JP2000307246A - Manufacture of circuit forming substrate and material thereof - Google Patents

Manufacture of circuit forming substrate and material thereof

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JP2000307246A
JP2000307246A JP11762299A JP11762299A JP2000307246A JP 2000307246 A JP2000307246 A JP 2000307246A JP 11762299 A JP11762299 A JP 11762299A JP 11762299 A JP11762299 A JP 11762299A JP 2000307246 A JP2000307246 A JP 2000307246A
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substrate material
substrate
forming
circuit
manufacturing
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JP11762299A
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Toshihiro Nishii
利浩 西井
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To secure board thickness precision by providing a gap forming process for hollowing one part or plural parts in a part of a substrate material before a press process for compressing the substrate material in a thickness direction. SOLUTION: Resin films 12 that can be peeled are laminated on both faces of a substrate material 1 using the composite material of thermosetting resin 2 and aramid fiber 3. The resin films 12 and the substrate material 1 are irradiated with laser 4 and a through hole 5 is formed. The through hole 5 is filled with conduction paste 6 by using the means of printing and the like. Circular gap parts 7 are formed in the substrate material 1 by mechanical punching by a die punch, The resin films 12 are peeled and the substrate material 1 is sandwiched by metallic foils 8a and 8b. It is heated and pressurized by using a heat pressing device. Thermosetting resin 2 is melted, molded and is cured. A peripheral part is cut in a desired size, the metallic foils 8a and 8b are patterned and a circuit 9 is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路形成基板の製
造方法および回路形成基板材料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board and a material for the circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の小型化・高密度化に伴
って、電子部品を搭載する回路形成基板も従来の片面基
板から両面、多層基板の採用が進み、より多くの回路を
基板上に集積可能な高密度回路形成基板の開発が行われ
ており、層間の接続方法についても種々の方法が提案さ
れており、例えばレーザによる微細な穴加工と導電性ペ
ースト等の接続手段を用いて層間接続を行う回路形成基
板も提案されている(特開平6−268345号公報
等)。
2. Description of the Related Art With the recent miniaturization and high-density of electronic equipment, circuit-forming boards on which electronic components are mounted have been increasingly adopted from conventional single-sided boards to double-sided, multi-layer boards. Development of a high-density circuit formation substrate that can be integrated into a substrate has been carried out, and various methods of connecting layers have been proposed, for example, using a fine hole processing by a laser and a connecting means such as a conductive paste. A circuit forming substrate for performing interlayer connection has also been proposed (JP-A-6-268345).

【0003】また、基板を用いるユーザー側の要望とし
ては高周波回路あるいは高速動作回路への使用を前提と
して完成基板の板厚精度をより精密なものとすることが
必要とされている。
[0003] In addition, as a demand of a user who uses a substrate, it is necessary to make the thickness accuracy of a completed substrate more precise on the premise that the substrate is used for a high-frequency circuit or a high-speed operation circuit.

【0004】回路形成基板を製造するプロセスとしては
基板材料に穴あけ、必要に応じてペースト充填等の加工
を行い、単層あるいは複数層の積層を行った後に、熱プ
レスを用いて圧縮、一体化成型および基板材料に用いた
樹脂の硬化を行う方法がよく使用される。
[0004] As a process of manufacturing a circuit forming substrate, holes are formed in a substrate material, processing such as filling of paste is performed as necessary, a single layer or a plurality of layers are laminated, and then compressed and integrated using a hot press. A method of molding and curing the resin used for the substrate material is often used.

【0005】この場合、回路形成基板の板厚は基板材料
そのものの板厚ばらつきと熱プレス時の圧縮の均一性に
よってほとんど決定されるものである。
In this case, the thickness of the circuit-forming substrate is almost determined by the thickness variation of the substrate material itself and the uniformity of the compression during hot pressing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら通常の基
板材料はガラスあるいは有機繊維等からなる補強材に熱
硬化性樹脂を含浸しBステージ化したものであり、熱プ
レスによる圧縮が行われた際に熱硬化樹脂が外側に流れ
出すことによって厚み方向の圧縮が行われるために、基
板材料の周辺部は厚みが薄くなりやすく中央部は比較的
厚くなりやすいという傾向を示す。
However, a normal substrate material is a B-stage made by impregnating a thermosetting resin into a reinforcing material such as glass or organic fiber, and when the material is compressed by a hot press. Since the thermosetting resin flows outward to compress in the thickness direction, the peripheral portion of the substrate material tends to have a small thickness and the central portion tends to have a relatively large thickness.

【0007】通常のガラスエポキシプリント配線板に用
いるガラス繊維織布のようなXY方向に規則的に繊維が
存在する織布を補強材に用いた場合には、熱硬化樹脂が
補強材中を熱プレス時に流れる際の流動抵抗が比較的小
さいために前述の傾向は現れにくいが、不織布を補強材
に用いた場合には流動抵抗が大きいために中央部の圧縮
が周辺部に比べて少なくなるという現象が確認される。
When a woven fabric having fibers regularly present in the XY directions, such as a glass fiber woven fabric used for a normal glass epoxy printed wiring board, is used as a reinforcing material, the thermosetting resin causes heat to flow through the reinforcing material. The above tendency is unlikely to appear because the flow resistance when flowing during pressing is relatively small, but when a nonwoven fabric is used as a reinforcing material, the compression in the central part is less than in the peripheral part because the flow resistance is large. The phenomenon is confirmed.

【0008】特に、従来の技術で示したような圧縮によ
り電気的な導通が発現する導電性ペーストを基板材料に
形成した穴内に充填して層間の接続に用いるような工法
では層間の接続に必要な圧縮量は厳密にコントロールす
る必要があり、圧縮が不十分であると層間の接続信頼性
が確保できない場合がある。その必要精度は基板の特性
確保のためにユーザーが求めるスペックより遥かに高い
ものが求められる。
[0008] In particular, in a method of filling a hole formed in a substrate material with a conductive paste which exhibits electrical conduction by compression as shown in the prior art and using the paste for connection between layers, it is necessary for connection between layers. It is necessary to strictly control the amount of compression, and if the compression is insufficient, the connection reliability between layers may not be ensured. The required accuracy is required to be much higher than the specifications required by the user to ensure the characteristics of the substrate.

【0009】本発明は回路形成基板の品質としての板厚
精度を確保すると共に信頼性の高い回路形成基板の製造
法および材料を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method and a material for manufacturing a circuit-forming board, which can ensure the thickness accuracy as the quality of the circuit-forming board and have high reliability.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の回路形成基板の
製造方法においては、単一あるいは複数の材質より構成
される基板材料を用いて回路形成基板を製造する際に、
基板材料を厚み方向に圧縮するプレス工程を含み、前記
プレス工程より前に前記基板材料の一部を一箇所あるい
は複数箇所くり抜く空隙形成工程を備えたことを特徴と
したものである。
In the method of manufacturing a circuit forming substrate according to the present invention, when a circuit forming substrate is manufactured using a substrate material composed of a single material or a plurality of materials,
The method includes a pressing step of compressing the substrate material in the thickness direction, and a gap forming step of hollowing out one or more portions of the substrate material before the pressing step.

【0011】本発明によれば、プレス工程での基板材料
の圧縮を均一あるいは効率的なものとし、回路形成基板
の板厚精度を確保するとともに層間接続の信頼性を高め
ることが可能となるものである。
According to the present invention, the compression of the substrate material in the pressing step can be made uniform or efficient, and the thickness accuracy of the circuit forming substrate can be ensured and the reliability of interlayer connection can be improved. It is.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、単一あるいは複数の材質より構成される基板材料を
用いて回路形成基板を製造する際に、基板材料を厚み方
向に圧縮するプレス工程を含み、前記プレス工程より前
に前記基板材料の一部をくり抜く空隙形成工程を備えた
ことを特徴とする回路形成基板の製造方法としたもので
あり、空隙形成工程にて形成した空隙がプレス時に基板
材料が流れ込むキャビテイとなるためにプレスによる圧
縮時に均一な圧縮が実現できるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to the first aspect of the present invention, when manufacturing a circuit forming substrate using a substrate material composed of a single material or a plurality of materials, the substrate material is compressed in the thickness direction. A press forming step, and a method of manufacturing a circuit forming board, characterized by comprising a gap forming step of hollowing out a part of the substrate material before the pressing step. Since the voids serve as cavities into which the substrate material flows during pressing, uniform compression can be achieved during compression by pressing.

【0013】本発明の請求項2に記載の発明は、基板材
料の一部を複数箇所くり抜く空隙形成工程を備えたこと
を特徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製造方法
としたものであり、空隙形成工程にて形成した空隙がプ
レス時に基板材料が流れ込む複数のキャビテイとなるた
めにプレスによる圧縮時に均一な圧縮が効率よく実現で
きるものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a circuit-formed substrate according to the first aspect, further comprising a step of forming a plurality of voids in a part of the substrate material. Since the voids formed in the void forming step serve as a plurality of cavities into which the substrate material flows during pressing, uniform compression can be efficiently realized at the time of pressing by pressing.

【0014】本発明の請求項3に記載の発明は、空隙が
円形状である請求項1に記載の回路形成基板の製造方法
としたものであり、プレス時に基板材料が周囲から均等
に流れ込むキャビテイとなるためにプレスによる圧縮時
に均一な圧縮が効率よく実現できるものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a circuit-formed substrate according to the first aspect, wherein the voids have a circular shape. Therefore, uniform compression can be efficiently realized at the time of compression by a press.

【0015】本発明の請求項4に記載の発明は、プレス
工程が加熱を伴う加圧であり、基板材料を溶融し成型し
たのち熱硬化させる、いわゆる熱プレスであることを特
徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製造方法とし
たものであり、基板材料が熱により溶融するために空隙
に基板材料が流れ込む作用が効率良く行われるものであ
る。
The invention according to claim 4 of the present invention is characterized in that the pressing step is pressurization accompanied by heating, and is a so-called hot press in which the substrate material is melted, molded, and then thermally cured. 1. The method according to claim 1, wherein the substrate material is melted by heat so that the substrate material flows into the voids efficiently.

【0016】本発明の請求項5に記載の発明は、レーザ
ー加工を用いて空隙形成を行うことを特徴とする請求項
1に記載の回路形成基板の製造方法としたものであり、
微細な空隙を正確な位置で形成できるという作用を有す
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a circuit-formed substrate according to the first aspect, wherein the voids are formed by using laser processing.
This has the effect that fine voids can be formed at accurate positions.

【0017】本発明の請求項6に記載の発明は、金型ポ
ンチによる打ち抜き加工を用いて空隙形成を行うことを
特徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製造方法と
したものであり、生産性の向上と、インライン化を容易
に実現できるものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a circuit-formed substrate according to the first aspect, wherein the voids are formed by punching using a die punch. In addition, it is possible to easily realize improvement in productivity and in-line conversion.

【0018】本発明の請求項7に記載の発明は、基板材
料がプリプレグあるいはBステージ樹脂シートと前記プ
リプレグあるいはBステージ樹脂シートの両面あるいは
片面に金属箔を配置したものからなり前記プリプレグあ
るいはBステージ樹脂シートに空隙を形成することを特
徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製造方法とし
たものであり、金属箔には空隙部を設けていないので、
プレス工程でプリプレグあるいはBステージ樹脂シート
が溶融した際に基板材料の外部に流れ出さずに空隙部に
流れ込み、基板材料を挟持している鏡面板などを汚染す
ることなく本発明の効果が発揮できるものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the prepreg or B-stage resin sheet, wherein the substrate material comprises a prepreg or B-stage resin sheet and a metal foil disposed on both or one side of the prepreg or B-stage resin sheet. The method according to claim 1, wherein a void is formed in the resin sheet, and no void is provided in the metal foil.
When the prepreg or the B-stage resin sheet is melted in the pressing step, the prepreg or the B-stage resin sheet does not flow out of the substrate material but flows into the void portion, and the effect of the present invention can be exerted without contaminating the mirror plate or the like sandwiching the substrate material. Things.

【0019】本発明の請求項8に記載の発明は、基板材
料がコア用回路形成基板と前記コア用回路形成基板の片
面あるいは両面にプリプレグあるいはBステージ樹脂シ
ートを配置した積層物と前記積層物の両面あるいは片面
に配置した金属箔からなり、前記プリプレグあるいはB
ステージ樹脂シートのうちひとつもしくは複数に空隙を
形成することを特徴とする請求項1に記載の回路形成基
板の製造方法としたものであり、回路形成基板を基板材
料に加えたことにより、板厚が均一で高品質な多層の回
路形成基板が得られる効果を有する。
The invention according to claim 8 of the present invention is a laminate comprising a core circuit forming substrate and a prepreg or B-stage resin sheet disposed on one or both sides of the core circuit forming substrate and the laminate. Made of metal foil disposed on both sides or one side of the prepreg or B
The method according to claim 1, wherein a void is formed in one or more of the stage resin sheets, and the board thickness is increased by adding the circuit formed substrate to the substrate material. This has the effect of obtaining a uniform and high-quality multi-layer circuit forming substrate.

【0020】本発明の請求項9に記載の発明は、プレス
工程の前に基板材料に貫通あるいは非貫通の穴を形成す
る穴形成工程と導電性ペーストを前記貫通あるいは非貫
通の穴に充填する充填工程を備えたことを特徴とする請
求項1に記載の回路形成基板の製造方法としたものであ
り、基板全体のプレス工程における厚み方向圧縮率の均
一化にともない、導電性ペーストによる層間の接続信頼
性が確保できる。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a hole forming step of forming a penetrating or non-penetrating hole in a substrate material before a pressing step, and filling the penetrating or non-penetrating hole with a conductive paste. 2. A method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 1, further comprising a filling step, wherein the compression ratio in the thickness direction in the pressing step of the entire substrate is made uniform, and the interlayer between conductive layers is formed. Connection reliability can be ensured.

【0021】本発明の請求項10に記載の発明は、導電
性ペーストを充填した貫通あるいは非貫通の穴を除く位
置に空隙を形成することを特徴とする請求項9記載の回
路形成基板の製造方法としたものであり、導電性ペース
トを充填した貫通あるいは非貫通の導通穴の形成位置の
設計自由度および配線収容性を高め、高密度かつ板厚が
均一で高品質な両面あるいは多層の回路形成基板が得ら
れるものである。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a circuit-forming substrate according to the ninth aspect, wherein a void is formed at a position other than a through hole or a non-through hole filled with a conductive paste. High-density, uniform-thickness, high-quality double-sided or multi-layer circuit with improved design flexibility and wiring accommodating position of through or non-through conductive holes filled with conductive paste A formed substrate is obtained.

【0022】本発明の請求項11に記載の発明は、貫通
あるいは非貫通の穴を形成する穴形成工程前に樹脂性フ
ィルムを基板材料にラミネートする工程と、導電性ペー
ストを前記貫通あるいは非貫通の穴に充填する充填工程
の後に前記樹脂性フィルムを基板材料から剥離する工程
を備えたことを特徴とする請求項9記載の回路形成基板
の製造方法としたものであり、貫通あるいは非貫通の穴
の近傍に導電性ペーストのにじみやはみ出しが生じるこ
となく、導電性ペーストを穴内に正確に充填することが
でき、かつ高い導通信頼性と板厚が均一で高品質な両面
あるいは多層の回路形成基板が得られるものである。
[0022] According to the eleventh aspect of the present invention, a step of laminating a resinous film to a substrate material before a hole forming step of forming a penetrating or non-penetrating hole; The method according to claim 9, further comprising a step of peeling the resinous film from the substrate material after the filling step of filling the holes. The conductive paste can be accurately filled in the holes without bleeding or oozing out of the conductive paste near the holes, and high-conductivity and high-quality double-sided or multi-layer circuit formation with uniform plate thickness A substrate is obtained.

【0023】本発明の請求項12に記載の発明は、導電
性ペーストを貫通あるいは非貫通の穴に充填する充填工
程の後に空隙形成工程を備えたことを特徴とする請求項
9に記載の回路形成基板の製造方法としたものであり、
プレス工程の直前である充填工程の後に空隙を形成する
ことで、空隙内での吸湿の要因による基板材料の寸法変
化を最小限とするという作用を有する。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided the circuit according to the ninth aspect, further comprising a void forming step after the filling step of filling the conductive paste into the through holes or the non-through holes. It is a method of manufacturing a formed substrate,
Forming the gap after the filling step immediately before the pressing step has an effect of minimizing a dimensional change of the substrate material due to a factor of moisture absorption in the gap.

【0024】本発明の請求項13に記載の発明は、基板
材料に貫通あるいは非貫通の穴に導電性ペーストを充填
する充填工程の前に空隙形成工程を備えたことを特徴と
する請求項9に記載の回路形成基板の製造方法としたも
のであり、貫通あるいは非貫通の穴に充填された導電性
ペーストの穴から脱落を防ぐとともに、インライン化が
容易で生産性を向上させることができるものである。
According to a thirteenth aspect of the present invention, a void forming step is provided before the filling step of filling a conductive material into a hole penetrating or not penetrating the substrate material. Which can prevent the conductive paste filled in the penetrating or non-penetrating holes from dropping out of the holes, and can be easily in-lined to improve the productivity. It is.

【0025】本発明の請求項14に記載の発明は、基板
材料に貫通あるいは非貫通の穴を形成する穴形成工程の
際に空隙形成工程を備えたことを特徴とする請求項9に
記載の回路形成基板の製造方法としたものであり、貫通
あるいは非貫通の穴に充填された導電性ペーストの穴か
らの脱落を防ぐとともに、空隙形成を穴形成と同時に行
うことで生産性を向上させることができるものである。
The invention according to claim 14 of the present invention is characterized in that a void forming step is provided in a hole forming step of forming a penetrating or non-penetrating hole in a substrate material. A method for manufacturing a circuit-formed substrate, which prevents the conductive paste filled in through-holes or non-through-holes from dropping out of the holes, and improves productivity by forming voids simultaneously with the formation of holes. Can be done.

【0026】本発明の請求項15に記載の発明は、樹脂
性フィルムを基板材料にラミネートする工程の後に空隙
形成工程を備えたことを特徴とする請求項11に記載の
回路形成基板の製造方法としたものであり、貫通あるい
は非貫通の穴に充填された導電性ペーストの穴からの脱
落を防ぐとともに、空隙形成を穴形成と同時に行うこと
で生産性を向上させることができ、さらに導電性ペース
トのにじみやはみ出しが生じることなく、導電性ペース
トを穴内に性格に充填することで高い導通信頼性と板厚
が均一で高品質な両面あるいは多層の回路形成基板が得
られるものである。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a circuit-formed substrate according to the eleventh aspect, further comprising a step of forming a gap after the step of laminating the resinous film on the substrate material. In addition to preventing the conductive paste filled in through or non-penetrating holes from falling out of the holes, productivity can be improved by forming voids simultaneously with the formation of holes, and furthermore, the conductivity can be improved. By filling the conductive paste into the holes without causing bleeding or protrusion of the paste, it is possible to obtain a high-quality double-sided or multilayer circuit-forming substrate having high conduction reliability and a uniform plate thickness.

【0027】本発明の請求項16に記載の発明は、導電
性ペーストを貫通あるいは非貫通の穴に充填する充填工
程と樹脂性フィルムを基板材料から剥離する工程の間に
空隙形成工程を備えたことを特徴とする請求項11に記
載の回路形成基板の製造方法としたものであり、充填工
程の後に空隙を形成することで、空隙内での吸湿の要因
による基板材料の寸法変化を最小限とし、さらに樹脂性
フィルムの存在により貫通あるいは非貫通の穴に充填さ
れた導電性ペーストの穴からの脱落を防ぐとともに導電
性ペーストのにじみやはみ出しが生じることなく、導電
性ペーストを穴内に正確に充填することで高い導通信頼
性と板厚が均一で高品質な両面あるいは多層の回路形成
基板が得られるものである。
The invention according to claim 16 of the present invention comprises a step of forming a gap between the step of filling the conductive paste into the holes penetrating or not penetrating and the step of peeling the resinous film from the substrate material. 12. A method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 11, wherein a gap is formed after the filling step to minimize a dimensional change of the substrate material due to a factor of moisture absorption in the gap. In addition, the presence of the resinous film prevents the conductive paste filled in the penetrating or non-penetrating holes from dropping out of the holes, and prevents the conductive paste from bleeding or protruding. By filling, a high-quality double-sided or multi-layer circuit-formed substrate having a high conduction reliability and a uniform plate thickness can be obtained.

【0028】本発明の請求項17に記載の発明は、プリ
プレグの補強材が不織布からなることを特徴とする請求
項7あるいは8記載の回路形成基板の製造方法としたも
ので、均一な圧縮が得られにくい不織布においても本発
明の構成により均一性が確保でき、不織布の持つ表面平
滑性等のメリットを活用できるという効果を有する。
The invention according to claim 17 of the present invention is the method according to claim 7 or 8, wherein the reinforcing material of the prepreg is made of a nonwoven fabric. The configuration of the present invention has an effect that uniformity can be ensured even in a nonwoven fabric that is difficult to obtain, and advantages such as surface smoothness of the nonwoven fabric can be utilized.

【0029】本発明の請求項18に記載の発明は、空隙
形成工程にて形成する空隙の数あるいは体積が基板材料
の中央部と周辺部で基板材料の単位面積当たりの量とし
て異なることを特徴とする請求項2記載の回路形成基板
の製造方法としたものであり、プレス工程での圧縮性が
基板材料の面内位置で異なる場合に対応して空隙の数お
よび体積を最適化でき、本発明の効果を最大限発揮出来
るものである。
The invention according to claim 18 of the present invention is characterized in that the number or volume of the voids formed in the void forming step differs between the central part and the peripheral part of the substrate material as the amount per unit area of the substrate material. The number and volume of the voids can be optimized corresponding to the case where the compressibility in the pressing step differs at the in-plane position of the substrate material, The effects of the invention can be maximized.

【0030】本発明の請求項19に記載の発明は、基板
材料の中央部が周辺部に比べて空隙形成工程にて形成す
る空隙の数あるいは体積が単位面積当たりの量として多
いことを特徴とする請求項18記載の回路形成基板の製
造方法としたものであり、プレス工程において周辺部は
基板材料外部に基板材料成分が流れ出すため圧縮がし易
く、基板材料中央部は周囲に流れる流動抵抗が大きいた
めに圧縮しづらいという現象に対して、中央部に多く空
隙を設けることにより圧縮性および板厚の均一化が実現
するという効果を有する。
The invention according to claim 19 of the present invention is characterized in that the number or volume of the voids formed in the void forming step in the central portion of the substrate material is larger than that in the peripheral portion as an amount per unit area. A method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 18, wherein in the pressing step, the substrate material component flows out of the substrate material, so that the substrate material component is easily compressed, and the central portion of the substrate material has a flow resistance flowing around. In contrast to the phenomenon that it is difficult to compress because it is large, there is an effect that uniformity of compressibility and plate thickness is realized by providing many voids in the center.

【0031】本発明の請求項20に記載の発明は、基板
材料の周辺部が中央部に比べて空隙形成工程にて形成す
る空隙の数あるいは体積が単位面積当たりの量として多
いことを特徴とする請求項18記載の回路形成基板の製
造方法としたものであり、一例としてコア用回路形成基
板を基板材料の一部に使用した場合にコア用回路形成基
板の表面に形成されている回路パターン形状、回路パタ
ーンの分布等によって基板材料の周辺部が中央部に比べ
て圧縮がしづらいような場合に、周辺部に多く設けた空
隙部がその傾向をキャンセルし圧縮性および板厚の均一
化が実現するという効果を有する。
The invention according to claim 20 of the present invention is characterized in that the number or volume of the voids formed in the void forming step in the peripheral portion of the substrate material is larger than that in the central portion as the amount per unit area. 19. A circuit pattern formed on a surface of a core circuit forming substrate when the core circuit forming substrate is used as a part of the substrate material, as an example. When the peripheral part of the substrate material is harder to compress than the central part due to the shape, circuit pattern distribution, etc., many voids in the peripheral part cancel the tendency and uniformity of compressibility and plate thickness Is realized.

【0032】本発明の請求項21に記載の発明は、プレ
ス工程において基板材料周辺に流れ出す基板材料成分の
量と空隙形成工程で形成する空隙の体積が概略等しいこ
とを特徴とする請求項1記載の回路形成基板の製造方法
としたもので、本発明の効果を最大限に発揮できる空隙
形成の形状、数量等を容易に決定することが出来る効果
を有する。
[0032] The invention according to claim 21 of the present invention is characterized in that the amount of the substrate material component flowing around the substrate material in the pressing step is substantially equal to the volume of the void formed in the void forming step. The method of manufacturing a circuit-formed substrate described above has an effect that the shape, quantity, and the like of void formation that can maximize the effects of the present invention can be easily determined.

【0033】本発明の請求項22に記載の発明は、シー
ト状補強材の一部を一箇所あるいは複数箇所くり抜いて
空隙を形成した後に熱硬化性樹脂を含浸しBステージ化
した、あるいはシート状補強材に熱硬化性樹脂を含浸さ
せBステージ化した後にその一部を一箇所あるいは複数
箇所くり抜いて空隙を形成したことを特徴とする回路形
成基板材料としたもので、本材料を用いることにより容
易に板厚の均一化あるいは圧縮性、層間接続信頼性の確
保等の効果が、製造工程に大きな変更を加えることなく
実現できるものである。
[0033] The invention according to claim 22 of the present invention is that the sheet-like reinforcing material is cut out at one or more places to form voids and then impregnated with a thermosetting resin to form a B-stage. A circuit-forming substrate material characterized in that a reinforcing material is impregnated with a thermosetting resin to form a B-stage, and then a portion thereof is cut out at one or more locations to form a void. The effect of easily making the plate thickness uniform or securing the compressibility and the interlayer connection reliability can be realized without making a significant change in the manufacturing process.

【0034】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図4を用いて説明する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0035】(実施の形態1)図1は本発明の第1の実
施の形態における回路形成基板の製造方法を示す工程断
面図である。基板材料1は図1(a)に示すように熱硬
化性樹脂2とアラミド繊維3の複合材料となっている。
熱硬化性樹脂2は完全に硬化したものではなく、未硬化
分を含むいわゆるBステージ状態であり、基板材料1は
通常プリプレグと呼ばれるものである。本実施の形態に
示す基板材料としてはアラミド繊維不織布に熱硬化性エ
ポキシ樹脂を溶剤で希釈したものを含浸し、若干の加熱
乾燥工程を経てBステージ化したもの等を用いることが
できる。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a process sectional view showing a method for manufacturing a circuit forming substrate according to a first embodiment of the present invention. The substrate material 1 is a composite material of a thermosetting resin 2 and aramid fibers 3 as shown in FIG.
The thermosetting resin 2 is not completely cured, but is in a so-called B-stage state including uncured components, and the substrate material 1 is usually called a prepreg. As the substrate material described in this embodiment, a material obtained by impregnating an aramid fiber nonwoven fabric with a thermosetting epoxy resin diluted with a solvent and then performing a B-stage through a slight heating and drying step can be used.

【0036】また貫通あるいは非貫通の穴の近傍に導電
性ペーストのにじみやはみ出しが生じることなく、導電
性ペーストを穴内に正確に充填するために剥離可能な樹
脂性フィルム12を基板材料1の両面にラミネートす
る。
In order to fill the hole with the conductive paste accurately without causing the conductive paste to bleed or protrude in the vicinity of the penetrating or non-penetrating hole, the resin film 12 is peeled off from both sides of the substrate material 1. Laminate to

【0037】次に図1(b)に示すようにレーザー4を
樹脂性フィルム12と基板材料1上に照射して、貫通穴
5を形成する。
Next, as shown in FIG. 1B, a laser 4 is irradiated onto the resinous film 12 and the substrate material 1 to form a through hole 5.

【0038】次に図1(c)に示すように、印刷等の手
段を用いて導電性ペースト6を貫通穴5に充填する。
Next, as shown in FIG. 1C, the conductive paste 6 is filled in the through holes 5 by means such as printing.

【0039】次に図1(d)に示すように基板材料1に
円形状の空隙部7を形成する。空隙部7の形成方法はイ
ンライン化が容易な金型ポンチによる機械的な打ち抜
き、レーザー等のエネルギービームによる加工等の種々
の方法が可能である。なお、ここでいう空隙部7とは基
板材料1がプリプレグ状態で供給された際に見られるア
ラミド繊維3に熱硬化性樹脂2を含浸もしくはBステー
ジ化した際の小さな隙間すなわち空孔部(図示せず)と
は異なり、プリプレグ状態以後に形成したものをいう。
Next, as shown in FIG. 1D, a circular void 7 is formed in the substrate material 1. Various methods such as mechanical punching with a mold punch that can be easily in-lined and processing with an energy beam such as a laser can be used for forming the gap 7. Here, the voids 7 are small gaps when the aramid fibers 3 are impregnated with the thermosetting resin 2 or B-staged, that is, when the substrate material 1 is supplied in the prepreg state. (Not shown), it is formed after the prepreg state.

【0040】次に図1(e)に示すように、樹脂性フィ
ルム12を剥離したのち金属箔8aと金属箔8bで基板
材料1を挟み込み、熱プレス装置(図示せず)を用いて
加熱加圧する。加熱加圧により熱硬化性樹脂2は溶融し
成型され、その後熱硬化する。その際に図1(f)に矢
印で示したように、基板材料1の周辺部に熱硬化性樹脂
2がはみ出すとともに空隙部7にも流れ込むことによ
り、基板材料1は厚み方向に圧縮される。空隙部7が無
い場合には当然のことながら周辺部の厚みは薄く中央部
は厚い形状に成型されてしまう。これは、中央部付近の
熱硬化性樹脂1が周辺方向に流れるための流動抵抗は周
辺部の熱硬化性樹脂2が基板材料1の外部に流れ出す場
合に比べ格段に大きいことによるものである。この圧縮
作用には前述の空孔部も関連するが周辺部あるいは空隙
部7への流れ込みによる要因のほうが容積的に大きく支
配的な要素となる。図中では空隙部7は完全に熱硬化性
樹脂2で埋まっているが、空隙部7が最終製品として使
用されない部分である場合には完全に埋める必要はな
い。成型後は図1(g)に示すような形状となり導電性
ペースト6によって金属箔8aと金属箔8bは電気的に
接続される。導電性ペースト6による接続の抵抗値さら
にその信頼性は前述の加熱加圧時の圧縮量と深い関連が
あり、基板内で均一な接続抵抗を得るためには、本実施
の形態のように均一な圧縮が得られる製造法が好ましい
ことは当然のことである。次に周辺部を所望の寸法に切
断し、金属箔8を所望の形状にパターンニングして回路
9を形成することにより図1(h)に示すような両面回
路形成基板が得られる。
Next, as shown in FIG. 1 (e), after the resinous film 12 is peeled off, the substrate material 1 is sandwiched between the metal foils 8a and 8b, and heated by using a hot press (not shown). Press. The thermosetting resin 2 is melted and molded by heating and pressing, and then thermoset. At this time, as indicated by the arrow in FIG. 1F, the thermosetting resin 2 protrudes into the peripheral portion of the substrate material 1 and flows into the gap portion 7 so that the substrate material 1 is compressed in the thickness direction. . If there is no gap 7, the peripheral part is naturally thin and the central part is formed into a thick shape. This is because the flow resistance for the thermosetting resin 1 near the center to flow in the peripheral direction is much larger than when the thermosetting resin 2 near the periphery flows out of the substrate material 1. Although the above-mentioned void portion is related to this compression action, the factor caused by the flow into the peripheral portion or the void portion 7 is a larger and more dominant factor in terms of volume. In the figure, the void 7 is completely filled with the thermosetting resin 2, but it is not necessary to completely fill the void 7 when it is a part that is not used as a final product. After the molding, the metal foil 8a and the metal foil 8b are electrically connected by the conductive paste 6 into a shape as shown in FIG. The resistance value of the connection by the conductive paste 6 and its reliability are closely related to the amount of compression at the time of the heating and pressurization described above. In order to obtain a uniform connection resistance within the substrate, a uniform connection resistance as in the present embodiment is used. It goes without saying that a production method capable of obtaining a good compression is preferable. Next, the peripheral portion is cut into a desired size, and the metal foil 8 is patterned into a desired shape to form a circuit 9, thereby obtaining a double-sided circuit forming substrate as shown in FIG.

【0041】本実施の形態の作用は前述したように不織
布を補強材に用いた場合に顕著に現れる。これは一般の
ガラスエポキシ基板に用いるガラス繊維織布では規則的
にXY方向に繊維が存在するために加熱加圧の際に織布
内部を樹脂が流動する抵抗が低いので、厚みばらつきが
生じにくいが、不織布の場合には樹脂が不織布内部を流
動する抵抗がかなり高く厚みばらつきが発生しやすいこ
とによるものである。
The operation of the present embodiment is prominent when a nonwoven fabric is used as a reinforcing material as described above. This is because in a glass fiber woven fabric used for a general glass epoxy substrate, since the fibers are regularly present in the XY directions, the resistance of the resin flowing inside the woven fabric at the time of heating and pressing is low, so that thickness variation does not easily occur. However, in the case of a nonwoven fabric, the resistance of the resin to flow inside the nonwoven fabric is considerably high, and thickness variation easily occurs.

【0042】なお、本実施の形態では両面回路形成基板
について説明したが、工程を複数回繰り返すことにより
多層回路形成基板が得られることはいうまでもない。
In this embodiment, the double-sided circuit forming substrate has been described. However, it is needless to say that a multilayer circuit forming substrate can be obtained by repeating the steps a plurality of times.

【0043】さらに、補強材の無いフィルム状のBステ
ージ材料等を用いた回路形成基板の製造にも適用可能で
ある。
Further, the present invention can be applied to the manufacture of a circuit forming substrate using a film-shaped B-stage material without a reinforcing material.

【0044】また、導電性ペーストを使用しない回路形
成基板についても基板の高周波特性の確保あるいは特に
板厚精度を要望される用途については本発明の基板板厚
を均一にする効果が有効なものとなる。
Also, for a circuit-forming substrate not using a conductive paste, the effect of making the substrate thickness uniform according to the present invention is effective for securing high-frequency characteristics of the substrate or in particular for applications requiring thickness accuracy. Become.

【0045】さらに、金属箔8のサイズは周辺部への熱
硬化性樹脂2の流れ出しが金属箔8の外部に及ぶと熱プ
レス工程で用いる中間板等に付着するような問題を発生
させるので、基板材料1のサイズに対して一回り大きく
するが、その余裕分は製品基板とはならないロスとなる
ため極力小さくしたいという要望があり、本発明の効果
により周辺部への流れ出し量を小さくする、あるいは均
一化することができるため、金属箔8のサイズをより基
板材料1に近付けてロスを少なくし金属箔8をコストダ
ウンすることが可能になる。
Further, the size of the metal foil 8 causes a problem that when the thermosetting resin 2 flows out to the peripheral portion and reaches the outside of the metal foil 8, it adheres to an intermediate plate or the like used in the hot pressing step. Although it is slightly larger than the size of the substrate material 1, there is a demand to reduce the margin as much as possible because the loss does not become a product substrate, and the effect of the present invention is to reduce the amount of flow to the peripheral portion. Alternatively, since the metal foil 8 can be made uniform, the size of the metal foil 8 can be made closer to the substrate material 1 to reduce the loss and reduce the cost of the metal foil 8.

【0046】また、本実施の形態において空隙部7の形
成工程は、空隙部7への吸湿による影響を最小限のため
導電性ペーストの充填後でかつ、穴内の導電性ペースト
の脱落を防ぐため樹脂性フィルムの剥離前に行ったが、
生産性を高めるため貫通穴の加工の際にレーザーにて空
隙を形成することも可能である。
In the present embodiment, the step of forming the gap 7 is performed after the filling of the conductive paste to prevent the conductive paste from dropping in the hole so as to minimize the influence of moisture absorption on the gap 7. It was performed before peeling the resinous film,
In order to increase productivity, it is also possible to form a gap with a laser when processing a through hole.

【0047】(実施の形態2)図2は本発明の第2の実
施の形態における回路形成基板の製造方法を示す工程断
面図である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a process sectional view showing a method of manufacturing a circuit forming substrate according to a second embodiment of the present invention.

【0048】図2(a)に示すようにプリプレグ1に貫
通穴を形成し導電性ペースト6を充填してさらに空隙部
7を形成したものを基板材料の一部として準備する。次
に図2(b)に示すように金属箔8と前述したプリプレ
グおよび2層のコア回路形成基板10を積み重ねて配置
し基板材料とする。その際に必要に応じて各材料間の位
置合わせあるいは仮止め等を行う。
As shown in FIG. 2A, a prepreg 1 in which a through hole is formed, a conductive paste 6 is filled, and a void 7 is formed is prepared as a part of the substrate material. Next, as shown in FIG. 2B, the metal foil 8, the prepreg described above and the two-layer core circuit forming substrate 10 are stacked and arranged to obtain a substrate material. At that time, positioning or temporary fixing between the materials is performed as necessary.

【0049】次に基板材料を熱プレスにより圧縮し、図
2(c)に示すような積層物を形成する。さらに図2
(d)に示すように端面を所定の位置で切断して表面の
金属箔8をエッチング等の方法によりパターンニングし
回路9を形成し、4層の回路形成基板を得る。
Next, the substrate material is compressed by a hot press to form a laminate as shown in FIG. Further FIG.
As shown in (d), the end face is cut at a predetermined position, and the surface metal foil 8 is patterned by a method such as etching to form a circuit 9, thereby obtaining a four-layer circuit forming substrate.

【0050】(実施の形態3)図3は本発明の第3の実
施の形態における回路形成基板材料を示す断面図であ
る。基板材料1は熱硬化性樹脂2とアラミド繊維3の複
合材料となっているプリプレグであり、第1の実施の形
態に示した基板材料1の性状と同一である。ただし、こ
の状態ですでに空隙部7が形成されている。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a sectional view showing a circuit forming substrate material according to a third embodiment of the present invention. The substrate material 1 is a prepreg which is a composite material of the thermosetting resin 2 and the aramid fiber 3, and has the same properties as the substrate material 1 shown in the first embodiment. However, the gap 7 has already been formed in this state.

【0051】この空隙部7の形成については、熱硬化性
樹脂2の含浸前のアラミド繊維不織布状態で加工する、
あるいはプリプレグ状態になってから加工する等種々の
方法が可能で、加工ツールとしてはレーザーもしくはパ
ンチングなどの機械的打ち抜き等を用いることができ
る。
Regarding the formation of the voids 7, processing is performed in the state of an aramid fiber nonwoven fabric before impregnation of the thermosetting resin 2.
Alternatively, various methods such as processing after the prepreg state is obtained are possible, and laser or mechanical punching such as punching can be used as a processing tool.

【0052】本実施の形態では基板材料1は供給された
時点で空隙部7が形成されているため、回路形成基板の
製造中に空隙部加工用の工程を付加することなく、高品
質な回路形成基板の製造が可能になるものである。ただ
し、実施の形態1で述べたような導電性ペーストの印刷
等の工程を製造工程に含む場合は空隙部が問題となる場
合も想定される。その場合は第1の実施の形態のように
工程中に空隙部形成を含めればよい。
In this embodiment, since the gap 7 is formed when the substrate material 1 is supplied, a high-quality circuit can be provided without adding a process for machining the gap during the manufacture of the circuit forming substrate. This makes it possible to manufacture a formed substrate. However, when a process such as printing of a conductive paste as described in the first embodiment is included in the manufacturing process, there may be a case where a void portion becomes a problem. In that case, the formation of a void portion may be included in the process as in the first embodiment.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上のように本発明の回路形成基板の製
造方法および基板材料は、単一あるいは複数の材質より
構成される基板材料を用いて回路形成基板を製造する際
に、基板材料を厚み方向に圧縮するプレス工程を含み、
前記プレス工程より前に前記基板材料の一部を一箇所あ
るいは複数箇所くり抜く空隙形成工程を備えた製造方
法、あるいはシート状補強材に熱硬化性樹脂を含浸させ
Bステージ化した後にその一部を一箇所あるいは複数箇
所くり抜いて空隙を形成した基板材料を用いることによ
り、プレス加工にて基板材料の厚みにばらつきを生じる
ことなく回路形成基板を製造することができ、その結果
として信頼性の高い回路形成基板を提供できるものであ
る。
As described above, the method for manufacturing a circuit-forming substrate and the substrate material according to the present invention use the substrate material when manufacturing a circuit-forming substrate using a substrate material composed of a single material or a plurality of materials. Including a pressing step to compress in the thickness direction,
A manufacturing method having a void forming step of hollowing out a part of the substrate material at one place or a plurality of places before the pressing step, or impregnating a sheet-like reinforcing material with a thermosetting resin to form a B-stage and then a part thereof. By using a substrate material in which voids are formed by hollowing out one or more locations, a circuit-formed substrate can be manufactured without causing variations in the thickness of the substrate material by press working, and as a result, a highly reliable circuit It can provide a formation substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態における回路形成基
板の製造方法の工程断面図
FIG. 1 is a process cross-sectional view of a method of manufacturing a circuit formation substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態における回路形成基
板の製造方法の工程断面図
FIG. 2 is a process cross-sectional view of a method for manufacturing a circuit formation substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施の形態における回路形成基
板材料の断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view of a circuit forming substrate material according to a third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板材料 2 熱硬化性樹脂 3 アラミド繊維 4 レーザー 5 貫通穴 6 導電性ペースト 7 空隙部 8 金属箔 9 回路 10 コア回路形成基板 12 樹脂性フィルム REFERENCE SIGNS LIST 1 substrate material 2 thermosetting resin 3 aramid fiber 4 laser 5 through hole 6 conductive paste 7 void 8 metal foil 9 circuit 10 core circuit forming substrate 12 resin film

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 単一あるいは複数の材質より構成される
基板材料を用いて回路形成基板を製造する際に、基板材
料を厚み方向に圧縮するプレス工程を含み、前記プレス
工程より前に前記基板材料の一部をくり抜く空隙形成工
程を備えたことを特徴とする回路形成基板の製造方法。
When manufacturing a circuit forming substrate using a substrate material composed of a single material or a plurality of materials, the method includes a pressing step of compressing the substrate material in a thickness direction. A method for manufacturing a circuit-forming substrate, comprising: a step of forming a gap for partially cutting out a material.
【請求項2】 基板材料の一部を複数箇所くり抜く空隙
形成工程を備えたことを特徴とする請求項1に記載の回
路形成基板の製造方法。
2. The method according to claim 1, further comprising a step of forming a plurality of voids in a part of the substrate material.
【請求項3】 空隙が円形状である請求項1に記載の回
路形成基板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the gap has a circular shape.
【請求項4】 プレス工程が加熱を伴う加圧であり、基
板材料を溶融し成型したのち熱硬化させる、いわゆる熱
プレスであることを特徴とする請求項1に記載の回路形
成基板の製造方法。
4. The method for producing a circuit-formed substrate according to claim 1, wherein the pressing step is pressurization accompanied by heating, and is a so-called hot press in which the substrate material is melted, molded, and then thermally cured. .
【請求項5】 レーザー加工を用いて空隙形成を行うこ
とを特徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製造方
法。
5. The method according to claim 1, wherein the gap is formed by using laser processing.
【請求項6】 金型ポンチによる打ち抜き加工を用いて
空隙形成を行うことを特徴とする請求項1に記載の回路
形成基板の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the voids are formed by punching using a die punch.
【請求項7】 基板材料がプリプレグあるいはBステー
ジ樹脂シートと前記プリプレグあるいはBステージ樹脂
シートの両面あるいは片面に金属箔を配置したものから
なり前記プリプレグあるいはBステージ樹脂シートに空
隙を形成することを特徴とする請求項1に記載の回路形
成基板の製造方法。
7. A substrate material comprising a prepreg or B-stage resin sheet and a metal foil disposed on both sides or one surface of the prepreg or B-stage resin sheet, wherein a void is formed in the prepreg or B-stage resin sheet. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 1.
【請求項8】 基板材料がコア用回路形成基板と前記コ
ア用回路形成基板の片面あるいは両面にプリプレグある
いはBステージ樹脂シートを配置した積層物と前記積層
物の両面あるいは片面に配置した金属箔からなり、前記
回路形成基板あるいは前記プリプレグあるいはBステー
ジ樹脂シートのうちひとつもしくは複数に空隙を形成す
ることを特徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製
造方法。
8. A laminate comprising a core circuit-forming substrate, a prepreg or a B-stage resin sheet disposed on one or both sides of the core circuit-forming substrate, and a metal foil disposed on both sides or one side of the laminate. 2. The method according to claim 1, wherein a gap is formed in one or more of the circuit forming substrate, the prepreg, and the B-stage resin sheet.
【請求項9】 プレス工程の前に基板材料に貫通あるい
は非貫通の穴を形成する穴形成工程と導電性ペーストを
前記貫通あるいは非貫通の穴に充填する充填工程を備え
たことを特徴とする請求項1に記載の回路形成基板の製
造方法。
9. The method according to claim 1, further comprising a hole forming step of forming a penetrating or non-penetrating hole in the substrate material before the pressing step, and a filling step of filling the penetrating or non-penetrating hole with a conductive paste. A method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 1.
【請求項10】 導電性ペーストを充填した貫通あるい
は非貫通の穴を除く位置に空隙を形成することを特徴と
する請求項9に記載の回路形成基板の製造方法。
10. The method according to claim 9, wherein voids are formed at positions other than through holes or non-through holes filled with a conductive paste.
【請求項11】 貫通あるいは非貫通の穴を形成する穴
形成工程前に樹脂性フィルムを基板材料にラミネートす
る工程と、導電性ペーストを前記貫通あるいは非貫通の
穴に充填する充填工程の後に前記樹脂性フィルムを基板
材料から剥離する工程を備えたことを特徴とする請求項
9に記載の回路形成基板の製造方法。
11. A method of laminating a resin film on a substrate material before a hole forming step of forming a through or non-through hole and a filling step of filling a conductive paste into the through or non-through hole. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 9, further comprising a step of peeling the resinous film from the substrate material.
【請求項12】 導電性ペーストを貫通あるいは非貫通
の穴に充填する充填工程の後に空隙形成工程を備えたこ
とを特徴とする請求項9に記載の回路形成基板の製造方
法。
12. The method according to claim 9, further comprising a void forming step after the filling step of filling the conductive paste into the through or non-through holes.
【請求項13】 基板材料に貫通あるいは非貫通の穴に
導電性ペーストを充填する充填工程の前に空隙形成工程
を備えたことを特徴とする請求項9に記載の回路形成基
板の製造方法。
13. The method for manufacturing a circuit-formed substrate according to claim 9, further comprising a step of forming a gap before the step of filling a conductive paste into a hole penetrating or not penetrating the substrate material.
【請求項14】 基板材料に貫通あるいは非貫通の穴を
形成する穴形成工程の際に空隙形成工程を備えたことを
特徴とする請求項9に記載の回路形成基板の製造方法。
14. The method according to claim 9, further comprising the step of forming a gap in the step of forming a through hole or a non-through hole in the substrate material.
【請求項15】 樹脂性フィルムを基板材料にラミネー
トする工程の後に空隙形成工程を備えたことを特徴とす
る請求項11に記載の回路形成基板の製造方法。
15. The method according to claim 11, further comprising a step of forming a gap after the step of laminating the resinous film on the substrate material.
【請求項16】 導電性ペーストを貫通あるいは非貫通
の穴に充填する充填工程と樹脂性フィルムを基板材料か
ら剥離する工程の間に空隙形成工程を備えたことを特徴
とする請求項11に記載の回路形成基板の製造方法。
16. The method according to claim 11, further comprising a gap forming step between a filling step of filling the conductive paste into the through holes or the non-penetrating holes and a step of peeling the resinous film from the substrate material. A method for manufacturing a circuit-formed substrate.
【請求項17】 プリプレグの補強材が不織布からなる
ことを特徴とする請求項7あるいは8に記載の回路形成
基板の製造方法。
17. The method according to claim 7, wherein the reinforcing material of the prepreg is made of a non-woven fabric.
【請求項18】 空隙形成工程にて形成する空隙の数あ
るいは体積が基板材料の中央部と周辺部で基板材料の単
位面積当たりの量として異なることを特徴とする請求項
2に記載の回路形成基板の製造方法。
18. The circuit forming method according to claim 2, wherein the number or volume of the voids formed in the void forming step differs between the central portion and the peripheral portion of the substrate material as the amount per unit area of the substrate material. Substrate manufacturing method.
【請求項19】 基板材料の中央部が周辺部に比べて空
隙形成工程にて形成する空隙の数あるいは体積が単位面
積当たりの量として多いことを特徴とする請求項18に
記載の回路形成基板の製造方法。
19. The circuit forming substrate according to claim 18, wherein the number or volume of the voids formed in the void forming step in the central portion of the substrate material is larger than the peripheral portion in terms of the amount per unit area. Manufacturing method.
【請求項20】 基板材料の周辺部が中央部に比べて空
隙形成工程にて形成する空隙の数あるいは体積が単位面
積当たりの量として多いことを特徴とする請求項18に
記載の回路形成基板の製造方法。
20. The circuit-forming substrate according to claim 18, wherein the number or volume of the voids formed in the void forming step in the peripheral portion of the substrate material is larger than the central portion in terms of the amount per unit area. Manufacturing method.
【請求項21】 プレス工程において基板材料周辺に流
れ出す基板材料成分の量と空隙形成工程で形成する空隙
の体積が概略等しいことを特徴とする請求項1に記載の
回路形成基板の製造方法。
21. The method according to claim 1, wherein the amount of the substrate material component flowing around the substrate material in the pressing step is substantially equal to the volume of the void formed in the void forming step.
【請求項22】 シート状補強材の一部を一箇所あるい
は複数箇所くり抜いて空隙を形成した後に熱硬化性樹脂
を含浸しBステージ化した、あるいはシート状補強材に
熱硬化性樹脂を含浸させBステージ化した後にその一部
を一箇所あるいは複数箇所くり抜いて空隙を形成したこ
とを特徴とする回路形成基板材料。
22. One or more portions of the sheet-like reinforcing material are cut out to form voids and then impregnated with a thermosetting resin to form a B-stage, or the sheet-like reinforcing material is impregnated with a thermosetting resin. A circuit-forming substrate material, wherein a part of the circuit-forming substrate material is hollowed out at one or more locations after the B-stage.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003009660A1 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and material for manufacturing circuit-formed substrate
JP2006196567A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing circuit formation substrate
WO2006098406A1 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing circuit forming board
JP2011109077A (en) * 2009-10-21 2011-06-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Terminal structure, method of manufacturing the same, electronic device, and method of manufacturing the same
JP2013110230A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Fujitsu Ltd Manufacturing method of laminated circuit board, laminated circuit board, and electronic apparatus

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003009660A1 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and material for manufacturing circuit-formed substrate
US7059044B2 (en) 2001-07-18 2006-06-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and material for manufacturing circuit-formed substrate
JP2006196567A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing circuit formation substrate
WO2006098406A1 (en) * 2005-03-17 2006-09-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing circuit forming board
JP2006261390A (en) * 2005-03-17 2006-09-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing circuit forming board
US7685707B2 (en) 2005-03-17 2010-03-30 Panasonic Corporation Method for manufacturing circuit forming substrate
JP4617941B2 (en) * 2005-03-17 2011-01-26 パナソニック株式会社 Method for manufacturing circuit-formed substrate
JP2011109077A (en) * 2009-10-21 2011-06-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Terminal structure, method of manufacturing the same, electronic device, and method of manufacturing the same
KR101758105B1 (en) 2009-10-21 2017-07-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Terminal structure, electronic device, and manufacturing method thereof
JP2013110230A (en) * 2011-11-18 2013-06-06 Fujitsu Ltd Manufacturing method of laminated circuit board, laminated circuit board, and electronic apparatus
US9445511B2 (en) 2011-11-18 2016-09-13 Fujitsu Limited Method for manufacturing layered circuit board, layered circuit board, and electronic device

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