JP2004245441A - 高周波加熱調理器 - Google Patents

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有司 安藤
Masami Umemoto
昌見 梅本
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Abstract

【課題】高周波集中領域で効率良く加熱すべき食品と、高周波による加熱は本来必要ないが、加熱を要する食品とともに高周波加熱調理器に入れることを余儀なくされた食品とを、それぞれ望ましい温度で取り出せるようにする。
【解決手段】高周波加熱調理器1は前面が扉12となった加熱室11を有する。高周波発生装置13からの高周波は導波管14から加熱室11に供給される。導波管14に設けられたアンテナ18が高周波の分布をコントロールする。アンテナ18は所定角度の揺動を行うことにより高周波集中領域を形成する。ファン50が冷却風を生成し、この冷却風は高周波集中領域以外の領域に吹き付ける。高周波集中領域に置かれた食品は効率良く加熱され、高周波集中領域以外の領域に置かれた食品は温度上昇が抑制される。
【選択図】 図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は高周波加熱調理器に関する。
【0002】
【従来の技術】
高周波加熱調理器(電子レンジ)では、高周波発生装置で生成した高周波を導波管で加熱室に導き、加熱室内の被加熱物に含まれる水分子を振動させて被加熱物の温度を上昇させる。被加熱物を均一に加熱するためには、高周波がまんべんなく照射されねばならない。そのため、加熱室内部に回転載置台(ターンテーブル)を設け、この回転載置台に被加熱物を載置し、被加熱物の各部を導波管の給波口に向かい合わせつつ加熱を行うようにしたものが多い。
【0003】
上記のような回転載置台を有する高周波加熱調理器では、被加熱物が回転載置台からはみ出すのは好ましくない。というのは、回転載置台から被加熱物がはみ出していると、回転する際にそのはみ出した部分が加熱室の内壁に当たり、回転が阻害されるからである。このため、被加熱物を置けるのは回転載置台の直径の範囲内という制限が生じ、加熱室の隅を被加熱物の配置空間として利用できず、空間利用効率が悪い。また回転載置台が邪魔をするので加熱室の内部を掃除しにくい。
【0004】
最近では、回転載置台を持たない高周波加熱調理器も多くなっている。被加熱物を固定載置台の上に置き、アンテナ手段を用いて高周波を加熱室内部に均一に分布させるのである。このような高周波加熱調理器の一例を特許文献1に見ることができる。
【0005】
特許文献1には、加熱庫の底部に設けた導波管の開口にモーターの駆動により回転するアンテナを設け、このアンテナにより加熱庫に電波を供給するようにした高周波加熱装置が記載されている。
【0006】
特許文献1の高周波加熱装置では、被加熱物の位置に配慮した高周波の放射は行われない。これを改善し、場所によって高周波の強さを変え、加熱室全体として最適な加熱が行われるようにした高周波加熱装置も提案されている。特許文献2〜4にその例を見ることができる。
【0007】
特許文献2には、加熱室の底壁面に設けた略円形の絞り部の中に指向性を有する電波放射手段を配置し、この電波放射手段をモータで回転駆動して電波放射方向を制御し、加熱室内全体の高周波分布の強弱を変化させるようにした高周波加熱装置が記載されている。
【0008】
特許文献3には、3枚の導体長片と3枚の導体短片を放射状に配列してなる回転アンテナを高周波供給室内に設け、この回転アンテナを一時的に停止あるいは減速することにより、2種類の食材をそれぞれ異なる適温に均一加熱することができるようにした高周波加熱装置が記載されている。
【0009】
特許文献4には、加熱室の上部に上導波管を配置し、加熱室の下部には下導波管を配置し、上導波管と下導波管には各々給電口に上回転アンテナと下回転アンテナを配置するとともに、回転アンテナを加熱中停止させ、その停止位置により、加熱による被加熱物の温度分布を任意に変えることができるようにした電子レンジが記載されている。
【0010】
【特許文献1】
特開平11−8057号公報
【特許文献2】
特開2002−216944号公報
【特許文献3】
特開2002−110339号公報
【特許文献4】
特開平9−102390号公報
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
高周波加熱調理器の高周波集中領域は、単独の被加熱物を効率よく加熱することに用いられる。また複数の被加熱物を同時に加熱する場合、他の被加熱物より初期温度が低い、他の被加熱物より熱容量が大きい、あるいは他の被加熱物より仕上温度が高いといった、他よりも多くの加熱エネルギーを必要とする被加熱物をそこに置き、加熱終了時にすべての被加熱物が目標温度を満足しているようにするために用いられる。
【0012】
高周波が局所に集中するように工夫をこらしても、高周波集中領域以外の場所に置かれた食品に高周波の影響が全く及ばないようにすることは不可能である。これは次の理由による。
【0013】
▲1▼高周波がアンテナの特定領域から主に放射されるようにすることは可能であるが、その特定領域以外の部分からの放射をなくすことはできない。
▲2▼アンテナの特定領域から放射された高周波が全て高周波集中領域の被加熱物に吸収される訳ではない。被加熱物を透過する高周波や、被加熱物を避けて漏洩する高周波も存在する。
【0014】
高周波集中領域の被加熱物による吸収を免れた高周波は、加熱室内で反射を繰り返しながら加熱室内で所定の電界分布パターンを形成する。この領域の被加熱物も、高周波集中領域の被加熱物ほどではないにせよ、やはり加熱される。
【0015】
高周波集中領域以外に置かれた食品を高周波による加熱から完全にブロックしたいという場合がある。コロッケやトンカツのように加熱して食べたい食品と、付け合わせの生野菜(キャベツの千切りや野菜サラダ)のように加熱が全く必要でない食品を1枚の皿に盛りつけた場合などがそうである。本来、生野菜は別皿に取り置き、コロッケやトンカツだけにした皿を高周波加熱調理器に入れて加熱調理すれば良いのであるが、生野菜を一旦取り除き、コロッケやトンカツが加熱された後に再び盛りつけるというのは、手間がかかり、煩わしい。
【0016】
本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、高周波集中領域で効率良く加熱すべき食品と、高周波による加熱は本来必要ないが、加熱を要する食品とともに高周波加熱調理器に入れることを余儀なくされた食品とを、それぞれ望ましい温度で取り出せるようにした高周波加熱調理器を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明高周波加熱調理器は次の構成を備える。
【0018】
(1)加熱室と、高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に導く導波管と、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナと、このアンテナを所定の方向かつ所定角度で揺動させる制御手段と、を備えた高周波加熱調理器において、前記制御手段が前記アンテナの揺動を行わせることにより形成される高周波集中領域以外の少なくとも一部の領域を冷却する冷却手段を設けた。
【0019】
この構成によれば、高周波による加熱が必要な食品は高周波集中領域に置いて効率良く加熱することができる。他方、高周波による加熱を要しない食品は高周波集中領域以外の領域に置き、冷却手段の作用により温度上昇を抑制することができる。従って、加熱して食べたい食品と加熱しないで食べたい食品とを同時に高周波加熱調理器に入れねばならない場合、それぞれの食品を望ましい温度で取り出すことができる。
【0020】
(2)上記のような高周波加熱調理器において、冷却風を生成するファンが前記冷却手段を構成するものとした。
【0021】
この構成によれば、冷却手段を容易に得ることができ、コストも安くつく。
【0022】
(3)上記のような高周波加熱調理器において、前記加熱室には、前記ファンによって生成された冷却風の入口と出口が設けられ、この入口と出口を結ぶ形で前記高周波集中領域以外の領域を含む空気流通経路が形成されるものとした。
【0023】
この構成によれば、加熱室に入った冷却風が高周波集中領域以外の領域に置かれた食品から熱を奪って加熱室の外に去るので、高周波集中領域以外の領域に置かれた食品の温度上昇を効率良く防ぐことができる。
【0024】
(4)上記のような高周波加熱調理器において、前記空気流通経路は、前記高周波集中領域以外の領域から前記高周波集中領域へと抜けるものとした。
【0025】
この構成によれば、高周波集中領域以外の領域に置かれた食品の温度上昇が効率良く防止されるうえ、高周波集中領域以外の領域に置かれた食品から熱を奪った冷却風が下流側の高周波集中領域を通過する際、そこに置かれた食品から立ち昇る水蒸気を巻き込んで加熱室外に排気されることになる。従って、加熱室の壁の内面に結露が生じたりすることがなく、加熱室の内部を清潔に保つことができる。
【0026】
(5)上記のような高周波加熱調理器において、前記ファンが前記高周波発生装置の冷却ファンに兼用されるものとした。
【0027】
この構成によれば、構成要素の数を減らし、高周波加熱調理器の製作コスト低減を図ることができる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、本発明高周波加熱調理器の第1実施形態を図1〜図6に基づき説明する。図1は外観斜視図、図2は垂直断面図、図3は加熱室の水平断面図、図4はアンテナの上面図、図5は回路構成図、図6は制御のフローチャートである。
【0029】
高周波加熱調理器1は箱形のキャビネット10を備える。キャビネット10の正面には操作パネル17が設けられる。キャビネット10の中には前面が扉12となった加熱室11が形成される。加熱室11の外側には高周波発生装置13と導波管14(図2参照)が配置される。高周波発生装置13の生成した高周波は導波管14より加熱室11に供給される。導波管14は加熱室11の底面に設けられている。導波管14の端には受信アンテナ部と放射アンテナ部を備えたアンテナ18が配置される。アンテナ18はモータ19により加熱室11の底面の上で連続回転又は揺動(周期的反転回動)せしめられ、加熱室11内における高周波分布をコントロールする。
【0030】
アンテナ18の上にはガラスやセラミックなどの誘電体からなる平面形状四角形の載置台20が配置されている。載置台20は加熱室11内で回転しないように支持されており、その上に被加熱物を置く。すなわち載置台20の上面は被加熱物載置面を構成する。
【0031】
高周波発生装置13にはその動作状態を判定するための、具体的には動作温度を調べるための温度検知素子43が配置されている。アンテナ18を連続回転又は揺動させるシャフトには、アンテナ18が特定の角度位置に至ったことを検知する検知スイッチ44が設けられている。
【0032】
アンテナ18は平面形状が円形であり、図4に示すように、開口18aと、それとは形状の異なる2個の開口18bが設けられている。開口18aは高周波の主たる放射部である。開口18bはアンテナ18の外周部からの高周波放射を抑制する。これにより、局所集中の高周波放射が可能となっている。なおアンテナ18の形状は図4のものに限定されない。局所集中の高周波放射が可能でありさえすれば、どのような形状でもよい。
【0033】
加熱室11の天井の上には、正面から見て右側の箇所にファン50が配置される。ファン50は軸流ファンであり、モータ51により駆動されて下向きの風を生成する。この風が冷却風となる。すなわちファン50は冷却手段として機能する。加熱室11の天井には冷却風を加熱室11に取り込むための入口53が設けられる。入口53は天井板にパンチングで多数の小孔を明けて形成される。
【0034】
加熱調理器1の動作制御を行う制御手段として機能するのは制御部30(図5参照)である。制御部30の中核をなすのは中央制御部40である。中央制御部40はマイクロプロセッサを含み、加熱調理器1の全体制御を司る。制御状況は操作パネル17の表示部17aに表示される。また操作パネル17のキー操作部17bより中央制御部40に対する指令を入力する。
【0035】
中央制御部40はリレースイッチ31を開閉制御する。リレースイッチ31は熱源である高周波発生装置13への給電をON/OFFする。リレースイッチ31と直列に安全スイッチ32が接続されている。安全スイッチ32は手動スイッチであって、トラブル発生時に中央制御部40によらず加熱調理器1の動作を停止させるのに用いる。
【0036】
高周波発生装置13は、トランス・コンデンサ・ダイオードで構成される高周波駆動電源13aと、これによって駆動されるマグネトロン13bを有する。
【0037】
高周波発生装置13などの電気部品を冷却するファンモータ41、加熱室11の内部を照明するランプ42、高周波発生装置13、及びファン50のモータ51には個々にリレースイッチ(リレースイッチ34、35、36、52)が接続され、個別に給電がON/OFFされる。アンテナ18を駆動するモータ19はモータドライバー19aを備え、このモータドライバー19aに中央制御部40より指令を伝えて回転制御を行うようになっている。
【0038】
中央制御部40には次の構成要素が接続される。すなわち扉12の開閉を検知する扉スイッチ37、加熱室11内の湿度を検知する湿度検知素子38、警告などの意味を持つ報知音を発生する音発生装置39、及び前述の温度検知素子43と検知スイッチ44である。
【0039】
次に、図6のフローチャートに基づき高周波加熱調理器1の制御フローを説明する。
【0040】
まず加熱条件を入力する。最初は加熱品目の設定である(ステップS361)。次に加熱時間T0を設定する(ステップS362)。加熱時間T0は、使用者が入力してもよく、加熱品目の設定に伴い設定されるものとしてもよい。キー操作部17bの中のスタートキーを押し、加熱をスタートさせる(ステップS363)。
【0041】
ここで、アンテナ18の制御方法(Control Mode:以下「CM」の略称を用いる)が決定される。3種類のCMの中から一つが、加熱品目に応じて自動的に選択される(ステップS364)。通常のあたため加熱の場合はアンテナ18は360゜連続回転するように制御される。この制御方法がCM1である。牛乳1杯、コーヒー1杯、ご飯1膳などといった、比較的小さな被加熱物に集中加熱を適用する場合は、アンテナ18を狭い角度領域で揺動させる。この制御方法がCM2である。牛乳2杯、コーヒー2杯、ご飯2膳とか、トンカツなど、非加熱物が大きめのときは広い角度領域で揺動させる。この制御方法がCM3である。
【0042】
CM2又はCM3の場合、アンテナ18は被加熱物に高周波が集中する方向を向いて、具体的に言えば開口部18aが非加熱物の真下に位置するような角度位置で揺動しなければならない。方向決定にあたっては次の二通りの方式がある。
【0043】
▲1▼CM2又はCM3が選択された場合、アンテナ18は常に一定の方向を向くものとする。この場合、高周波の集中する場所が限定されるので、その場所に被加熱物が入るように、被加熱物の位置を調整する。
▲2▼被加熱物は載置台20の上の任意の位置に置いて良いものとする。被加熱物がどこに置かれたかを検知手段(例えば非接触の温度センサや光センサ)で検知し、その検知結果に基づき、高周波の集中する場所が被加熱物の置かれた場所に一致するようにアンテナ18の向きを調整する。
【0044】
本実施形態では▲1▼の方式をもってアンテナ18の方向を決定する。従って、非加熱物を載置台20の中でも高周波を集中させる特定の場所に置いてもらわねばならない。本実施形態では載置台20の左右方向において左側、前後方向においては中間あたりを被加熱物の置き場所に指定する。指定した場所は表示をする。表示にあたっては、載置台20の表面に印刷する、色変わりのガラスやセラミックをはめ込む、LEDでぐるりと取り囲む、上からスポットライトを当てるなどの手法を採用することができる。
【0045】
ステップS364でCM2が選択されたときはステップS365に進み、CM3が選択されたときはステップS366に進む。ステップS365及びS366からはステップS367に進み、そこからステップS368に進む。ステップS364でCM1が選択されたときは直接ステップS368に進む。
【0046】
CM2が選択されたときは、揺動の反転周期TWが短周期とされる(ステップS365)。アンテナ18が1回転するのに要する時間が6,000ミリ秒である場合(10rpmに相当)、揺動が一度反転した後再度反転するまでの時間、すなわち反転周期TWを600ミリ秒とすれば、アンテナ18は360゜の600/6,000の角度、すなわち36゜の角度範囲で揺動することになる。なお本明細書に登場する時間や角度の具体的数値は一つの例示であり、発明の範囲がこれによって限定されるものではない。
【0047】
CM3が選択されたときは、揺動の反転周期TWが長周期とされる(ステップS366)。アンテナ18の揺動の反転周期TWを、例えば1,200ミリ秒とすれば、アンテナ18は360゜の1,200/6,000の角度、すなわち72゜の角度範囲で揺動することになる。
【0048】
ステップS367では加熱品目に対応して種々の定数が設定又はリセットされる。前述の通り、CM2又はCM3を選択した場合にはアンテナ18は特定の方向を向いて揺動しなければならない。その方向を定めるのに検知スイッチ44を用いる。すなわちアンテナ18が回転する間にある方向を向くと、その時点で検知スイッチ44が開閉状態を反転する。この時のアンテナ18の位置を「基準位置」とする。アンテナ18は引き続き回転する。検知スイッチ44が開閉状態を反転してからの時間が計測され、所定時間に達したところが「揺動位置」となる。以後、モータ19はその位置でアンテナ18を揺動させる。前述の通り、載置台20の左右方向において左側、前後方向においては中間にあたる位置が高周波集中領域となるので、その位置に開口部18aが一致するように前記所定時間を設定する。
【0049】
検知スイッチ44が開閉状態を反転してからアンテナ18が揺動位置に達するまでの時間を移動時間T1とする。移動時間T1が例えば4,500ミリ秒であるものとすると、上記基準位置と揺動位置との角度差は360゜の4,500/6,000、すなわち270゜となる。
【0050】
温度検知素子43は高周波発生装置13の温度を検知する。温度検知素子43が例えば320゜C以上の温度を検知したら、それは高周波発生装置13にとり異常温度TMであるものとする。
【0051】
高周波発生装置13が異常温度TMになったときは、アンテナ18をより広い角度領域で揺動させる。すなわちアンテナ18が揺動方向を反転した後、再度反転するまでに要する時間を延長する。延長時間TEは、例えば20ミリ秒(角度にすれば1.2゜に相当)とする。
【0052】
このようにステップS367で「移動時間T1」「異常温度TM」「反転周期の延長時間TE」が設定された後、ステップS368に進む。ステップS368では「加熱タイマーTC」「移動タイマーTS」「反転フラッグFH」「移動フラッグFE」がリセットされる。それからステップS369に進む。
【0053】
ステップS369ではリレースイッチ群(リレースイッチ31、34、35、36)がONとなり、またモータドライバー19aに中央制御部40より指令が伝えられてモータ19が正方向に回転を開始し、高周波による加熱が始まる。それからステップS370に進む。
【0054】
ステップS370では制御方法がCM1であるか、そうでないかをチェックする。通常加熱であるCM1の場合はステップS370からステップS380に進む。ステップS380では加熱タイマーTCが加熱時間のカウントアップを行う。そしてステップS381に進む。
【0055】
ステップS381では、ステップS362で設定した加熱時間T0が経過したかどうかをチェックする。経過していればステップS387に進む。経過していなければステップS382に進む。
【0056】
CM1の場合、移動フラッグFEはゼロ、すなわち立っていない。そのためステップS382からステップS383に進む。
【0057】
ステップS383では制御方法がCM1であるかどうかをチェックする。この場合はCM1なのでステップS380に戻る。加熱時間T0が経過するまで、ステップS380→S381→S382→S383→S380のサイクルを繰り返す。この間、アンテナ18は正方向に連続回転している。
【0058】
加熱時間T0が経過するとステップS381からステップS387に進む。ステップS387ではリレースイッチ群をOFFにして加熱を終了する。モータ19も停止させる。
【0059】
局所集中加熱であるCM2又はCM3の場合はステップS370からステップS371に進む。連続回転の場合と異なり、ここでは検知スイッチ44の開閉状態(反転状態)が意味を持ってくるので、ステップS371で検知スイッチ44の開閉状態をチェックする。
【0060】
アンテナ18が所定の角度位置に来るまでは、検知スイッチ44の開閉状態は反転しない。そのため、ステップS372→S374→S380→S381→S382→S383→S371のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間T0が経過すればステップS381からステップS387に進み、加熱は終了する。
【0061】
アンテナ18が所定の角度位置に来ると、検知スイッチS44が開閉状態を反転する。これによりステップS372からステップS373に進み、反転フラッグFHが立つ。反転フラッグFHが立った状態でステップS374に進むと、今度はステップS380にではなく、ステップS375に進むことになる。
【0062】
ステップS375では、移動タイマーTSが所定時間の経過をカウントしたかどうかをチェックする。この場合の所定時間は、ステップS367で設定した移動時間T1から反転周期TWの1/2を減じたものである。すなわち所定時間=T1−TW/2である。
【0063】
ステップS374からステップS375に進み、最初は移動タイマーTSのカウントがゼロなのでステップS379に進む。ステップS379では移動タイマーTSのカウントアップを行い、ステップS380に進む。ステップS380では加熱タイマーTCのカウントアップを行い、ステップS381に進む。ステップS381では、ステップS362で設定した加熱時間T0が経過したかどうかをチェックする。経過していればステップS387に進む。経過していなければステップS382に進む。
【0064】
ステップS382では移動フラッグFEが立っているかどうかをチェックする。この場合、アンテナ18はまだ揺動位置に到達していないので移動フラッグFEはゼロ、すなわち立っていない。そのためステップS382からステップS383に進む。
【0065】
ステップS383では制御方法がCM1であるかどうかをチェックする。この場合はCM1ではなくCM2又はCM3なので、ステップS371に戻る。それからステップS372に進む。反転フラッグFHが既に立った状態なので、ステップS372からステップS373に進むことなくステップS374に進む。こうしてステップS371→S372→S374→S375→S379→S380→S381→S382→S383→S371のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間T0が経過すればステップS381からステップS387に進み、加熱は終了する。
【0066】
ステップS375で移動タイマーTSが所定時間の経過をカウントしたときはステップS376に進む。ステップS376ではアンテナ18は揺動位置への移動を完了している。すなわち開口18aが載置台20の左右方向において左側、前後方向において中間あたりの位置に来ている。ここで移動タイマーTSをリセットする。また移動完了を表すため移動フラッグFEを立てる。そしてステップS377に進む。
【0067】
ステップS377では、最初は移動タイマーTSのカウントがゼロのため、アンテナ18は正方向に回転を続ける。ステップS379→S380→S381→S382と進む。ステップS382では、移動フラッグFEが立っているためステップS384に進む。
【0068】
ステップS384では温度検知素子43が検知した高周波発生装置13の温度をチェックする。異常温度TMになっていれば、ステップS385からステップS386に進む。ステップS386では反転周期を延長する。すなわちステップS365又はS366で設定されていた反転周期TWに延長時間TEを加えたものを新たな反転周期とする。これにより、揺動の設定角度が広がり、高周波発生装置13の受けるダメージが緩和される。
【0069】
ステップS386の後、ステップS377に戻る。異常温度TMでなければステップS385から直接ステップS377に戻る。
【0070】
このようにして、揺動回転の時期に入った後、揺動反転時期を迎えるまで、ステップS377→S379→S380→S381→SS382→S384→S385→(S386)→S377のサイクルを繰り返す。この間に加熱時間T0が経過すればステップS381からステップS387に進み、加熱は終了する。
【0071】
揺動回転の時期に入ってから、反転周期TWの1/2だけ回転したところで、揺動方向を反転すべき時期を迎える。ここでステップS378に進む。
【0072】
ステップS378では中央制御部40からの指令を受けてモータ19が回転方向を反転する。すなわちアンテナ18の揺動が反転する。移動タイマーTSもリセットされる。
【0073】
以下、ステップS377→S379→S380→S381→S382→S384→S385→(S386)→S377のサイクルを繰り返す。
【0074】
揺動回転が確実になった時点、例えば最初にステップS378を迎えた時点でリレースイッチ52がONになり、モータ51が回転を始める。これによりファン50は冷却風の送風を始める。冷却風は入口53から加熱室11の中に入り、載置台20の上に吹き下ろす。冷却風は高周波集中領域以外の領域に吹き付ける。
【0075】
図2及び図3に示すように一つの皿60に2種類の食品61、62が盛られていて、食品61は高周波集中領域に位置し、食品62は高周波集中領域以外の領域に位置していた場合、食品61は高周波を集中的に浴びて効率的に加熱される。食品62も、その位置での電界レベルがゼロではないので、高周波により内部に多少の熱が生じることは避けられない。しかしながらこの熱は冷却風によって持ち去られるので、食品62の温度上昇は僅かである。
【0076】
このようにして食品62の温度上昇を防ぎつつ食品61の加熱が進められる。加熱時間T0が経過すれば、ステップS381からステップS387に進む。ステップS387ではリレースイッチ群(リレースイッチ31、34、35、36、52)をOFFにして加熱と冷却風の送風を終了する。モータ19も停止させる。
【0077】
高周波集中領域とそれ以外の領域は、明確に区分できればそれに越したことはないが、多少重なり合っていたとしても問題はない。
【0078】
本発明の第2実施形態を図7に示す。図7は加熱室の水平断面図である。
【0079】
第2実施形態の高周波加熱調理器1は、ファン50が高周波発生装置13の冷却ファンに兼用されることを特徴とする。この場合、ファンモータ41の用途を制御部30の回路基板の冷却に特化することができる。
【0080】
ファン50は高周波発生装置13の後ろから前方に向けて冷却風を送る。加熱室11の右側の側壁には、手前寄りの位置に入口53が設けられる。入口53の外側には誘導板54が設けられる。誘導板54は加熱室11の側壁から斜めに突き出す。高周波発生装置13を通ってきた冷却風は誘導板54に当たって向きを変え、入口53から加熱室11の中に入る。
【0081】
加熱室11の左側の側壁には、入口53より少し奥まった位置に出口55が設けられる。入口53と同様、出口55もパンチングで多数の小孔を明けて形成される。図中に破線で示すように、入口53と出口55を結ぶ形で、高周波集中領域以外の領域を含む空気流通経路56が形成される。空気流通経路56は載置台20の上面からそれほど離れない高さに設定される。
【0082】
第2実施形態では、空気流通経路56と重なる載置台20の手前寄りの位置が冷却風の作用を受ける食品冷却領域となる。空気流通経路56から外れた載置台20の奥寄りの位置で、正面から見て中央の位置を高周波集中領域とする。アンテナ18の開口部18aが揺動する位置もこの高周波集中領域に合わせる。
【0083】
一つの皿60に2種類の食品61、62が盛られていて、食品61は高周波集中領域に位置し、食品62は食品冷却領域に位置していた場合、食品61は高周波を集中的に浴びて効率的に加熱される。食品62は冷却風にさらされ、冷却風が食品62から熱を奪って加熱室11の外に去るので、食品62の温度上昇は効率良く防止される。
【0084】
本発明の第3実施形態を図8に示す。図8は加熱室の水平断面図である。
【0085】
第3実施形態の高周波加熱調理器1も、ファン50を高周波発生装置13の冷却ファンに兼用し、高周波発生装置13を通過した冷却風を誘導板54により加熱室11の中に導く。ただし、高周波集中領域及び食品冷却領域の配置と、空気流通経路の設定が第2実施形態と異なる。
【0086】
第3実施形態では、第1実施形態と同様、載置台20の左右方向において左側、前後方向においては中間あたりを高周波集中領域とする。そしてアンテナ18の回転中心を隔てて反対側の位置を、冷却風の作用を受ける食品冷却領域とする。
【0087】
ファン50は高周波発生装置13の前から後方に向けて冷却風を送る。誘導板54の突き出し方向は第2実施形態と反対になる。入口53は加熱室11の奥寄りの位置に設け、出口55は加熱室11の手前寄りの位置に設ける。空気流通経路56は加熱室11の内部を対角線方向に横切るようにように設定される。空気流通経路56の上流側に食品冷却領域が位置し、下流側に高周波集中領域が位置することになる。
【0088】
一つの皿60に2種類の食品61、62が盛られていて、食品61は高周波集中領域に位置し、食品62は食品冷却領域に位置していた場合、食品61は高周波を集中的に浴びて効率的に加熱される。食品62は冷却風にさらされ、冷却風が食品62から熱を奪って加熱室11の外に去るので、食品62の温度上昇は効率良く防止される。
【0089】
加えて、強制冷却領域の食品62から熱を奪った冷却風が下流側の高周波集中領域を通過する際、そこに置かれた食品61から立ち昇る水蒸気を巻き込んで加熱室11外に排気されることになる。従って、加熱室11内の湿度は低めに維持され、加熱室11の壁の内面に結露が生じたりすることがなく、加熱室11の内部を清潔に保つことができる。
【0090】
以上本発明の各実施形態につき説明したが、発明の主旨を逸脱しない範囲でさらに種々の変更を加えて実施することが可能である。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、加熱室と、高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に導く導波管と、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナと、このアンテナを所定の方向かつ所定角度で揺動させる制御手段とを備えた高周波加熱調理器において、制御手段がアンテナの揺動を行わせることにより形成される高周波集中領域以外の少なくとも一部の領域を冷却する冷却手段を設けたから、高周波による加熱が必要な食品は高周波集中領域に置いて効率良く加熱し、他方、高周波による加熱を要しない食品は高周波集中領域以外の領域に置いて冷却手段の作用により温度上昇を抑制することができる。従って、加熱して食べたい食品と加熱しないで食べたい食品とを同時に高周波加熱調理器に入れねばならない場合、それぞれの食品を望ましい温度で取り出すことができる。
また冷却風を生成するファンが前記冷却手段を構成するものとしたから、冷却手段を容易に得ることができ、コストも安くつく。さらに、ファンを高周波発生装置の冷却ファンに兼用することにより、構成要素の数を減らし、高周波加熱調理器の製作コスト低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る高周波加熱調理器の外観斜視図
【図2】上記高周波加熱調理器の垂直断面図
【図3】加熱室の水平断面図
【図4】アンテナの上面図
【図5】回路構成図
【図6】制御のフローチャート
【図7】本発明の第2実施形態に係る高周波加熱調理器の加熱室の水平断面図
【図8】本発明の第3実施形態に係る高周波加熱調理器の加熱室の水平断面図
【符号の説明】
1 高周波加熱調理器
11 加熱室
12 扉
13 高周波発生装置
14 導波管
17 操作パネル
18 アンテナ
18a、18b 開口
19 モータ
20 載置台
30 制御部
40 中央制御部
43 温度検知素子
44 検知スイッチ
50 ファン
51 モータ
53 入口
54 誘導板
55 出口
56 空気流通経路

Claims (5)

  1. 加熱室と、高周波発生装置と、この高周波発生装置で発生した高周波を前記加熱室に導く導波管と、加熱室内の高周波分布をコントロールするアンテナと、このアンテナを所定の方向かつ所定角度で揺動させる制御手段と、を備えた高周波加熱調理器において、
    前記制御手段が前記アンテナの揺動を行わせることにより形成される高周波集中領域以外の少なくとも一部の領域を冷却する冷却手段を設けたことを特徴とする高周波加熱調理器。
  2. 冷却風を生成するファンが前記冷却手段を構成することを特徴とする請求項1に記載の高周波加熱調理器。
  3. 前記加熱室には、前記ファンによって生成された冷却風の入口と出口が設けられ、この入口と出口を結ぶ形で前記高周波集中領域以外の領域を含む空気流通経路が形成されることを特徴とする請求項2に記載の高周波加熱調理器。
  4. 前記空気流通経路は、前記高周波集中領域以外の領域から前記高周波集中領域へと抜けることを特徴とする請求項3に記載の高周波加熱調理器。
  5. 前記ファンが前記高周波発生装置の冷却ファンに兼用されることを特徴とする請求項2〜請求項4のいずれかに記載の高周波加熱調理器。
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