JP2004263269A - Method of producing fine surface molding - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of easily and inexpensively producing a fine surface molding high in surface quality by fabricating a molding die by using electroforming with a fine surface shape as a master. <P>SOLUTION: In the method of producing a fine surface molding where a fine surface shape is formed on the surface of a substrate or on the surface of a layer for shape molding applied to the surface of the substrate, electroforming is performed to the surface of the substrate or the surface of the layer for shape molding applied to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed to form an electroformed layer, and a die is prepared by using the electroformed layer, so that a product is produced by using the die, a stage wherein a liquid photoresist 15 is thinly and uniformly stuck to the surface of the surface of the substrate 10 or the surface of the layer 11 for shape molding applied to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed, and a stage wherein the photoresist 15 is heated and hardened are contained. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微細表面造形物の製造方法に係り、特に電鋳を用いて金型を製作し、微細表面造形物を製造する微細表面造形物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示バックライト用の導光板等に代表される微細表面を有する造形物が重要な部品となってきており、またその開発が盛んに行われている。
従来、液晶表示バックライト用の導光板等は、単結晶のダイヤモンドバイトを有する超精密加工機等を用いて金型の金属コアそのものに微細表面形状を加工したり、加工性の良いプラスチックに微細表面形状を加工し、その加工表面に電鋳を行い、その電鋳層を用いて射出成形用の金型を製作したりして射出成形により製品を得ることが一般である。
また、最近、導光板の微細表面形状が、機械加工では加工が困難な形状等も提案されてきている。これらの要求に答えるために機械加工以外の手法としてリソグラフィー技術を用いて微細表面形状を加工し、その加工表面に電鋳を行い、その電鋳層を用いて射出成形用の金型を製作して射出成形により製品を得る技術も発展しつつある。
図4は、このような微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作する一般工程の概略を示している。
図4の(a)は、基板10の表面上に形状造形用層11があることを示している。
(b)は、形状造形用層11がフォトレジストの場合で、パターンマスクまたはグレースケールマスク等を通して露光し、現像するリソグラフィー技術により微細表面形状が形成されている状態を示している。
(c)は、この微細表面形状が形成された形状造形用層11の表面に、導電膜を付着させて電鋳を行い、電鋳層12を形成している状態を示している。
(d)は、電鋳層12のみを取り出し、金型とするところを示している。
【0003】
しかしながら、単結晶ダイヤモンドバイトを有する高価な超精密加機等を用いないで機械加工を行う場合やリソグラフィー技術により微細表面形状を加工する場合においては、光学部品の表面として必要なレベルの面精度を得るのはなかなか困難であるという問題がある。
導光板を一例として説明したが、その他マイクロ光学部品等でも基本的には同様な問題がある。
そのため、機械加工の場合には、単結晶ダイヤモンドバイトを有する高価な超精密加機等を用いたり、また、リソグラフィー技術により微細表面形状を加工する場合には、主に熱処理プロセスを用いたりして表面粗さを改善している。
このリソグラフィー技術での熱処理プロセスによる表面粗さの改善方法としては、図5に示すように微細表面形状を加工された形状造形層11のフォトレジストの大部分を乱さないようにして、熱源20により形状造形層11のフォトレジストの表面を溶融して表面張力により粗さを低減し、冷却させて再固化することにより滑らかな表面を得ることが行われている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開2002−122998号公報(第5頁、第5図)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、光学部品等に必要な良好な表面品質を得るために、機械加工の場合には単結晶ダイヤモンドバイトを有する高価な超精密加機等を用いたりしなければならないという問題があり、また、リソグラフィー技術の場合にはフォトレジストの熱処理プロセスによる表面粗さ改善方法等を用いたりすることになるが、本熱処理プロセスは表面粗さ、温度、熱源との位置関係、保持時間等の関係がデリケートで経験や詳細な実験が必要であるという問題がある。
【0006】
本発明は上記問題点にかんがみてなされたもので、リソグラフィー技術や機械加工等を用いて微細表面形状を加工し、その加工された微細表面形状の表面品質を向上させる手法に係り、特にこの表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するための容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明は、基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に対して微細表面形状を形成し、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に電鋳を行って電鋳層を形成し、電鋳層を用いて金型を作製し、金型を用いて製品を製造する微細表面造形物の製造方法において、
微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させる工程と、フォトレジストを加熱して硬化させる工程とを有することを特徴とする。
【0008】
この発明によれば、基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に機械加工やリソグラフィー技術等を用いて微細表面形状を加工した後、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させてから加熱して硬化させているので、元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【0009】
また、基板が金属、ガラス、セラミックスまたはプラスチック材料であることを特徴とする。
【0010】
本発明の方法によれば、基板が金属、ガラス、セラミックスまたはプラスチック材料であるので、基板として必要な一定の剛性があり、また切削や研削等に代表される機械加工等により加工することができる。そして、その加工表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させてから加熱して硬化させるので、元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【0011】
また、基板の表面上に付加された形状造形用層がフォトレジストまたは光造形用の光硬化性樹脂であることを特徴とする。
【0012】
本発明の方法によれば、基板の表面上に付加された形状造形用層がフォトレジストまたは光造形用の光硬化性樹脂である。フォトレジストの場合には、パターンマスクまたはグレースケールマスクを通して露光、現像することにより基板の表面上に付加された形状造形用層に微細表面形状を形成することができる。
また、光造形用の光硬化性樹脂の場合には、所定の形状になるように光を制御して照射することにより、基板の表面上に付加された形状造形用層に微細表面形状を形成することができる。そして、その微細表面形状が形成された表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させてから加熱して硬化させるので、元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【0013】
また、微細表面形状が形成された基板または基板の表面上に付加された形状造形用層の外周部に流れ出し防止部材を取り付け、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に付着させる液体状のフォトレジストを前記微細表面形状の最大高さより高く塗布する工程と、フォトレジストから気泡を脱泡させる工程と、フォトレジストを薄く均一に付着させるように高速回転するスピンコーターを用いて余分の前記フォトレジストを取り除く工程とを有することを特徴とする。
【0014】
本発明の方法によれば、微細表面形状が形成された基板または基板の表面上に付加された形状造形用層の外周部に流れ出し防止部材を取り付け、液体状のフォトレジストをこの微細表面形状の最大高さより高く塗布し、微細表面形状の全表面を十分に濡らし、微細表面形状部に溜まり易い気泡等を十分に脱泡した後に流れ出し防止部材を取り外して高速回転するスピンコーターを用いて遠心力により余分のフォトレジストを取り除くので、フォトレジストを気泡がない状態で薄く均一に付着させるができる。このとき、微細表面形状のアスペクトレシオが低く、かつ滑らかな形状の場合に特に有効である。
【0015】
また、前記スピンコーターを用いて余分の前記フォトレジストを取り除く工程は、前記スピンコーターの基板取り付け部に前記基板の裏面を取り付け、前記基板が下側となるようにスピンコーターを配置し、スピンコーティングを行うことを特徴とする。
【0016】
本発明の方法によれば、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面から重力により液体状のフォトレジストが垂れ落ちる方向になるように、天地を逆にしたスピンコーターの基板取り付け部に基板の裏面を取り付けてあるので、微細表面形状の表面の奥側からも余分なフォトレジストが表面部に流れ出てくる。このため、この状態でスピンコーティングを行うと余分なフォトレジストを容易に取り除くことができる。
【0017】
また、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に塗布する液体状のフォトレジストは、流動性の大きな薄膜用のフォトレジストであることを特徴とする。
【0018】
本発明の方法によれば、微細表面形状が形成された基板の表面上または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させるために、フォトレジストは、流動性の大きな薄膜用のフォトレジストを用いるので、微細表面形状部にある気泡等を十分に脱泡し易く、スピンコーターを用いて遠心力により余分のフォトレジストを容易に取り除くことができ、フォトレジストを気泡がない状態で薄く均一に付着させることができる。このとき、微細表面形状のアスペクトレシオが低く、かつ滑らかな形状の場合に特に有効である。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明になる微細表面造形物の製造方法の好適な実施形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0020】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態にかかる微細表面造形物の製造方法を示す図である。
図1を参照しながら、本発明の第1の実施形態にかかる微細表面造形物の製造方法を説明する。
【0021】
図1(a)に示す基板10は、例えばガラスの平板である。また、形状造形用層11は、例えばフォトレジストであり、パターンマスクまたはグレースケールマスクを通して露光し、現像することにより微細表面形状が形成され、基板10に固着している。
この微細表面形状が形成された形状造形用層11の表面上に流動性の高い薄膜用の液体状のフォトレジスト15を塗布する。
【0022】
このとき、基板10および形状造形層11の外周部に流れ出し防止部材16を取り付け、液体状のフォトレジスト15が外に流れ出さないようにして微細表面形状の最大高さより高く塗布し、微細表面形状の全表面を十分に濡らす。
【0023】
図1(a)に示す脱泡装置30は、真空容器部33と真空ポンプ部31と吸引パイプ部32とから構成されており、真空ポンプ部31により吸引パイプ部32を介して真空容器部33内の空気を吸引して真空度を上げ、先に塗布した液体状のフォトレジスト15から形状造形用層11の表面上の微細表面形状部に溜まり易い気泡等を十分に真空脱泡する。
【0024】
次に、流れ出し防止部材16を取り外して図1(b)に示す高速回転することができるスピンコーター40の基板取り付け部41に、フォトレジスト15が塗布された状態の形状造形用層11が固着している基板10を取り付け、高速回転させることにより遠心力により余分の液体状のフォトレジスト15を取り除き、フォトレジスト15を気泡がない状態で薄く均一に付着させる。
【0025】
その後、図1(c)に示すホットプレート50上に、フォトレジスト15が薄く均一に付着した状態の形状造形用層11が固着している基板10を乗せ加熱することにより硬化させる。または、図示せぬオーブン等でフォトレジスト15が薄く均一に付着した状態の形状造形用層11が固着している基板10を加熱して硬化させてもよい。
【0026】
本実施形態によれば、微細表面形状が形成された表面に液体状のフォトレジスト15を薄く均一に付着させてから加熱して硬化させるので、図1(d)に示すように元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。
【0027】
従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【0028】
この実施の形態では、基板10がガラスの場合について説明したが、基板10が金属、セラミックス、プラスチック等であってもよい。
また同様に、形状造形用層11がフォトレジストの場合について説明したが、形状造形用層11が光造形用の光硬化樹脂であってもよい。この場合、所定の形状になるように光を制御して照射することにより、基板10の表面上に付加された形状造形用層11に微細表面形状を形成する。
【0029】
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態を図2を参照しながら説明する。
また、第1の実施形態と同一の部位、同一の部材には同一の符号を付し、詳しい説明は省略する。
この実施の形態では、図2に示すように基板10の表面に微細表面形状を直接形成する場合について示す。
基板10は、例えば金属である。基板10として必要な一定の剛性があり、また、基板10を直接に切削や研削等に代表される機械加工等により微細表面形状を加工することができる。
【0030】
本実施形態によれば、微細表面形状を形成した基板10の表面に第1の実施形態で示した方法を用いて液体状のフォトレジスト15を薄く均一に付着させてから加熱して硬化させるので、元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。
【0031】
従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【0032】
この実施の形態では、基板10が金属の場合について説明したが、ガラス,セラミックスまたはプラスチック材料であってもよい。これらの材料は、金属と同様に切削や研削等に代表される機械加工等により微細表面形状を基板10に直接に加工することができる。
【0033】
(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態を図3を参照しながら説明する。
また、第1の実施形態と同一の部位、同一の部材には同一の符号を付し、詳しい説明は省略する。
この実施の形態では、図3に示すようにスピンコーター40の天地を逆に設置する。
そして、第1の実施形態で説明した方法により微細表面形状が形成された基板10の表面または基板10の表面上に付加された形状造形用層11の表面に塗布された液体状のフォトレジスト15を脱泡した後、微細表面形状が形成された基板10の表面または基板10の表面上に付加された形状造形用層11の表面から重力により液体状のフォトレジスト15が垂れ落ちる方向になるように、天地を逆にしたスピンコーター40の基板取り付け部41に基板10の裏面を取り付ける。
【0034】
このため、微細表面形状が形成された基板10の表面または基板10の表面上に付加された形状造形用層11の表面の奥側からも余分なフォトレジスト15が表面部に流れ出てくる。
【0035】
本実施形態によれば、この状態でスピンコーティングを行うので余分なフォトレジスト15を容易に取り除くことができる。
この実施形態では、スピンコーター40を天地が逆になるように設置したが、スピンコーター40の天地を逆にせずに、取り付けジグ等で基板取り付け部41のみを天地が逆になるようにしてもよい。
【0036】
本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は上記の説明により何ら限定されるものではない。
【0037】
【発明の効果】
本発明によれば、基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に機械加工やリソグラフィー技術等を用いて微細表面形状を加工した後、微細表面形状が形成された基板の表面または基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させてから加熱して硬化させているので、元の形状を保存したまま表面粗さのみを向上させることができる。従って、この表面品質が向上した微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作し、表面品質の良い微細表面造形物を製造するので容易で安価な微細表面造形物の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の微細表面造形物の製造方法の第1の実施形態にかかわる図である。
【図2】本発明の微細表面造形物の製造方法の第2の実施形態にかかわる基板および基板の表面上の形状造形層を説明する図である。
【図3】本発明の微細表面造形物の製造方法の第3の実施形態にかかわる微細表面造形物の製造方法を説明する図である。
【図4】微細表面形状をマスターとして電鋳を用いて金型を製作する一般的な微細表面造形物の製造方法を説明する図である。
【図5】従来の微細表面形状を形成したフォトレジストの表面粗さ改善方法を説明する図である。
【符号の説明】
10 基板
11 形状造形用層
12 電鋳層
15 フォトレジスト
16 流れ出し防止部材
20 熱源
30 脱泡装置
31 真空ポンプ部
32 吸引パイプ部
33 真空容器部
40 スピンコーター
41 基板取り付け部
50 ホットプレート
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a fine surface model, and more particularly to a method of manufacturing a micro surface model by manufacturing a metal mold using electroforming to manufacture a fine surface model.
[0002]
[Prior art]
In recent years, a shaped article having a fine surface typified by a light guide plate or the like for a liquid crystal display backlight has become an important component, and its development has been actively pursued.
Conventionally, light guide plates for liquid crystal display backlights have been manufactured by processing the fine surface shape on the metal core of the mold itself using an ultra-precision processing machine with a single-crystal diamond tool, In general, a surface shape is processed, electroforming is performed on the processed surface, and a mold for injection molding is manufactured using the electroformed layer, and a product is generally obtained by injection molding.
Recently, a fine surface shape of the light guide plate has been proposed which is difficult to machine by machining. In order to respond to these demands, as a method other than machining, a fine surface shape is processed using lithography technology, electroforming is performed on the processed surface, and a mold for injection molding is manufactured using the electroformed layer. The technology for obtaining products by injection molding is also evolving.
FIG. 4 shows an outline of a general process of manufacturing a mold using electroforming using such a fine surface shape as a master.
FIG. 4A shows that the shape forming layer 11 is present on the surface of the substrate 10.
(B) shows a state in which the shape forming layer 11 is a photoresist and a fine surface shape is formed by a lithography technique of exposing and developing through a pattern mask or a gray scale mask or the like.
(C) shows a state in which a conductive film is adhered to the surface of the shaping layer 11 on which the fine surface shape is formed, and electroforming is performed to form an electroformed layer 12.
(D) shows that only the electroformed layer 12 is taken out and made into a mold.
[0003]
However, when machining without using an expensive ultra-precision processing machine with a single-crystal diamond tool, or when machining a fine surface shape by lithography technology, the level of surface accuracy required for the surface of the optical component is reduced. There is a problem that it is very difficult to obtain.
Although the light guide plate has been described as an example, other micro optical components and the like basically have similar problems.
Therefore, in the case of machining, an expensive ultra-precision machine having a single crystal diamond bite is used, or when processing a fine surface shape by lithography technology, a heat treatment process is mainly used. Improves surface roughness.
As a method of improving the surface roughness by a heat treatment process in the lithography technique, as shown in FIG. It has been practiced to melt the surface of the photoresist of the shape forming layer 11 to reduce the roughness by surface tension, and to cool and re-solidify to obtain a smooth surface (for example, see Patent Document 1). .
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-122998 (page 5, FIG. 5)
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in order to obtain good surface quality required for optical components and the like, in the case of machining, there is a problem that it is necessary to use an expensive ultra-precision processing machine or the like having a single crystal diamond tool, In the case of lithography technology, methods such as improving the surface roughness by a photoresist heat treatment process are used, but this heat treatment process is sensitive to the relationship of surface roughness, temperature, positional relationship with heat source, retention time, etc. There is a problem that requires experience and detailed experiments.
[0006]
The present invention has been made in view of the above problems, and relates to a method of processing a fine surface shape using lithography technology or machining, and improving the surface quality of the processed fine surface shape. Providing an easy and inexpensive method for manufacturing a fine surface model by manufacturing a mold using electroforming with the fine surface shape of improved quality as a master and manufacturing a fine surface model with good surface quality. Aim.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention forms a fine surface shape on a surface of a substrate or a surface of a shape forming layer added on the surface of the substrate, and forms a fine surface shape on the substrate. Forming an electroformed layer by performing electroforming on the surface of the shape forming layer added on the surface or the surface of the substrate, manufacturing a mold using the electroformed layer, and manufacturing a product using the mold In the method for producing a fine surface molded article,
A step of thinly and evenly applying a liquid photoresist to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate, and a step of heating and curing the photoresist. It is characterized by having.
[0008]
According to the present invention, a substrate on which a fine surface shape is formed by processing a fine surface shape using a machining process, a lithography technique, or the like on a surface of a substrate or a surface of a shape forming layer added on the surface of the substrate The liquid photoresist is thinly and evenly applied to the surface of the surface or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate, and then heated and cured, so that the surface roughness can be maintained while maintaining the original shape. Only can be improved. Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[0009]
Further, the substrate is made of a metal, glass, ceramic or plastic material.
[0010]
According to the method of the present invention, since the substrate is a metal, glass, ceramic or plastic material, it has a certain rigidity required for the substrate, and can be processed by machining such as cutting or grinding. . Then, since the liquid photoresist is thinly and uniformly attached to the processed surface and then cured by heating, only the surface roughness can be improved while maintaining the original shape. Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[0011]
Further, the shape modeling layer added on the surface of the substrate is a photoresist or a photocurable resin for stereolithography.
[0012]
According to the method of the present invention, the shape shaping layer applied on the surface of the substrate is a photoresist or a photocurable resin for stereolithography. In the case of a photoresist, a fine surface shape can be formed on the shape modeling layer added on the surface of the substrate by exposing and developing through a pattern mask or a gray scale mask.
In the case of a photocurable resin for stereolithography, by controlling and irradiating light so as to have a predetermined shape, a fine surface shape is formed on the shape modeling layer added on the surface of the substrate. can do. Then, since a liquid photoresist is thinly and uniformly attached to the surface on which the fine surface shape is formed, and then cured by heating, only the surface roughness can be improved while maintaining the original shape. Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[0013]
In addition, a flow-out preventing member is attached to the outer peripheral portion of the substrate on which the fine surface shape is formed or the shape forming layer added on the surface of the substrate, and is attached to the surface of the substrate having the fine surface shape or the surface of the substrate. Applying a liquid photoresist to be applied to the surface of the shaped layer for forming a shape higher than the maximum height of the fine surface shape, removing air bubbles from the photoresist, and attaching the photoresist thinly and uniformly. And removing the excess photoresist using a spin coater that rotates at a high speed.
[0014]
According to the method of the present invention, a flow-out preventing member is attached to an outer peripheral portion of a substrate on which a fine surface shape is formed or a layer for forming a shape added to the surface of the substrate, and a liquid photoresist is coated with the fine surface shape. Apply higher than the maximum height, fully wet the entire surface of the fine surface shape, sufficiently remove bubbles that easily accumulate in the fine surface shape portion, remove the flow prevention member, and use the spin coater that rotates at high speed to centrifugal force As a result, the excess photoresist is removed, so that the photoresist can be thinly and uniformly attached without bubbles. At this time, it is particularly effective when the aspect ratio of the fine surface shape is low and the shape is smooth.
[0015]
Also, the step of removing the excess photoresist using the spin coater includes attaching the back surface of the substrate to a substrate mounting portion of the spin coater, disposing the spin coater so that the substrate is on the lower side, and performing spin coating. Is performed.
[0016]
According to the method of the present invention, such that the liquid photoresist is dripped by gravity from the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape modeling layer added on the surface of the substrate, Since the back surface of the substrate is attached to the substrate attachment portion of the spin coater upside down, excess photoresist flows out from the back side of the surface with the fine surface shape to the surface portion. Therefore, if spin coating is performed in this state, excess photoresist can be easily removed.
[0017]
In addition, the liquid photoresist applied to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate is a photoresist for a thin film having high fluidity. Features.
[0018]
According to the method of the present invention, in order to thinly and uniformly adhere a liquid photoresist on the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or on the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate, The resist used is a photoresist for thin films with high fluidity, so it is easy to sufficiently remove bubbles and the like in fine surface features, and it is possible to easily remove excess photoresist by centrifugal force using a spin coater. Thus, the photoresist can be thinly and uniformly attached without bubbles. At this time, it is particularly effective when the aspect ratio of the fine surface shape is low and the shape is smooth.
[0019]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the method for producing a fine surface model according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0020]
(1st Embodiment)
FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a fine surface model according to the first embodiment of the present invention.
With reference to FIG. 1, a method for manufacturing a fine surface model according to the first embodiment of the present invention will be described.
[0021]
The substrate 10 shown in FIG. 1A is, for example, a flat glass plate. The shape forming layer 11 is, for example, a photoresist, and is exposed to light through a pattern mask or a gray scale mask and developed to form a fine surface shape, and is fixed to the substrate 10.
A liquid photoresist 15 for a thin film having high fluidity is applied on the surface of the shape forming layer 11 on which the fine surface shape is formed.
[0022]
At this time, a flow-out prevention member 16 is attached to the outer periphery of the substrate 10 and the shape modeling layer 11, and the liquid photoresist 15 is applied so as not to flow out to be higher than the maximum height of the fine surface shape. Thoroughly wet the entire surface.
[0023]
The defoaming device 30 shown in FIG. 1A includes a vacuum container section 33, a vacuum pump section 31, and a suction pipe section 32. The vacuum pump section 31 uses the vacuum container section 33 via the suction pipe section 32. The air inside is suctioned to increase the degree of vacuum, and bubbles and the like that easily accumulate in the fine surface shape portion on the surface of the shaping layer 11 are sufficiently degassed from the liquid photoresist 15 previously applied.
[0024]
Next, the flow preventing member 16 is removed, and the shape forming layer 11 with the photoresist 15 applied thereto is fixed to the substrate mounting portion 41 of the spin coater 40 which can rotate at high speed as shown in FIG. The excess liquid photoresist 15 is removed by centrifugal force by mounting the substrate 10 and rotating at high speed, and the photoresist 15 is thinly and uniformly attached without bubbles.
[0025]
After that, the substrate 10 on which the shape forming layer 11 with the photoresist 15 thinly and uniformly adhered is placed on a hot plate 50 shown in FIG. 1C and is cured by heating. Alternatively, the substrate 10 on which the shape forming layer 11 in the state where the photoresist 15 is thinly and uniformly adhered may be heated and cured in an oven (not shown) or the like.
[0026]
According to the present embodiment, the liquid photoresist 15 is thinly and uniformly adhered to the surface on which the fine surface shape is formed, and then cured by heating. Therefore, as shown in FIG. Only the surface roughness can be improved while preserving.
[0027]
Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[0028]
In this embodiment, the case where the substrate 10 is made of glass has been described, but the substrate 10 may be made of metal, ceramic, plastic or the like.
Similarly, the case where the shape modeling layer 11 is a photoresist has been described, but the shape modeling layer 11 may be a photocurable resin for optical modeling. In this case, a fine surface shape is formed on the shape forming layer 11 added on the surface of the substrate 10 by controlling and irradiating light so as to have a predetermined shape.
[0029]
(Second embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Further, the same portions and the same members as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In this embodiment, a case where a fine surface shape is directly formed on the surface of the substrate 10 as shown in FIG. 2 will be described.
The substrate 10 is, for example, a metal. The substrate 10 has a certain rigidity required, and the substrate 10 can be directly processed into a fine surface shape by machining such as cutting or grinding.
[0030]
According to the present embodiment, the liquid photoresist 15 is thinly and uniformly adhered to the surface of the substrate 10 on which the fine surface shape is formed by using the method described in the first embodiment, and then is cured by heating. In addition, it is possible to improve only the surface roughness while keeping the original shape.
[0031]
Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[0032]
In this embodiment, the case where the substrate 10 is made of metal has been described, but it may be made of glass, ceramics or plastic material. These materials can be directly processed into a fine surface shape on the substrate 10 by machining such as cutting or grinding, as in the case of metal.
[0033]
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Further, the same portions and the same members as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
In this embodiment, the top and bottom of the spin coater 40 are installed upside down as shown in FIG.
The liquid photoresist 15 applied to the surface of the substrate 10 on which the fine surface shape is formed by the method described in the first embodiment or the surface of the shape forming layer 11 added on the surface of the substrate 10 After defoaming, the photoresist 15 in a liquid state is caused to fall down by gravity from the surface of the substrate 10 on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape forming layer 11 added on the surface of the substrate 10. Next, the back surface of the substrate 10 is mounted on the substrate mounting portion 41 of the spin coater 40 with the top and bottom reversed.
[0034]
For this reason, the excess photoresist 15 flows out to the surface portion from the surface of the substrate 10 on which the fine surface shape is formed or the back side of the surface of the shape forming layer 11 added on the surface of the substrate 10.
[0035]
According to the present embodiment, since the spin coating is performed in this state, the excess photoresist 15 can be easily removed.
In this embodiment, the spin coater 40 is installed upside down. However, the upside down of the spin coater 40 is not reversed. Good.
[0036]
Although the preferred embodiment of the present invention has been described, the present invention is not limited by the above description.
[0037]
【The invention's effect】
According to the present invention, a substrate on which a fine surface shape is formed after processing a fine surface shape using a machining process, a lithography technique, or the like on a surface of a substrate or a surface of a shape modeling layer added on the surface of the substrate The liquid photoresist is thinly and evenly applied to the surface of the surface or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate, and then heated and cured, so that the surface roughness can be maintained while maintaining the original shape. Only can be improved. Accordingly, a mold is manufactured using electroforming with the fine surface shape having the improved surface quality as a master, and a fine surface molded product having a good surface quality is produced. Therefore, an easy and inexpensive method for producing a fine surface molded product is provided. can do.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram related to a first embodiment of a method for manufacturing a fine surface model of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a substrate and a shape modeling layer on a surface of the substrate according to a second embodiment of the method for manufacturing a fine surface model of the present invention.
FIG. 3 is a diagram illustrating a method for manufacturing a fine surface model according to a third embodiment of the method for manufacturing a fine surface model according to the present invention.
FIG. 4 is a view for explaining a general method of manufacturing a fine surface molded article in which a metal mold is manufactured using electroforming with a fine surface shape as a master.
FIG. 5 is a diagram illustrating a conventional method for improving the surface roughness of a photoresist having a fine surface shape.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 11 Shape forming layer 12 Electroforming layer 15 Photoresist 16 Outflow prevention member 20 Heat source 30 Defoaming device 31 Vacuum pump unit 32 Suction pipe unit 33 Vacuum container unit 40 Spin coater 41 Substrate mounting unit 50 Hot plate

Claims (6)

基板の表面または前記基板の表面上に付加された形状造形用層の表面に対して微細表面形状を形成し、前記微細表面形状が形成された前記基板の表面または前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層の表面に電鋳を行って電鋳層を形成し、前記電鋳層を用いて金型を作製し、前記金型を用いて製品を製造する微細表面造形物の製造方法において、
前記微細表面形状が形成された前記基板の表面または前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層の表面に液体状のフォトレジストを薄く均一に付着させる工程と、前記フォトレジストを加熱して硬化させる工程とを有することを特徴とする微細表面造形物の製造方法。
A fine surface shape is formed on the surface of the substrate or the surface of the shape modeling layer added on the surface of the substrate, and the fine surface shape is added on the surface of the substrate or the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed. Electroforming is performed on the surface of the shape modeling layer to form an electroformed layer, a mold is manufactured using the electroformed layer, and a product is manufactured using the mold. In the method,
A step of thinly and uniformly attaching a liquid photoresist to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate, and heating the photoresist. And hardening by heating.
前記基板が金属、ガラス、セラミックスまたはプラスチック材料であることを特徴とする請求項1に記載の微細表面造形物の製造方法。The method according to claim 1, wherein the substrate is a metal, glass, ceramic, or plastic material. 前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層がフォトレジストまたは光造形用の光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の微細表面造形物の製造方法。The method according to claim 1, wherein the shape forming layer added on the surface of the substrate is a photoresist or a photocurable resin for light forming. 前記微細表面形状が形成された前記基板または前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層の外周部に流れ出し防止部材を取り付け、前記微細表面形状が形成された前記基板の表面または前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層の表面に付着させる液体状の前記フォトレジストを前記微細表面形状の最大高さより高く塗布する工程と、前記フォトレジストから気泡を脱泡させる工程と、前記フォトレジストを薄く均一に付着させるように高速回転するスピンコーターを用いて余分の前記フォトレジストを取り除く工程とを有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の微細表面造形物の製造方法。A flow-out preventing member is attached to an outer peripheral portion of the substrate on which the fine surface shape is formed or the shape modeling layer added on the surface of the substrate, and the surface of the substrate or the substrate on which the fine surface shape is formed A step of applying the liquid photoresist to be attached to the surface of the shape modeling layer added on the surface higher than the maximum height of the fine surface shape, and a step of defoaming bubbles from the photoresist, Removing the excess photoresist using a spin coater that rotates at a high speed so that the photoresist is applied thinly and uniformly. 4. The fine surface according to claim 1, wherein A method for manufacturing a molded article. 前記スピンコーターを用いて余分の前記フォトレジストを取り除く工程は、前記スピンコーターの基板取り付け部に前記基板の裏面を取り付け、前記基板が下側となるようにスピンコーターを配置し、スピンコーティングを行うことを特徴とする請求項4に記載の微細表面造形物の製造方法。The step of removing the excess photoresist using the spin coater includes attaching a back surface of the substrate to a substrate mounting portion of the spin coater, disposing a spin coater such that the substrate is on the lower side, and performing spin coating. The method for producing a fine surface modeled product according to claim 4, wherein: 前記微細表面形状が形成された前記基板の表面または前記基板の表面上に付加された前記形状造形用層の表面に塗布する液体状の前記フォトレジストは、流動性の大きな薄膜用のフォトレジストであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の微細表面造形物の製造方法。The liquid photoresist applied to the surface of the substrate on which the fine surface shape is formed or the surface of the shape forming layer added on the surface of the substrate is a photoresist for a thin film having a large fluidity. The method for producing a fine surface molded article according to any one of claims 1 to 5, wherein the method comprises:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN106676585A (en) * 2016-12-29 2017-05-17 余姚科光塑料制品有限公司 Method for manufacturing light guide strip mold for car lamp

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101617159B1 (en) 2014-03-27 2016-05-02 주식회사 우리로 method of manufacturing multi channel optical attenuator
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