JP2004243688A - Method for producing resin substrate and method for producing substrate with film - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂基板およびその表面に導体配線等の膜を固着した膜付基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、合成樹脂製の基板の一面または両面或いはこれらに加えて内部に1乃至複数の層状に導体配線を設けた配線基板が知られている。例えば、射出成形された合成樹脂薄板や、布(特に織布)に合成樹脂を含浸させ且つ硬化させた繊維強化樹脂薄板の一面または両面に、銅鍍金、銅ペースト塗布や銅箔のエッチング等で導体配線を設けた片面配線基板や両面配線基板、複数枚の両面配線基板を貫通導体が設けられた絶縁体層を介して積層した多層配線基板等がその一例である。このような配線基板は、例えば電子機器のプリント配線板や半導体パッケージ等に用いられている(例えば、特許文献1,2等参照)。
【0003】
なお、上記布は、例えばガラス繊維等の無機繊維或いはアラミド繊維等の有機繊維から成る織布或いは不織布であって、例えばそれぞれ単繊維(モノフィラメント)が撚られた撚り糸(ストランド)で構成された経糸および緯糸が例えば平織に織られたものである。また、上記合成樹脂は、一般には熱硬化性樹脂、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂等が用いられる。例えば、ガラス織布およびエポキシ樹脂が用いられた基板はガラス・エポキシ基板と称される。
【0004】
【特許文献1】
特開平6−209151号公報
【特許文献2】
特開平11−186698号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来の基板の製造方法のうち射出成形による場合には、寸法精度の高い基板を製造できる反面で、基板の寸法・形状毎に成形型を用意する必要があるため多品種に対応するのが困難であり、しかも、その成形型が高価なため基板の製造費用が高くなる不都合がある。一方、布への樹脂含浸による場合には、半硬化状態(すなわちBステージ)のプリプレグを加圧しつつ加熱して硬化状態(すなわちCステージ)に移行させることにより、種々の寸法・形状の樹脂基板を比較的安価に製造できる反面で、加圧成形後の厚さ寸法の制御が困難である。上記プリプレグの加圧成形は製造しようとする基板厚みに応じて一枚を単独でまたは複数枚を積層して行われるが、厚さ寸法はその積層枚数だけで定まるものではなく、加圧力や樹脂の流動性等の種々の要因で変動し得るため安定しない。
【0006】
本発明は、以上の事情を背景として為されたものであって、その目的は、種々の寸法・形状の樹脂基板およびその一面に配線パターン等の膜が備えられた膜付基板を高い厚さ寸法精度で製造し得る方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための第1の手段】
斯かる目的を達成するため、第1発明の要旨とするところは、所定厚さ寸法の樹脂基板を製造する方法であって、(a)一対の成形型の成形面の相互間に一枚または相互に重ね合わされた複数枚から成る半硬化状態の樹脂基板素材を配置する工程と、(b)前記成形面の相互間隔の最小値を前記所定厚さ寸法に制限するための第1スペーサを前記樹脂基板素材の外周側の所定位置に配置する第1スペーサ配置工程と、(c)前記樹脂基板素材の周囲のうち前記第1スペーサよりも内周側の所定位置に前記成形面が前記最小値まで相互に接近させられる過程で弾性的に押し縮められる第2スペーサを配置する第2スペーサ配置工程と、(d)真空下において前記一対の成形型間で加熱しつつ加圧することにより前記樹脂基板素材を前記所定厚さ寸法に成形し且つ硬化させる加熱加圧工程とを、含むことにある。
【0008】
【第1発明の効果】
このようにすれば、一対の成形型の成形面相互の最小間隔が第1スペーサによって制限されるため、その成形型間で押し潰されつつ硬化させられる樹脂基板素材は、その第1スペーサの高さ寸法によって定められる一定の厚さ寸法の樹脂基板に成形される。このとき、樹脂基板素材は、加熱されることによって樹脂の流動性が高められると共に加圧されることによって厚み方向に押し縮められることにより、樹脂が外周側へ流れようとするが、加圧中には弾性的に押し縮められた第2スペーサがその樹脂基板素材の周囲に存在するため、その流出はその第2スペーサすなわち樹脂流出制限部材によって抑制される。そのため、樹脂基板素材から樹脂が流れ過ぎることがないので、第1スペーサで成形型相互の接近が制限されていても周縁部等における樹脂量不足に起因する欠損が生じ難いことから、真空下で加熱加圧されることによって気泡の発生が抑制されることと相俟って、樹脂欠損等の欠陥を伴うことなく、第1スペーサの高さ寸法を適宜定めるだけで容易に任意の厚さ寸法の樹脂基板が得られる。なお、第2スペーサは加圧されることによって押し縮められるため、成形型が第1スペーサによって定められた相互間隔まで接近することを何ら妨げず、しかも、第2スペーサの上下両面が加圧面に密着させられることによって樹脂流出が好適に抑制される。したがって、種々の寸法・形状の樹脂基板を高い厚さ寸法精度で製造することができる。
【0009】
【課題を解決するための第2の手段】
また、前記目的を達成するための第2発明の要旨とするところは、一面に所定の機能を有する膜が所定の平面形状で設けられた所定厚さ寸法の膜付基板の製造方法であって、(a)一方の成形面に前記所定の平面形状の凸部を有する一対の成形型の成形面の相互間に一枚または相互に重ね合わされた複数枚から成る半硬化状態の樹脂基板素材を配置する工程と、(b)前記成形面の相互間隔の最小値を前記所定厚さ寸法に制限するための第1スペーサを前記樹脂基板素材の外周側の所定位置に配置する第1スペーサ配置工程と、(c)前記樹脂基板素材の周囲のうち前記第1スペーサよりも内周側の所定位置に前記成形面が前記最小値まで相互に接近させられる過程で弾性的に押し縮められる第2スペーサを配置する第2スペーサ配置工程と、(d)真空下において前記一対の成形型間で加熱しつつ加圧することにより前記樹脂基板素材を前記所定厚さ寸法に成形し且つ硬化させると同時に前記一方の成形面で加圧されたその一面に前記所定の平面形状の溝を形成して樹脂基板を得る加熱加圧工程と、(e)前記樹脂基板の前記溝内に前記膜の構成材料を埋め込むことによりその膜を形成する膜形成工程とを、含むことにある。
【0010】
【第2発明の効果】
このようにすれば、前述したように第1スペーサおよび第2スペーサ(すなわち樹脂流出制限部材)を配置して樹脂基板素材を加圧しつつ加熱することにより、任意の寸法・形状の樹脂基板が高い厚さ寸法精度で製造され得る。このとき、一対の成形型の一方の成形面には凸部が設けられていることから、この成形面で加圧された樹脂基板の表面には、その凸部を反転した所定の平面形状の凹溝が形成される。そのため、この溝内に所定の膜構成材料を埋め込むことにより、所定の平面形状の膜が形成されるので、種々の寸法・形状を有し且つ一面に所定パターンで膜を備えた膜付基板を高い厚さ寸法精度で製造することができる。しかも、膜が溝内へ埋め込まれて形成されるが、その溝は成形型に設けられている凸部で樹脂を押圧して形成されるものであってその凸部の平面形状が忠実に反転させられたものとなるので、簡単な製造工程で膜のパターン精度の高い膜付基板が得られる利点もある。また、このような膜形成方法が用いられる結果、基板の全面に金属箔を貼り付けてエッチング処理によってパターン形成する等の膜形成方法に比較して膜構成材料の無駄が無く且つエッチングや鍍金の廃液処理等に起因する環境負荷の増大も無い利点がある。更に、膜が基板の溝内に埋込形成されることからその表面に凸にならないので、電子部品等の実装や多層化が容易になる利点もある。
【0011】
【第2発明の他の態様】
ここで、上記第2発明において、好適には、前記膜付基板の製造方法は、前記樹脂基板の所定位置に厚み方向に貫通するスルーホールを形成する工程を含み、前記膜形成工程は、前記溝内に導体ペーストを塗布することにより前記所定の平面形状の導体配線を形成すると同時に前記スルーホール内に導体ペーストを塗布することにより貫通導体を形成する配線形成工程である。このようにすれば、導体配線を形成すると同時に、基板の両面に設けられた配線を相互に接続し、或いは前記配線基板を複数枚積層し且つ相互に固着することにより多層配線基板を製造した場合において複数の配線基板の導体配線を相互に接続するための貫通導体が形成されるため、配線基板の製造が容易になる利点がある。
【0012】
【第1,第2発明の他の態様】
また、前記第1,第2発明において、好適には、前記加熱加圧工程は、前記一対の成形型、前記樹脂基板素材、前記第1スペーサ、および前記第2スペーサの積層物を複数組重ね合わせて、加熱しつつ加圧するものである。このようにすれば、複数枚の樹脂基板を同時に加圧成形できる利点がある。すなわち、本発明によれば、第1スペーサが樹脂基板素材の外周側に配置されていることから、成形される樹脂基板の厚さ寸法はその第1スペーサの高さ寸法によって決定される。そのため、複数組を重ね合わせて上下から加圧しても、樹脂基板素材の厚さ寸法のばらつきや樹脂の流動性の相違等が樹脂基板の厚さ寸法に影響し得ないので、樹脂基板或いは膜付基板の素材となる樹脂基板を高い厚さ寸法精度で製造し得るのである。また、本発明によれば、成形型の成形面形状は、平坦であるか、配線の厚さ寸法を有する低い凸部が設けられただけの略平坦なものとなるので、成形型を特に厚くする必要がない。そのため、そのような薄い成形型を用いる場合には、複数組を重ね合わせても厚さ寸法が比較的小さく留められるので、一層多数の樹脂基板を同時に成形でき量産性に優れる利点がある。
【0013】
また、好適には、前記第2スペーサ配置工程は、前記樹脂基板素材の周囲のうちその角部の所定範囲を除く部分に前記第2スペーサを配置するものである。このようにすれば、成形型に押し潰されることによって過剰となった樹脂はその角部から外周側に容易に流出する。そのため、樹脂の流動が適度に許容されることから、第2スペーサの内周側において樹脂厚みの均一性が一層高められるので、厚み寸法精度の一層高い樹脂基板や膜付基板が得られる。
【0014】
なお、上記所定範囲は、例えば、樹脂基板素材の角からその辺に沿って10(mm)程度の長さ寸法までの範囲である。
【0015】
また、好適には、前記樹脂基板素材は、布に樹脂が含浸させられたものである。すなわち、布に樹脂が含浸させられていることから樹脂の流動がその布によって妨げられるため厚さ寸法のばらつきや樹脂欠損等の生じ易い繊維強化樹脂基板や、これに所定パターンで導体配線等の膜を設けた配線基板等の膜付基板等に、本発明は好適に適用される。一層好適には、上記布は織布であり、更に好適には、ガラス繊維等の無機繊維が織られたものである。このような樹脂基板素材は、特に樹脂の流動性が低いことから、本発明を適用する効果が一層顕著に得られる。
【0016】
また、好適には、前記第2スペーサは、シリコーン・ゴムまたは弗素ゴム等のゴム材料から成るものである。これらのゴム材料は適度な弾性を備えているため、加熱加圧成形時における樹脂基板素材の変形に好適に追従して押し縮められると共に、樹脂基板の成形時の加熱温度において変質しない十分な耐熱性を備えているため、樹脂基板素材に接して配置されていてもその品質に影響することの無い利点がある。なお、成形時の加熱温度は、例えば一般に170〜200(℃)であり、最高でも220(℃)以下である。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。
【0018】
図1は、本発明の膜埋込型基板の製造方法を適用して製造された配線基板10の全体を示す斜視図である。図において、配線基板10は、例えば300×500(mm)程度の大きさの矩形を成し厚さ寸法が100(μm)〜1(mm)程度の薄板である樹脂基板12と、その表面14および裏面16に備えられた複数本の配線20や複数個の抵抗体22等で構成されている。この配線基板10は、例えば、それら表面14および裏面16に例えば半導体、抵抗体、コンデンサやコイル等の電子部品が実装されることにより、電子機器用の回路基板やIC等の半導体パッケージ等に用いられる。本実施例においては、上記の配線が請求の範囲にいう「所定の機能を有する膜」に相当する。
【0019】
上記樹脂基板12は、後述するように、層状に内部に備えられることによりその骨格を構成する織布42と、その表面を覆い且つ織目内に入り込んだ合成樹脂44とから成るものであり、その厚さ寸法は全面に亘って略一様になっている。上記織布は、例えばEガラス(Na2O,K2O等のアルカリ含有率が0.8(%)未満の無アルカリガラス)から成るガラス繊維が織られたガラス織布である。また、上記合成樹脂は、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が硬化させられたものである。樹脂基板12には、後述するような製造方法に基づき、内部および表面の気泡は何ら存在しない。
【0020】
また、上記の配線20は、例えば銀(Ag)や銅(Cu)等から成るものであって、例えば25(μm)〜4(mm)程度の範囲内、例えば25(μm)程度の幅寸法を備えて、隣接するもの相互が例えば25(μm)〜4(mm)程度の範囲内、例えば25(μm)程度の間隔で設けられている。図2は、配線基板10の断面において配線20の配設状態を説明するための図である。樹脂基板12の表面14および裏面16には、配線20の平面形状の溝24が例えば5〜60(μm)の範囲内、例えば30(μm)程度の深さ寸法で設けられており、配線20は、その溝24内に充填された銀等の導体で形成されている。埋め込まれた配線20の表面は、樹脂基板12の表面14、裏面16と略同一平面に位置する。すなわち、配線20の厚さ寸法は例えば30(μm)程度であって、配線基板10には、配線20に起因する凹凸は何ら存在しない。また、樹脂基板12の表面のうち配線20が設けられていない部分についても、何らうねり等は存在せず、略平坦面となっている。なお、上記の図2においては、樹脂基板12内に備えられたガラス織布を省略した。
【0021】
また、図1に示されるように、上記配線20の各々の端部や長さ方向の中間部等には、円形或いは矩形のランド26およびスルーホール28が複数箇所に設けられている。ランド26は、電子部品の端子等を固着し或いは抵抗体22を配線20に接続するためのものである。また、スルーホール28は、図2に示されるように、樹脂基板12をその厚さ方向に貫通するものであって、その内部に貫通導体30が設けられることにより、表面14および裏面16にそれぞれ設けられた配線20を相互に接続等するためのものである。上記貫通導体30は、例えば配線20と同じ導体材料、例えば銀や銅等で構成されている。スルーホール28の開口径は、例えば30〜700(μm)の範囲内、例えば100(μm)程度である。
【0022】
なお、前記抵抗体22は、例えばカーボン等から成り、所望の特性値が得られるように適宜の厚さ寸法、幅寸法、及び長さ寸法で設けられたものである。この抵抗体22も、例えば上記の配線20と同様に樹脂基板12に設けられた例えば30(μm)程度の深さ寸法の凹所内に埋め込まれた状態で充填形成されている。
【0023】
ところで、上記のように構成された配線基板10は、例えば、図3に示される工程に従って製造される。以下、各工程における実施状態を説明するための図4、図5を参照しつつ、この工程図に従って配線基板10の製造方法を説明する。
【0024】
先ず、樹脂含浸工程40においては、例えばロール等に円筒形に巻き取られた一様な幅寸法で長尺のガラス織布42を一端から引き出しつつ樹脂ワニス中を通過させることにより、そのガラス織布42に樹脂を含浸させる。次いで、乾燥工程46においては、これを樹脂の種類毎に予め定められた所定の乾燥温度で乾燥処理を施す。これにより、その樹脂がBステージ化させられ、図4(a)に示されるようなガラス織布42が樹脂44で覆われ且つその織目にも樹脂44が含浸させられたプリプレグ48が得られる。得られたプリプレグ48は、例えば後工程で利用し易いように一定の長さ毎に切断された矩形の薄板の状態で保管され、或いは、切断することなく巻き取りロールに巻き取られて保管される。本実施例においてはこのプリプレグ48が樹脂基板素材に相当する。
【0025】
なお、上記ガラス織布42は、例えば互いに平行な複数本の経糸およびそれに直交し且つ互いに平行な複数本の緯糸が平織に織られることによって構成されたものであって、経糸および緯糸は、例えば5〜10(μm)程度の直径を有する単繊維が100〜500本程度撚られたものである。ガラス織布42の厚さ寸法は例えば44(μm)程度であり、ガラス織布42表面における樹脂44の付着量は例えば乾燥後に7〜8(μm)程度となる。そのため、一枚のプリプレグ48の厚さ寸法は、例えば60(μm)程度である。また、上記樹脂ワニスは、例えばエポキシ樹脂を有機溶剤で一定の粘度となるように希釈したものである。
【0026】
一方、型内面樹脂塗布工程50では、プリプレグ48に前記の溝24を形成するための一対の成形型52(すなわち上型52a,下型52b)を用意し、プリプレグ48側に位置させられることとなるその内面54の全面に樹脂を塗布する(図4(b)参照)。この樹脂は、例えば前記の樹脂44と同じ樹脂を溶剤で希釈したものである。次いで、乾燥工程56においてその樹脂の種類に応じて定められる所定の温度で加熱することにより、その溶剤が揮発させられると共に樹脂がBステージ化させられ、樹脂膜58が生成される。なお、成形型内面54には、前記配線20の平面形状に一致する平面形状の凸部60が備えられている。内面54の底面からこの凸部60上面までの高さ寸法は、例えば30(μm)程度、すなわち溝24の深さ寸法に一致する。
【0027】
また、成形型52には、その外周縁に沿って凸部60よりも高い例えば内面54から成形したい板厚に合わせて30〜1(mm)程度の高さ寸法の枠部62が備えられている。この枠部62は、上記のように液状樹脂を塗布するに際して、外側に流出させること無く十分に厚い樹脂膜58を形成するために設けられており、本実施例においては、液状樹脂を塗布した後、ドクターブレード等で掻き取ることによって、樹脂膜58が枠部62の上面と同一高さに表面が位置するように形成されている。また、成形型52は、例えばSUS304等のステンレス鋼から成り、内面54の底面から裏面までの厚さ寸法が0.4(mm)程度の薄板である。
【0028】
図3に戻って、加熱・加圧工程64では、例えば真空熱プレス装置の所定位置に上記一対の成形型52a,52bおよびプリプレグ48を配置し、そのプリプレグ48を真空中で加熱しつつその成形型52a,52b間で加圧する。図4(b)は、この工程の実施状態を模式的に表した断面図である。図において、上型52aおよび下型52bは、それぞれの内面54がプリプレグ48に向かう向きで配置され、図に矢印P、Pで示されるように互いに接近する方向に加圧される。また、成形型52はプレス装置の支持板74上に載せられているが、その支持板74上には、その成形型52の外周縁或いはプリプレグ48の外周縁に接するように或いはそれらから僅かに離隔するようにシール材80が載せられると共に、更にその外周側にスペーサ82が載せられている。本実施例においては、スペーサ82が第1スペーサに、シール材80が第2スペーサにそれぞれ相当する。
【0029】
上記のシール材80は、例えばシリコーン等のゴム材料から成るものであって、例えば、紙面に垂直な方向における長さ寸法が300〜500(mm)程度、紙面の左右方向における幅寸法が2(mm)程度で、紙面の上下方向すなわちプリプレグ48の厚さ方向における高さ寸法が2(mm)程度の寸法を備えた略直方体形状の弾性体である。図5に示すように、このシール材80は平面視が矩形を成す成形型52の四辺に沿って4本が配置されている。上記長さ寸法は、この成形型52の各辺において、その4つの角からL=5〜10(mm)程度だけ辺に沿って後退した位置に両端が位置するように定められたものである。このため、成形型52は、その四隅の部分の他はその外周縁がシール材80によって略取り囲まれている。
【0030】
また、上記のスペーサ82は、例えばSUS304等から成り、例えば、図4の紙面に垂直な方向における長さ寸法が300〜500(mm)程度、紙面の左右方向における幅寸法が10(mm)程度、紙面の上下方向における高さ寸法(すなわち厚さ寸法)が1.1〜1.8(mm)程度の略直方体形状を成すものである。この高さ寸法は、前述したような300(μm)〜1(mm)程度の基板厚みを得るために定められたものであって、成形型52の厚さ寸法が0.4(mm)程度であることから、基板厚みに一対の成形型52の厚さ寸法を加算した値になっている。上述したシール材80の高さ寸法は、初期的にはこのスペーサ82の高さ寸法よりも十分に大きい値であって、且つそのスペーサ82と同じ高さ寸法になるまで弾性的に押し縮められ得るように設定されたものである。なお、図4(b)においては、シール材80の頂部が上側に位置する支持板74の下面から離隔して描かれているが、図に示されるように配置した段階において、シール材80上に支持板74が乗っていても(すなわち接触していても)差し支えない。また、上記スペーサ82の長さ寸法は、例えば図5に示すようにスペーサ82の長さ方向に沿った成形型52の一辺の長さ寸法よりも十分に大きい値に定められている。なお、各図において各部の寸法比は必ずしも正確ではなく、例えば、本図および後述する図6においては、図示の都合上、シール材80およびスペーサ82の高さ寸法が幅寸法に比べて誇張されている。
【0031】
加熱・加圧工程64は、上記のように成形型52やスペーサ82等が配置された状態で実施され、成形条件は、温度が例えば160〜220(℃)の範囲内、例えば180(℃)程度であり、圧力が0.98〜3.92(MPa)すなわち10〜40(kgf/cm2)の範囲内、例えば2(MPa)程度である。なお、図4(b)においては、説明の都合上3枚のプリプレグ48を相互に離隔した状態で示しているが、積層枚数は所望とする基板厚みに応じて定められるものであり、また、実際には相互に密着した状態で成形型52,52間に配置される。このようにして加熱および加圧された結果、プリプレグ48の樹脂44および樹脂膜58が共に軟化させられ、Cステージに移行する過程で一体化させられる。すなわち、例えば300(μm)程度の厚さ寸法を備えた前記の樹脂基板12が得られる。前述したように、一枚のプリプレグ48の厚さ寸法は60(μm)程度に過ぎないので、必要な基板厚みを得る目的で複数枚のプリプレグ48が積層されているのである。図4(c)は加圧および加熱の完了段階を示しており、図において一点鎖線は一体化させられる前のプリプレグ48および樹脂膜58の境界位置を表している。
【0032】
この加熱および加圧の過程において、成形型52a,52bは、支持板74がスペーサ82に押し当てられるまで接近させられるので、最も接近したときにおけるそれらの相互間隔は、そのスペーサ82の高さ寸法に応じて定められる値に制限される。すなわち、内面54の底面相互の間隔が基板厚みに一致するまで接近させられるため、一様な基板厚みが得られる。このとき、成形型52,52間で過剰となった樹脂44(および樹脂膜58)は、軟化させられることによって十分な流動性を有しているため、成形型52,52の間から外周側に流れ出ようとする。しかしながら、成形型52の周囲には、シール材80が略密接して配置されていることから、成形型52の各辺の中間部を通した樹脂44の流出が妨げられるので、樹脂44はシール材80が配されていない成形型52の角部のみから流れ出ることとなる。しかも、シール材80は、加圧の初期段階から支持板74に弾性的に押圧されることから、角部を除くそのシール材80が設けられている範囲ではシール材80が支持板74に密着させられることでシールされるため、一層確実なシール効果が得られる。
【0033】
この結果、加圧過程における樹脂44の過剰流出が抑制されるので、成形型52,52相互の接近がスペーサ82によって制限されていても、成形型52内で樹脂44が不足し延いては樹脂欠損に至ることが好適に抑制される。なお、シール材80はゴム材料から成るものであって加圧されることによって容易に押し縮められるため、成形型52,52の相互接近を何ら妨げず、加圧終了時には、スペーサ82と同一の高さ寸法となる。
【0034】
しかも、成形型52,52が相互に接近させられる際には、その傾きが生ずることがシール材80によって抑制されることから、上型52aは略水平を保ったまま下型52bに接近させられるので、プリプレグ48の全面が略均等に押圧されることとなる。このため、加圧過程において局部的に押圧されることに起因する厚みばらつきや樹脂欠損等も好適に抑制される。このように、本実施例においては、上記のシール材80によって樹脂流出が制限されている。
【0035】
なお、図4(b)においては、一対の成形型52,52のみを示しているが、真空熱プレス装置は、例えば成形型52の多段積みが可能な装置構成となっている。図6は、その多段積みの構成を模式的に示したものである。図において、複数対例えば10〜20対程度の成形型52,52が、複数枚の支持板74を介して積層されている。支持板74は、例えばSUS430等から成るものであって、例えば1(mm)程度の厚さ寸法を備えた平坦な薄板である。成形型52は、例えば離型フィルムを介して支持板74に密着させられており、成形後に樹脂基板12を成形型52,52と共に容易に取り出し得るようになっている。また、上記10〜20段の成形型52および支持板74は、上下から熱板76,76で挟まれている。この熱板76はプレス装置の図示しない加熱源に接続されている。本実施例のプレス装置は、このような熱板76,76で挟まれた構造が、例えば10段程度重ねられたものである。そのため、加熱および加圧処理をするに際しては、熱板76および支持板74を介して各成形型52に熱が伝達され、成形型52から与えられる加圧力および加熱によってプリプレグ48の加熱成形が行われる。したがって、本実施例においては、100〜200枚程度の樹脂基板12が一度の成形工程で成形されることとなる。
【0036】
また、上記のように多段積みとされた構成において、前記のシール材80およびスペーサ82は、一対の成形型52,52毎に備えられている。そのため、多段に積み上げられていても、各成形段における成形型52,52の加圧終了時における相互間隔はスペーサ82の高さ寸法によって定められる一定の値になる。しかも、各対の成形型52,52間からの樹脂流出も、各段毎に備えられているシール材80で前述したように制御される。したがって、多段に積み上げられていても、1段の場合と同様に樹脂の過剰流出延いては樹脂欠損は何ら生じない。このように、本実施例においては、成形型52,52の接近挙動や樹脂流出等が各成形段毎に制御されているので、多段積みして一括して加圧成形することにより、厚み寸法精度が高く且つ樹脂欠損の無い樹脂基板12を極めて高い効率で成形することができる利点がある。なお、各段のシール材80およびスペーサ82の配設位置は、例えば各熱板76間毎に略同一の面方向位置となるように設定される。
【0037】
加熱・加圧工程64が終了して成形型52から樹脂基板12を取り外した後、穿孔工程66においては、レーザ孔開け装置やNC工作盤等を用いて、その樹脂基板12の所定位置にスルーホール28が設けられる。図4(d)は、スルーホール28が設けられた段階を表している。なお、図から明らかなように、樹脂基板12はその表面が成形型内面54に倣った形状に形成されており、その表面14,裏面16には、凸部60に倣った溝24が形成されている他は、うねりや凹凸等が何ら生じていない。
【0038】
次いで、導体塗布工程68においては、樹脂基板12の溝24が形成された表面14および裏面16に、例えば銀ペースト等の導体ペースト84を塗布し、溝24からはみ出した余剰分を例えばスキージ等で掻き取って除去する。図4(e)は、例えばスクリーン印刷法を用いて導体ペースト84を塗布している状態を表している。なお、この工程では、スルーホール28内および溝24内に同時に導体ペースト84を塗布してもよいが、流動性の高い導体ペースト84を用いないとスルーホール28内への充填が不十分になるような場合には、溶剤を異なるものとして別々に塗布してもよい。また、必要であれば、図に示されるように樹脂基板12の裏面側から吸引することによってスルーホール28内へのペースト流入を容易にすることもできる。そして、乾燥工程70において、導体ペースト中の溶剤が全て揮発させられる所定の温度、例えば100〜180(℃)の範囲内の温度で加熱する。これにより、溝24内で導体が硬化させられ、前記の配線20が形成される。すなわち、前記の配線基板10が得られる。
【0039】
要するに、本実施例によれば、一対の成形型52,52の成形面54は、それらの外周側に配置されたスペーサ82によって最小間隔が制限されるため、その成形型52,52間で押し潰されつつ硬化させられることによって得られる樹脂基板12は、そのスペーサ82の高さ寸法によって定められる一定の厚さ寸法に成形される。このとき、プリプレグ48は、加熱されることによって樹脂44の流動性が高められると共に加圧されることによって厚み方向に押し縮められることにより、樹脂44が外周側へ流れようとするが、その流出はその成形型52の外周縁に沿って配置されたシール材80によって抑制される。そのため、プリプレグ48から樹脂44が流れ過ぎることがないので、スペーサ80で成形型52,52相互の接近が制限されていても周縁部等における樹脂量不足に起因する欠損が生じ難いことから、真空下で加熱加圧されることによって気泡の発生が抑制されることと相俟って樹脂欠損等の欠陥を伴うことなく、スペーサ82の高さ寸法を適宜定めるだけで容易に種々の厚さ寸法の樹脂基板12が得られる。また、シール材80は加圧されることによって押し縮められるため、成形型52,52がスペーサ82によって定められた相互間隔まで接近することを何ら妨げない。したがって、本実施例によれば、種々の寸法・形状の樹脂基板12を高い厚さ寸法精度で製造することができる。
【0040】
しかも、本実施例によれば、成形型52の成形面54には凸部60が設けられていることから、この成形面54で加圧された樹脂基板12の表面には、その凸部60を反転した平面形状の凹溝24が形成される。そのため、この溝24内に導体ペースト84を埋め込んで硬化させることにより、所望の配線パターンが形成されるので、種々の寸法・形状を有し且つ一面に所定パターンで配線20を備えた配線基板10を高い厚さ寸法精度で製造することができる。しかも、導体ペースト84が埋め込まれる溝24は成形型52に設けられている凸部60でプリプレグ48を押圧して形成されるものであってその凸部60の平面形状が忠実に反転させられたものとなるので、簡単な製造工程で配線20のパターン精度の高い配線基板10が得られる利点もある。
【0041】
また、本実施例によれば、溝24内に導体ペースト84を塗布する際に同時にスルーホール28内にも塗布されることにより、基板10の両面に設けられた配線20を相互に接続するための貫通導体30が形成されるため、配線基板10の製造が容易になる利点がある。
【0042】
また、本実施例によれば、複数対の成形型52,52が多段積みされた状態で加熱加圧工程64が実施されることから、複数枚の樹脂基板12を同時に加圧成形できる利点がある。このとき、前述したようにスペーサ82によって各段の樹脂基板12の厚さ寸法が制御されると共に、加圧過程において上型52aの傾きがシール材80で好適に抑制されることから、厚さ寸法が一様で樹脂欠損の無い樹脂基板12を容易に高精度で製造できる利点がある。
【0043】
また、本実施例によれば、シール材80が成形型52の角部を除く全周囲に配置されることから、各辺の中間部からの樹脂流出が抑制され且つ角部から適度に流出させられることによって成形型52,52間からの樹脂流出が好適に制御されるため、一層厚み寸法精度が高められ且つ樹脂欠損が生じ難い利点がある。
【0044】
また、本実施例においては、シール材80がシリコーン等のゴム材料で構成されるため、適度な弾性を備えていることから加熱加圧成形時におけるプリプレグ48の変形に好適に追従して押し縮められると共に、基板成形時の加熱温度において変質しないことから樹脂基板12の品質に影響することの無い利点がある。
【0045】
以上、本発明を図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施できる。
【0046】
例えば、実施例においては、配線基板10の製造方法に適用された場合について説明したが、本発明は、樹脂基板12上に膜形成する種々の基板に適用することができる。例えば、光導波樹脂を溝24に充填して光導波基板を製造する場合にも、本発明は同様に適用され得る。
【0047】
また、実施例においては、シール材80が成形型52の外周縁等に接して設けられていたが、加圧成形時の成形型54相互の接近を妨げること無く樹脂の流出が適当に制御される限りにおいて、成形型52から離隔した位置に配置されていてもよく、反対に、成形型内面54の外周縁部にプリプレグ48に接して或いは適当な距離だけ離隔して配置されていても良い。
【0048】
また、シール材80は、成形型52の全周のうち四隅を除く部分に配置されていたが、加圧成形時の樹脂流出の妨げにならなければ、外周縁全体に設けることもでき、或いは、四隅に代えて各辺の中間部等に樹脂流出口を設けても良い。
【0049】
また、実施例においては、スペーサ82の厚さ寸法が1.1〜1.8(mm)程度に設定されていたが、その厚さ寸法は、配置される位置や成形型54寸法および成形しようとする基板厚み等に応じて適宜定められるものである。また、実施例ではスペーサ82が成形型54の外周側に配置されることから、その厚さ寸法が基板厚みに一対の成形型52の厚さ寸法を加算した値に設定されていたが、例えば成形型内面54上にスペーサ82を配置することも可能であり、その場合には、例えば基板厚みから成形型52の凸部60の高さ寸法を減じた大きさにスペーサ厚みが定められる。
【0050】
また、実施例においては、樹脂基板12の表面に形成された溝24内に導体配線20が埋込形成されていたが、平坦な基板表面に凸に配線等が形成される樹脂基板の製造方法にも本発明は同様に適用される。このような場合には、成形型52に代えて加圧面(すなわち成形面)が平坦な成形型を用いればよい。
【0051】
また、実施例においては、樹脂基板12の両面に配線20が設けられた両面配線基板10の製造方法に本発明が適用されていたが、片面のみに配線20が設けられる基板や、そのような基板が多数枚積層される等によって製造される多層配線基板の製造方法等にも本発明は適用され得る。なお、片面のみに配線20が設けられる場合等には、樹脂基板12の片面のみに溝24が備えられていれば足りるので、成形型52もその片面に対応する一方の成形面54のみに凸部60を設ければよい。
【0052】
また、実施例においては、成形型52が厚さ寸法0.4(mm)程度のSUS薄板で構成されていたが、通常のプレス成形に用いられるような厚さ寸法の大きな成形型を用いても差し支えなく、耐熱性および耐圧性が十分に備わっている限りにおいて、他の材質から成る成形型が用いられても差し支えない。なお、シール材80およびスペーサ82の高さ寸法は、前述したように成形型の厚さ寸法および得ようとする基板厚みに応じて定められるものであるので、成形型厚みの大きなものを用いる場合には、それに応じてこれらの高さ寸法が設定される。
【0053】
また、実施例においては、加熱・加圧成形が真空熱プレスで行われていたが、加圧成形後の基板に気泡が混入する等の不都合が生じ難く、或いは、気泡等の混入が問題とならない場合には、必ずしも真空下で加熱・加圧する必要はない。
【0054】
また、実施例においては、ガラス織布42を骨格とする樹脂基板12を用いた配線基板10の製造方法に本発明が適用された場合について説明したが、骨格となる布はアラミド等の他の材料から成るものであっても差し支えなく、また、織布でなく不織布であっても差し支えない。また、ガラス織布42等の骨格を構成するものを有しない樹脂基板12であっても、流動性の低い樹脂が使用される場合等には、本発明が好適に適用される。
【0055】
また、樹脂基板12を構成する樹脂は、実施例で示したエポキシ樹脂の他、他の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等、基板の用途に応じて適宜のものを用い得る。
【0056】
また、実施例においては、配線20の表面が樹脂基板12の表面と同一平面に位置させられていたが、配線基板10の用途により、僅かに凹または凸になっていても差し支えない。
【0057】
また、実施例においては、複数枚のプリプレグ48が積層されることによって比較的厚い樹脂基板12が製造されていたが、その積層枚数は用途に応じて定められるものであり、一枚のプリプレグ48を単独で加熱および加圧して成形してもよい。
【0058】
また、実施例においては、多段積みによって多数枚の樹脂基板12が同時に成形される場合について説明したが、1枚だけを順次成形するような場合にも本発明は適用され得る。
【0059】
また、実施例においては、シール材80がシリコーン・ゴム等のゴム材料から成るものであったが、シール材80は、適度に弾性的に押し縮められ且つ成形時の加熱温度で変質し難いものであれば種々のものが好適に用いられる。
【0060】
その他、一々例示はしないが、本発明は、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加えて実施し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の導体埋込配線基板の製造方法を適用して製造された配線基板の一例を示す斜視図である。
【図2】図1の配線基板の断面構造の要部を説明する図である。
【図3】図1の配線基板の製造工程の要部を説明するための工程図である。
【図4】(a)〜(e)は、図3の要部段階における実施状態を説明するための断面図である。
【図5】図3の加圧加熱工程の実施状態を模式的に表した平面図である。
【図6】図3の加熱加圧工程における成形型および基板素材の配置状態の一例を説明するための断面図である。
【符号の説明】
10:配線基板(膜埋込型基板)
12:樹脂基板
20:配線(膜)
24:溝(凹所)
42:ガラス織布
48:プリプレグ(樹脂基板素材)
52:成形型
54:内面[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a resin substrate and a film-coated substrate having a film such as a conductor wiring fixed on a surface thereof.
[0002]
[Prior art]
For example, there is known a wiring board in which one or a plurality of layers of conductive wiring is provided inside or on one side or both sides of a synthetic resin substrate. For example, on one or both sides of an injection-molded synthetic resin sheet or a fiber-reinforced resin sheet obtained by impregnating and curing a synthetic resin in a cloth (especially a woven cloth), copper plating, copper paste application, copper foil etching, etc. One example is a single-sided or double-sided wiring board provided with conductor wiring, a multilayer wiring board in which a plurality of double-sided wiring boards are laminated via an insulating layer provided with a through conductor, and the like. Such a wiring board is used, for example, for a printed wiring board or a semiconductor package of an electronic device (for example, see Patent Documents 1 and 2).
[0003]
The cloth is, for example, a woven or nonwoven fabric made of inorganic fibers such as glass fibers or organic fibers such as aramid fibers, and is formed of, for example, a warp made of twisted single fibers (monofilaments). And the weft are woven in a plain weave, for example. As the synthetic resin, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, a phenol resin, a polyester resin, a silicone resin, and a polyurethane resin is generally used. For example, a substrate using glass woven fabric and epoxy resin is called a glass epoxy substrate.
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-6-209151
[Patent Document 2]
JP-A-11-186698
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional method of manufacturing a substrate as described above, in the case of injection molding, a substrate having high dimensional accuracy can be manufactured, but a molding die must be prepared for each size and shape of the substrate. However, there is a disadvantage that the cost of manufacturing the substrate is increased because the molding die is expensive. On the other hand, when the cloth is impregnated with a resin, the prepreg in a semi-cured state (ie, the B stage) is heated while being pressurized to shift to a cured state (ie, the C stage), so that the resin substrate having various sizes and shapes is formed. Can be manufactured relatively inexpensively, but it is difficult to control the thickness dimension after pressure molding. The pressure molding of the prepreg is performed singly or by laminating a plurality of the prepregs according to the thickness of the substrate to be manufactured. Is unstable because it can fluctuate due to various factors such as the liquidity of the product.
[0006]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a resin substrate having various dimensions and shapes and a film-coated substrate having a film such as a wiring pattern on one surface thereof having a high thickness. An object of the present invention is to provide a method capable of manufacturing with dimensional accuracy.
[0007]
[First means for solving the problem]
In order to achieve such an object, the gist of the first invention is a method of manufacturing a resin substrate having a predetermined thickness, wherein (a) one sheet or one sheet is formed between molding surfaces of a pair of molds. Disposing a semi-cured resin substrate material composed of a plurality of sheets superposed on each other; and (b) forming a first spacer for limiting a minimum value of a mutual interval between the molding surfaces to the predetermined thickness dimension. A first spacer arranging step of arranging the molding surface at a predetermined position on the outer peripheral side of the resin substrate material; and (c) setting the molding surface at a predetermined position on the inner peripheral side of the first spacer in the periphery of the resin substrate material. A second spacer arranging step of arranging a second spacer which is elastically compressed in the process of being brought close to each other, and (d) applying pressure while heating between the pair of molds under vacuum. The material is of the predetermined thickness A heating and pressing step of molding and curing the law is to include.
[0008]
[Effect of the first invention]
In this case, since the minimum spacing between the molding surfaces of the pair of molds is limited by the first spacer, the resin substrate material that is cured while being crushed between the molds has a high height of the first spacer. It is formed into a resin substrate having a constant thickness dimension determined by the thickness dimension. At this time, the resin substrate material is heated to increase the fluidity of the resin, and is compressed in the thickness direction by being pressed, so that the resin tends to flow to the outer peripheral side. Since there is a second spacer elastically compressed around the resin substrate material, the outflow thereof is suppressed by the second spacer, that is, the resin outflow restricting member. Therefore, since the resin does not flow too much from the resin substrate material, even if the first spacer is restricted from approaching the molding dies, it is unlikely that defects due to the insufficient amount of resin in the peripheral portion and the like are likely to occur. The thickness of the first spacer can be easily determined by appropriately setting the height of the first spacer without causing defects such as resin defects, in combination with the suppression of the generation of bubbles by being heated and pressurized. Is obtained. Since the second spacer is compressed by being pressed, it does not prevent the mold from approaching the mutual space defined by the first spacer at all, and furthermore, both upper and lower surfaces of the second spacer are in contact with the pressing surface. Due to the close contact, resin outflow is suitably suppressed. Therefore, resin substrates of various sizes and shapes can be manufactured with high thickness dimensional accuracy.
[0009]
[Second means for solving the problem]
Further, the gist of the second invention for achieving the above object is a method of manufacturing a film-coated substrate having a predetermined thickness in which a film having a predetermined function is provided on one surface in a predetermined plane shape. (A) a semi-cured resin substrate material consisting of one or a plurality of mutually laminated molding surfaces of a pair of molding dies having a convex portion having the predetermined planar shape on one molding surface; And (b) a first spacer arranging step of arranging a first spacer for limiting the minimum value of the mutual distance between the molding surfaces to the predetermined thickness dimension at a predetermined position on the outer peripheral side of the resin substrate material. And (c) a second spacer elastically compressed in a process of bringing the molding surfaces closer to the minimum value at a predetermined position on the inner peripheral side of the first spacer in the periphery of the resin substrate material. A second spacer disposing step of disposing (D) the resin substrate material is formed into the predetermined thickness by heating and pressing between the pair of molds under vacuum, and the one surface pressed by the one forming surface at the same time as being cured. Forming a groove in the predetermined planar shape to obtain a resin substrate, and (e) forming a film by embedding a constituent material of the film in the groove of the resin substrate. And to include.
[0010]
[Effect of the second invention]
With this configuration, as described above, the first spacer and the second spacer (that is, the resin outflow restricting member) are disposed and the resin substrate material is heated while being pressed, so that the resin substrate having an arbitrary size and shape is high. It can be manufactured with thickness dimensional accuracy. At this time, since a convex portion is provided on one molding surface of the pair of molds, the surface of the resin substrate pressed by this molding surface has a predetermined planar shape in which the convex portion is inverted. A concave groove is formed. Therefore, by embedding a predetermined film constituent material in this groove, a film having a predetermined planar shape is formed.Therefore, a film-coated substrate having various dimensions and shapes and having a film on one surface in a predetermined pattern is used. It can be manufactured with high thickness dimensional accuracy. Moreover, the film is formed by being embedded in the groove, and the groove is formed by pressing the resin with the convex portion provided in the molding die, and the planar shape of the convex portion is faithfully inverted. Because of this, there is also an advantage that a film-coated substrate with high film pattern accuracy can be obtained by a simple manufacturing process. In addition, as a result of using such a film forming method, there is no waste of film constituent materials and no etching or plating compared to a film forming method of attaching a metal foil to the entire surface of the substrate and forming a pattern by etching. There is an advantage that there is no increase in environmental load due to waste liquid treatment or the like. Furthermore, since the film is buried in the groove of the substrate and does not become convex on the surface thereof, there is an advantage that mounting and multilayering of electronic components and the like are facilitated.
[0011]
[Another aspect of the second invention]
Here, in the second invention, preferably, the method for manufacturing a substrate with a film includes a step of forming a through hole penetrating in a thickness direction at a predetermined position of the resin substrate, and the film forming step includes: This is a wiring forming step of forming the conductor wiring having the predetermined planar shape by applying a conductive paste in the groove and simultaneously forming the through conductor by applying the conductive paste in the through hole. In this case, when the multilayer wiring board is manufactured by forming the conductor wiring and simultaneously connecting the wirings provided on both sides of the board, or laminating a plurality of the wiring boards and fixing them together. In this case, the through conductor for connecting the conductor wirings of the plurality of wiring boards to each other is formed, and thus there is an advantage that the manufacturing of the wiring board is facilitated.
[0012]
[Other aspects of the first and second inventions]
In the first and second inventions, preferably, the heating and pressurizing step includes laminating a plurality of laminates of the pair of molds, the resin substrate material, the first spacer, and the second spacer. At the same time, pressure is applied while heating. In this case, there is an advantage that a plurality of resin substrates can be simultaneously pressure-formed. That is, according to the present invention, since the first spacer is arranged on the outer peripheral side of the resin substrate material, the thickness dimension of the resin substrate to be molded is determined by the height dimension of the first spacer. Therefore, even if a plurality of sets are superimposed and pressed from above and below, variations in the thickness of the resin substrate material and differences in the fluidity of the resin cannot affect the thickness of the resin substrate. It is possible to manufacture a resin substrate as a material of the attached substrate with high thickness dimensional accuracy. Further, according to the present invention, since the molding surface shape of the molding die is flat or substantially flat with only the low protrusion having the thickness dimension of the wiring provided, the molding die is particularly thick. No need to do. Therefore, when such a thin mold is used, the thickness dimension can be kept relatively small even when a plurality of sets are overlapped, so that there is an advantage that more resin substrates can be molded at the same time and mass productivity is excellent.
[0013]
Preferably, in the second spacer disposing step, the second spacer is disposed on a portion of the periphery of the resin substrate material except for a predetermined range of a corner thereof. In this case, the excess resin due to being crushed by the mold easily flows out from the corner to the outer peripheral side. Therefore, since the flow of the resin is appropriately allowed, the uniformity of the resin thickness is further improved on the inner peripheral side of the second spacer, so that a resin substrate or a film-coated substrate having higher thickness dimensional accuracy can be obtained.
[0014]
The predetermined range is, for example, a range from a corner of the resin substrate material to a length of about 10 (mm) along a side thereof.
[0015]
Preferably, the resin substrate material is obtained by impregnating a cloth with a resin. In other words, since the cloth is impregnated with the resin, the flow of the resin is hindered by the cloth, so that the thickness of the fiber-reinforced resin substrate tends to vary or the resin is deficient. The present invention is suitably applied to a substrate with a film such as a wiring substrate provided with a film. More preferably, the fabric is a woven fabric, more preferably, woven with inorganic fibers such as glass fibers. Since such a resin substrate material has a particularly low fluidity of the resin, the effect of applying the present invention is more remarkably obtained.
[0016]
Preferably, the second spacer is made of a rubber material such as silicone rubber or fluorine rubber. Since these rubber materials have appropriate elasticity, they can be pressed and shrunk appropriately following the deformation of the resin substrate material at the time of heat and pressure molding, and have sufficient heat resistance which does not change at the heating temperature at the time of molding the resin substrate. Therefore, there is an advantage that the quality is not affected even if it is arranged in contact with the resin substrate material. The heating temperature during molding is, for example, generally 170 to 200 (° C.), and at most 220 (° C.) or less.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0018]
FIG. 1 is a perspective view showing an
[0019]
As described later, the
[0020]
The
[0021]
Further, as shown in FIG. 1, a circular or
[0022]
The
[0023]
Meanwhile, the
[0024]
First, in the
[0025]
The glass woven
[0026]
On the other hand, in the mold inner surface
[0027]
Further, the molding die 52 is provided with a
[0028]
Returning to FIG. 3, in the heating / pressing
[0029]
The sealing
[0030]
The
[0031]
The heating / pressing
[0032]
In this heating and pressurizing process, the
[0033]
As a result, excessive outflow of the
[0034]
In addition, when the molding dies 52, 52 are brought close to each other, the occurrence of the inclination is suppressed by the sealing
[0035]
Although FIG. 4B shows only a pair of molding dies 52, 52, the vacuum heat press device has a device configuration capable of, for example, stacking the molding dies 52 in multiple stages. FIG. 6 schematically shows the configuration of the multi-stack. In the figure, a plurality of pairs of
[0036]
Further, in the multi-stack configuration as described above, the
[0037]
After the heating / pressing
[0038]
Next, in a
[0039]
In short, according to the present embodiment, since the minimum distance between the molding surfaces 54 of the pair of molding dies 52, 52 is limited by the
[0040]
Moreover, according to the present embodiment, since the
[0041]
Further, according to the present embodiment, when the conductive paste 84 is applied in the
[0042]
Further, according to the present embodiment, since the heating and
[0043]
Further, according to the present embodiment, since the sealing
[0044]
Further, in this embodiment, since the sealing
[0045]
As described above, the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in other embodiments.
[0046]
For example, in the embodiment, the case where the present invention is applied to the method of manufacturing the
[0047]
Further, in the embodiment, the sealing
[0048]
In addition, the sealing
[0049]
Further, in the embodiment, the thickness dimension of the
[0050]
In the embodiment, the
[0051]
Further, in the embodiment, the present invention is applied to the method for manufacturing the double-
[0052]
In the embodiment, the forming
[0053]
Further, in the embodiment, the heating and pressure molding was performed by the vacuum hot press. However, inconveniences such as bubbles being mixed in the substrate after the pressure molding are unlikely to occur, or the mixing of bubbles and the like is a problem. If not, it is not always necessary to heat and pressurize under vacuum.
[0054]
In the embodiment, the case where the present invention is applied to the method of manufacturing the
[0055]
In addition, as the resin constituting the
[0056]
Further, in the embodiment, the surface of the
[0057]
Further, in the embodiment, a relatively
[0058]
Further, in the embodiment, the case where a large number of
[0059]
In the embodiment, the sealing
[0060]
Although not specifically exemplified, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the spirit of the invention.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a wiring board manufactured by applying the method for manufacturing a conductor-embedded wiring board of the present invention.
FIG. 2 is a diagram illustrating a main part of a cross-sectional structure of the wiring board of FIG. 1;
FIG. 3 is a process diagram for describing a main part of a manufacturing process of the wiring board of FIG. 1;
4 (a) to 4 (e) are cross-sectional views for explaining an implementation state at a main part stage in FIG. 3;
FIG. 5 is a plan view schematically showing an implementation state of a pressure heating step of FIG. 3;
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining an example of an arrangement state of a molding die and a substrate material in the heating and pressing step of FIG.
[Explanation of symbols]
10: Wiring substrate (embedded film substrate)
12: Resin substrate
20: Wiring (film)
24: groove (recess)
42: Glass woven cloth
48: Prepreg (resin substrate material)
52: Mold
54: Inside
Claims (5)
一対の成形型の成形面の相互間に一枚または相互に重ね合わされた複数枚から成る半硬化状態の樹脂基板素材を配置する工程と、
前記成形面の相互間隔の最小値を前記所定厚さ寸法に制限するための第1スペーサを前記樹脂基板素材の外周側の所定位置に配置する第1スペーサ配置工程と、
前記樹脂基板素材の周囲のうち前記第1スペーサよりも内周側の所定位置に前記成形面が前記最小値まで相互に接近させられる過程で弾性的に押し縮められる第2スペーサを配置する第2スペーサ配置工程と、
真空下において前記一対の成形型間で加熱しつつ加圧することにより前記樹脂基板素材を前記所定厚さ寸法に成形し且つ硬化させる加熱加圧工程と
を、含むことを特徴とする樹脂基板の製造方法。A method of manufacturing a resin substrate having a predetermined thickness,
A step of arranging a resin substrate material in a semi-cured state composed of one or a plurality of sheets superimposed on each other between molding surfaces of a pair of molds,
A first spacer arranging step of arranging a first spacer at a predetermined position on an outer peripheral side of the resin substrate material, for limiting a minimum value of a mutual interval between the molding surfaces to the predetermined thickness dimension;
A second spacer is provided at a predetermined position on the inner peripheral side of the first spacer in the periphery of the resin substrate material, the second spacer being elastically compressed during the process of bringing the molding surfaces closer to the minimum value. Spacer placement step,
Heating and pressurizing the resin substrate material to the predetermined thickness by applying pressure while heating between the pair of molds under vacuum, and a heating and pressurizing step of curing the resin substrate material. Method.
一方の成形面に前記所定の平面形状の凸部を有する一対の成形型の成形面の相互間に一枚または相互に重ね合わされた複数枚から成る半硬化状態の樹脂基板素材を配置する工程と、
前記成形面の相互間隔の最小値を前記所定厚さ寸法に制限するための第1スペーサを前記樹脂基板素材の外周側の所定位置に配置する第1スペーサ配置工程と、
前記樹脂基板素材の周囲のうち前記第1スペーサよりも内周側の所定位置に前記成形面が前記最小値まで相互に接近させられる過程で弾性的に押し縮められる第2スペーサを配置する第2スペーサ配置工程と、
真空下において前記一対の成形型間で加熱しつつ加圧することにより前記樹脂基板素材を前記所定厚さ寸法に成形し且つ硬化させると同時に前記一方の成形面で加圧されたその一面に前記所定の平面形状の溝を形成して樹脂基板を得る加熱加圧工程と、
前記樹脂基板の前記溝内に前記膜の構成材料を埋め込むことによりその膜を形成する膜形成工程と
を、含むことを特徴とする膜付基板の製造方法。A method for manufacturing a film-coated substrate having a predetermined thickness dimension in which a film having a predetermined function is provided in a predetermined planar shape on one surface,
A step of arranging a semi-cured resin substrate material composed of one or a plurality of mutually laminated molding surfaces between the molding surfaces of a pair of molding dies having the predetermined planar shape convex portion on one molding surface; ,
A first spacer arranging step of arranging a first spacer at a predetermined position on an outer peripheral side of the resin substrate material, for limiting a minimum value of a mutual interval between the molding surfaces to the predetermined thickness dimension;
A second spacer is provided at a predetermined position on the inner peripheral side of the first spacer in the periphery of the resin substrate material, the second spacer being elastically compressed during the process of bringing the molding surfaces closer to the minimum value. Spacer placement step,
The resin substrate material is molded to the predetermined thickness by being heated and pressurized between the pair of molds under vacuum, and is cured while the predetermined surface is pressed on the one molding surface. A heating and pressurizing step of obtaining a resin substrate by forming a groove having a planar shape of
Forming a film by embedding a constituent material of the film in the groove of the resin substrate to form the film.
前記膜形成工程は、前記溝内に導体ペーストを塗布することにより前記所定の平面形状の導体配線を形成すると同時に前記スルーホール内に導体ペーストを塗布することにより貫通導体を形成する配線形成工程である請求項2の膜付基板の製造方法。Forming a through hole in a predetermined position of the resin substrate in the thickness direction,
The film forming step is a wiring forming step of forming a conductor conductor having a predetermined planar shape by applying a conductor paste in the groove and simultaneously forming a through conductor by applying the conductor paste in the through hole. 3. A method for manufacturing a substrate with a film according to claim 2.
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JP2003036903A JP2004243688A (en) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | Method for producing resin substrate and method for producing substrate with film |
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Cited By (1)
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JP2013175583A (en) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | Curved surface substrate and method of manufacturing curved surface substrate |
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- 2003-02-14 JP JP2003036903A patent/JP2004243688A/en active Pending
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