JP2004206884A - Plasma display and method of manufacturing two-layer structure electrode for plasma display - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ及びプラズマディスプレイ用2層構造電極の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、プラズマディスプレイパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、サーマルヘッド等の各種電子部品においては、微細な電極をパターン形成する必要があり、例えばスクリーン印刷、蒸着、スパッタリングやメッキ等の方法で形成した導電性膜をフォトリソグラフィー法によりエッチングしてパターン形成する方法や、導電粒子入りのペーストをスクリーンによる印刷等の方法で作成したパターンを乾燥、焼成することによって電極とすることが行われている。
【0003】
これらの方法のうちエッチングによってパターン形成する方法では高精度なパターン形成が可能であるが、エッチング工程を有することからコスト高になるといった欠点があった。一方のスクリーン印刷は、画像表示装置の大画面化に対応する基板へのパターン形成方法としては比較的低コストなことから経済的には有利であるが、50μm以下の微細パターンの形成にはスクリーン版の精度の点から限界があった。このような理由から、従来の電極パターン形成法の問題点を解決して高精度な微細電極パターンを形成するための感光性導電ペーストが、プラズマディスプレイパネルの電極形成用として提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
特に、プラズマディスプレイパネルについては、電極が前面板、背面板の両方にあり前面板電極は透明電極の補助電極として使用されるため、画面に電極が見えるようになるので画面のコントラスト比を向上させるために、この電極の色を黒にすることが必要となる。画面のコントラスト比を向上させるために、透明電極上に形成された不透明電極を、黒色顔料を混合した第1の金属電極と、顔料を混合しない第1の金属電極より、比抵抗の小さい第2の金属電極との2層構造を有するプラズマディスプレイパネルが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。これには、コントラスト比を向上させることについては記載されているが、近年の小型化、高密度化等の要求に伴う高精度な微細電極パターンを形成することについては開示されておらず、小型化、高密度化等に伴う2層構造の高精度な微細電極パターンを有するプラズマディスプレイパネルが求められている。又上記の特許文献1には、1層で前面板用の電極を作成することが記載されているが、黒色無機顔料は絶縁性であり、黒色無機顔料を用いて作成した黒色感光性導電ペーストは導電性に難点があり、又黒色のペーストは光反応性に劣り、1層でパターン形成するにはパターン強度が低い傾向にあり、2層構造に適応できる感光性ペーストが要求されている。これに対して、本発明者は2層構造に対応できる感光性黒ペーストと感光性銀ペーストを併用する系を提案した(例えば、特許文献3参照。)。ところが感光性銀ペーストに用いる銀粉の平均粒径が小さくなると、光透過性が小さくなり感光性黒ペーストを用いた1層目の黒色層の光反応性に大きな影響を及ぼし、パターン形成が不充分となり、これにより画面のコントラスト比を向上させる効果が充分に発現されないおそれがあり、又大きくなると焼成後の銀粉同士の接触が不充分となり導電性に問題が発生する可能性がある。このため光透過性に優れ、かつ導電性が良好な感光性銀ペースが求められている。
【0005】
【特許文献1】
特開2000−48645号公報(第2頁〜第13頁)
【特許文献2】
特開平4−272634号公報(第2頁〜第4頁)
【特許文献3】
特願2002−321997号(全頁)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、銀粉の粒径を調整することで光透過性を向上、かつ導電性に優れた感光性銀ペースト、又光透過性向上によりパターン形成性を向上させた感光性黒ペーストを使用することで、前面板電極が黒に着色され、画面のコントラスト比を向上させることができる高精度な微細電極パターンの2層構造を有するプラズマディスプレイ及びプラズマディスプレイ用2層構造電極の製造方法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
[1] 基板の透明電極上に下記の感光性黒ペースト(1)を塗布後、更にその上に下記の感光性銀ペースト(2)を塗布後焼成してなる2層構造の電極を有することを特徴とするプラズマディスプレイ、
感光性黒ペースト(1)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、銀粉(D)100〜500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部、有機溶剤(F)50〜250重量部、黒色無機顔料(G)5〜300重量部を含む感光性黒ペースト。
感光性銀ペースト(2)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、平均粒径2.0〜4.5μmの銀粉(D)400〜1500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部及び有機溶剤(F)50〜250重量部を含む感光性銀ペースト、
[2] 基板の透明電極上に下記の感光性黒ペースト(1)を塗布し、加熱乾燥し、更にその上に下記の感光性銀ペースト(2)を塗布し、乾燥後、フォトリソグラフィーでパターン形成後焼成することを特徴とするプラズマディスプレイ用2層構造電極の製造方法、
感光性黒ペースト(1)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、銀粉(D)100〜500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部、有機溶剤(F)50〜250重量部、黒色無機顔料(G)5〜300重量部を含む感光性黒ペースト。
感光性銀ペースト(2)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、平均粒径2.0〜4.5μmの銀粉(D)400〜1500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部及び有機溶剤(F)50〜250重量部を含む感光性銀ペースト、
である。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂(A)は、通常のアルカリ性現像液により現像できるアルカリ可溶の特性を有しておれば特に限定しない。
その具体例としては、カルボン酸のような酸性基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体が好適であり、酸性基成分としてはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸等が挙げられ、エチレン性不飽和基成分としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、nーブチルアクリレート、nーブチルメタクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタリレート等が挙げられる。
【0009】
本発明に用いられる不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)は、少なくとも1つのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。光照射によって光重合開始剤から発生したラジカルで反応し、アルカリ現像液への溶解性を低下させてパターンを形成するものである。その具体例としては、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレート、2,2,4−トリメチルー1,3−ペンタンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記のアクリレートをメタクリレートに置き換えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニルー2−ピロリドン等が挙げられる。これらの不飽和二重結合を有する架橋性モノマーは単独でも併用してもよい。
【0010】
不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)の配合量は、感光性黒ペースト、感光性銀ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対し40〜150重量部である。40重量部未満では架橋性に乏しく、解像度が悪くなり、150重量部を越えるとアルカリ可溶性が低下し、同様に解像度が悪くなる。
【0011】
本発明に用いられる光重合開始剤(C)は、光の照射により重合を開始させる化合物ならば、特に限定しない。具体例としては、ジメチルベンジルケタール、4−ジメチルアミノ安息香酸、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノアセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2―アミルアントラキノン、β−クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシープロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルフォニルクロライド、N−フェニルチオアクドリン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールスルフィド、トリフェニルフォスフィン、カンファーキノン等が挙げられ、これらのうちでは高感度のパターンが得られる点から、ジメチルベンジルケタール、4−ジメチルアミノ安息香酸、イソプロピルチオキサントンが好ましい。これらは単独でも併用してもよい。
【0012】
光重合開始剤(C)の配合量は、感光性黒ペースト、感光性銀ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対し15〜60重量部である。15重量部未満では解像度が悪くなり、60重量部を越えると遮光保存時のペーストの保存性に問題がある。
【0013】
本発明において、感光性黒ペーストに用いられる銀粉(D)は、特に限定しないが、光透過性を良好なものとするために球状のものが好ましい。又その粒径についてもパターン性、光透過性を良好なものとするためには平均粒径0.1〜5μmの範囲のものが好ましい。一方感光性銀ペーストに用いられる銀粉(D)は、平均粒径が2.0〜4.5μmである。平均粒径が2.0μm未満だと光透過性が悪くなることによる光反応性の低下が起こるので、感光性黒ペーストを用いた1層目のパターン形成が不充分となり、4.5μmを越えると焼成後の銀粉同士の接触が不充分となり、その結果導電性に問題が生じる。銀粉の形状としては、特に限定しないが光透過性を良好なものとするために球状のものが好ましい。
銀粉の配合量は、感光性黒ペーストにおいて、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して100〜500重量部である。100重量部未満では焼成後の導電性に劣り、500重量部を越えると光透過性が悪くなることによる光反応性の低下が起こる。感光性銀ペーストにおいて、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して400〜1500重量部である。400重量部未満では焼成後の導電性に劣り、1500重量部を越えると光透過性が悪くなることによる光反応性の低下が起こり解像度が悪くなる。
【0014】
本発明に用いられるガラスフリット(E)は、基板界面での接着力向上効果の他、焼結助剤としても作用し焼成後に銀を焼結させるものである。本発明に用いるガラスフリットは、低融点での融着を行うために、酸化鉛を50%以上含むものが望ましく、又ガラスフリットの粒径は、光透過性を良好なものとするために0.1〜5μmの範囲のものが好ましい。ガラスフリットの配合量は、感光性黒ペースト、感光性銀ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対し1〜60重量部である。1重量部未満では焼結できないため導電性が低く、60重量部を越えると遮光保存時でのペーストの粘度上昇が大きく保存性が低下する。
【0015】
本発明に用いられる有機溶剤(F)は、ペーストを所望の粘度にしてスクリーン印刷等での作業性を向上させるために用いられるが、具体例としては、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール等のアルコール系溶剤、メトキシアルコール、エトキシアルコール等のセロソルブ系溶剤、メトキシエトキシエタノール、ジエトキシエタノール、ブトキシエトキシエタノール等のカルビトール系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶剤、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブアセテート系溶剤、メトキシエトキシエチルアセテート、ジエトキシエチルアセテート等のカルビトールアセテート系溶剤、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の非プロトン性アミド系溶剤、γ―ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、n−ヘプタン、n−ヘキサン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤等の有機溶剤が挙げられる。
有機溶剤の配合量は、感光性黒ペースト、感光性銀ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して50〜250重量部である。50重量部未満であるとペーストの粘度が高すぎるため膜厚が厚くなり、250重量部を越えると粘度が低くなり過ぎ、膜厚が薄くなる。
【0016】
本発明に用いる黒色無機顔料(G)は、プラズマディスプレイの前面板用電極を黒色に着色し、プラズマディスプレイの画面のコントラスト比を向上させる。電極を黒くするための着色剤としては、有機・無機顔料、染料、カーボンブラック等があるが、電極を作成する際に400〜600℃の高温処理を行い有機分を全て焼成させるため、有機顔料は不適である。黒色無機顔料としては、黒色に着色できるものならば特に限定しない。具体例としては酸化マンガン、酸化クロム、酸化コバルト、酸化銅、酸化鉄、酸化ルテニウム等の金属酸化物等が挙げられる。これらは単独でも併用してもよい。
黒色無機顔料(G)の配合量は、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して5〜300重量部である。5重量部未満だと十分な黒色化ができず、300重量部を越えると導電性が極端に低下する。本発明での感光性黒ペースト、感光性銀ペーストには、上記成分に添加剤として、増感剤、分散剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤等を必要に応じて加えることが可能である。
【0017】
本発明の感光性黒ペースト、感光性銀ペーストは、構成成分のうち銀粉、ガラスフリットと黒色無機顔料を除いたものを、予めイエロールーム等の紫外線を遮断した部屋で秤量、配合した後、三本ロールや攪拌機にて均一なワニスを作成する。このワニスに銀粉、ガラスフリット、黒色無機顔料を配合しワニスと同じような条件で三本ロールや攪拌機にて混合してペーストとする。
【0018】
本発明の感光性黒ペースト、感光性銀ペーストを用いてプラズマディスプレイの前面板2層構造の電極パターンを形成する場合は、例えば透明電極上に、通常スクリーン印刷等の方法で感光性黒ペーストを5〜30μmの厚みで塗布する。次いで透明電極上の塗布膜を50〜120℃で5〜30分程度加熱乾燥した後、その上部に感光性銀ペーストをスクリーン印刷にて一面に一様に印刷し、乾燥し、フォトリソグラフィー法により所望のマスクを介して紫外線照射し、露光部分を光硬化させる。このときに用いられる光源は紫外線、電子線、X線等があるが、中でも紫外線が好ましい。通常高圧水銀灯が用いられる。通常の露光量は、生産性等を考慮して50〜1000(mJ/cm2)程度が好ましい。
【0019】
次に未露光部分をアルカリ現像液で溶解除去してパターン形成する。現像には浸漬法やスプレー法があるが、微細パターン形成には後者が用いられる。現像液には、通常アルカリ水溶液が用いられるが、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム等の金属アルカリ水溶液やテトラメチルアンモニウムヒドロオキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等の有機アルカリ水溶液を用いることもできる。通常のアルカリ水溶液の濃度は、0.1〜2重量%程度がよく用いられる。次に得られたパターンを大気中にて焼成して感光性有機成分であるアルカリ可溶性樹脂、架橋性モノマー、光重合開始剤を完全に酸化蒸発させる。400〜600℃で15〜120分間程度で焼成し透明電極上に銀成分を融着焼き付けする。
【0020】
本発明の感光性黒ペースト、感光性銀ペーストを用いて電極パターンを形成した場合、焼成後の導電膜の厚み5〜15μmで最小線幅30μm程度の微細パターンを形成することができる。又それらを用いて信頼性が高く、高画像の画像表示装置を作製することができる。
【0021】
【実施例】
以下本発明を実施例で具体的に説明する。
<実施例1>
上記の(A)〜(C)と(F)成分を用いてワニスを作成した。このワニス成分に、(D)銀粉、(E)ガラスフリットと(G)黒色無機顔料を上記の量だけ配合して感光性黒ペーストを作成した。
【0022】
上記の(A)〜(C)と(F)成分を用いてワニスを作成した。このワニス成分に、(D)銀粉と(E)ガラスフリットを上記の量だけ配合して感光性銀ペーストを作成した。得られたペーストの種々の特性を評価した。評価結果を表1に示す。
【0023】
<塗布、印刷>
感光性黒ペーストを325メッシュのスクリーンを用いてガラス板上(500mm角、3mm厚)に400mm角に塗布し、80℃で10分乾燥することによって厚さ10μmの印刷膜を得た。次に、この上に感光性銀ペーストを同様のスクリーンを用いて印刷、120℃で10分乾燥し、合計厚さ20μmの印刷膜を得た。
【0024】
<露光、現像>
上記で作成した印刷膜に10〜100μmのテストパターンを有するマスクを用いて50〜400(mJ/cm2)まで50(mJ/cm2)きざみの紫外線を照射した。その後0.5重量%の炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像して未露光部を除去水洗した。
【0025】
<焼成>
現像処理したガラス板を大気中500℃で60分間焼成を行い、焼成印刷膜からなる電極パターンを作成した。
<評価>
解像度、黒パターン線幅、体積抵抗率、焼成印刷膜の膜厚、ペーストの保存安定性、黒色度を測定評価した。
解像度は金属顕微鏡にて観察した。
黒パターン線幅は、100μmマスクで露光した部分のうち現像後の線幅を測定した。
黒パターンの線幅は2層パターンをガラス越しに観察し、測定した。
導電性は、黒−銀2層電極の体積抵抗率を測定した。
なお、焼成印刷膜の膜厚(以下、感光性黒ペーストによる膜厚を黒層膜厚、感光性銀ペーストによる膜厚を銀層膜厚という)は、表面粗さ計にて測定した。膜厚については、感光性黒ペースト、感光性銀ペーストをそれぞれ単独でガラス板に印刷し、80℃で10分乾燥後の黒層、銀層がいずれも10μmとなるようにを作成し、大気中500℃で60分間焼成した後のものを測定した。
ペーストの保存安定性は、23℃で遮光した状態で放置し、感光性黒ペーストと感光性銀ペーストの粘度が初期粘度に対して50%上昇するまでの日数で評価した。
感光性黒ペーストの焼成後黒色度は、感光性黒ペーストをガラス板上に印刷し紫外線を照射した後、大気中500℃で60分間焼成し、得られた焼成印刷膜を、色差計でXYZ表色系のうちのY値を測定した値で表した。
【0026】
<実施例2〜5、比較例1〜24>
表1〜表4の組成に従い実施例1と同様の方法、操作で感光性黒ペースト、感光性銀ペーストを作成し、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1〜表4に示す。比較例23の銀粉は平均粒径0.5μm、球状で、比較例24は平均粒径5.0μm、球状のものを用いた。
【0027】
【表1】
【0028】
【表2】
【0029】
【表3】
【0030】
【表4】
【0031】
【発明の効果】
本発明に従うと、感光性黒ペースト、感光性銀ペーストを基板上に塗布した後、フォトリソグラフィーで2層構造を有する電極パターンを形成することにより、焼成後の導電膜の厚さ5〜15μmで最小線幅30μm程度の低抵抗で導電性に優れた高精度な微細電極パターンを得ることができる。又黒色度はY値が10以下であり、コントラスト比を向上できる。黒パターンの線幅については、100μmのマスクで作成したパターンの線幅が70μm以上となり、コントラスト比を向上させる目的に十分な線幅を得ることができる。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a plasma display and a method for manufacturing a two-layer electrode for a plasma display.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, in various electronic components such as a plasma display panel, an image display device such as a liquid crystal display device, and a thermal head, it is necessary to form a pattern of fine electrodes, for example, by a method such as screen printing, vapor deposition, sputtering or plating. An electrode is formed by etching a conductive film formed by photolithography to form a pattern, or by drying and firing a pattern formed by printing a paste containing conductive particles by a screen or the like. .
[0003]
Of these methods, the method of forming a pattern by etching enables high-precision pattern formation, but has a drawback that the cost is increased due to the presence of an etching step. On the other hand, screen printing is economically advantageous as a relatively low cost method for forming a pattern on a substrate corresponding to the enlargement of the screen of an image display device. However, screen printing is not suitable for forming a fine pattern of 50 μm or less. There was a limit in terms of plate accuracy. For this reason, a photosensitive conductive paste for forming a high-precision fine electrode pattern by solving the problems of the conventional electrode pattern forming method has been proposed for forming an electrode of a plasma display panel (for example, And Patent Document 1.).
[0004]
In particular, regarding the plasma display panel, the electrodes are present on both the front plate and the back plate, and the front plate electrodes are used as auxiliary electrodes for the transparent electrodes, so that the electrodes can be seen on the screen, thereby improving the contrast ratio of the screen. Therefore, it is necessary to change the color of this electrode to black. In order to improve the contrast ratio of the screen, the opaque electrode formed on the transparent electrode is made of a second metal having a lower specific resistance than a first metal electrode mixed with a black pigment and a first metal electrode mixed with no pigment. A plasma display panel having a two-layer structure with a metal electrode has been proposed (for example, see Patent Document 2). This document describes improving the contrast ratio, but does not disclose forming a high-precision fine electrode pattern in response to recent demands for miniaturization and high density. There is a demand for a plasma display panel having a high-precision fine electrode pattern having a two-layer structure accompanying the trend toward higher density and higher density. Further, Patent Document 1 described above discloses that a single-layer electrode for a front plate is formed. However, the black inorganic pigment is insulative, and a black photosensitive conductive paste prepared using the black inorganic pigment is used. The black paste has poor conductivity, the black paste has poor photoreactivity, and the pattern strength tends to be low to form a single-layer pattern, and a photosensitive paste that can be adapted to a two-layer structure is required. On the other hand, the present inventor has proposed a system in which a photosensitive black paste and a photosensitive silver paste that can support a two-layer structure are used in combination (for example, see Patent Document 3). However, when the average particle size of the silver powder used in the photosensitive silver paste is reduced, the light transmittance is reduced, which greatly affects the photoreactivity of the first black layer using the photosensitive black paste, resulting in insufficient pattern formation. Accordingly, there is a possibility that the effect of improving the contrast ratio of the screen may not be sufficiently exhibited, and if it is too large, contact between the silver powders after sintering becomes insufficient and a problem may occur in the conductivity. Therefore, a photosensitive silver pace excellent in light transmittance and excellent in conductivity is required.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-2000-48645 (pages 2 to 13)
[Patent Document 2]
JP-A-4-272634 (pages 2 to 4)
[Patent Document 3]
Japanese Patent Application No. 2002-321997 (all pages)
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention uses a photosensitive silver paste having improved light transmittance by adjusting the particle size of silver powder and having excellent conductivity, and a photosensitive black paste having improved pattern formability by improving light transmittance. Accordingly, a front panel electrode is colored black, and a plasma display having a two-layer structure of a high-precision fine electrode pattern capable of improving a screen contrast ratio and a method of manufacturing a two-layer electrode for a plasma display are provided. Things.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention
[1] Having a two-layered electrode obtained by applying the following photosensitive black paste (1) on the transparent electrode of the substrate, further applying the following photosensitive silver paste (2) thereon, and then firing. A plasma display,
Photosensitive black paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).
Photosensitive silver paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), and an average particle size of 2.0 to 4 A photosensitive silver paste containing 0.5 to 1.5 parts by weight of silver powder (D) 400 to 1500 parts by weight, glass frit (E) 1 to 60 parts by weight, and organic solvent (F) 50 to 250 parts by weight;
[2] The following photosensitive black paste (1) is applied on the transparent electrode of the substrate, heated and dried, and then the following photosensitive silver paste (2) is applied thereon, dried, and then patterned by photolithography. A method for producing a two-layer structure electrode for a plasma display, which is baked after formation;
Photosensitive black paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).
Photosensitive silver paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), and an average particle size of 2.0 to 4 A photosensitive silver paste containing 0.5 to 1.5 parts by weight of silver powder (D) 400 to 1500 parts by weight, glass frit (E) 1 to 60 parts by weight, and organic solvent (F) 50 to 250 parts by weight;
It is.
[0008]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The alkali-soluble resin (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it has alkali-soluble properties that can be developed with a normal alkaline developer.
As a specific example, an acrylic copolymer having an acidic group such as a carboxylic acid and an ethylenically unsaturated group is preferable, and as the acidic group component, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and cinnamon Examples of the ethylenically unsaturated group component include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, and n-butyl acrylate. Butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, allyl acrylate, allyl meth Relate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methallyl rate and the like.
[0009]
The crosslinkable monomer (B) having an unsaturated double bond used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. It reacts with radicals generated from a photopolymerization initiator by light irradiation, and reduces the solubility in an alkali developer to form a pattern. Specific examples thereof include allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate. Propyl acrylate, isobonyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxy acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, , 5-pentanediol Acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol Triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane acrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate , Propylene oxide Pentaerythritol triacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyl trimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol Examples thereof include diacrylate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, and those obtained by replacing the above acrylate with methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, and the like. These crosslinkable monomers having an unsaturated double bond may be used alone or in combination.
[0010]
The amount of the crosslinkable monomer (B) having an unsaturated double bond is 40 to 150 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste. When the amount is less than 40 parts by weight, the crosslinking property is poor and the resolution is poor. When the amount is more than 150 parts by weight, the alkali solubility is reduced and the resolution is similarly deteriorated.
[0011]
The photopolymerization initiator (C) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that initiates polymerization by light irradiation. Specific examples include dimethylbenzyl ketal, 4-dimethylaminobenzoic acid, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-aminoacetophenone 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy -2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl-methoxyethyl Acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, -Phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxypropanetrione 2- (o-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacdrine, 4,4 -Azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole sulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, etc., among them, dimethylbenzyl ketal, 4-dimethylaminobenzoic Acids and isopropylthioxanthone are preferred. These may be used alone or in combination.
[0012]
The compounding amount of the photopolymerization initiator (C) is 15 to 60 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste. If the amount is less than 15 parts by weight, the resolution will be poor, and if it exceeds 60 parts by weight, there is a problem in the storability of the paste during light-shielding storage.
[0013]
In the present invention, the silver powder (D) used in the photosensitive black paste is not particularly limited, but is preferably spherical in order to improve light transmittance. The average particle size is preferably in the range of 0.1 to 5 μm in order to improve the patternability and light transmittance of the particles. On the other hand, silver powder (D) used for the photosensitive silver paste has an average particle size of 2.0 to 4.5 μm. If the average particle size is less than 2.0 μm, the photoreactivity decreases due to poor light transmission, so the pattern formation of the first layer using the photosensitive black paste is insufficient, and exceeds 4.5 μm. And the contact between the silver powders after sintering becomes insufficient, resulting in a problem in conductivity. The shape of the silver powder is not particularly limited, but a spherical shape is preferable in order to improve light transmittance.
The compounding amount of the silver powder is 100 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin in the photosensitive black paste. If the amount is less than 100 parts by weight, the conductivity after firing is inferior. If the amount exceeds 500 parts by weight, the light transmittance is deteriorated, and the photoreactivity is reduced. In the photosensitive silver paste, the amount is 400 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. If the amount is less than 400 parts by weight, the conductivity after firing is inferior. If the amount exceeds 1500 parts by weight, the light transmittance is deteriorated, the photoreactivity is reduced, and the resolution is deteriorated.
[0014]
The glass frit (E) used in the present invention has an effect of improving the adhesive force at the interface between the substrates and also acts as a sintering aid to sinter silver after firing. The glass frit used in the present invention desirably contains 50% or more of lead oxide in order to perform fusion at a low melting point, and the particle size of the glass frit is preferably 0 to improve light transmittance. It is preferably in the range of 0.1 to 5 μm. The blending amount of the glass frit is 1 to 60 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste. If the amount is less than 1 part by weight, sintering cannot be performed, so that the conductivity is low.
[0015]
The organic solvent (F) used in the present invention is used to make the paste into a desired viscosity and improve workability in screen printing or the like. Specific examples include ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and n-propyl alcohol. Alcohol solvents such as methoxy alcohol, ethoxy alcohol, etc., cellosolve solvents such as methoxy ethoxy ethanol, diethoxy ethanol, butoxy ethoxy ethanol and the like, carbitol solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxy propionate, ethyl lactate and the like. Ester solvents, cellosolve acetate solvents such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, and ethyl cellosolve acetate; carbitol acetate solvents such as methoxyethoxyethyl acetate and diethoxyethyl acetate Ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran; aprotic amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone; lactones such as γ-butyrolactone And organic solvents such as aromatic solvents such as aromatic solvents such as toluene and xylene, and aliphatic hydrocarbons such as n-heptane, n-hexane and n-octane.
The compounding amount of the organic solvent is 50 to 250 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste. If the amount is less than 50 parts by weight, the viscosity of the paste is too high, so that the film thickness becomes large. If the amount exceeds 250 parts by weight, the viscosity becomes too low, and the film thickness becomes thin.
[0016]
The black inorganic pigment (G) used in the present invention colors the electrode for the front panel of the plasma display to black, and improves the contrast ratio of the screen of the plasma display. As a coloring agent for blackening the electrode, there are organic / inorganic pigments, dyes, carbon black and the like. Is not suitable. The black inorganic pigment is not particularly limited as long as it can be colored black. Specific examples include metal oxides such as manganese oxide, chromium oxide, cobalt oxide, copper oxide, iron oxide, and ruthenium oxide. These may be used alone or in combination.
The amount of the black inorganic pigment (G) is 5 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. If the amount is less than 5 parts by weight, sufficient blackening cannot be achieved, and if it exceeds 300 parts by weight, the conductivity is extremely reduced. In the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste of the present invention, a sensitizer, a dispersant, an antifoaming agent, a thickener, a suspending agent, and the like may be added as necessary to the above components as additives. It is possible.
[0017]
The photosensitive black paste and the photosensitive silver paste of the present invention are prepared by weighing and blending the components excluding silver powder, glass frit and black inorganic pigment in a room such as a yellow room in which ultraviolet rays have been blocked in advance. Create a uniform varnish with this roll and stirrer. This varnish is mixed with silver powder, glass frit, and black inorganic pigment, and mixed with a three-roll or stirrer under the same conditions as the varnish to form a paste.
[0018]
When forming an electrode pattern having a two-layer structure on a front plate of a plasma display using the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste of the present invention, for example, the photosensitive black paste is usually formed on a transparent electrode by a method such as screen printing. Apply with a thickness of 5 to 30 μm. Next, after heating and drying the coating film on the transparent electrode at 50 to 120 ° C. for about 5 to 30 minutes, a photosensitive silver paste is uniformly printed on the entire surface by screen printing, dried, and dried by photolithography. Ultraviolet irradiation is performed through a desired mask, and the exposed portion is light-cured. The light source used at this time includes ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like, and among them, ultraviolet rays are preferable. Usually, a high-pressure mercury lamp is used. The normal exposure amount is preferably about 50 to 1000 (mJ / cm 2 ) in consideration of productivity and the like.
[0019]
Next, an unexposed portion is dissolved and removed with an alkali developing solution to form a pattern. There are dipping and spraying methods for development, and the latter is used for fine pattern formation. As the developer, an alkali aqueous solution is usually used, but an aqueous solution of a metal alkali such as sodium hydroxide, calcium hydroxide, or sodium carbonate, or an aqueous solution of an organic alkali such as tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine, or diethanolamine can also be used. . The concentration of a normal alkaline aqueous solution is often about 0.1 to 2% by weight. Next, the obtained pattern is fired in the atmosphere to completely oxidize and evaporate the alkali-soluble resin, the crosslinkable monomer and the photopolymerization initiator, which are photosensitive organic components. Baking is performed at 400 to 600 ° C. for about 15 to 120 minutes, and the silver component is fused and baked on the transparent electrode.
[0020]
When an electrode pattern is formed using the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste of the present invention, a fine pattern having a thickness of 5 to 15 μm and a minimum line width of about 30 μm can be formed after firing. In addition, a highly reliable and high-quality image display device can be manufactured using them.
[0021]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples.
<Example 1>
A varnish was prepared using the components (A) to (C) and (F). This varnish component was blended with (D) silver powder, (E) glass frit and (G) black inorganic pigment in the above amounts to prepare a photosensitive black paste.
[0022]
A varnish was prepared using the components (A) to (C) and (F). This varnish component was mixed with the above amounts of (D) silver powder and (E) glass frit to prepare a photosensitive silver paste. Various properties of the obtained paste were evaluated. Table 1 shows the evaluation results.
[0023]
<Coating and printing>
The photosensitive black paste was applied to a 400 mm square on a glass plate (500 mm square, 3 mm thick) using a 325 mesh screen, and dried at 80 ° C. for 10 minutes to obtain a print film having a thickness of 10 μm. Next, a photosensitive silver paste was printed thereon using the same screen and dried at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a printed film having a total thickness of 20 μm.
[0024]
<Exposure and development>
Using a mask having a test pattern of 10 to 100 μm, the printed film prepared above was irradiated with 50 to 400 (mJ / cm 2 ) ultraviolet rays in increments of 50 (mJ / cm 2 ). Thereafter, it was spray-developed with a 0.5% by weight aqueous solution of sodium carbonate to remove unexposed portions and washed with water.
[0025]
<Firing>
The developed glass plate was baked in the air at 500 ° C. for 60 minutes to form an electrode pattern composed of a baked printed film.
<Evaluation>
The resolution, the black pattern line width, the volume resistivity, the thickness of the fired print film, the storage stability of the paste, and the blackness were measured and evaluated.
The resolution was observed with a metallographic microscope.
The black pattern line width was obtained by measuring a line width after development in a portion exposed with a 100 μm mask.
The line width of the black pattern was measured by observing the two-layer pattern through glass.
For the conductivity, the volume resistivity of the black-silver two-layer electrode was measured.
The thickness of the fired print film (hereinafter, the thickness of the photosensitive black paste is referred to as a black layer thickness, and the thickness of the photosensitive silver paste is referred to as a silver layer thickness) was measured with a surface roughness meter. Regarding the film thickness, a photosensitive black paste and a photosensitive silver paste were each independently printed on a glass plate, and a black layer and a silver layer after drying at 80 ° C. for 10 minutes were each formed to have a thickness of 10 μm. After calcining at 500 ° C. for 60 minutes, the measurement was performed.
The storage stability of the paste was evaluated by the number of days until the viscosity of the photosensitive black paste and the photosensitive silver paste was increased by 50% with respect to the initial viscosity, while being left in a state of being shielded from light at 23 ° C.
After the photosensitive black paste was fired, the blackness was determined by printing the photosensitive black paste on a glass plate, irradiating with ultraviolet rays, and firing at 500 ° C. for 60 minutes in the air. The Y value of the color system was represented by the measured value.
[0026]
<Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 24>
According to the compositions shown in Tables 1 to 4, a photosensitive black paste and a photosensitive silver paste were prepared by the same method and operation as in Example 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 to 4. The silver powder of Comparative Example 23 was spherical having an average particle diameter of 0.5 μm, and the silver powder of Comparative Example 24 was spherical having an average particle diameter of 5.0 μm.
[0027]
[Table 1]
[0028]
[Table 2]
[0029]
[Table 3]
[0030]
[Table 4]
[0031]
【The invention's effect】
According to the present invention, a photosensitive black paste and a photosensitive silver paste are applied on a substrate, and then an electrode pattern having a two-layer structure is formed by photolithography, so that the conductive film after firing has a thickness of 5 to 15 μm. It is possible to obtain a high-precision fine electrode pattern with a low resistance of about 30 μm in minimum line width and excellent conductivity. The blackness is such that the Y value is 10 or less, and the contrast ratio can be improved. Regarding the line width of the black pattern, the line width of the pattern formed using the 100 μm mask is 70 μm or more, and a line width sufficient for the purpose of improving the contrast ratio can be obtained.
Claims (2)
感光性黒ペースト(1)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、銀粉(D)100〜500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部、有機溶剤(F)50〜250重量部、黒色無機顔料(G)5〜300重量部を含む感光性黒ペースト。
感光性銀ペースト(2)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、平均粒径2.0〜4.5μmの銀粉(D)400〜1500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部及び有機溶剤(F)50〜250重量部を含む感光性銀ペースト。It has a two-layered electrode obtained by applying the following photosensitive black paste (1) on the transparent electrode of the substrate, further applying the following photosensitive silver paste (2) thereon, and then firing. Plasma display.
Photosensitive black paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).
Photosensitive silver paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), and an average particle size of 2.0 to 4 A photosensitive silver paste containing 400 to 1500 parts by weight of a silver powder (D) of 0.5 μm, 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), and 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F).
感光性黒ペースト(1)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、銀粉(D)100〜500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部、有機溶剤(F)50〜250重量部、黒色無機顔料(G)5〜300重量部を含む感光性黒ペースト。
感光性銀ペースト(2)
アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー(B)40〜150重量部、光重合開始剤(C)15〜60重量部、平均粒径2.0〜4.5μmの銀粉(D)400〜1500重量部、ガラスフリット(E)1〜60重量部及び有機溶剤(F)50〜250重量部を含む感光性銀ペースト。The following photosensitive black paste (1) is applied on the transparent electrode of the substrate, dried by heating, and the following photosensitive silver paste (2) is further applied thereon, dried, and then baked after forming a pattern by photolithography. A method for producing a two-layer electrode for a plasma display.
Photosensitive black paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).
Photosensitive silver paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), and an average particle size of 2.0 to 4 A photosensitive silver paste containing 400 to 1500 parts by weight of a silver powder (D) of 0.5 μm, 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), and 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002336477A JP2004206884A (en) | 2002-11-06 | 2002-11-20 | Plasma display and method of manufacturing two-layer structure electrode for plasma display |
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|
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---|---|
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Family
ID=32828332
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