JP2004258107A - 光導波路素子 - Google Patents

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雅俊 石井
Yasuo Yamagishi
康男 山岸
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Abstract

【課題】光導波路素子に関し、光導波路の複屈折率を小さくして波形の伝送なまりを低減するとともに、電気光学効果を大きくする。
【解決手段】基板上に互いに組成の異なるPb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 を順次積層して構成したクラッド層/コア層/クラッド層からなる光導波路の少なくともコア層のZr/(Zr+Ti)比yを、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yとする。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は光導波路素子に関するものであり、特に、高速・大容量の信号を伝送する光通信システムに使用する光導波路構造を利用した光偏向素子等の光導波路素子における波形の伝送なまりを低減するための構成に特徴のある光導波路素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年の通信需要の飛躍的な増大に伴い、波長の異なる複数の信号光を多重化することで一本の光ファイバで伝送する波長多重化(WDM:Wavelength Division Mutiplex)技術と相まって高速且つ大容量化が進んでいるが、基幹通信ネットワークにおける光ファイバ網のハードウエアのインフラを構築するために、伝播光を高速に切換える光スイッチの開発が求められている。
【0003】
この様な光スイッチとしては、コリメートされた伝播光を電気光学効果または電気音響効果により偏向させることにより光路を切換える構造の光スイッチが用いられるが、この光スイッチはスラブ型の光導波路とハイブリッド的に組み合わされて光スイッチモジュールを構成する。
【0004】
ここで、図5を参照して、従来の光スイッチモジュールの一例を説明する。
図5参照
図5は、従来の光スイッチモジュールの概略的平面図であり、光入力側と光出力側とは対称的に構成されている。
まず、光偏向素子21,25としては、光導波路上にプリズム状電極22,23,26,27を多段に構成したものであり、図においては2段構成としており、且つ、夫々のプリズム状電極22,23,26,27を点対称的に組み合わせることによって偏向角の偏向方向を任意にしている。
【0005】
この光入力側の光偏向素子21と光出力側の光偏向素子25とをスラブ導波路構造の共通導波路24を介して対向させるとともに、光入力側の光偏向素子21の入力側には入力側光ファイバ30、個別導波路29、及び、二次元レンズ28が設けられ、一方、光出力側の光偏向素子25の出力側には出力側光ファイバ33、個別導波路32、及び、二次元レンズ31が配置された構成となる。
【0006】
従来、このような光偏向素子等を形成するための光導波路を、PLZT/PZT/PLZT構造(例えば、特許文献1参照)や、Pb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 /Pb1−v La(ZrTi1−w 1−v/4 /Pb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 構造(例えば、特許文献2或いは特許文献3参照)で構成することが提案されている。
【0007】
【特許文献1】
特開2000−056344号公報
【特許文献2】
特開2000−329959号公報
【特許文献3】
特開昭63−116130号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の提案においては、組成比が限定されていなかったり、或いは、限定された組成比においては複屈折率が大きいという問題があり、高速光通信においては波形の伝送なまりが問題となる。
【0009】
即ち、光導波路のX軸方向の屈折率とY軸方向の屈折率の差で表される複屈折率が大きいと、TEモードとTMモードの伝送速度が異なるため、偏波保持特性は優れているものの、伝送中に波形がなまり、高速光通信においてノイズが発生するという問題がある。
【0010】
したがって、本発明は、光導波路の複屈折率を小さくして波形の伝送なまりを低減するとともに、電気光学定数を大きくして電気光学効果を大きくすることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
図1は、本発明の原理的構成図であり、この図1を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図1参照
上記の課題を解決するために、本発明は、光導波路素子において、基板1上に互いに組成の異なるPb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 を順次積層して構成したクラッド層/コア層/クラッド層からなる光導波路の少なくともコア層のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yであることを特徴とする。
【0012】
このように、Pb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 、即ち、PLZTでクラッド層とコア層を構成するために屈折率を組成比で制御する際に、La添加量とZr/(Zr+Ti)比を複屈折率の小さな正方晶系(tetoragonal system)と三方晶系(rhombohedral system)の境界領域であるモルフォトロピック相境界(Morphotropic Phase Boundary:MPB)組成上で変化させることにより波形の伝送なまりを低減することができる。
【0013】
即ち、MPB組成では、擬立方晶(pseudo cubic)、即ち、正方晶と三方晶とが混在した状態となるので複屈折率が小さくなり、TEモードとTMモードの伝播速度の差が小さくなるので、波形の伝送なまりが小さくなる。
また、MPB組成では、比誘電率が高くなるので、電気光学定数が大きくなり、光偏向素子を形成した場合に、偏向角を大きくすることができる。
【0014】
なお、この時のZr/(Zr+Ti)比yとしては、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1y、より好適には、0.95y≦y≦1.05yにすることが望ましい。
【0015】
特に、コア層のZr/(Zr+Ti)比yとしては、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦y、即ち、正方晶側に10%ずらした範囲内に設定することが望ましく、結晶作製上、安定した結晶を得ることが可能になる。
【0016】
また、光導波路のクラッド層のZr/(Zr+Ti)比yも、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yとすることが望ましい。
【0017】
また、コア層の複屈折率としては0.01以下が望ましく、且つ、比誘電率としては500以上が望ましく、それによって、波形の伝送なまりの低減と大きな電気光学効果の両方を実現することができる。
【0018】
また、光導波路の一部に少なくとも光偏向素子が設けることによって、大きな偏向角を実現することができ、それによって、光偏向素子の小型化が可能になり、ひいては、光スイッチモジュール等の小型化も可能になる。
【0019】
【発明の実施の形態】
ここで、図2乃至図4を参照して、本発明の実施の形態の光導波路素子を説明する。
図2(a)参照
まず、(100)面を主面とするNb1%ドープSrTiO基板11上に、PLZT(9/65/35)ゾル−ゲル前駆体を塗布した後、ホットプレート上で、例えば、180℃で5分間、次いで、400℃で5分間のベークを行ったのち、酸素雰囲気中において700℃で焼成することにより厚さが、例えば、3μmのPb0.91La0.09(Zr0.65Ti0.350.9775組成のPLZTクラッド層12を形成する。
【0020】
この場合、PLZT用のゾル−ゲル原料溶液としては、構成金属元素の有機化合物であるPb(CHCOO)・3HO〔酢酸鉛〕、La(i−OC〔ランタンイソプロポキシド〕、Ti(i−OC〔チタニウムイソプロポキシド〕、Zr(OC〔ジルコニウムプロポキシド〕、及び、安定剤としてのCHCOCHCOCH(2,4−ペンタンジオン)を溶剤であるCHOCOH〔2−メトキシエタノール〕で還流により合成した。
【0021】
因に、PLZT(9/65/35)組成のPLZTを作製する場合には、Pb(CHCOO)・3HO/La(i−OCのモル比を101/9とし、Zr(OC/Ti(i−OCのモル比を65/35とすれば良い。
【0022】
図2(b)参照
次いで、同様の手法で、PLZT(3/55/45)ゾル−ゲル前駆体を塗布して、厚さが、例えば、4μmのPb0.97La0.03(Zr0.55Ti0.450.9925組成のPLZTコア層13を形成する。
【0023】
図2(c)参照
次いで、同様の手法で、再び、PLZT(9/65/35)ゾル−ゲル前駆体を塗布して、厚さが、例えば、3μmのPb0.91La0.09(Zr0.65Ti0.350.9775組成のPLZTクラッド層14を形成する。
【0024】
この場合、Pb0.91La0.09(Zr0.65Ti0.350.9775組成のPLZTクラッド層12,14の屈折率nは、1.55μmの波長に対してn=2.36となり、Pb0.97La0.03(Zr0.55Ti0.450.9925組成のPLZTコア層13の屈折率nは、1.55μmの波長に対してn=2.43となるのでスラブ型光導波路15が構成される。
【0025】
図3(a)及び(b)参照
次いで、上部のPLZTクラッド層14上に、ITO膜を三角形状のマスク蒸着することによって偏向電極16を形成することによって偏向電極16を備えた光導波路素子が得られる。
なお、図3(a)は概略的平面図であり、また、図3(b)は図3(a)におけるA−A′を結ぶ一点鎖線に沿った概略的断面図である。
【0026】
図4参照
図4は、室温におけるPLZT系の相図である(必要ならば、Journalof the American ceramic society,Vol.54,No.1,p.1,1971参照)。
なお、図における数字は比誘電率を表す。
【0027】
図から明らかなように、上記のPLZTクラッド層12,14とPLZTコア層13の組成比は、正方晶系(tetoragonal system)と三方晶系(rhombohedral system)の境界領域であるMPB組成であるので比誘電率が非常に大きく、したがって、電気光学定数を大きくすることができる。
因に、PLZT(9/65/35)の電気光学定数は100pm/Vであり、PLZT(3/55/45)の電気光学定数は52pm/Vである。
【0028】
また、MPB組成では、正方晶と三方晶とが混在した擬立方晶(pseudocubic)となるので複屈折率が小さくなり、TEモードとTMモードの伝播速度の差が小さくなるので、波形の伝送なまりが小さくなる。
因に、PLZT(9/65/35)の複屈折率は0.0083であり、PLZT(3/55/45)の複屈折率は0.003である。
【0029】
したがって、本発明の実施の形態においては、波形の伝送なまりが小さく、且つ、電気光学効果の大きな光導波路素子を実現することができ、それによって、高速の光偏光素子或いは高速の光スイッチモジュールを小型化することができる。
【0030】
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるものではなく、各種の変更が可能である。
例えば、上記実施の形態の説明においては、光導波路素子を構成するPLZTクラッド層及びPLZTコア層としてMPB組成のPLZTを用いているが、少なくともコア層がMPB組成のPLZTであれば良い。
【0031】
また、PLZTクラッド層及びPLZTコア層は厳密にMPB組成である必要はなく、MPB組成のZr/(Zr+Ti)比をyとした場合に、同じLa比xにおけるコア層及びクラッド層のZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1y、より好適には、0.95y≦y≦1.05yの範囲にすることが望ましい。
【0032】
さらに、MPB組成から三方晶側に組成がずれた結晶はピーキーな特性、即ち、微小な組成ずれが結晶の特性に大きな変化をもたらす性質を有し結晶作製上安定な結晶を得ることは困難であるので、MPB組成から正方晶側に組成がずれた結晶の方が望ましい。
【0033】
また、上記の実施の形態においては、光偏向素子のみを例示しているが、図5に示した従来の光スイッチモジュールと同様に、スラブ型の共通導波路、二次元レンズ、個別導波路、光ファイバ等と組み合わせて、波形の伝送なまりが小さく、偏向角の大きな光スイッチモジュールを実現することができ、それによって、光スイッチモジュールの全体構成を小型化することができる。
【0034】
また、上記の実施の形態においては、クラッド層及びコア層を形成する際に、ゾル−ゲル法を用いているが、ゾル−ゲル法に限られるものではなく、レーザ蒸着法を用いても良いものであり、或いは、MOCVD法(有機金属気相成長法)を用いても良いものである。
【0035】
ここで、再び図1を参照して、本発明の詳細な特徴を説明する。
再び、図1参照
(付記1) 基板1上に互いに組成の異なるPb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 を順次積層して構成したクラッド層1/コア層2/クラッド層3からなる光導波路の少なくともコア層2のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yであることを特徴とする光導波路素子。
(付記2) 上記コア層2のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦yであることを特徴とする付記1記載の光導波路素子。
(付記3) 上記コア層2が、三方晶と正方晶の両方の結晶相を含むことを特徴とする付記1または2に記載の光導波路素子。
(付記4) 上記光導波路のクラッド層1,3のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yであることを特徴とする付記1乃至3のいずれか1に記載の光導波路素子。
(付記5) 基板1上に互いに組成の異なるPb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 を順次積層して構成したクラッド層1/コア層2/クラッド層3からなる光導波路の少なくともコア層2の複屈折率が0.01以下で、且つ、比誘電率が500以上であることを特徴とする光導波路素子。
(付記6) 上記光導波路の一部に少なくとも光偏向素子が設けられていることを特徴とする付記1乃至5のいずれか1に記載の光導波路素子。
【0036】
【発明の効果】
本発明によれば、光導波路を正方晶と三方晶のMPB組成の近傍の組成のPLZTで構成しているので、電気光学効果が大きく、且つ、複屈折率が小さい光導波路を構成することができ、それによって、光導波路素子の波形の伝送なまりを小さくするとともに小型化が可能になり、ひいては、さらなる高速光通信の実現に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理的構成の説明図である。
【図2】本発明の実施の形態の光導波路素子の途中までの製造工程の説明図である。
【図3】本発明の実施の形態の光導波路素子の図2以降の製造工程の説明図である。
【図4】室温におけるPLZT系の相図である。
【図5】従来の光スイッチモジュールの概略的平面図である。
【符号の説明】
1 クラッド層
2 コア層
3 クラッド層
4 基板
11 Nb1%ドープSrTiO基板
12 PLZTクラッド層
13 PLZTコア層
14 PLZTクラッド層
15 スラブ型光導波路
16 偏向電極
21 光偏向素子
22 プリズム状電極
23 プリズム状電極
24 共通導波路
25 光偏向素子
26 プリズム状電極
27 プリズム状電極
28 二次元レンズ
29 個別導波路
30 入力側光ファイバ
31 二次元レンズ
32 個別導波路
33 出力側光ファイバ

Claims (5)

  1. 基板上に互いに組成の異なるPb1−x La(ZrTi1−y 1−x/4 を順次積層して構成したクラッド層/コア層/クラッド層からなる光導波路の少なくともコア層のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yであることを特徴とする光導波路素子。
  2. 上記コア層のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦yであることを特徴とする請求項1記載の光導波路素子。
  3. 上記コア層が、三方晶と正方晶の両方の結晶相を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の光導波路素子。
  4. 上記光導波路のクラッド層のZr/(Zr+Ti)比yが、同じLa組成比xにおける三方晶と正方晶との境界のモルフォトロピック相境界組成におけるZr/(Zr+Ti)比yに対して0.9y≦y≦1.1yであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光導波路素子。
  5. 上記光導波路の一部に少なくとも光偏向素子が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光導波路素子。
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JP2008070451A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Seiko Epson Corp 電気光学素子及び走査型光学装置

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