JP2005230923A - Polishing method of color filter for liquid crystal display - Google Patents
Polishing method of color filter for liquid crystal display Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005230923A JP2005230923A JP2004039443A JP2004039443A JP2005230923A JP 2005230923 A JP2005230923 A JP 2005230923A JP 2004039443 A JP2004039443 A JP 2004039443A JP 2004039443 A JP2004039443 A JP 2004039443A JP 2005230923 A JP2005230923 A JP 2005230923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- color filter
- tube
- liquid
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ガラス基板上に形成された液晶表示装置用カラーフィルタの着色層の研磨方法に関する。 The present invention relates to a method for polishing a colored layer of a color filter for a liquid crystal display device formed on a glass substrate.
液晶表示装置用カラーフィルタは、一般に、ガラス基板上に設けられた開口部を有するブラックマトリックス上に着色層が形成されたものであるが、着色層の周縁部をブラックマトリックス端部に重ねた状態で形成されている。 A color filter for a liquid crystal display device generally has a colored layer formed on a black matrix having an opening provided on a glass substrate, but the peripheral portion of the colored layer is superimposed on the end of the black matrix. It is formed with.
このブラックマトリックスが、例えば、樹脂ブラックマトリックスのように膜厚が厚いと、着色層の周縁部がブラックマトリックス端部上で突起となる。
この突起は、カラーフィルタの表面を凹凸のあるものとし、平坦性を悪化させる。このような突起のある、表面の平坦性が悪化したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、突起の影響によって液晶分子の配向が乱され、表示ムラなど表示品質を低下させることになる。
When this black matrix is thick, for example, like a resin black matrix, the peripheral portion of the colored layer becomes a protrusion on the end of the black matrix.
This protrusion makes the surface of the color filter uneven, and deteriorates the flatness. When a color filter having such protrusions and having a deteriorated surface flatness is used in a liquid crystal display device, the alignment of liquid crystal molecules is disturbed by the influence of the protrusions, and display quality such as display unevenness is deteriorated.
多くの場合、カラーフィルタ表面への研磨によって、突起を除去し、同時に、例えば、着色層上、及びガラス基板の周縁部に残存しているフォトレジストの残渣も取り除き、後工程、例えば、透明導電膜の成膜における透明導電膜の密着性にとって、或いは、周縁部を対向基板とのシール部とする際におけるシール剤の密着性にとって好ましいものとしている。 In many cases, the protrusions are removed by polishing on the surface of the color filter, and at the same time, for example, the photoresist residue remaining on the colored layer and on the periphery of the glass substrate is also removed. This is preferable for the adhesiveness of the transparent conductive film in film formation or for the adhesiveness of the sealing agent when the peripheral portion is used as a seal portion with the counter substrate.
図１、及び図２は、３００ｍｍ×４００ｍｍ〜１１００ｍｍ×１３００ｍｍ程度のサイズのガラス基板を用いた液晶表示用カラーフィルタの着色層を研磨する際に、一般的に使用されているオスカー型研磨機の一例の概略を示した説明図である。図１は、オスカー型研磨機の回転部分の平面図、図２は断面図である。
図１、及び図２に示すように、この研磨機の回転部分は、円盤状の下定盤（１）、下定盤と一体的に固定され下定盤を回転させる回転軸（２）、摩擦によって下定盤の回転に追従した回転をする円盤状の上定盤（３）、上定盤の回転軸（４）で構成されたものである。
1 and 2 show an Oscar type polishing machine that is generally used when polishing a colored layer of a color filter for liquid crystal display using a glass substrate having a size of about 300 mm × 400 mm to 1100 mm × 1300 mm. It is explanatory drawing which showed the outline of an example. FIG. 1 is a plan view of a rotating portion of an Oscar-type polishing machine, and FIG.
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the rotating part of this polishing machine includes a disk-shaped lower surface plate (1), a rotating shaft (2) that is fixed integrally with the lower surface plate and rotates the lower surface plate, and is settled by friction. It is composed of a disk-shaped upper surface plate (3) that rotates following the rotation of the plate, and a rotation axis (4) of the upper surface plate.
上定盤（３）のサイズは、下定盤（１）より小さなものであり、上記摩擦によって下定盤の回転に追従した回転をしながら、下定盤（１）の上面上を円弧状に揺動（Ｃ）するようになっている。また、上定盤（３）の上部からは設定した研磨圧力（Ｄ）をかけられるようになっている。
下定盤（１）の上面上には、研磨クロス（５）が貼り合わされており、上定盤（３）の下面上には、研磨処理中のガラス基板（カラーフィルタ）（６）が外れてしまうのを防止する為に、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の板厚よりも薄いテンプレート枠（７）が設けられている。
The size of the upper surface plate (3) is smaller than that of the lower surface plate (1), and swings in an arc shape on the upper surface of the lower surface plate (1) while rotating following the rotation of the lower surface plate by the above friction (C) to do. A set polishing pressure (D) can be applied from the upper part of the upper surface plate (3).
On the upper surface of the lower surface plate (1), a polishing cloth (5) is bonded, and on the lower surface of the upper surface plate (3), the glass substrate (color filter) (6) being polished is removed. In order to prevent this, a template frame (7) thinner than the thickness of the glass substrate (color filter) (6) is provided.
研磨方法は、先ず、上定盤（３）の下面のテンプレート枠（７）内に、カラーフィルタの着色層が下向きになるようにガラス基板（カラーフィルタ）（６）を貼り付ける。この貼り付けは、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の裏面、及び上定盤（３）の下面を水で濡らし、水の表面張力を利用して上定盤（３）の下面に貼り付ける。 In the polishing method, first, a glass substrate (color filter) (6) is attached in the template frame (7) on the lower surface of the upper surface plate (3) so that the colored layer of the color filter faces downward. In this pasting, the back surface of the glass substrate (color filter) (6) and the lower surface of the upper surface plate (3) are wetted with water, and are adhered to the lower surface of the upper surface plate (3) using the surface tension of water. .
次に、研磨液（図示せず）を研磨クロス（５）の上方より滴下し、上定盤（３）を下ろし、設定した研磨圧力（Ｄ）をかけ、モーター（図示せず）により回転軸（２）を駆動さ
せ、下定盤（１）を一定方向に回転（Ａ）させる。上定盤（３）の回転軸（４）には駆動を与えず、上定盤（３）には下定盤（１）の回転に追従した回転（Ｂ）をさせる。また、上定盤（３）に円弧状の揺動（Ｃ）をさせる。
このようにして、ガラス基板（カラーフィルタ）（６）の表面への研磨を行うといった方法である。
Next, a polishing liquid (not shown) is dropped from above the polishing cloth (5), the upper surface plate (3) is lowered, a set polishing pressure (D) is applied, and a rotating shaft is driven by a motor (not shown). (2) is driven, and the lower surface plate (1) is rotated (A) in a fixed direction. Driving is not applied to the rotating shaft (4) of the upper surface plate (3), and the upper surface plate (3) is rotated (B) following the rotation of the lower surface plate (1). Further, the upper surface plate (3) is caused to swing in an arc shape (C).
In this way, the surface of the glass substrate (color filter) (6) is polished.
研磨クロス（５）としては、ＪＩＳ硬度８５程度の発泡樹脂素材、不織繊維素材などが用いられる。また、研磨液としては、一次粒子径０．０３〜１．０μｍのアルミナ、ジルコニア、セリウム、二酸化マンガン、シリコンカーバイト、シリカなどの研磨材を分散させたものが用いられる。研磨材の含有量は１〜１０ｗｔ％程度である。
研磨圧力は１６００Ｐａ程度、下定盤の回転数は３０ｒｐｍ程度、所要時間は４０秒間程度である。
As the polishing cloth (5), a foamed resin material or a non-woven fiber material having a JIS hardness of about 85 is used. As the polishing liquid, a dispersion in which an abrasive such as alumina, zirconia, cerium, manganese dioxide, silicon carbide, silica or the like having a primary particle size of 0.03 to 1.0 μm is dispersed is used. The content of the abrasive is about 1 to 10 wt%.
The polishing pressure is about 1600 Pa, the rotation speed of the lower surface plate is about 30 rpm, and the required time is about 40 seconds.
研磨液は、下定盤（１）の上面上に貼り合わされた研磨クロス（５）上に滴下されるが、研磨クロス（５）面内における研磨液の局在を緩和するために研磨液が滴下される位置は、図３に示すように、下定盤（１）の上面上をガラス基板（カラーフィルタ）（６）が回転し、揺動する領域（Ｅ）内の、例えば、（Ｆ）、（Ｇ）で示す２ヵ所である。
研磨液の滴下は、その吐出口を下方に向けて設けた、例えば、外径４．５ｍｍ、内径３．０ｍｍ程度のチューブから行われる。研磨液は吐出口から液滴の状態で滴下される。
The polishing liquid is dropped on the polishing cloth (5) bonded on the upper surface of the lower surface plate (1), but the polishing liquid is dropped to ease the localization of the polishing liquid in the surface of the polishing cloth (5). As shown in FIG. 3, for example, (F) in the region (E) where the glass substrate (color filter) (6) rotates and swings on the upper surface of the lower surface plate (1), as shown in FIG. These are the two locations indicated by (G).
The polishing liquid is dropped from, for example, a tube having an outer diameter of about 4.5 mm and an inner diameter of about 3.0 mm provided with its discharge port facing downward. The polishing liquid is dropped from the discharge port in the form of droplets.
滴下回数は、１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理する所要時間内に数回、例えば、４０回行われる。滴下１回当たりの研磨液の吐出量は、０．３５ｇ程度、すなわち、１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理するのに滴下する研磨液の総量は、０．３５ｇ×４０回＝１４ｇ程度である。
尚、研磨液を滴下するチューブの吐出口の開口面積は、０．７５ｍｍ2 〜８．０ｍｍ2 程度のものである。
The number of times of dropping is several times, for example, 40 times within the time required for polishing one glass substrate (color filter). The amount of polishing liquid discharged per drop is about 0.35 g, that is, the total amount of polishing liquid dropped to polish one glass substrate (color filter) is 0.35 g × 40 times = 14 g. Degree.
Incidentally, the opening area of the discharge port of the tube dropping a polishing liquid is of the order of 0.75mm 2 ~8.0mm 2.
しかしながら、上記のような研磨処理によってカラーフィルタ表面の突起を除去し、フォトレジストの残渣を取り除くと、カラーフィルタ表面の全面は必ずしも均一なものにならず、着色層の膜厚に差が生じる。
１枚のガラス基板（カラーフィルタ）内では、例えば、中央部と周縁部とで膜厚に差が生じたり、或いはガラス基板（カラーフィルタ）間では、同一の部位の膜厚に差が生じるなどである。
However, if the protrusions on the surface of the color filter are removed by the polishing process as described above and the residue of the photoresist is removed, the entire surface of the color filter is not necessarily uniform, and a difference occurs in the thickness of the colored layer.
Within a single glass substrate (color filter), for example, there is a difference in film thickness between the central part and the peripheral part, or there is a difference in film thickness at the same site between glass substrates (color filters). It is.
着色層の膜厚に差が生じることは、結果としてカラーフィルタの色度のバラツキとなるので好ましいことではない。
この相応の色度のバラツキは、これまでは許容されていたものであるが、液晶表示装置の高品質化に伴い、この色度のバラツキをより縮小させることが強く要望されてきた。
A difference in the thickness of the colored layer is not preferable because it results in variations in chromaticity of the color filter.
This variation in chromaticity has been allowed until now, but it has been strongly demanded to reduce the variation in chromaticity as the quality of liquid crystal display devices is improved.
本発明は、上記要望に対応してなされたものであり、液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際の、オスカー型研磨機を用いたカラーフィルタ表面の研磨処理において、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできる、すなわち、カラーフィルタの色度のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法を提供することを課題とするものである。 The present invention has been made in response to the above demand, and in the color filter surface polishing process using an Oscar type polishing machine when manufacturing a color filter for a liquid crystal display device, the entire surface of the color filter surface is more Provided is a method for polishing a color filter for a liquid crystal display device, which can uniformly polish and can greatly reduce the variation in the thickness of the colored layer, that is, can greatly reduce the variation in the chromaticity of the color filter. This is a problem.
本発明は、オスカー型研磨機を用い、研磨液を研磨クロスに供給しながらカラーフィルタ表面を研磨する液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法において、研磨液をチューブ
ポンプにて滴下して研磨クロスに供給する際に、チューブの吐出口の開口面積を０．７５ｍｍ2 以下、外径を２．０ｍｍ以下とし、研磨液の吐出量を５〜２０ｇ／分とし、研磨中は継続して供給することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法である。
The present invention relates to a method for polishing a color filter for a liquid crystal display device in which the surface of a color filter is polished while supplying a polishing liquid to the polishing cloth using an Oscar type polishing machine, and the polishing liquid is dropped by a tube pump onto the polishing cloth. When supplying, the opening area of the discharge port of the tube is set to 0.75 mm 2 or less, the outer diameter is set to 2.0 mm or less, the discharge amount of the polishing liquid is set to 5 to 20 g / min, and it is continuously supplied during polishing. A method for polishing a color filter for a liquid crystal display device.
本発明は、研磨液をチューブポンプにて滴下して研磨クロスに供給する際に、チューブの吐出口の開口面積を０．７５ｍｍ2 以下、外径を２．０ｍｍ以下とし、研磨液の吐出量を５〜２０ｇ／分とし、研磨中は継続して供給するオスカー型研磨機を用いた液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法であるので、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法となる。
すなわち、カラーフィルタの色度のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法となる。
In the present invention, when the polishing liquid is dropped with a tube pump and supplied to the polishing cloth, the opening area of the discharge port of the tube is 0.75 mm 2 or less, the outer diameter is 2.0 mm or less, and the discharge amount of the polishing liquid 5-20 g / min, and the polishing method for the color filter for a liquid crystal display device using an Oscar-type polishing machine that is continuously supplied during polishing. This is a method for polishing a color filter for a liquid crystal display device capable of reducing the variation in film thickness.
That is, this is a method for polishing a color filter for a liquid crystal display device that can greatly reduce the variation in chromaticity of the color filter.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
オスカー型研磨機において、着色層の膜厚にバラツキを発生させる要因としては、研磨圧力、下定盤の回転数、研磨クロスの硬度、パッキングの有無、研磨時間、研磨液の組成、滴下量、滴下方法などが挙げられる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
Factors that cause variation in the thickness of the colored layer in the Oscar type polishing machine are: polishing pressure, rotation speed of lower platen, hardness of polishing cloth, presence / absence of packing, polishing time, composition of polishing liquid, dropping amount, dropping The method etc. are mentioned.
本発明者は、上記要因を検討し、研磨液の滴下方法が大きな要因となっていること、すなわち、研磨クロス上への研磨液の滴下が研磨クロス面において局在していることに起因している点に着目した。
そして、実験を重ねた結果、研磨液の使用量を増やすことなく、研磨液の局在を解消し、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨することのできる研磨液の滴下条件を見出すことができた。
The present inventor examined the above factors, and the dripping method of the polishing liquid is a major factor, that is, the dripping of the polishing liquid on the polishing cloth is localized on the polishing cloth surface. I focused on the points.
As a result of repeated experiments, it is possible to find the dripping conditions of the polishing liquid that can eliminate the localization of the polishing liquid and increase the surface of the color filter more uniformly without increasing the amount of the polishing liquid used. did it.
３００ｍｍ×４００ｍｍ〜４００ｍｍ×５５０ｍｍ程度のサイズのガラス基板を研磨する大きさのオスカー型研磨機において、研磨クロスとして、ＪＩＳ硬度８５程度の発泡樹脂素材を用い、一次粒子径０．０３〜１．０μｍの研磨材を含有量１〜１０ｗｔ％程度に分散させた研磨液を用い、研磨圧力は１６００Ｐａ程度、下定盤の回転数は３０ｒｐｍ程度の際に、研磨液の滴下条件として、以下のものが好ましい。 In an Oscar type polishing machine of a size for polishing a glass substrate of a size of about 300 mm × 400 mm to 400 mm × 550 mm, a foamed resin material having a JIS hardness of about 85 is used as the polishing cloth, and the primary particle size is 0.03 to 1.0 μm. When the polishing liquid is dispersed in a content of about 1 to 10 wt%, the polishing pressure is about 1600 Pa, and the rotation speed of the lower surface plate is about 30 rpm, the following conditions are preferred as the dropping conditions of the polishing liquid. .
すなわち、研磨液をチューブポンプにて滴下して研磨クロスに供給する際に、チューブの吐出口の開口面積を０．７５ｍｍ2 以下、外径を２．０ｍｍ以下とし、研磨液の吐出量を５〜２０ｇ／分とし、研磨中は継続して供給すると研磨液の局在が解消されカラーフィルタの着色層の膜厚のバラツキを縮小させることのできることを見出した。
研磨時間は、１５〜１２０秒が好ましい。１枚のガラス基板（カラーフィルタ）を研磨処理するのに滴下する研磨液の総量は、例えば、所要時間を４０秒間とすると、３．３〜１３．３ｇ程度のものとなる。
That is, when the polishing liquid is dropped with a tube pump and supplied to the polishing cloth, the opening area of the discharge port of the tube is set to 0.75 mm 2 or less, the outer diameter is set to 2.0 mm or less, and the discharge amount of the polishing liquid is set to 5 It has been found that when it is set to ˜20 g / min and is continuously supplied during polishing, the localization of the polishing liquid is eliminated and the variation in the thickness of the colored layer of the color filter can be reduced.
The polishing time is preferably 15 to 120 seconds. The total amount of the polishing liquid dropped to polish one glass substrate (color filter) is, for example, about 3.3 to 13.3 g when the required time is 40 seconds.
本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法は、研磨液の局在を液滴の微小化によって解消することを狙ったものであるが、更に進めて、微小な液滴を形成させずに、微小な液滴に相当する微量の研磨液を連続して吐出させたものである。
チューブの吐出口の開口面積を０．７５ｍｍ2 以下、すなわち、チューブの吐出口の内径を０．９８ｍｍ以下としたものである。また、チューブの吐出口の外径は、液滴を形成させずに微量の研磨液を吐出させるためには２．０ｍｍ以下であることが好ましい。
The method for polishing a color filter for a liquid crystal display device according to the present invention aims to eliminate the localization of the polishing liquid by miniaturizing the liquid droplets. A small amount of polishing liquid corresponding to minute droplets is continuously discharged.
The opening area of the discharge port of the tube is 0.75 mm 2 or less, that is, the inner diameter of the discharge port of the tube is 0.98 mm or less. The outer diameter of the discharge port of the tube is preferably 2.0 mm or less in order to discharge a small amount of polishing liquid without forming droplets.
図４は、本発明において用いられるチューブポンプの一例の概略を説明する正面図である。また、図５は側面図である。
図４、及び図５に示すように、チューブポンプは、ポンプブロック（１１）、回転ローラ（１２）、押し出しローラ（１３）、回転軸（１４）、及びチューブ（１５）で構成されている。
ポンプブロック（１１）の下部は、その巾方向が一様な円弧状の凹部となっている。押し出しローラ（１３）は、前後２個の回転ローラ（１２）の間、回転ローラ（１２）の周縁部に複数個が取り付けられている。その軸心で回転するようになっているが駆動は与えられていない。
FIG. 4 is a front view for explaining an outline of an example of a tube pump used in the present invention. FIG. 5 is a side view.
As shown in FIGS. 4 and 5, the tube pump includes a pump block (11), a rotating roller (12), an extrusion roller (13), a rotating shaft (14), and a tube (15).
The lower part of the pump block (11) is an arcuate recess having a uniform width direction. A plurality of extrusion rollers (13) are attached to the peripheral portion of the rotating roller (12) between the two front and rear rotating rollers (12). It is designed to rotate around its axis, but no drive is given.
ポンプブロック（１１）と回転ローラ（１２）との間には隙間が設けられており、チューブ（１５）はポンプブロック（１１）と回転ローラ（１２）との間に挿入されている。チューブ（１５）は、ポンプブロック（１１）の円弧状の凹部と、回転ローラ（１２）との隙間において、２個の押し出しローラ（１３）の間（ａ）では、押し出しローラ（１３）によって押し潰されない状態になっており、また、押し出しローラ（１３）の位置（ｂ）では、押し出しローラ（１３）によって押し潰された状態になっている。 A gap is provided between the pump block (11) and the rotating roller (12), and the tube (15) is inserted between the pump block (11) and the rotating roller (12). The tube (15) is pushed by the extruding roller (13) between the two extruding rollers (13) in the gap between the arc-shaped recess of the pump block (11) and the rotating roller (12). It is not crushed, and at the position (b) of the extrusion roller (13), it is crushed by the extrusion roller (13).
チューブ（１５）は、回転ローラ（１２）の回転に伴いポンプブロック（１１）の円弧状の凹部から押し出されないように固定具（１６）によって固定されている。
また、チューブ（１５）の左方端（ｃ）は、研磨液の供給タンク（図示せず）に接続され、研磨液が加圧された状態で供給されている。チューブ（１５）の右方端（ｄ）は、研磨機に接続されており、その末端部がチューブの吐出口となっている。
The tube (15) is fixed by a fixture (16) so as not to be pushed out from the arc-shaped recess of the pump block (11) with the rotation of the rotating roller (12).
The left end (c) of the tube (15) is connected to a polishing liquid supply tank (not shown), and is supplied in a state where the polishing liquid is pressurized. The right end (d) of the tube (15) is connected to a polishing machine, and the end thereof serves as a discharge port of the tube.
回転ローラ（１２）は、モーター（図示せず）により回転軸（１４）が所定方向に回転されることにより、チューブ（１５）の左方端（ｃ）から供給された研磨液を上記２個の押し出しローラ（１３）の間（ａ）にあるチューブの部分に押し出し、引き続きチューブ（１５）の右方端（ｄ）へと押し出す。
押し出された研磨液は、チューブの吐出口から研磨クロス上に滴下される。
この際、単位時間あたりの吐出量は、チューブの内径と２個の押し出しローラ（１３）の間の距離と回転ローラ（１２）回転数によって定まる。
The rotating roller (12) rotates the rotating shaft (14) in a predetermined direction by a motor (not shown), whereby the two polishing liquids supplied from the left end (c) of the tube (15) are supplied. Extrude to the tube part (a) between the extruding rollers (13) and continue to the right end (d) of the tube (15).
The extruded polishing liquid is dropped onto the polishing cloth from the discharge port of the tube.
At this time, the discharge amount per unit time is determined by the inner diameter of the tube, the distance between the two extrusion rollers (13), and the rotational speed of the rotary roller (12).
図６〜図８は、本発明において用いられるチューブの吐出口の部分の例を示す断面図である。
図６は、図４に示すチューブポンプのチューブ（１５）の末端部であるチューブの吐出口にノズルピース（２０）が取り付けられた例である。例えば、内径（Ｄ２）は略３．０ｍｍ、外径（Ｄ３）は略４．５ｍｍ程度のチューブ（１５）の末端部に、開口面積（Ｓ１）０．７５ｍｍ2 、外径（Ｄ１）２．０ｍｍを有するノズルピース（２０）が取り付けられている。
6-8 is sectional drawing which shows the example of the part of the discharge outlet of the tube used in this invention.
FIG. 6 is an example in which the nozzle piece (20) is attached to the discharge port of the tube which is the end of the tube (15) of the tube pump shown in FIG. For example, an opening area (S1) of 0.75 mm 2 , an outer diameter (D1) of about 3.0 mm and an outer diameter (D3) of about 4.5 mm are provided at the end of the tube (15). A nozzle piece (20) having 0 mm is attached.
また、図７は同様に、内径（Ｄ２）は略３．０ｍｍ、外径（Ｄ３）は略４．５ｍｍ程度のチューブ（１５）の末端部に、開口面積（Ｓ１）０．７５ｍｍ2 、外径（Ｄ１）は２．０ｍｍを有するノズルピース（３０）が取り付けられている例である。
また、図８は、開口面積（Ｓ１）０．７５ｍｍ2 、外径（Ｄ１）２．０ｍｍを有するチューブ（２５）がチューブポンプのチューブとして用いられた例を示したものである。
Similarly, in FIG. 7, an opening area (S1) of 0.75 mm 2 is provided at the end of the tube (15) having an inner diameter (D2) of about 3.0 mm and an outer diameter (D3) of about 4.5 mm. The diameter (D1) is an example in which a nozzle piece (30) having 2.0 mm is attached.
FIG. 8 shows an example in which a tube (25) having an opening area (S1) of 0.75 mm 2 and an outer diameter (D1) of 2.0 mm is used as a tube of a tube pump.
本発明においては、上記のように、チューブの吐出口の開口面積を小さなものとし、単位時間あたりの吐出量を微量なものにしたことによって、研磨液の局在が解消され、カラーフィルタの着色層の膜厚のバラツキが大幅に減少したものとなる。
着色層の膜厚のバラツキを色度のバラツキで換言すると、従来の１枚のガラス基板（カラーフィルタ）内の中央部と周縁部とでの色度のバラツキを６０、ガラス基板（カラーフィルタ）間での色度のバラツキを４０、合計の色度のバラツキを１００とすると、本発明によると、合計の色度のバラツキは略６０であり、大幅に減少したものとなった。
In the present invention, as described above, the opening area of the discharge port of the tube is made small, and the discharge amount per unit time is made minute, so that the localization of the polishing liquid is eliminated and the color filter is colored. The variation in the thickness of the layers is greatly reduced.
In other words, the variation in the thickness of the colored layer is represented by the variation in chromaticity. In other words, the variation in chromaticity between the central portion and the peripheral portion in one conventional glass substrate (color filter) is 60, and the glass substrate (color filter). Assuming that the chromaticity variation is 40 and the total chromaticity variation is 100, according to the present invention, the total chromaticity variation is approximately 60, which is a significant decrease.
１・・・下定盤
２・・・下定盤を回転させる回転軸
３・・・上定盤
４・・・上定盤の回転軸
５・・・研磨クロス
６・・・ガラス基板（カラーフィルタ）
７・・・テンプレート枠
１１・・・ポンプブロック
１２・・・回転ローラ
１３・・・押し出しローラ
１４・・・回転軸
１５、２５・・・チューブ
１６・・・固定具
２０、３０・・・ノズルピース
Ａ・・・下定盤の回転
Ｂ・・・上定盤の回転
Ｃ・・・揺動
Ｄ・・・研磨圧力
Ｄ１・・・ノズルピースの外径
Ｄ２・・・チューブの内径
Ｄ３・・・チューブの外径
Ｅ・・・カラーフィルタが回転、揺動する領域
Ｆ、Ｇ・・・研磨液が滴下される位置
Ｓ１・・・ノズルピースの開口面積
ａ・・・２個の押し出しローラ間
ｂ・・・押し出しローラの位置
DESCRIPTION OF
7 ...
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004039443A JP2005230923A (en) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | Polishing method of color filter for liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004039443A JP2005230923A (en) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | Polishing method of color filter for liquid crystal display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005230923A true JP2005230923A (en) | 2005-09-02 |
Family
ID=35014394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004039443A Pending JP2005230923A (en) | 2004-02-17 | 2004-02-17 | Polishing method of color filter for liquid crystal display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005230923A (en) |
-
2004
- 2004-02-17 JP JP2004039443A patent/JP2005230923A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100209383B1 (en) | Polishing apparatus and method and holding stage of substrate | |
| US7104875B2 (en) | Chemical mechanical polishing apparatus with rotating belt | |
| JP6339081B2 (en) | Abrasive products with uneven structure | |
| CN102189486B (en) | Grinder, grinding method using the grinder, manufacturing method of display device using the grinding method, and display device manufactured by the manufacturing method | |
| US7118456B2 (en) | Polishing head, retaining ring for use therewith and method fo polishing a substrate | |
| JP4126594B2 (en) | LCD panel cutting wheel | |
| KR20110125615A (en) | Polishing pad and polishing device using polishing pad | |
| JP2005230923A (en) | Polishing method of color filter for liquid crystal display | |
| JPH1158218A (en) | Abrasive pad and polishing device | |
| JP2003145402A (en) | Grinder for glass products | |
| KR100476501B1 (en) | apparatus for grinding liquid crystal cell and the method for grinding liquid crystal cell | |
| JP2004276173A (en) | Polishing method of color filter for liquid crystal display | |
| JP2000218481A (en) | Method of removing streak-like concavities and convexities from glass pane surface, and glass pane reduced in streak-like concavities and covexities | |
| JP2002144219A (en) | Polishing pad and polishing method for workpiece using the pad | |
| JP2008200787A (en) | Surface polishing machine | |
| JP2004154919A (en) | Grinding cloth and single-side grinding method using the same | |
| JP2011079102A (en) | Sheet polishing machine | |
| JP4438346B2 (en) | Polishing method of color filter for liquid crystal display device | |
| JP2004276133A (en) | Method of feeding grinding liquid for use in single-surface grinding of glass substrate, and single-surface grinding device | |
| JP4706328B2 (en) | Manufacturing method of color filter for display element | |
| JP2004034216A (en) | Polishing machine and polishing method | |
| KR100396435B1 (en) | Glass holder of polishing machine for LCD glass | |
| JPH11216665A (en) | Grinding apparatus and grinding method | |
| JP2006150522A (en) | Grinder | |
| JPWO2013080885A1 (en) | Glass plate polishing equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080812 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080814 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081002 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090825 |