JP2004221138A5 - - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003003631A JP2004221138A (ja) | 2003-01-09 | 2003-01-09 | 半導体熱処理方法および装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003003631A JP2004221138A (ja) | 2003-01-09 | 2003-01-09 | 半導体熱処理方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004221138A JP2004221138A (ja) | 2004-08-05 |
| JP2004221138A5 true JP2004221138A5 (fr) | 2005-10-27 |
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ID=32894842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003003631A Pending JP2004221138A (ja) | 2003-01-09 | 2003-01-09 | 半導体熱処理方法および装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004221138A (fr) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006303152A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | エピタキシャル成膜装置およびエピタキシャル成膜方法 |
| JP5120585B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2013-01-16 | 株式会社Ｉｈｉ | 基板アニール装置用の遮熱板 |
| JP5033020B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2012-09-26 | 三井造船株式会社 | 誘導加熱を用いた熱処理方法並びに誘導加熱装置 |
| JP5264220B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2013-08-14 | 三井造船株式会社 | ウエハ熱処理装置 |
| JP4668343B1 (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-13 | 三井造船株式会社 | 半導体基板熱処理装置 |
| JP5647502B2 (ja) * | 2010-02-23 | 2014-12-24 | 株式会社日立国際電気 | 熱処理装置、半導体装置の製造方法及び基板処理方法。 |
| JP5063755B2 (ja) * | 2010-08-09 | 2012-10-31 | 三井造船株式会社 | 誘導加熱装置および誘導加熱方法 |
| JP5127987B1 (ja) * | 2012-02-16 | 2013-01-23 | 三井造船株式会社 | 誘導加熱装置 |
| WO2022230728A1 (fr) * | 2021-04-26 | 2022-11-03 | 東京エレクトロン株式会社 | Mécanisme d'électrode inférieure, dispositif de traitement de substrat et procédé de traitement de substrat |
-
2003
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