with the rotation of the rotating roller (12).
The left end (c) of the tube (15) is connected to a polishing liquid supply tank (not shown), and the polishing liquid is supplied in a pressurized state. The right end (d) of the tube (15) is connected to a polishing machine, and the end portion serves as a discharge port of the tube.
[0022]
The rotating roller (12) removes the polishing liquid supplied from the left end (c) of the tube (15) by rotating the rotating shaft (14) in a predetermined direction by a motor (not shown). Of the tube between the extrusion rollers (13) (a) and then to the right end (d) of the tube (15).
The extruded polishing liquid is dropped on the polishing cloth from the discharge port of the tube.
[0023]
At this time, the volume of the polishing liquid per discharge is determined by the inner diameter of the tube and the distance between the two extruding rollers (13), and the number of discharges (number of drops) per unit time is determined by a rotating roller ( 12) Determined by the number of rotations.
[0024]
In the present invention, as described above, by reducing the dropping interval of the polishing liquid, the localization of the polishing liquid has been eliminated, and the variation in the thickness of the color layer of the color filter has been significantly reduced. Become.
In other words, the variation in the film thickness of the colored layer is represented by the variation in the chromaticity. In other words, the variation in the chromaticity between the central portion and the peripheral portion in one conventional glass substrate (color filter) is 60, and the glass substrate (color filter) Assuming that the variation in chromaticity between them is 40 and the variation in total chromaticity is 100, according to the present invention, the variation in total chromaticity is approximately 48, which is significantly reduced.
[0025]
【The invention's effect】
The present invention provides a liquid crystal display device using an Oscar-type polishing machine in which the polishing liquid is dropped by a tube pump and supplied to the polishing cloth at a dropping frequency of 5 times / second or more and continuously supplied during polishing. Therefore, the method for polishing a color filter for a liquid crystal display device is capable of polishing the entire surface of the color filter more uniformly and reducing the variation in the thickness of the colored layer.
[0026]
In addition, the discharge amount of the polishing liquid per drop is about 25 to 45 mg, and the opening area of the discharge port of the tube into which the polishing liquid is dropped is about 0.75 to 8.0 mm 2 , so that the dispersion of the film thickness is reduced. A method for polishing a color filter for a liquid crystal display device, which can be greatly reduced, that is, the chromaticity variation of the color filter can be significantly reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of an Oscar-type polishing machine.
FIG. 2 is a sectional view of an Oscar-type polishing machine.
FIG. 3 is an explanatory diagram of a position where a polishing liquid is dropped.
FIG. 4 is a front view schematically illustrating an example of a tube pump used in the present invention.
FIG. 5 is a side view schematically illustrating an example of a tube pump.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Lower surface plate 2 ... Rotating shaft which rotates a lower surface plate 3 ... Upper surface plate 4 ... Rotation shaft of an upper surface plate 5 ... Polishing cloth 6 ... Glass substrate (color filter)
7 ... template frame 11 ... pump block 12 ... rotating roller 13 ... pushing roller 14 ... rotating shaft 15 ... tube 16 ... fixture A ... lower platen rotation B ... Rotation of the upper platen C ... Swing D ... Polishing pressure E ... Area F where the color filter rotates and oscillates F ... Position a where the polishing liquid is dropped a ... 2 Between the extruding rollers b ... the position of the extruding rollers
