JP2004243474A - 液晶パネル表面の研削装置および液晶パネル表面の研削方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】液晶パネル表面をその内部破壊が起きないように能率良く研削すること。
【解決手段】研削前の液晶パネル1を載置する回転テーブル2と、回転テーブルに載置された液晶パネルの表面に砥石3を回転しながら下げる砥石支持部材4と、砥石支持部材を回転駆動する砥石回転駆動モータ5と、砥石支持部材に支持された砥石の液晶パネル表面への研削圧を検出する研削圧センサー6と、研削圧センサーから得られた研削圧データを表示する研削圧データ表示部7aと、研削圧データを記憶する複数のメモリ7bと、これら複数のメモリに記憶された最適の研削圧データを選択して取り出すメモリ選択回路7cとを含む制御器7と、制御器を構成するメモリ選択回路によって複数のメモリに記憶された最適の研削圧データを選択入力して駆動し、砥石の液晶パネル表面への研削圧を調整する研削圧調整モータ8とを含んで構成された液晶パネル表面の研削装置。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶パネル表面をその内部破壊が起きないように能率良く研削することができる液晶パネル表面の研削装置および液晶パネル表面の研削方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の液晶表示装置の製造方法として、液晶を充填した液晶表示パネルの外表面を研磨して、研磨前の液晶表面パネルよりも研磨後の液晶表示パネルの基板の厚みを薄くする。また、真空工法にて液晶を注入した液晶表示装置を製造するに際し、一対の基板をシール材にて貼り合わせてセルを形成し、前記シール材を硬化した後でかつセルに液晶を注入する前に前記セルの外表面を研磨して、研磨前のセルよりも研磨後のセルの基板の厚みを薄くする。または、滴下工法にて液晶を注入した液晶表示装置を製造するに際し、少なくとも一方の基板の外周部にシール材を塗布し、前記シール材の内側に液晶を滴下して、他方の基板と貼り合わせて液晶セルを形成し、前記シール材を硬化した後に、前記液晶セルの外表面を研磨して、研磨前の液晶セルよりも研磨後の液晶セルの基板の厚みを薄くする(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
また、従来の液晶表示装置等の精度の高い平坦度、平面度を必要とするガラス板を均一に研磨するガラス板の研磨方法は、複数の研磨円板の中心を遊星回転機構の自転中心から偏心させて取り付け、かつ、研磨円板が公転中心を通過するように偏心回転させて、複数の研磨円板間の相互干渉を回避しつつ公転中心部に研磨不能領域が発生することを防止したことを特徴とする。もう1つのガラス板の研磨方法は、遊星回転する複数の研磨板を楕円形または長方形とし、その回転中心を遊星回転機構の自転中心に一致させて取り付け、かつ、公転中心を通過するように回転させて、複数の研磨板間の相互干渉を回避しつつ公転中心部に研磨不能領域が発生することを防止したことを特徴とする(例えば、特許文献2参照)。
【0004】
また、加圧力を調整しながらラッピングすることにより、仕上げ後に高精度の並行度、平面度を得ると同時に歩留まりを良くすることを目的とし、下ラップ円盤に複数のセンサを設置して、被加工物に加えられている圧力および加えられた圧力による下ラップ円盤の変位を検出し、その圧力および変位の分布に応じて、上ラップ円盤各部に位置するアクチュエータを作動させて、被加工物への加圧を均一に保ち、または被加工物の加圧による変位が均一となるように加圧力をフィードバック制御するようにしたラップ盤がある(例えば、特許文献3参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開2000−305060号公報(要約)
【特許文献2】
特開平7−178655号公報(要約)
【特許文献3】
特開平5−42475号公報(要約)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
前記特許文献1においては、液晶を充填した液晶表示パネルの外表面を研磨して、研磨前の液晶表面パネルよりも研磨後の液晶表示パネルの基板の厚みを薄くする、と記載されているだけで、液晶パネル表面をその内部破壊が起きないように能率良く研削するようにしたことは開示されていない。
また、特許文献2に記載された従来の技術も、液晶パネル表面をその内部破壊が起きないように能率良く研削するようにしたものではない。
また、特許文献3に記載された従来のラップ盤では、砥粒と水が混合された研削剤(遊離砥粒)を使用した加工方法であり、ワークの加工仕上がり状態の検査は、専門的知識と経験を要する熟練作業が必要である。また、ラップ盤ではダイヤの粉や酸化セリウムの粉などの研磨材を水に混合した研削剤(スラリー)を使用しているため、ワークの加工後は、ワークの全面にヘドロ状態に研削剤が付いているので、それを洗浄しなければならない。また、ワークとして液晶パネルをある枚数加工すると、新しい研削剤と交換しなければならない(1枚当たりの研削量および研削枚数により研削剤の交換時期は、研磨材が摩滅するためまちまちである)。研削剤の交換作業は、ラップ盤の加工槽から研削剤の循環タンクまで掃除する必要があり、その作業時間が多くかかる。
本発明は、前記従来技術のような課題を無くし、液晶パネル表面をその内部破壊が起きないように能率良く研削することができる液晶パネル表面の研削装置および液晶パネル表面の研削方法を提供することを課題としたものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、請求項1に係る発明は、研削前の液晶パネル1を載置する回転テーブル2と、この回転テーブル2に載置された液晶パネル1の表面に砥石3を回転しながら下げる砥石支持部材4と、この砥石支持部材4で支持された砥石3を回転駆動する砥石回転駆動モータ5と、前記砥石支持部材4に支持された砥石3の液晶パネル1表面への研削圧を検出する研削圧センサー6と、この研削圧センサー6から得られた研削圧データを表示する研削圧データ表示部7aと、前記研削圧データを記憶する複数のメモリ7bと、これら複数のメモリ7bに記憶された最適の研削圧データを選択して取り出すメモリ選択回路7cとを含む制御器7と、この制御器7を構成するメモリ選択回路7cによって前記複数のメモリ7bに記憶された最適の研削圧データを選択入力して駆動し、前記砥石3の液晶パネル1表面への研削圧を調整する研削圧調整モータ8と、を含んで構成されたことを特徴とする液晶パネル表面の研削装置としたものである。
【0008】
また、請求項2に係る発明は、研削圧センサー6は、液晶パネル1表面を研削するときにかかる研削抵抗を砥石3の回転数に換算して読み取るようにしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル表面の研削装置としたものである。
【0009】
また、請求項3に係る発明は、砥石3は、酸化セリウムの微粉末を含む材料を固めて形成したことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル表面の研削装置としたものである。
【0010】
また、請求項4に係る発明は、予め砥石支持部材に支持された砥石で液晶パネル表面をテスト研削し、液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを予めメモリに記憶させておき、液晶パネル表面の研削に際しては、前記メモリから記憶された最適の研削圧データを取り出し、その研削圧データで、液晶パネル表面を砥石で研削する研削圧を調整する研削圧調整モータを制御するようにしたことを特徴とする液晶パネル表面の研削方法としたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液晶パネル表面の研削装置の実施の形態(図1の(a))および研削圧センサーの平面図(図1の(b))を参照して詳細に説明する。
本発明は、研削前の液晶パネル1を載置する回転テーブル2と、この回転テーブル2に載置された前記液晶パネル1の表面に砥石3を回転しながら下げる砥石支持部材4と、この砥石支持部材4で支持された砥石3を回転駆動する砥石回転駆動モータ5と、前記砥石支持部材4に支持された砥石3の液晶パネル1表面への研削圧を検出する研削圧センサー6と、この研削圧センサー6から得られた研削圧データを表示する研削圧データ表示部7aと、前記研削圧データを記憶する複数のメモリ7bと、これら複数のメモリ7bに記憶された最適の研削圧データを選択して取り出すメモリ選択回路7cとを含む制御器7と、この制御器7を構成するメモリ選択回路7cによって前記複数のメモリ7bに記憶された最適の研削圧データを選択入力して駆動し、前記砥石3の液晶パネル1表面への研削圧を調整する研削圧調整モータ8とを含んで構成されたことを特徴とするものである。
なお、前記砥石3は、酸化セリウムの微粉末を含む材料を固めて形成したものである(すなわち、固定砥粒である)。
【0012】
前記砥石支持部材4には垂直方向に中空の回転軸4aが配設され、この中空の回転軸4aの下端部に砥石3が支持された砥石フランジ組立体4bが取り付けられ、中空の回転軸4aの上端部にプーリー(またはスプロケット)4cと研削圧センサー6を形成する歯車状の円板6aが取り付けられている。この研削圧センサー6は、砥石3で液晶パネル1の表面を研削するときに中空の回転軸4aにかかる研削抵抗を砥石3の回転数に換算して読み取るようにしたものであり、前記歯車状の円板6aの歯車状部を挟むようにセンサー素子6bが配設されている。このセンサー素子6bは、発光素子と受光素子とを対向配設して歯車状の円板6aの回転数を検出する光電素子、または磁気の変化によって歯車状の円板6aの回転数を検出する電磁素子とする。
【0013】
また、前記砥石支持部材4を構成する中空の回転軸4aを回転自在に支持する支持部4dにはアーム4eを介して前記砥石回転駆動モータ5が取り付けられ、この砥石回転駆動モータ5の回転軸に取り付けられたプーリー(またはスプロケット)5aと前記中空の回転軸4aの上端部のプーリー(またはスプロケット)4cとの間にベルト(またはチェーン)9が掛けられている。また、前記制御器7の複数のメモリ7bに記憶された最適の研削圧データは、メモリ選択回路7cによって選択されてモータ駆動回路10に入力されて増幅され、このモータ駆動回路10の出力信号によって前記研削圧調整モータ8が回転駆動され、この研削圧調整モータ8が回転駆動されると、前記砥石回転駆動モータ5を支持したアーム4eに設けたボール螺子受4fに螺合したボール螺子8aが回転して、前記中空の回転軸4aおよび砥石回転駆動モータ5の支持部4dを下方へ移動する。すなわち、砥石3を回転しながら下げることができる。
【0014】
前記回転テーブル2は、その下面中心に取り付けられた中空の回転軸2aが機枠11に回転自在に支持され、この中空の回転軸2aの下端部にプーリー(またはスプロケット)2bが取り付けられ、機枠11に取り付けられた回転テーブル2の駆動モータ12の回転軸にプーリー(またはスプロケット)12aが取り付けられ、これらプーリー(またはスプロケット)2bとプーリー(またはスプロケット)12aとの間にベルト(またはチェーン)13が掛けられている。
【0015】
前記砥石支持部材4を構成する中空の回転軸4aの中空内には、研削液供給装置15のポンプ15aから研削液が供給され、この研削液は前記砥石フランジ組立体4b内に穿設された研削液通路4gから砥石3の研削液通路3aを通って液晶パネル1の表面に流れる。この液晶パネル1の表面からオーバーフローした研削液は、前記回転テーブル2の外周から皿状受部14に流れ、さらに研削液供給装置15に回収される。
【0016】
前記回転テーブル2上の受部2cに載置された研削前の液晶パネル1は、前記受部2cおよび回転テーブル2に穿設した通気路2d、さらに回転テーブル2の中空の回転軸2aの中空通気路を介して作用するバキュームによって前記受部2cに吸着されている。
【0017】
また、本発明の液晶パネル表面の研削方法は、予め砥石支持部材に支持された砥石で液晶パネル表面をテスト研削し、液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを予めメモリに記憶させておき、液晶パネル表面の研削に際しては、前記メモリから記憶された最適の研削圧データを取り出し、その研削圧データで、液晶パネル表面を砥石で研削する研削圧を調整する研削圧調整モータを制御するようにしたことを特徴とするものである。
【0018】
前記液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを得る方法を以下に説明する。まず、ガラス板の合わせ面に透明電極が配設され、液晶が充填され、周縁部がシール材で貼り合わされた研削前の液晶パネル1を、回転テーブル2に載置し、第1に砥石3の回転数と、第2に回転テーブル2の回転数を選定する。第3に砥石支持部材4とともに砥石3の下降速度を選定する。第4に自動送りをかけて液晶パネル1の表面が鏡面になるまでの砥石3の下降量を選定する。
【0019】
この4つの条件によって、研削前の液晶パネル表面をテスト研削する。そして、研削終了後に、液晶パネルの内部破壊が起きていないかどうかを調べる。内部破壊が起きていれば、前記研削条件を変えて、例えば2〜3回テスト研削し、液晶パネルの内部破壊が起きない最適の研削圧データ(前記研削条件)を前記制御器7の研削データ表示部7aに表示するとともに、メモリ7bに記憶させておく。このテスト研削は、研削前の液晶パネルの種類(研削前のガラス板厚、液晶パネルの大きさ)に応じて、液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを複数入手して、その研削圧データをメモリ7bにメモリ1、メモリ2、メモリ3として複数の研削圧データを記憶させておく。
【0020】
そして、メモリ1に記憶された研削圧データで液晶パネルを研削する場合には、その研削データを制御器7のメモリ選択回路7cで選択し、その研削データ信号をモータ駆動回路10で増幅して、その出力信号で研削圧調整モータ8を回転駆動し、ボール螺子8aを回転させて砥石3を自動送り下降させる。液晶パネルの内部破壊が起きない最適の研削圧条件は、ほとんど砥石3の下降速度で決まるので、この砥石3の下降速度を制御することにより、液晶パネルの内部破壊が起きないように、能率良く研削することができる。
【0021】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したような液晶パネル表面の研削装置および液晶パネル表面の研削方法としたことにより、液晶パネルの表面を、その内部破壊が起きないように能率良く(速く)研削することができる。
また、液晶パネル表面をテスト研削し、液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを予めメモリに記憶させておき、液晶パネル表面の研削に際しては、前記メモリに記憶された最適の研削圧データを取り出し、その研削圧データで、液晶パネル表面を砥石で研削する研削圧を調整する研削圧調整モータを制御するようにしたので、デジタル制御が可能となり、液晶パネル表面を自動的に精度良く研削することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)図は本発明の液晶パネル表面の研削装置の実施の形態を示す図であり、(b)図は研削圧センサーの平面図である。
【符号の説明】
1 液晶パネル
2 回転テーブル
2a 中空の回転軸
2b プーリー(またはスプロケット)
2c 受部
2d 通気路
3 砥石
3a 研削液通路
4 砥石支持部材
4a 中空の回転軸
4b 砥石フランジ組立体
4c プーリー(またはスプロケット)
4d 支持部
4e アーム
4f ボール螺子受
4g 研削液通路
5 砥石回転駆動モータ
5a プーリー(またはスプロケット)
6 研削圧センサー
6a 歯車状の円板
6b センサー素子
7 制御器
7a 研削圧データ表示部
7b メモリ
7c メモリ選択回路
8 研削圧調整モータ
8a ボール螺子
9 ベルト(またはチェーン)
10 モータ駆動回路
11 機枠
12 駆動モータ
12a プーリー(またはスプロケット)
13 ベルト(またはチェーン)
14 皿状受部
15 研削液供給装置
15a ポンプ

Claims (4)

  1. 研削前の液晶パネル(1)を載置する回転テーブル(2)と、
    この回転テーブル(2)に載置された液晶パネル(1)の表面に砥石(3)を回転しながら下げる砥石支持部材(4)と、
    この砥石支持部材(4)で支持された砥石(3)を回転駆動する砥石回転駆動モータ(5)と、
    前記砥石支持部材(4)に支持された砥石(3)の液晶パネル(1)表面への研削圧を検出する研削圧センサー(6)と、
    この研削圧センサー(6)から得られた研削圧データを表示する研削圧データ表示部(7a)と、前記研削圧データを記憶する複数のメモリ(7b)と、これら複数のメモリ(7b)に記憶された最適の研削圧データを選択して取り出すメモリ選択回路(7c)とを含む制御器(7)と、
    この制御器(7)を構成するメモリ選択回路(7c)によって前記複数のメモリ(7b)に記憶された最適の研削圧データを選択入力して駆動し、前記砥石(3)の液晶パネル(1)表面への研削圧を調整する研削圧調整モータ(8)と、
    を含んで構成されたことを特徴とする液晶パネル表面の研削装置。
  2. 研削圧センサー(6)は、液晶パネル(1)表面を研削するときにかかる研削抵抗を砥石(3)の回転数に換算して読み取るようにしたことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル表面の研削装置。
  3. 前記砥石(3)は、酸化セリウムの微粉末を含む材料を固めて形成したことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル表面の研削装置。
  4. 予め砥石支持部材に支持された砥石で液晶パネル表面をテスト研削し、液晶パネルの内部破壊が起きない研削圧データを予めメモリに記憶させておき、液晶パネル表面の研削に際しては、前記メモリから記憶された最適の研削圧データを取り出し、その研削圧データで、液晶パネル表面を砥石で研削する研削圧を調整する研削圧調整モータを制御するようにしたことを特徴とする液晶パネル表面の研削方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009050996A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Psc:Kk バリ取り装置
JP2010052075A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
CN115609478A (zh) * 2022-09-29 2023-01-17 苏州润明恩电子科技有限公司 一种平面度检测机构

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101791782B (zh) * 2010-03-31 2011-09-28 友达光电(苏州)有限公司 研磨装置
CN102981289B (zh) * 2012-11-08 2015-03-04 京东方科技集团股份有限公司 一种加压设备

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009050996A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Psc:Kk バリ取り装置
JP2010052075A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
CN115609478A (zh) * 2022-09-29 2023-01-17 苏州润明恩电子科技有限公司 一种平面度检测机构
CN115609478B (zh) * 2022-09-29 2023-09-12 苏州润明恩电子科技有限公司 一种平面度检测机构

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