JP2004237655A - Alternately laminated moistureproof film, its manufacturing method and alternately laminated moistureproof film with transparent electrode plate - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高度の防湿性を有する交互積層防湿膜、その製造方法、及び透明電極板付きの交互積層防湿膜に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、封止材料、あるいは透明電極板等をその上に形成するための基板として、防湿性を備えた積層膜があった。
【0003】
たとえば、液晶表示素子の透明電極用基板として好適に使用できる、「少なくとも、高分子成形体(A)、酸化珪素、または窒化珪素、または酸化珪素と窒化珪素との混合物からなるガスバリア層(B)、炭化物または遷移金属窒化物からなる薄膜層(C)をABCなる順序で形成した積層体」が提案され、またその一実施例(実施例4)として、ポリカーボネートフィルム(A)上に、シリコンをターゲットにAr:N2=1:1の雰囲気中、圧力0.267Paのもとでの直流スパッタリングにより厚さ15nmの窒化珪素膜(B)を、更にAr雰囲気中、圧力0.267Paのもとでの直流スパッタリングにより厚さ10nmの炭化珪素膜(C)を形成した積層体が開示されている。このように得られた積層体の水蒸気透過度は0.7g/m2/日、光線透過率は78%であった。(特許文献1参照)
【0004】
【特許文献1】
特開平10−58585号公報(第8頁、第2表)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、水蒸気透過度が0.7g/m2/日、光線透過率が78%という値は、封止材料、あるいは透明電極板等をその上に形成するための基板として満足なレベルとは言えない。そこで、本発明の主要な目的は、有機材料の基板上に形成される高度の防湿性を有する交互積層防湿膜、防湿エレクトロルミネッサンス素子並びにそれらの製造方法を、提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る発明の交互積層防湿膜は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11上に形成された無機材料の第1の膜1と;前記第1の膜1上に形成されたフッ化炭素系化学物質の第2の膜2と;前記第2の膜2上に形成された無機材料の第3の膜3とを備える;交互積層防湿膜100である。
【0007】
このように構成すると、水蒸気が、2層の無機材料の膜中に生じた互いに近い位置の欠陥を通過することがほとんどなく、高い防湿性が得られる。更に、2層の無機材料の膜の間にフッ化炭素系化学物質の膜を挟んでおり、更に高い防湿性が得られる。
【0008】
請求項2に係る発明の交互積層防湿膜は、請求項1の交互積層防湿膜の無機材料が、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料である請求項1に記載の交互積層防湿膜である。典型的には第1の膜の無機材料と第3の膜の無機材料とは製造工程の簡略化のため同じものとするが、異なっていても良い。
【0009】
第1の無機材料の膜および第3の無機材料の膜が、低い水蒸気透過度を有する窒化珪素、高度の透明性を有する酸化珪素、窒化珪素と酸化珪素の特徴を併せ持つ窒化酸化珪素、又は低い水蒸気透過度と透明性を有する酸化アルミニウムで形成されていることにより、高度の防湿性と透明性を有する交互積層防湿膜が得られる。
【0010】
請求項3の発明に係る交互積層防湿膜は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11上に形成された無機材料の第1の膜1と;前記第1の膜上に形成された撥水性を有する有機材料の第2の膜2と;前記第2の膜上に形成された無機材料の第3の膜3とを備える;交互積層防湿膜100である。
【0011】
このように構成すると、水蒸気が、2層の無機材料の膜中に生じた互いに近い位置の欠陥を通過することがほとんどなく、高い防湿性が得られる。更に、2層の無機材料の膜の間に撥水性を有する有機材料の膜を挟んでおり、更に高い防湿性が得られる。
【0012】
請求項4の発明に係る交互積層防湿膜は、前記第1の膜又は第3の膜の無機材料が、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料である;請求項3に記載の交互積層防湿膜である。典型的には第1の膜の無機材料と第3の膜の無機材料とは製造工程の簡略化のため同じものとするが、異なっていても良い。
【0013】
第1の無機材料の膜および第3の無機材料の膜が、前述の通りに、低い水蒸気透過度を有する窒化珪素、高度の透明性を有する酸化珪素、窒化珪素と酸化珪素の特徴を併せ持つ窒化酸化珪素、又は低い水蒸気透過度と透明性を有する酸化アルミニウムで形成されていることにより、高度の防湿性と透明性を有する交互積層防湿膜が得られる。
【0014】
請求項5の発明に係る交互積層防湿膜は、前記有機材料の基板が透光性樹脂フィルムであり;交互積層防湿膜の水蒸気透過度が0.05g/m2/日以下である;請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の交互積層防湿膜である。
【0015】
有機材料の基板が透光性樹脂フィルムであるので、交互積層防湿膜としての透明性が得られる。また、交互積層防湿膜の水蒸気透過度が0.05g/m2/日以下であるので、封止材料、あるいは透明電極板等をその上に形成するための交互積層防湿膜として、満足なレベルの防湿性を有する。
【0016】
請求項6に係る発明の交互積層防湿膜の製造方法は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11の上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて無機材料の第1の膜1を形成する工程と;前記第1の膜1上にフッ化炭素系化学物質を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜2を形成する工程と;前記第2の膜2上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜3を形成する工程とを備える;交互積層防湿膜の製造方法である。
【0017】
前記無機材料の第1及び第3の膜並びに前記フッ化炭素系化学物質の第2の膜は、蒸着又はスパッタリングのいずれかの方法で形成される。第1、第2及び第3の膜毎に形成方法が異なっていても良い。蒸着又はスパッタリングにより第1、第2及び第3の膜が形成されるので、本発明の製造方法は、工業的な生産に適している。
【0018】
請求項7に係る発明の交互積層防湿膜の製造方法は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11の上に窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第1の膜1を形成する工程と;前記第1の膜1上にフッ化炭素系化学物質を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜2を形成する工程と;前記第2の膜2上に窒化珪素、酸化珪素又は窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜3を形成する工程とを備える。
【0019】
請求項8の発明に係る交互積層防湿膜の製造方法は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第1の膜1を形成する工程と;前記第1の膜上に撥水性を有する有機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜2を形成する工程と;前記第2の膜上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜3を形成する工程とを備える。
【0020】
前記無機材料の第1及び第3の膜並びに前記撥水性を有する有機材料の第2の膜は、蒸着又はスパッタリングのいずれかの方法で形成される。第1、第2及び第3の膜毎に形成方法が異なっていても良い。蒸着又はスパッタリングにより第1、第2及び第3の膜が形成されるので、本発明の製造方法は、工業的な生産に適している。
【0021】
請求項9に係る発明の交互積層防湿膜の製造方法は、例えば図1に示すように、有機材料の基板11の上に窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第1の膜1を形成する工程と;前記第1の膜1上に撥水性を有する有機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜2を形成する工程と;前記第2の膜2上に窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムからなる群から選択された1種以上の材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜3を形成する工程とを備える。
【0022】
請求項10に係る発明の交互積層防湿膜の製造方法は、前記第2の膜2を形成する工程において、ポリテトラフルオロエチレンを膜の原料とする。なお、膜の原料とは、スパッタリングのターゲットあるいは蒸着の膜の原料のことである。
【0023】
このように構成すると、ポリテトラフルオロエチレンを膜の原料とするので、撥水性の高いフッ化炭素系化学物質の膜が形成できる。
【0024】
請求項11に係る発明の透明電極板付きの交互積層防湿膜は、例えば図4に示すように、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の交互積層防湿膜100と;前記交互積層防湿膜に固着した透明電極板13とを備える;透明電極板付きの交互積層防湿膜である。
【0025】
このように構成すると、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の交互積層防湿膜と透明電極板を備えるので、エレクトロルミネッサンス素子の材料として好適である。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、図1の断面図を参照して、本発明の第1の実施の形態である、交互積層防湿膜につき説明する。
【0027】
本発明に係る交互積層防湿膜100は、一般的に防湿性が高いとは言えない有機材料の基板11上に形成する。
【0028】
本発明に係る交互積層防湿膜が形成される有機材料の基板11には、透明性のほか、蒸着あるいはスパッタリングに耐える耐熱性が要求される。このような特性を有する限り、基板材料樹脂としては、任意のものが用いられる。例えば、ポリアリーレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアミド、セルローストリアセテート、アクリル系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリエステル、ポリイミド、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン、ポリエーテルエーテルケトン、更にこれらの樹脂の組み合わせなどのほか、表面平坦性の良い環状オレフィン系(共)重合体も好適に用いられる。
【0029】
このような有機材料を基に作られた基板11上に、無機材料の第1の膜1を形成する。無機材料を励起して断片(fragments)に分解し、励起された断片を有機材料の基板上に凝縮せしめることにより、無機材料の第1の膜1を形成する。プラズマ化をしたアルゴンや窒素などの供給ガスを膜の原料に衝突せしめて、膜の原料から微小の断片(スパッタ粒子ということもある)が分解されて飛び出る。このスパッタ粒子は主に中性の粒子であり、その一部はプラズマ化される。
【0030】
具体的には、酸化珪素(SiO2)若しくは窒化珪素(Si3N4)を主として含む物質を膜の原料として、不活性ガス雰囲気中でスパッタリングすることにより、酸化珪素若しくは窒化珪素の第1の膜1を形成しても良く、又はアルゴンガス中に酸素ガスを微量に含む雰囲気中で若しくはアルゴンガス中に窒素ガスを微量に含む雰囲気中で反応性スパッタリングすることにより酸化珪素、窒化珪素若しくは酸化窒化珪素の第1の膜1を形成しても良い。あるいは、珪素(Si)単体を膜の原料として、アルゴンガス中に酸素ガスを微量に含む雰囲気中で若しくはアルゴンガス中に窒素ガスを微量に含む雰囲気中で反応性スパッタリングすることにより、酸化珪素若しくは窒化珪素の第1の膜1を形成しても良い。あるいは、酸化アルミニウムを膜の原料として、アルゴンガス雰囲気中でのスパッタリングにより酸化アルミニウムの第1の膜1を形成しても良い。あるいは、アルミニウム単体の膜の原料を、アルゴンガス中に酸素ガスを微量に含む雰囲気中での反応性スパッタリングにより、酸化アルミニウムの第1の膜1を形成しても良い。更には、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムを蒸着することにより、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの第1の膜1を形成しても良い。生成する膜の種類に不足する原子があるときは、後述の反応性スパッタリングのために、酸素ガスや窒素ガスなどを積極的に供給する。
【0031】
図2の模式的断面図を参照して、本発明の実施の形態で使用するスパッタリング装置の一例を説明する。スパッタリングは、図示のように、真空ポンプ42で真空とした真空槽41中に、供給ガス36として不活性ガス(主にアルゴンガス)を導入しながら、該真空槽41中に置かれた電極間に直流高圧電源43により電圧を印加することによって得られるグロー放電を利用するものである。陰極44上に膜の原料であるターゲット31を置き、陰極44と対向して設けられた陽極45上に有機材料の基板33を置く。そこで、直流高電圧を印加することによりプラズマ化された不活性ガス34をターゲット31に衝突させると、ターゲット31は分子あるいは原子レベルの断片35に分解され、弾き飛ばされて有機材料の基板33上で凝縮され、膜32を形成する。膜32の材質は、ターゲット31に対応するものとなるが、後述のポリテトラフルオロエチレンを使った例で分かるように、ターゲットと全く同一になるとは限らない。さらに、供給ガス36として反応性ガス(例えば、アルゴンと窒素の混合ガスあるいはアルゴンと酸素の混合ガス)を流しながら、スパッタリングを行うと(反応性スパッタリング)、該断片と反応性ガス(上記の例では、窒素ガスあるいは酸素ガス)が反応し、合成された成分の膜32が形成される。
【0032】
ここで、形成された膜の窒化珪素は、非化学量論的な組成成分を有し、SixNyで表す。同様に、形成された膜の酸化珪素は、SiOzで、形成された膜の窒化酸化珪素は、SixNyOzで表す。なお、酸化珪素の中でも、一酸化珪素(SiO)であると褐色がかるが、二酸化珪素(SiO2)であれば透明性が高く、実際には、SiOzで、zは1.7程度である。
【0033】
図1に戻って本発明の第1の実施の形態につき、更に説明する。上記のようにして第1の膜1が形成された基板上に、フッ化炭素系化学物質の第2の膜2を形成する。例えば、不活性ガス雰囲気中で、フッ化炭素系化学物質であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を断片(fragments)に分解し、励起された断片を有機材料の基板上に凝縮せしめる。その結果、前記第1の膜1が形成された基板上にフッ化炭素系化学物質、例えば、フッ化炭素(CFx)の第2の膜2が形成される。この場合には、窒素ガスあるいは酸素ガスが不純物として含まれていても良い。生成する膜の種類に不足する原子があるときは、反応性スパッタリングのために、酸素ガスや窒素ガスなどを積極的に供給する。
【0034】
上記のように形成されたフッ化炭素系化学物質の第2の膜2は、JIS R 3257に準拠した接触角が80°以上、好ましくは90°以上であるために充分な撥水性を有するので、前記第2の膜として好適である。本発明の実施例では、接触角は、協和界面科学製自動接触角計「CA−V型」を用いて測定した。
【0035】
なお、前記撥水性を有する有機材料の第2の膜は、JIS R 3257に準拠した接触角が80°以上、好ましくは90°以上、更に好ましくは100°以上の撥水性を有する有機材料の膜であれば良い。
【0036】
このような有機材料の基板上に形成された第1、第2の膜1、2上に、無機材料の第3の膜3を形成する。無機材料の第3の膜3は、上記無機材料の第1の膜1の形成方法と同様に形成する。
【0037】
以上、スパッタリングにて膜を形成する場合について記載したが、蒸着により膜を形成しても良い。蒸着では、膜の原料を真空中で加熱することにより発生した蒸気としての断片が、有機材料の基板上で凝縮して、膜を形成する。
【0038】
無機材料の第1及び第3の膜とフッ化炭素系化学物質の第2の膜をスパッタリングにより形成すると、前記励起された断片が微小であるので、膜が形成された後にも、有機材料の基板の平滑性を損なうことがない。また、前記励起された断片が微小であるために、一般的に水蒸気透過度が低くなる。
【0039】
一方、無機材料の第1及び第3の膜とフッ化炭素系化学物質の第2の膜を蒸着により形成すると、前記励起された断片の基板への凝縮速度が、スパッタリングにより形成する場合の100倍以上となり、生産性が高い。
【0040】
上記の通り、第1の膜から第3の膜1、2、3をスパッタリングにより形成すると、交互積層防湿膜の平滑性は、有機材料の基板11の平滑性に支配される。そこで、交互積層防湿膜に平滑性が要求されるときは、前記第1の膜1を形成する前に、前記有機材料の基板11の表面にフォトポリマーをスピンコートなどの方法で塗布し、紫外線を用いて硬化させ、凹凸をなくす。すると、有機材料の基板11の平滑性が増し、結果として、交互積層防湿膜の平滑性が増すことになる。
【0041】
また、無機材料の第1の膜1及び第3の膜3は、防湿性の観点から、10nm以上の厚さとすることが好ましいが、厚くし過ぎると膜中に亀裂を生じやすく、且つ、透明性が低下するので、10〜300nmの範囲の厚さとするのが好ましい。更に好ましくは、10〜240nmの範囲の厚さとする。フッ化炭素系化学物質の第2の膜2は、撥水性と膜強度の観点から、10〜300nmの厚さとすることが好ましい。更に好ましくは、10〜240nmの範囲の厚さとする。
【0042】
一般的に無機材料の膜は、膜の形成過程において生じた欠陥を水蒸気が通過するために、高度の防湿性が得られにくいという欠点があった。そこで、前記交互積層防湿膜では、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの膜を2層有している。2層の無機材料の膜中の欠陥が、互いに近い位置に生ずることは確率的に極めて低い。更に、前記交互積層防湿膜では、2層の無機材料の膜の間にフッ化炭素系化学物質の膜を挟んでいる。すると、フッ化炭素系化学物質の膜の撥水性のため、第1層目の窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの膜の欠陥を通過した水蒸気が、第2層目の窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの膜の欠陥に到達し、両層の欠陥を通過することは極めて少なくなる。上記の理由により、前記交互積層防湿膜が高度の防湿性を有しているものと解される。なおここで、撥水性とは、接触角が80°以上、好ましくは90°以上、更に好ましくは100°以上の撥水性をいう。
【0043】
次に、本発明の第2の実施の形態である透明電極板付きの交互積層防湿膜について説明する。
【0044】
先ず、図3の断面図を参照して、エレクトロルミネッサンス素子(以降、EL素子と略記する)について説明する。EL素子は、発光層12を透明電極板13と背面電極板14で挟んだ構造を有している。EL素子は、その発光層の材料により、有機EL素子と無機EL素子に大別される。有機EL素子は、発光層12の蛍光体材料にアルミニウム錯体若しくはアントラセンなどの低分子材料又はポリパラフェニレンビニレンの誘導体若しくはポリアセチレンの誘導体などの高分子材料を用いる。一方、無機EL素子は、硫化亜鉛に銅を活性剤として加えたものなどを用いる。
【0045】
透明電極板13及び背面電極板14には直流又は交流の電源に接続されるリード線16が取り付けられ、発光層12に電圧が印加できる仕組みとされている。なお、詳細には、透明電極板と発光層との間に、有機EL素子ではホール輸送層が、無機EL素子では絶縁体層が形成されるが、ここでは、省略して説明する。図3、図4、図5及び図6においても、ホール輸送層や絶縁体層を省略して説明する。
【0046】
EL素子は、透明電極板を含めての配線腐食を防止するため、防湿材で被覆(封止)される。特に、有機EL素子の発光層を構成する蛍光体は、吸湿するとその発光輝度が著しく小さくなるので、高度の防湿性が要求される。また、透明電極板側の防湿材には、防湿性に加えて、透明性も要求される。そこで、高度の防湿性と透明性を有する前記交互積層防湿膜は、透明電極板側の防湿に用いるのに好適である。なお、防湿性が要求され、透明性が要求されない背面電極板側に用いても良い。
【0047】
そこで、図4の断面図に示すように、透明電極板13を前記交互積層防湿膜100に固着する。すなわち、前記交互積層防湿膜100の前記無機材料の第3の膜の上に、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、亜鉛ドープ酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウムなどを、スパッタリング、蒸着、イオンプレーティングなどによって固着する。このような透明電極板を用いて有機EL素子を作ると、予め透明電極板側に防湿材を有するので、EL素子の防湿材での被覆を、早く簡単に行うことができる。
【0048】
次に、例えば図5の断面図に示すように、以上の実施の形態で説明した交互積層防湿膜の用途の一例を説明する。この例では、交互積層防湿膜100a、100bと、前記交互積層防湿膜で包まれたEL素子12、13、14とを備える防湿EL素子について説明する。EL素子は、典型的には、特に高度の防湿性が要求される有機EL素子である。
【0049】
このように構成すると、前記交互積層防湿膜でEL素子を包むので、EL素子を湿気から保護することができ、耐久性の高い防湿EL素子が得られる。
【0050】
更に具体的に、図5の断面図を参照して、前記交互積層防湿膜100で有機EL素子12、13、14を包んだ防湿EL素子について説明する。なお、図5では、リード線は省略してある。
【0051】
前述の通り、有機EL素子は、防湿材で被覆した構造を有しており、少なくとも透明電極板13側の防湿材は透明性を有していることが要求される。
【0052】
そこで、図5(a)に示すように、有機EL素子12、13、14を前記交互積層防湿膜100a、100bで包んだ防湿EL素子は、前記交互積層防湿膜100の高度の防湿性のために、吸湿による有機発光層の発光輝度が小さくなりにくい。また、透明電極板を含めての配線腐食が防止される。更に、前記交互積層防湿膜100は、透明性を有しているために、有機EL素子12、13、14を被覆するのに好適である。
【0053】
なお、透明電極板13側の交互積層防湿膜100aの前記無機材料の第3の膜と、背面電極板14側の交互積層防湿膜100bの前記無機材料の第3の膜との接着部分には、接着剤22を塗布する。該接着剤22により、両層が接着され、また、透明電極板13と背面電極板14との絶縁が行われる。更に、接着剤の外気に接する端面から前記交互積層防湿膜で封止された内部の端面までの長さを前記接着剤の厚さに比べて充分長くとるので、水蒸気が透過することはなく、交互積層防湿膜を接着しても、防湿性は損なわれない。
【0054】
また、図5(b)に示すように、前記交互積層防湿膜100aによりEL素子の透明電極板13側を覆い、他の防湿膜21でEL素子の背面電極板14側を覆っても良い。非発光面側に用いる他の防湿膜21は、石英ガラス基板でもよく、アルミニウムの膜のように透明性を有さない膜でも良い。
【0055】
更に、例えば図6の断面図に示すように、以上の実施の形態で説明した交互積層防湿膜の用途の一例を説明する。この例では、前記交互積層防湿膜100に透明電極板13を固着する工程と、前記交互積層防湿膜100に固着した透明電極板13を用いて、EL素子12、13、14、16を形成する工程とを備える防湿EL素子の製造方法について説明する。
【0056】
このように製造すると、高度の防湿性を有する交互積層防湿膜を有する防湿EL素子が製造される。
【0057】
更に具体的に、図6の断面図を参照して、交互積層防湿膜100に固着した透明電極板13から、有機エレクトロルミネッサンスを製造する工程について説明する。
【0058】
前述の通りに透明電極板13付きの交互積層防湿膜100を製造する。該透明電極板13上に、正孔輸送性材料であるアミン系化合物、ジフェニルナフチルジアミンあるいはトリフェニルメタンなどを蒸着により付着し、不図示のホール輸送層を形成する。次に、該ホール輸送層上に、有機発光層12を形成する。有機発光層12には、アルミニウム錯体若しくはアントラセンなどの低分子系材料又はポリパラフェニレンビニレンの誘導体若しくはポリアセチレン誘導体などの高分子系材料が用いられる。これらの材料の1種を蒸着によりホール輸送層上に付着して、有機発光層12を形成する。高分子系材料の場合には、インクジェット方式などの印刷技術により形成しても良い。有機発光層12の上に、金属カルシウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−リチウム合金などを蒸着して、背面電極板14を形成する。有機発光層に低分子系材料を用いた場合には、アルミニウムを蒸着して背面電極板14を形成しても良い。
【0059】
上述の通りに製造された交互積層防湿膜100をその透明電極板13側に有する有機EL素子12、13、14において、背面電極板14側を金属又は非金属の酸化物の防湿膜21で封止することにより防湿EL素子が製造される。あるいは、これに変え、又はこれに加えて、エポキシ樹脂又はアクリル系紫外線硬化樹脂の硬化物の層を形成して、防湿EL素子を製造しても良い。
【0060】
これまでは、有機EL素子の製造方法について説明したが、交互積層防湿膜に固着した透明電極板を用いて、無機EL素子を製造してもよい。無機EL素子では、透明電極板の上に、チタン酸バリウム粉末をシアノエチルポリビニルアルコールに入れ、N、N’−ジメチルホルムアミドを加えて均一に混合したものをスクリーン印刷などにより付着し、絶縁体層を形成する。その上に、硫化亜鉛に活性剤として銅を加えた蛍光体粉末を、絶縁体層と同様にシアノエチルポリビニルアルコールに入れ、N、N’−ジメチルホルムアミドを加えて均一に混合したものをスクリーン印刷などにより付着し、無機発光層を形成する。その上に、前述と同様に、背面電極板を形成し、防湿膜で封止することにより防湿EL素子が製造される。なお、無機EL素子を封止するときには、有機EL素子を封止するのと同様に接着剤を用いても良いし、必要に応じてホットメルト材、接着性樹脂の層や前記無機材料と親和性のあるセラミック若しくは合金の層を、防湿膜の内面に設けて、前期発光層への熱の影響を抑えながら熱融着や熱溶解をさせても良い。
有機EL素子を封止するときにも前記熱融着や熱溶解を適用することができる。但し、有機EL素子の発光層は、特に熱の影響を受け易いので、前記熱融着や熱溶解の熱の影響を前記発光層に与えないようにして行う。
【0061】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により、本発明の交互積層防湿膜を更に具体的に説明する。
【0062】
まず物性の測定法を説明する。水蒸気透過度は、JIS K 7129Bに準拠して、米国モダンコントロール社製「PERMATRAN3/31」を用いて、40℃、100%RHの条件下で測定した。また、平行光線透過率は、全光線透過率(JIS K 7361−1)とヘーズ(JIS K 7136)から、平行光線透過率=全光線透過率×(1−(ヘーズ/100))として求められる値であって、日本電色工業社製「NDH2000」により測定した。
【0063】
実施例1は、マグネトロンスパッタリング装置(トッキ株式会社製「SPR−403」)を用いて、環状オレフィン樹脂フィルム(日本ゼオン(株)製、商品名「ゼオノアフィルムZF16」:厚さ188μm、表面算術平均粗さRa=0.82nm。以下「COC」と略記)を基板とし、直径100mmのSi3N4をターゲットとし、アルゴン(Ar)7cm3/分と窒素(N2)5cm3/分の混合ガスを流しながら、前記装置内のガス圧0.8Pa、基板温度100℃に設定して、30分間の反応性スパッタリングを行った。続いて、直径100mmのPTFEをターゲットとして、ガスを供給せずに、他の条件は前記と同じとして、30分間スパッタリングを行った。続いて、先に行った反応性スパッタリングと同じ条件で、30分間反応性スパッタリングを行った。
【0064】
上記により形成された交互積層防湿膜について、前記方法により測定したところ、水蒸気透過度は0.02g/m2/日以下で、平行光線透過率は88%を示した。なお、水蒸気透過度の0.02g/m2/日とは、前記「PERMATRAN3/31」の測定精度上の下限値である。
【0065】
図7に、各膜の形成(成膜)条件を変化させて種々の交互積層防湿膜を形成した実施例につき、前記方法により測定した結果をまとめて記す。
【0066】
図8に、種々の無機材料の膜1層を有機基板上に形成した比較例についての、前記方法により測定した結果を記す。
【0067】
なお、図7あるいは図8中の実施例あるいは比較例において、基板の種類に記されたPETは、ポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱化学(株)製、商品名「ダイアホイルT600E50」、厚さ50μm、Ra=12.8nm)を表す。また、「膜の種類」および「膜の原料」は、組成成分で表しており、非化学量論的な場合には、原子数をx、y、zで示した。
【0068】
図7及び図8の実施例あるいは比較例について、以下に補足説明する。
【0069】
本発明の実施例である交互積層防湿膜では、いずれも水蒸気透過度が0.02g/m2/日以下であり、高度な防湿性を示す。また、平行光線透過率も82%以上であり、良好な透明性を示す。
【0070】
これに対し、比較例で示す無機材料の膜1層を有機基板上に形成した場合には、比較例1の水蒸気透過度0.06g/m2/日が最高の値である。
【0071】
また、比較例4は、基板としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いたもので、基板の表面平滑度が低い。一方、比較例1は、基板として表面平滑度の高いCOCを基板として、同じ膜を基板上に形成している。水蒸気透過度は、比較例1では水蒸気透過度0.06g/m2/日に対して、比較例4では0.51g/m2/日である。
【0072】
これに対し、実施例5と実施例1は、同様に、基板をPETフィルムとCOCとを用いて、同じ交互積層防湿膜を基板上に形成したものであるが、その水蒸気透過度は共に0.02g/m2/日以下となっている。
【0073】
これらの結果から分かるように、本発明に係る交互積層防湿膜は、基板の表面粗さに関わらず、良好な防湿性を有する。
【0074】
また、実施例6は、無機材料の第3の膜の上に、更に、フッ化炭素系化学物質の第4の膜と無機材料の第5の膜を形成したものであるが、防湿性は高度であり、透明性も平行光線透過率が83%と良好な結果を示している。
【0075】
【発明の効果】
以上のように、交互積層防湿膜が、有機材料の基板上に形成された無機材料の第1の膜と;前記第1の膜上に形成されたフッ化炭素系化学物質の第2の膜と;前記第2の膜上に形成された無機材料の第3の膜とを備えるので、高度の防湿性を有する。よって、本発明によれば、高度の防湿性を有する交互積層防湿膜を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を説明する断面図である。
【図2】スパッタリングの方法を示す模式的断面図である。
【図3】EL素子を説明する断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態を説明する断面図である。
【図5】交互積層防湿膜で有機EL素子を包んだ防湿EL素子について説明する断面図である。
【図6】交互積層防湿膜に固着した透明電極板から、有機エレクトロルミネッサンス素子を製造する工程について説明する断面図である。
【図7】本発明の実施例を説明する表である。
【図8】本発明の比較例を説明する表である。
【符号の説明】
1 窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの第1の膜
2 フッ化炭素系化学物質の第2の膜
3 窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの第3の膜
11 有機材料の基板
12 有機発光層
13 透明電極板
14 背面電極板
16 リード線
21 他の防湿膜
22 接着剤
31 膜の原料
32 形成された膜
33 基板
34 不活性ガスのプラズマ
35 膜の原料の断片
36 スパッタリングの供給ガス
41 真空槽
42 真空ポンプ
43 直流高圧電源
44 陰極
45 陽極
100 有機材料の基板上に、窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの第1の膜とフッ化酸化炭素の第2の膜と窒化珪素、酸化珪素、窒化酸化珪素又は酸化アルミニウムの第3の膜とを備える交互積層防湿膜
100a EL素子の透明電極板側の交互積層防湿膜
100b EL素子の背面電極板側の交互積層防湿膜[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an alternately laminated moisture-proof film having a high degree of moisture resistance, a method for producing the same, and an alternately laminated moisture-proof film with a transparent electrode plate.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, as a substrate on which a sealing material, a transparent electrode plate, or the like is formed, there has been a laminated film having moisture resistance.
[0003]
For example, "At least a gas barrier layer (B) made of a polymer molded product (A), silicon oxide, or silicon nitride, or a mixture of silicon oxide and silicon nitride, which can be suitably used as a substrate for a transparent electrode of a liquid crystal display element. , A laminate in which a thin film layer (C) made of a carbide or a transition metal nitride is formed in the order of ABC ”, and as one example (Example 4), silicon is coated on a polycarbonate film (A). Ar: N for target 2 A silicon nitride film (B) having a thickness of 15 nm was formed by DC sputtering under a pressure of 0.267 Pa in an atmosphere of = 1: 1, and further thickened by DC sputtering under a pressure of 0.267 Pa in an Ar atmosphere. A laminate having a silicon carbide film (C) having a thickness of 10 nm is disclosed. The water vapor permeability of the laminate thus obtained is 0.7 g / m 2 / Day, the light transmittance was 78%. (See Patent Document 1)
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-10-58585 (page 8, table 2)
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, the water vapor permeability is 0.7 g / m 2 A value of 78% per day and light transmittance is not a satisfactory level as a substrate for forming a sealing material or a transparent electrode plate thereon. Therefore, a main object of the present invention is to provide an alternately laminated moisture-proof film, a moisture-proof electroluminescent element, and a method for manufacturing the same, which are formed on a substrate made of an organic material and have high moisture-proof properties.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
As shown in FIG. 1, for example, as shown in FIG. 1, the alternate laminated moisture-proof film of the invention according to
[0007]
With such a configuration, the water vapor hardly passes through the defects at positions close to each other generated in the two layers of the inorganic material films, and high moisture resistance can be obtained. Furthermore, since a film of a fluorocarbon-based chemical substance is sandwiched between two layers of inorganic material films, a higher moisture-proof property can be obtained.
[0008]
According to a second aspect of the present invention, there is provided the alternately laminated moisture-proof film, wherein the inorganic material of the alternately laminated moisture-proof film is at least one material selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide The alternately laminated moisture-proof film according to
[0009]
The first inorganic material film and the third inorganic material film are formed of silicon nitride having low water vapor transmission rate, silicon oxide having high transparency, silicon nitride oxide having characteristics of silicon nitride and silicon oxide, or low. By being formed of aluminum oxide having water vapor permeability and transparency, an alternately laminated moisture-proof film having a high degree of moisture resistance and transparency can be obtained.
[0010]
The alternately laminated moisture-proof film according to the invention of claim 3 is, for example, as shown in FIG. 1, a
[0011]
With such a configuration, the water vapor hardly passes through the defects at positions close to each other generated in the two layers of the inorganic material films, and high moisture resistance can be obtained. Further, since a film of an organic material having water repellency is sandwiched between two layers of an inorganic material, higher moisture resistance can be obtained.
[0012]
The alternate layered moisture-proof film according to the invention of claim 4, wherein the inorganic material of the first film or the third film is at least one selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide. The alternately laminated moisture-proof film according to claim 3. Typically, the inorganic material of the first film and the inorganic material of the third film are the same for simplifying the manufacturing process, but may be different.
[0013]
As described above, the first inorganic material film and the third inorganic material film are made of silicon nitride having a low water vapor transmission rate, silicon oxide having a high degree of transparency, and nitride having characteristics of silicon nitride and silicon oxide. By being formed of silicon oxide or aluminum oxide having low water vapor permeability and transparency, an alternately laminated moisture-proof film having a high degree of moisture resistance and transparency can be obtained.
[0014]
The alternate laminated moisture-proof film according to the invention of claim 5, wherein the substrate of the organic material is a translucent resin film; the alternate laminated moisture-proof film has a water vapor permeability of 0.05 g / m2. 2 / Day or less; the alternately laminated moisture-proof film according to any one of
[0015]
Since the substrate made of an organic material is a light-transmitting resin film, transparency as an alternately laminated moisture-proof film is obtained. The water vapor permeability of the alternately laminated moisture-proof film is 0.05 g / m2. 2 / Day or less, it has a satisfactory level of moisture resistance as an alternately laminated moisture-proof film for forming a sealing material or a transparent electrode plate thereon.
[0016]
In the method for manufacturing an alternately laminated moisture-proof film according to the invention according to claim 6, for example, as shown in FIG. 1, an inorganic material is deposited on a
[0017]
The first and third films of the inorganic material and the second film of the fluorocarbon-based chemical substance are formed by any one of vapor deposition and sputtering. The forming method may be different for each of the first, second, and third films. Since the first, second and third films are formed by vapor deposition or sputtering, the production method of the present invention is suitable for industrial production.
[0018]
The method for manufacturing an alternately laminated moisture-proof film according to the invention according to claim 7 is, for example, as shown in FIG. 1, selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide or aluminum oxide on a
[0019]
In the method of manufacturing an alternately laminated moisture-proof film according to the invention of claim 8, as shown in FIG. 1, for example, a step of forming a
[0020]
The first and third films of the inorganic material and the second film of the organic material having water repellency are formed by any of vapor deposition and sputtering. The forming method may be different for each of the first, second, and third films. Since the first, second and third films are formed by vapor deposition or sputtering, the production method of the present invention is suitable for industrial production.
[0021]
The method for manufacturing an alternately laminated moisture-proof film according to the ninth aspect of the present invention is selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide or aluminum oxide on a
[0022]
According to a tenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing the alternately laminated moisture-proof film, in the step of forming the
[0023]
With such a configuration, since polytetrafluoroethylene is used as a raw material for the film, a film of a fluorocarbon-based chemical substance having high water repellency can be formed.
[0024]
An alternately laminated moisture-proof film with a transparent electrode plate according to the invention according to
[0025]
According to this structure, since the transparent electrode plate and the alternately laminated moisture-proof film according to any one of
[0026]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, with reference to the cross-sectional view of FIG. 1, an alternately laminated moisture-proof film according to a first embodiment of the present invention will be described.
[0027]
The alternately laminated moisture-
[0028]
The
[0029]
A
[0030]
Specifically, silicon oxide (SiO 2 ) Or silicon nitride (Si 3 N 4 The
[0031]
An example of a sputtering apparatus used in the embodiment of the present invention will be described with reference to a schematic sectional view of FIG. As shown in the figure, the sputtering is carried out by introducing an inert gas (mainly argon gas) as a
[0032]
Here, silicon nitride of the formed film has a non-stoichiometric composition, x N y Expressed by Similarly, the silicon oxide of the formed film is
[0033]
Returning to FIG. 1, the first embodiment of the present invention will be further described. On the substrate on which the
[0034]
The
[0035]
The second film of the water-repellent organic material is a film of a water-repellent organic material having a contact angle of 80 ° or more, preferably 90 ° or more, more preferably 100 ° or more according to JIS R3257. Is fine.
[0036]
A third film 3 of an inorganic material is formed on the first and
[0037]
Although the case where the film is formed by sputtering has been described above, the film may be formed by vapor deposition. In vapor deposition, fragments as vapor generated by heating a raw material of a film in a vacuum condense on a substrate of an organic material to form a film.
[0038]
When the first and third films of an inorganic material and the second film of a fluorocarbon-based chemical substance are formed by sputtering, the excited fragments are minute. It does not impair the smoothness of the substrate. In addition, since the excited fragments are minute, the water vapor permeability generally decreases.
[0039]
On the other hand, when the first and third films of the inorganic material and the second film of the fluorocarbon-based chemical substance are formed by vapor deposition, the rate of condensation of the excited fragments on the substrate becomes 100% in the case of forming by sputtering. More than double, high productivity.
[0040]
As described above, when the
[0041]
In addition, the
[0042]
In general, a film made of an inorganic material has a drawback that a high degree of moisture resistance cannot be easily obtained because water vapor passes through a defect generated in the process of forming the film. Therefore, the alternately laminated moisture-proof film has two layers of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, or aluminum oxide. The probability that defects in the two layers of inorganic material films occur at positions close to each other is extremely low in probability. Further, in the alternately laminated moisture-proof film, a film of a fluorocarbon chemical substance is sandwiched between two layers of inorganic material films. Then, due to the water repellency of the fluorocarbon-based chemical film, water vapor that has passed through defects in the first layer of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, or aluminum oxide film is turned into silicon nitride of the second layer. , Silicon oxide, silicon oxynitride, or aluminum oxide film, and the number of defects that pass through both layers is extremely small. For the above reasons, it is understood that the alternately laminated moisture-proof film has a high moisture-proof property. Here, the water repellency means a water repellency having a contact angle of 80 ° or more, preferably 90 ° or more, and more preferably 100 ° or more.
[0043]
Next, an alternately laminated moisture-proof film with a transparent electrode plate according to a second embodiment of the present invention will be described.
[0044]
First, an electroluminescence device (hereinafter, abbreviated as an EL device) will be described with reference to the cross-sectional view of FIG. The EL element has a structure in which a
[0045]
Lead
[0046]
The EL element is covered (sealed) with a moisture proof material to prevent wiring corrosion including the transparent electrode plate. In particular, the phosphor constituting the light emitting layer of the organic EL element is required to have a high moisture proof property because the light emission luminance thereof becomes extremely low when moisture is absorbed. Further, the moisture-proof material on the transparent electrode plate side is required to have transparency in addition to moisture-proof properties. Therefore, the alternately laminated moisture-proof film having a high degree of moisture-proofness and transparency is suitable for use in moisture-proofing the transparent electrode plate side. In addition, it may be used on the back electrode plate side where moisture resistance is required and transparency is not required.
[0047]
Therefore, as shown in the sectional view of FIG. 4, the
[0048]
Next, as shown in, for example, a cross-sectional view of FIG. 5, an example of an application of the alternately laminated moisture-proof film described in the above embodiment will be described. In this example, a moisture-proof EL element including the alternately laminated moisture-
[0049]
With this configuration, the EL element is wrapped with the alternately laminated moisture-proof film, so that the EL element can be protected from moisture, and a highly durable moisture-proof EL element can be obtained.
[0050]
More specifically, with reference to the cross-sectional view of FIG. 5, a moisture-proof EL device in which the
[0051]
As described above, the organic EL element has a structure covered with a moisture-proof material, and at least the moisture-proof material on the
[0052]
Therefore, as shown in FIG. 5A, the moisture-proof EL element in which the
[0053]
Note that the third film of the inorganic material of the alternately laminated moisture-
[0054]
Further, as shown in FIG. 5B, the
[0055]
Further, as shown in, for example, a cross-sectional view of FIG. 6, an example of the use of the alternately laminated moisture-proof film described in the above embodiment will be described. In this example, the
[0056]
When manufactured in this manner, a moisture-proof EL element having an alternately laminated moisture-proof film having a high degree of moisture-proof properties is manufactured.
[0057]
More specifically, with reference to the cross-sectional view of FIG. 6, a process of manufacturing an organic electroluminescence from the
[0058]
As described above, the alternately laminated moisture-
[0059]
In the
[0060]
The method of manufacturing the organic EL element has been described above, but the inorganic EL element may be manufactured using a transparent electrode plate fixed to the alternately laminated moisture-proof film. In the inorganic EL element, a barium titanate powder is placed in cyanoethylpolyvinyl alcohol, N, N′-dimethylformamide is added and uniformly mixed on a transparent electrode plate by screen printing or the like, and the insulating layer is formed. Form. On top of that, phosphor powder obtained by adding copper as an activator to zinc sulfide is placed in cyanoethyl polyvinyl alcohol in the same manner as the insulator layer, and N, N'-dimethylformamide is added and uniformly mixed, and screen-printed. To form an inorganic light emitting layer. A back electrode plate is formed thereon as described above, and sealed with a moisture-proof film to manufacture a moisture-proof EL element. When the inorganic EL element is sealed, an adhesive may be used in the same manner as for sealing the organic EL element, and if necessary, a hot-melt material, a layer of an adhesive resin or an inorganic material may be used. A layer of a conductive ceramic or alloy may be provided on the inner surface of the moisture-proof film to perform heat fusion or heat melting while suppressing the influence of heat on the light emitting layer.
When sealing the organic EL element, the above-mentioned heat fusion or heat melting can be applied. However, since the light emitting layer of the organic EL element is particularly susceptible to heat, the light emitting layer is formed so as not to be affected by the heat of the heat fusion or the heat melting.
[0061]
【Example】
Hereinafter, the alternately laminated moisture-proof film of the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.
[0062]
First, a method for measuring physical properties will be described. The water vapor permeability was measured under the conditions of 40 ° C. and 100% RH using “PERMATRAN 3/31” manufactured by Modern Control Co., USA in accordance with JIS K 7129B. The parallel light transmittance is calculated from the total light transmittance (JIS K 7361-1) and the haze (JIS K 7136) as parallel light transmittance = total light transmittance × (1− (haze / 100)). The value was measured by "NDH2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
[0063]
In Example 1, a cyclic olefin resin film (manufactured by Zeon Corporation, trade name “Zeonor Film ZF16”: 188 μm in thickness, surface arithmetic mean) was obtained using a magnetron sputtering apparatus (“SPR-403” manufactured by Tokki Corporation). A substrate having a roughness Ra of 0.82 nm (hereinafter abbreviated as “COC”) and having a diameter of 100 mm 3 N 4 And argon (Ar) 7cm 3 / Min and nitrogen (N 2 ) 5cm 3 The reactive sputtering was performed for 30 minutes while setting the gas pressure in the apparatus at 0.8 Pa and the substrate temperature at 100 ° C. while flowing a mixed gas at a flow rate of / min. Subsequently, sputtering was performed for 30 minutes using PTFE having a diameter of 100 mm as a target without supplying a gas and under the same conditions as above. Subsequently, the reactive sputtering was performed for 30 minutes under the same conditions as the reactive sputtering performed earlier.
[0064]
The water vapor permeability of the alternately laminated moisture-proof film formed as described above was measured by the method described above. 2 / Day or less, the parallel light transmittance was 88%. In addition, 0.02 g / m of water vapor permeability 2 / Day is the lower limit of the measurement accuracy of "PERMATRAN 3/31".
[0065]
FIG. 7 summarizes the results measured by the above method for examples in which various alternately laminated moisture-proof films were formed by changing the conditions for forming (depositing) each film.
[0066]
FIG. 8 shows the results of measurements by the above method for a comparative example in which one layer of various inorganic materials was formed on an organic substrate.
[0067]
In the examples or comparative examples in FIG. 7 or FIG. 8, PET described in the type of the substrate is a polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name “Diafoil T600E50”,
[0068]
The embodiment or the comparative example of FIGS. 7 and 8 will be supplementarily described below.
[0069]
In each of the alternately laminated moisture-proof films according to the examples of the present invention, the water vapor permeability is 0.02 g / m2. 2 / Day or less, showing high moisture resistance. In addition, the parallel light transmittance is 82% or more, indicating good transparency.
[0070]
On the other hand, when one layer of the inorganic material film shown in the comparative example was formed on the organic substrate, the water vapor permeability of the comparative example 1 was 0.06 g /
[0071]
In Comparative Example 4, a polyethylene terephthalate (PET) film was used as the substrate, and the substrate had low surface smoothness. On the other hand, in Comparative Example 1, the same film was formed on a substrate using COC having a high surface smoothness as the substrate. The water vapor permeability was 0.06 g / m in Comparative Example 1. 2 / Day, 0.51 g / m in Comparative Example 4 2 / Day.
[0072]
On the other hand, in Example 5 and Example 1, similarly, the same alternately laminated moisture-proof film was formed on the substrate using a PET film and COC. .02g / m 2 / Day or less.
[0073]
As can be seen from these results, the alternately laminated moisture-proof film according to the present invention has good moisture-proof properties regardless of the surface roughness of the substrate.
[0074]
In Example 6, the fourth film made of a fluorocarbon-based chemical substance and the fifth film made of an inorganic material were further formed on the third film made of an inorganic material. It has a high degree of transparency, and the transparency shows good results with a parallel light transmittance of 83%.
[0075]
【The invention's effect】
As described above, the alternately laminated moisture-proof film comprises a first film of an inorganic material formed on a substrate of an organic material; and a second film of a fluorocarbon-based chemical formed on the first film. And; a third film of an inorganic material formed on the second film, so that the film has a high degree of moisture resistance. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an alternately laminated moisture-proof film having a high moisture-proof property.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a sputtering method.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an EL element.
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a moisture-proof EL element in which an organic EL element is wrapped by alternately laminated moisture-proof films.
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing an organic electroluminescence element from a transparent electrode plate fixed to the alternately laminated moisture-proof film.
FIG. 7 is a table illustrating an example of the present invention.
FIG. 8 is a table illustrating a comparative example of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 First film of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide or aluminum oxide
2 Second film of fluorocarbon-based chemical substance
3. Third film of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide or aluminum oxide
11 Substrate of organic material
12 Organic light emitting layer
13 Transparent electrode plate
14 Back electrode plate
16 Lead wire
21 Other moisture-proof films
22 Adhesive
31 Raw materials for membrane
32 Film formed
33 substrate
34 Inert Gas Plasma
35 Membrane raw material fragments
36 Supply gas for sputtering
41 vacuum chamber
42 vacuum pump
43 DC high voltage power supply
44 Cathode
45 anode
100 On a substrate of an organic material, a first film of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, or aluminum oxide, a second film of carbon fluoride oxide, and a first film of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, or aluminum oxide. Laminated moisture-proof film comprising:
100a Alternating moisture-proof film on transparent electrode plate side of EL element
100b Alternating moisture-proof film on back electrode plate side of EL element
Claims (11)
前記第1の膜上に形成されたフッ化炭素系化学物質の第2の膜と;
前記第2の膜上に形成された無機材料の第3の膜とを備える;
交互積層防湿膜。A first film of an inorganic material formed on a substrate of an organic material;
A second film of a fluorocarbon-based chemical formed on the first film;
A third film of an inorganic material formed on the second film;
Alternating moisture-proof film.
請求項1に記載の交互積層防湿膜。The inorganic material of the first film or the third film is at least one material selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide;
The alternately laminated moisture-proof film according to claim 1.
前記第1の膜上に形成された撥水性を有する有機材料の第2の膜と;
前記第2の膜上に形成された無機材料の第3の膜とを備える;
交互積層防湿膜。A first film of an inorganic material formed on a substrate of an organic material;
A second film of a water-repellent organic material formed on the first film;
A third film of an inorganic material formed on the second film;
Alternating moisture-proof film.
請求項3に記載の交互積層防湿膜。The inorganic material of the first film or the third film is at least one material selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide;
The alternately laminated moisture-proof film according to claim 3.
交互積層防湿膜の水蒸気透過度が0.05g/m2/日以下である;
請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の交互積層防湿膜。The organic material substrate is a translucent resin film;
The water vapor transmission rate of the alternately laminated moisture-proof membrane is 0.05 g / m 2 / day or less;
The alternate laminated moisture-proof film according to any one of claims 1 to 4.
前記第1の膜上にフッ化炭素系化学物質を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜を形成する工程と;
前記第2の膜上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜を形成する工程とを備える;
交互積層防湿膜の製造方法。Forming a first film by depositing an inorganic material on a substrate of an organic material by evaporation or sputtering;
Depositing a fluorocarbon-based chemical substance on the first film by vapor deposition or sputtering to form a second film;
Forming a third film by depositing an inorganic material on the second film by vapor deposition or sputtering;
Manufacturing method of alternately laminated moisture-proof film.
請求項6に記載の交互積層防湿膜の製造方法。The inorganic material of the first film or the third film is at least one material selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide;
A method for producing the alternately laminated moisture-proof film according to claim 6.
前記第1の膜上に撥水性を有する有機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第2の膜を形成する工程と;
前記第2の膜上に無機材料を蒸着又はスパッタリングにより付着させて第3の膜を形成する工程とを備える;
交互積層防湿膜の製造方法。Forming a first film by depositing an inorganic material on a substrate of an organic material by evaporation or sputtering;
Depositing an organic material having water repellency on the first film by vapor deposition or sputtering to form a second film;
Forming a third film by depositing an inorganic material on the second film by vapor deposition or sputtering;
Manufacturing method of alternately laminated moisture-proof film.
請求項8に記載の交互積層防湿膜の製造方法。The inorganic material of the first film or the third film is at least one material selected from the group consisting of silicon nitride, silicon oxide, silicon nitride oxide, and aluminum oxide;
A method for producing the alternately laminated moisture-proof film according to claim 8.
請求項6乃至請求項9のいずれか1項に記載の交互積層防湿膜の製造方法。In the step of forming the second film, polytetrafluoroethylene is used as a raw material of the film;
The method for producing an alternately laminated moisture-proof film according to any one of claims 6 to 9.
前記交互積層防湿膜に固着した透明電極板とを備える;
透明電極板付きの交互積層防湿膜。An alternately laminated moisture-proof film according to any one of claims 1 to 5, and
A transparent electrode plate fixed to the alternately laminated moisture-proof film;
Alternating moisture-proof film with transparent electrode plate.
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