JP2004205532A

JP2004205532A - Photosensitive film and method for manufacturing two-layer electrode for plasma display

Info

Publication number: JP2004205532A
Application number: JP2002336465A
Authority: JP
Inventors: Manabu Naito; 学内藤
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 2002-10-31
Filing date: 2002-11-20
Publication date: 2004-07-22

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive film having a four-layer structure and excellent workability with which a fine electrode pattern with high accuracy can be formed. <P>SOLUTION: The photosensitive film comprises a substrate film and layers of a photosensitive silver paste (1), a photosensitive black paste (2) and a release film in this order. The silver paste (1) contains 100 pts.wt. of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 pts.wt. of crosslinking monomers (B) having unsaturated double bonds, 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 400 to 1,500 pts.wt. of silver powder (D), 1 to 60 pts.wt. of glass frit and 50 to 250 pts.wt. of an organic solvent (F). The black paste (2) contains 100 pts.wt. of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 pts.wt. of crosslinking monomers (B) having unsaturated double bonds, 15 to 60 pts.wt. of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 pts.wt. of silver powder (D), 1 to 60 pts.wt. of glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F) and 5 to 300 pts.wt. of a black inorganic pigment (G). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性フィルム及びそれを用いたプラズマディスプレイ用２層構造電極の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマディスプレイパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、サーマルヘッド等の各種電子部品においては、微細な電極をパターン形成する必要があり、例えばスクリーン印刷、蒸着、スパッタリングやメッキ等の方法で形成した導電性膜をフォトリソグラフィー法によりエッチングしてパターン形成する方法や、導電粒子入りのペーストをスクリーンによる印刷等の方法で作成したパターンを乾燥、焼成することによって電極とすることが行われている。
【０００３】
これらの方法のうちエッチングによってパターン形成する方法では高精度なパターン形成が可能であるが、エッチング工程を有することからコスト高になるといった欠点があった。一方のスクリーン印刷は、画像表示装置の大画面化に対応する基板へのパターン形成方法としては比較的低コストなことから経済的には有利であるが、５０μｍ以下の微細パターンの形成にはスクリーン版の精度の点から限界があった。このような理由から、従来の電極パターン形成法の問題点を解決して高精度な微細電極パターンを形成するための感光性導電ペーストが、プラズマディスプレイパネルの電極形成用として提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
特に、プラズマディスプレイパネルについては、電極が前面板、背面板の両方にあり前面板電極は透明電極の補助電極として使用されるため、画面に電極が見えるようになるので画面のコントラスト比を向上させるために、この電極の色を黒にすることが必要となる。画面のコントラスト比を向上させるために、透明電極上に形成された不透明電極を、黒色顔料を混合した第１の金属電極と、顔料を混合しない第１の金属電極より、比抵抗の小さい第２の金属電極との２層構造を有するプラズマディスプレイパネルが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。これには、コントラスト比を向上させることについては記載されているが、近年の小型化、高密度化等の要求に伴う高精度な微細電極パターンを形成することについては開示されておらず、小型化、高密度化等に伴う２層構造の高精度な微細電極パターンを有するプラズマディスプレイパネルが求められている。又上記の特許文献１には、１層で前面板用の電極を作成することが記載されているが、黒色無機顔料は絶縁性であり、黒色無機顔料を用いて作成した黒色感光性導電ペーストは導電性に難点があり、又黒色のペーストは光反応性に劣り、１層でパターン形成するにはパターン強度が低い傾向にあり、２層構造に適応できる感光性導電ペーストが要求されている。一方、感光性導電ペーストは、使用時にガラス基板等の基板に塗布した後、加熱乾燥することが必要なことから、使用者側から従来の感光性導電ペーストの特性を維持しながら、感光性導電ペーストより作業性に優れた感光性フィルムが求められている。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−４８６４５号公報（第２頁〜第１３頁）
【特許文献２】
特開平４−２７２６３４号公報（第２頁〜第４頁）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来の感光性導電ペーストと同様の高精度な微細パターンを高感度で形成できる特性を有し、従来の感光性導電ペーストに較べて塗布工程、乾燥工程が不要で工程短縮が可能となり、取扱い作業性に優れた感光性フィルム及びそれを用いた画像表示装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
［１］基板フィルム、下記の感光性銀ペースト（１）を乾燥させてなる感光性銀フィルム、下記の感光性黒ペースト（２）を乾燥させてなる感光性黒フィルム、離型フィルムの順に層をなすことを特徴とする４層構成の感光性フィルム、
感光性銀ペースト（１）
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー（Ｂ）４０〜１５０重量部、光重合開始剤（Ｃ）１５〜６０重量部、銀粉（Ｄ）４００〜１５００重量部、ガラスフリット（Ｅ）１〜６０重量部及び有機溶剤（Ｆ）５０〜２５０重量部を含む感光性銀ペースト。
感光性黒ペースト（２）
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、不飽和二重結合を有する架橋性モノマー（Ｂ）４０〜１５０重量部、光重合開始剤（Ｃ）１５〜６０重量部、銀粉（Ｄ）１００〜５００重量部、ガラスフリット（Ｅ）１〜６０重量部、有機溶剤（Ｆ）５０〜２５０重量部、黒色無機顔料（Ｇ）５〜３００重量部を含む感光性黒ペースト。
［２］第１項記載の感光性フィルムを基板の透明電極上に貼り合わせた後、フォトリソグラフィーでパターン形成後焼成することを特徴とするプラズマディスプレイ用２層構造電極の製造方法、
である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、通常のアルカリ性現像液により現像できるアルカリ可溶の特性を有しておれば特に限定しない。その具体例としては、カルボン酸のような酸性基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体が好適であり、酸性基成分としてはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸等が挙げられ、エチレン性不飽和基成分としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎーブチルアクリレート、ｎーブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタリレート等が挙げられる。
【０００９】
本発明に用いられる不飽和二重結合を有する架橋性モノマー（Ｂ）は、少なくとも１つのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。光照射によって光重合開始剤から発生したラジカルで反応し、アルカリ現像液への溶解性を低下させてパターンを形成するものである。その具体例としては、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチルー１，３−ペンタンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記のアクリレートをメタクリレートに置き換えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニルー２−ピロリドン等が挙げられる。これらの不飽和二重結合を有する架橋性モノマーは単独でも併用してもよい。
【００１０】
不飽和二重結合を有する架橋性モノマー（Ｂ）の配合量は、感光性銀ペースト、感光性黒ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し４０〜１５０重量部である。４０重量部未満では架橋性に乏しく、解像度が悪くなり、１５０重量部を越えるとアルカリ可溶性が低下し、解像度が悪くなる。
【００１１】
本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）は、光の照射により重合を開始させる化合物ならば、特に限定しない。具体例としては、ジメチルベンジルケタール、４−ジメチルアミノ安息香酸、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノアセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２―アミルアントラキノン、β−クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシープロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスルフォニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクドリン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールスルフィド、トリフェニルフォスフィン、カンファーキノン等が挙げられ、これらのうちでは高感度のパターンが得られる点から、ジメチルベンジルケタール、４−ジメチルアミノ安息香酸、イソプロピルチオキサントンが好ましい。これらは単独でも併用してもよい。
【００１２】
光重合開始剤（Ｃ）の配合量は、感光性銀ペースト、感光性黒ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し１５〜６０重量部である。１５重量部未満では解像度が悪くなり、６０重量部を越えると遮光保存時のフィルムの保存性に問題がある。
【００１３】
本発明に用いられる銀粉（Ｄ）は、特に限定しないが、光透過性を良好なものとするために球状のものが好ましい。又その粒径についてもパターン性、光透過性を良好なものとするためには、０．１〜５μｍの範囲のものが好ましい。銀粉の配合量は、感光性銀ペーストにおいて、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して４００〜１５００重量部である。４００重量部未満では焼成後の導電性に劣り、１５００重量部を越えると光透過性が悪くなることによる光反応性の低下が起こる。感光性黒ペーストにおいて、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して１００〜５００重量部である。１００重量部未満では焼成後の導電性に劣り、５００重量部を越えると光透過性が悪くなることによる光反応性の低下が起こる。
【００１４】
本発明に用いられるガラスフリット（Ｅ）は、基板界面での接着力向上効果の他、焼結助剤としても作用し焼成後に銀を焼結させるものである。本発明に用いるガラスフリットは、低融点での融着を行うために、酸化鉛を５０％以上含むものが望ましく、又ガラスフリットの粒径は、光透過性を良好なものとするために０．１〜５μｍの範囲のものが好ましい。ガラスフリットの配合量は、感光性銀ペースト、感光性黒ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し１〜６０重量部である。１重量部未満では焼結できないため導電性が低く、６０重量部を越えると遮光保存時のフィルムの保存性に問題がある。
【００１５】
本発明に用いられる有機溶剤（Ｆ）は、フィルムを作成するためのペーストを所望の粘度にして塗布時の作業性を向上させるために用いられるが、具体例としては、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等のアルコール系溶剤、メトキシアルコール、エトキシアルコール等のセロソルブ系溶剤、メトキシエトキシエタノール、ジエトキシエタノール、ブトキシエトキシエタノール等のカルビトール系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶剤、メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブアセテート系溶剤、メトキシエトキシエチルアセテート、ジエトキシエチルアセテート等のカルビトールアセテート系溶剤、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の非プロトン性アミド系溶剤、γ―ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、ｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶剤等の有機溶剤が挙げられる。有機溶剤の配合量は、感光性銀ペースト、感光性黒ペースト共に、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して５０〜２５０重量部である。５０重量部未満であるとペーストの粘度が高すぎるためフィルム塗布時に膜厚が厚くなり、２５０重量部を越えると粘度が低くすぎ、フィルム作成の乾燥時の乾燥状態が不充分となる。
【００１６】
本発明に用いる黒色無機顔料（Ｇ）は、プラズマディスプレイの前面板用電極を黒色に着色し、プラズマディスプレイの画面のコントラスト比を向上させる。電極を黒くするための着色剤としては、有機・無機顔料、染料、カーボンブラック等があるが、電極を作成する際に４００〜６００℃の高温処理を行い有機分を全て焼成させるため、有機顔料は不適である。黒色無機顔料としては、黒色に着色できるものならば特に限定しない。具体例としては酸化マンガン、酸化クロム、酸化コバルト、酸化銅、酸化鉄、酸化ルテニウム等の金属酸化物等が挙げられる。これらは単独でも併用してもよい。
黒色無機顔料（Ｇ）の配合量は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して５〜３００重量部である。５重量部未満だと十分な黒色化ができず、３００重量部を越えると導電性が極端に低下する。本発明での感光性銀ペースト、感光性黒ペーストには、上記成分に添加剤として、増感剤、分散剤、消泡剤、増粘剤、沈殿防止剤等を必要に応じて加えることが可能である。
【００１７】
本発明に用いる基板フィルム、離形フィルムは、使用している溶剤に耐性があれば特に限定しないが、材質としてポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ナイロン、ポリウレタン、ポリイミド等が挙げられ、これらの材質を単独又は２種以上組み合わせて作成したフィルムが挙げられる。これらのうち、特に耐熱性、柔軟性の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【００１８】
本発明に用いられる、感光性銀ペースト、感光性黒ペーストは、構成成分のうち銀粉、ガラスフリットと黒色無機顔料を除いたものを、予めイエロールーム等の紫外線を遮断した部屋で秤量、配合した後、三本ロールや攪拌機にて均一なワニスを作成する。更に、このワニスに銀粉、ガラスフリット、黒色無機顔料を配合しワニスと同じような条件で三本ロールや攪拌機にて混合すれば得られる。
【００１９】
４層フィルムの作成方法は、特には限定しないが、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）等の基板フィルムの片面に感光性銀ペーストを塗布して塗膜を形成後、塗膜の表面がべたつかず、塗膜の変質が発生しない状態までに乾燥した後、感光性銀フィルム上に黒ペーストを塗布、乾燥してその上に離型フィルムを圧着することにより４層構成の感光性フィルムを得る方法や、ＰＥＴフィルム等の基板フィルムの片面に感光性銀ペーストを塗布して塗膜を形成、別に離型フィルムの片側に黒ペーストを塗布して塗膜を形成し、それぞれ塗膜の表面がべたつかず、塗膜の変質が発生しない状態までに乾燥した後、感光性銀フィルムと感光性黒フィルムをラミネーターにより熱圧着し４層構成の感光性フィルムを得る方法等がある。乾燥温度としては、塗膜の表面がべたつかず、簡単に基板フィルム、離型フィルムが剥離でき、感光性銀フィルム、感光性黒フィルムの変質が発生しない状態までに乾燥できれば特に限定しないが、６０〜２５０℃が好ましい。６０℃未満だと乾燥が十分でなく、塗膜の裏面のみならず塗膜表面のべたつきが残ってしまい、基板フィルム、離型フィルムが剥離せず、２５０℃を越えると感光性銀フィルム、感光性黒フィルムの変質が発生し、パターンが十分作成されないおそれがあり好ましくない。
【００２０】
本発明の４層構成の感光性フィルムを用いて、プラズマディスプレイの前面板の２層構造の電極パターンを形成するには、先ず離型フィルムを剥離して基板の透明電極上に、感光性フィルムをラミネーターで貼り付ける。ラミネート条件としては、ロール温度が６０〜２５０℃で、送り速度として０．０１〜１０ｍ／分が好ましい。
【００２１】
次にＰＥＴフィルムを剥離して、フォトリソグラフィー法により所望のマスクを介して紫外線照射し、露光部分を光硬化させる。このときに用いられる光源は紫外線、電子線、Ｘ線等があるが中でも紫外線が好ましい。通常高圧水銀灯が用いられる。通常の露光量は生産性等を考慮して、２０〜１０００（ｍＪ／ｃｍ^２）程度が好ましい。
【００２２】
次に未露光部分をアルカリ現像液で溶解除去してパターン形成する。現像は浸漬法やスプレー法があるが、微細パターン形成にはスプレー法が用いられる。現像液には、通常水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム等の金属アルカリ水溶液やテトラメチルアンモニウムヒドロオキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等の有機アルカリ水溶液を用いることもできる。アルカリ水溶液の濃度は０．１〜２重量％程度がよく用いられる。得られたパターンを大気中で焼成して、感光性有機成分であるアルカリ可溶性樹脂、架橋性モノマー、光重合開始剤を完全に酸化蒸発させる。温度条件としては、４００〜６００℃で１５〜１２０分間焼成し基板の透明電極上に銀成分を融着焼き付けする。
【００２３】
本発明の感光性フィルムを用いて電極パターンを形成した場合、焼成後の導電膜の厚み５〜１５μｍで最小線幅３０μｍ程度の微細パターンを形成することができる。それらを用いて信頼性が高く、高画像の画像表示装置を作製することができる。画像表示装置の製造方法は、従来の公知の方法を用いることができる。
【００２４】
【実施例】
以下本発明を実施例で具体的に説明する。
＜実施例１＞

上記の（Ａ）〜（Ｃ）と（Ｆ）成分を用いてワニスを作成した。このワニス成分に、（Ｄ）銀粉と（Ｅ）ガラスフリットを上記の量だけ配合して感光性銀ペーストを作成した。
【００２５】

上記の（Ａ）〜（Ｃ）と（Ｆ）成分を用いてワニスを作成した。このワニス成分に、（Ｄ）銀粉、（Ｅ）ガラスフリットと（Ｇ）黒色無機顔料を上記の量だけ配合して感光性黒ペーストを作成した。得られたペーストの種々の特性を評価した。評価結果を表１に示す。
【００２６】
＜フィルムの作成＞
基板フィルムであるＰＥＴフィルムに、先ず感光性銀ペーストを２００ｍｍ×２００ｍｍの大きさに塗布し、８０℃で２０分間乾燥し、その上に感光性黒ペーストを同じ大きさに塗布し、８０℃で２０分間乾燥し、感光性銀ペーストが乾燥されてなる銀層１０μｍ、感光性黒ペーストが乾燥されてなる黒層１０μｍ、合計膜厚２０μｍの感光性フィルムを得た。
【００２７】
＜露光、現像＞
上記で作成した感光性フィルムを、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス板にラミネーターにて貼り付けた。ラミネーター条件は、ロール温度１５０℃、送り速度０．３ｍ／分で行った。このフィルムに、１０〜１００μｍのテストパターンを有するマスクを用いて、５０〜４００（ｍＪ／ｃｍ^２）まで５０（ｍＪ／ｃｍ^２）きざみの紫外線を照射した。その後０．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像して未露光部を除去水洗しパターンを形成した。
【００２８】
＜焼成＞
上記ガラス板を大気中５００℃で６０分間焼成を行い、焼成膜からなるパターンを作成した。
＜評価＞
焼成塗布膜の膜厚、解像度、体積抵抗率、感光性フィルムの保存安定性、黒色度、タック性を測定した。
焼成塗布膜の膜厚（以下、感光性銀ペーストによる膜厚を銀層膜厚、感光性黒ペーストによる膜厚を黒層膜厚という）は表面粗さ計にて測定した。膜厚については、感光性銀ペースト、感光性黒ペーストをそれぞれ単独でガラス板に印刷し、８０℃で１０分乾燥後の厚みが銀層、黒層のいずれも１０μｍとなるものを作成し、大気中５００℃で６０分間焼成した後のものを測定した。
解像度は金属顕微鏡で観察した。
導電性は、黒−銀２層電極の体積抵抗率を測定した。
保存安定性は、作成した感光性フィルムを常温遮光の状態で保存し、３０日ごとにパターンを作成してパターン作成が可能な場合を○、現像不能又はパターンが流れるものを×とした。
感光性黒ペーストの焼成後黒色度は、感光性黒ペーストをガラス板上に塗布し紫外線を照射した後大気中５００℃で６０分間焼成し、色差計でＸＹＺ表色系のうちのＹ値を測定した値で表した。
タック性については、上記の４層構成の感光性銀フィルムから離形フィルムを剥離して、剥離面とガラス板をラミネートした後、基板フィルムを剥離し、その剥離面のタック性を調べた。比較例２３では、実施例１と同一の組成でペーストを作成し、このペーストをガラス板にスクリーン版にて印刷し、８０℃で２０分乾燥し、常温に戻してタック性を調べた。いずれの場合にも触って手につかない場合を○、手につく場合を×とした
【００２９】
＜実施例２〜５、比較例１〜２２＞
表１〜表４に示した組成に従い、実施例１と同様の方法、操作で感光性フィルムを作成し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１〜表４に示す。
＜比較例２３＞
実施例１と同一の組成でペーストを作成し、フィルムにせずに２５０メッシュ（２００ｍｍ×４００ｍｍ）のスクリーン版にてガラス板に印刷し、８０℃で２０分にて乾燥後、実施例１と同様の評価を行った。結果を表４に示す。
【００３０】
【表１】

【００３１】
【表２】

【００３２】
【表３】

【００３３】
【表４】

【００３４】
【発明の効果】
本発明に従うと、基板の透明電極上に感光性フィルムを貼り合わせた後、フォトリソグラフィーで２層構造を有する電極パターンを形成することにより、焼成後の黒層厚み４〜６μｍ、銀層厚み４〜６μｍで、最小線幅３０μｍ程度の低抵抗で導電性に優れた高精度で微細なプラズマディスプレイ用２層構造電極を得ることができる。又黒色度はＹ値が１０以下であり、コントラスト比を向上できる。又フィルム状のため、従来の感光性導電ペーストに較べて塗布工程、乾燥工程が不要で工程短縮が可能となり、取扱い作業性に優れている。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive film and a method for manufacturing a two-layer electrode for a plasma display using the same.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, in various electronic components such as a plasma display panel, an image display device such as a liquid crystal display device, and a thermal head, it is necessary to form a pattern of fine electrodes, for example, by a method such as screen printing, vapor deposition, sputtering or plating. An electrode is formed by etching a conductive film formed by photolithography to form a pattern, or by drying and firing a pattern formed by printing a paste containing conductive particles by a screen or the like. .
[0003]
Of these methods, the method of forming a pattern by etching enables high-precision pattern formation, but has a drawback that the cost is increased due to the presence of an etching step. On the other hand, screen printing is economically advantageous as a relatively low cost method for forming a pattern on a substrate corresponding to the enlargement of the screen of an image display device. However, screen printing is not suitable for forming a fine pattern of 50 μm or less. There was a limit in terms of plate accuracy. For this reason, a photosensitive conductive paste for forming a high-precision fine electrode pattern by solving the problems of the conventional electrode pattern forming method has been proposed for forming an electrode of a plasma display panel (for example, And Patent Document 1.).
[0004]
In particular, regarding the plasma display panel, the electrodes are present on both the front plate and the back plate, and the front plate electrodes are used as auxiliary electrodes for the transparent electrodes, so that the electrodes can be seen on the screen, thereby improving the contrast ratio of the screen. Therefore, it is necessary to change the color of this electrode to black. In order to improve the contrast ratio of the screen, the opaque electrode formed on the transparent electrode is made of a second metal having a lower specific resistance than a first metal electrode mixed with a black pigment and a first metal electrode mixed with no pigment. A plasma display panel having a two-layer structure with a metal electrode has been proposed (for example, see Patent Document 2). This document describes improving the contrast ratio, but does not disclose forming a high-precision fine electrode pattern in response to recent demands for miniaturization and high density. There is a demand for a plasma display panel having a high-precision fine electrode pattern having a two-layer structure accompanying the trend toward higher density and higher density. Further, Patent Document 1 described above discloses that a single-layer electrode for a front plate is formed. However, the black inorganic pigment is insulative, and a black photosensitive conductive paste prepared using the black inorganic pigment is used. Has a disadvantage in conductivity, and the black paste has poor photoreactivity and tends to have a low pattern strength to form a pattern with one layer, and a photosensitive conductive paste applicable to a two-layer structure is required. . On the other hand, the photosensitive conductive paste must be applied to a substrate such as a glass substrate at the time of use, and then dried by heating. Therefore, while maintaining the characteristics of the conventional photosensitive conductive paste from the user side, the photosensitive conductive paste can be used. There is a demand for a photosensitive film having better workability than the paste.
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-2000-48645 (pages 2 to 13)
[Patent Document 2]
JP-A-4-272634 (pages 2 to 4)
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has the property of forming a high-precision fine pattern with high sensitivity similar to the conventional photosensitive conductive paste. Compared with the conventional photosensitive conductive paste, the application step and the drying step are unnecessary and the process can be shortened. The present invention provides a photosensitive film excellent in handling workability and an image display device using the same.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention
[1] Layers of a substrate film, a photosensitive silver film obtained by drying the following photosensitive silver paste (1), a photosensitive black film obtained by drying the following photosensitive black paste (2), and a release film A four-layer photosensitive film,
Photosensitive silver paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 400 to 1500 parts by weight of a silver powder (D) , A photosensitive silver paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E) and 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F).
Photosensitive black paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).
[2] A method for producing a two-layer structure electrode for a plasma display, comprising: after laminating the photosensitive film according to item 1 on a transparent electrode of a substrate, forming a pattern by photolithography, and firing.
It is.
[0008]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The alkali-soluble resin (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it has alkali-soluble properties that can be developed with a normal alkaline developer. As a specific example, an acrylic copolymer having an acidic group such as a carboxylic acid and an ethylenically unsaturated group is preferable, and as the acidic group component, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and cinnamon Examples of the ethylenically unsaturated group component include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, and n-butyl acrylate. Butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, allyl acrylate, allyl meth Relate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methallyl rate and the like.
[0009]
The crosslinkable monomer (B) having an unsaturated double bond used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. It reacts with radicals generated from a photopolymerization initiator by light irradiation, and reduces the solubility in an alkali developer to form a pattern. Specific examples thereof include allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate. Propyl acrylate, isobonyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxy acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, , 5-pentanediol Acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,3-propanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 2,2-dimethylolpropane diacrylate, glycerol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol Triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane acrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol triacrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate , Propylene oxide Pentaerythritol triacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyoxypropyl trimethylolpropane triacrylate, butylene glycol diacrylate, 1,2,4-butanetriol triacrylate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol Examples thereof include diacrylate, 1,10-decanediol dimethyl acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, and those obtained by replacing the above acrylate with methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, and the like. These crosslinkable monomers having an unsaturated double bond may be used alone or in combination.
[0010]
The compounding amount of the crosslinkable monomer (B) having an unsaturated double bond is 40 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive silver paste and the photosensitive black paste. If the amount is less than 40 parts by weight, the crosslinking property is poor and the resolution is poor, and if it exceeds 150 parts by weight, the alkali solubility is reduced and the resolution is deteriorated.
[0011]
The photopolymerization initiator (C) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that initiates polymerization by light irradiation. Specific examples include dimethylbenzyl ketal, 4-dimethylaminobenzoic acid, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-aminoacetophenone 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy -2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl-methoxyethyl Acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, -Phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxypropanetrione 2- (o-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacdrine, 4,4 -Azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole sulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, etc., among them, dimethylbenzyl ketal, 4-dimethylaminobenzoic Acids and isopropylthioxanthone are preferred. These may be used alone or in combination.
[0012]
The compounding amount of the photopolymerization initiator (C) is 15 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive silver paste and the photosensitive black paste. If the amount is less than 15 parts by weight, the resolution will be poor.
[0013]
The silver powder (D) used in the present invention is not particularly limited, but is preferably spherical in order to improve the light transmittance. The particle size is preferably in the range of 0.1 to 5 μm in order to improve the patternability and light transmittance. The compounding amount of the silver powder is 400 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin in the photosensitive silver paste. If the amount is less than 400 parts by weight, the conductivity after firing is inferior. If the amount exceeds 1500 parts by weight, the light transmittance deteriorates and the photoreactivity decreases. In the photosensitive black paste, the amount is 100 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. If the amount is less than 100 parts by weight, the conductivity after firing is inferior. If the amount exceeds 500 parts by weight, the light transmittance is deteriorated, and the photoreactivity is reduced.
[0014]
The glass frit (E) used in the present invention has an effect of improving the adhesive force at the interface between the substrates and also acts as a sintering aid to sinter silver after firing. The glass frit used in the present invention desirably contains 50% or more of lead oxide in order to perform fusion at a low melting point, and the particle size of the glass frit is preferably 0 to improve light transmittance. It is preferably in the range of 0.1 to 5 μm. The compounding amount of the glass frit is 1 to 60 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive silver paste and the photosensitive black paste. If the amount is less than 1 part by weight, sintering cannot be performed, so that the conductivity is low.
[0015]
The organic solvent (F) used in the present invention is used to make a paste for forming a film into a desired viscosity to improve workability at the time of application. Specific examples thereof include ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and the like. Alcohol solvents such as n-propyl alcohol, methoxy alcohol, cellosolve solvents such as ethoxy alcohol, methoxyethoxyethanol, diethoxyethanol, carbitol solvents such as butoxyethoxyethanol, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, Ester solvents such as ethyl lactate; cellosolve acetate solvents such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, and ethyl cellosolve acetate; carbitol acetate such as methoxyethoxyethyl acetate and diethoxyethyl acetate. Solvent solvents, ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran, aprotic amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, γ -Organic solvents such as lactone solvents such as butyrolactone, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and aliphatic hydrocarbon solvents such as n-heptane, n-hexane and n-octane. The amount of the organic solvent is 50 to 250 parts by weight for 100 parts by weight of the alkali-soluble resin for both the photosensitive silver paste and the photosensitive black paste. If the amount is less than 50 parts by weight, the viscosity of the paste is too high, so that the film thickness becomes large at the time of film application. If the amount is more than 250 parts by weight, the viscosity is too low, and the dried state in drying the film is insufficient.
[0016]
The black inorganic pigment (G) used in the present invention colors the electrode for the front panel of the plasma display to black, and improves the contrast ratio of the screen of the plasma display. As a coloring agent for blackening the electrode, there are organic / inorganic pigments, dyes, carbon black and the like. Is not suitable. The black inorganic pigment is not particularly limited as long as it can be colored black. Specific examples include metal oxides such as manganese oxide, chromium oxide, cobalt oxide, copper oxide, iron oxide, and ruthenium oxide. These may be used alone or in combination.
The amount of the black inorganic pigment (G) is 5 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. If the amount is less than 5 parts by weight, sufficient blackening cannot be achieved, and if it exceeds 300 parts by weight, the conductivity is extremely reduced. In the photosensitive silver paste and the photosensitive black paste of the present invention, a sensitizer, a dispersant, an antifoaming agent, a thickener, a suspending agent and the like may be added as necessary to the above components as additives. It is possible.
[0017]
The substrate film and the release film used in the present invention are not particularly limited as long as they have resistance to the solvent used, but are made of polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polypropylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyvinyl chloride. Examples thereof include alcohol, nylon, polyurethane, and polyimide, and a film formed by using these materials alone or in combination of two or more. Among these, a polyethylene terephthalate film is particularly preferred in terms of heat resistance and flexibility.
[0018]
Used in the present invention, photosensitive silver paste, photosensitive black paste, except for silver powder, glass frit and black inorganic pigment among the components, were weighed and blended in a room such as a yellow room where ultraviolet rays were previously blocked. Thereafter, a uniform varnish is prepared using a three-roll mill or a stirrer. Furthermore, silver powder, glass frit, and black inorganic pigment are blended with this varnish, and mixed with a three-roll or stirrer under the same conditions as the varnish.
[0019]
The method of forming the four-layer film is not particularly limited. For example, a photosensitive silver paste is applied to one surface of a substrate film such as a polyethylene terephthalate film (hereinafter, referred to as a PET film) to form a coating film, and then the surface of the coating film is formed. After drying to the point where the coating does not change in quality without stickiness, a black paste is applied on the photosensitive silver film, dried, and a release film is pressed on it to form a four-layer photosensitive film. Or a photosensitive film is applied to one side of a substrate film such as a PET film to form a coating film, and a black paste is applied separately to one side of a release film to form a coating film. After drying until the surface is not sticky and the coating does not deteriorate, the photosensitive silver film and the photosensitive black film are thermocompressed with a laminator to form a four-layer photosensitive film. There is a method to obtain. The drying temperature is not particularly limited as long as the surface of the coating film is not sticky, the substrate film and the release film can be easily peeled off, and the photosensitive silver film and the photosensitive black film can be dried to a state in which no deterioration occurs. ~ 250 ° C is preferred. If the temperature is lower than 60 ° C., the drying is not sufficient, and the tackiness of the coating film surface as well as the back surface of the coating film remains, and the substrate film and the release film do not peel off. There is a possibility that the quality of the black film is deteriorated and the pattern is not sufficiently formed, which is not preferable.
[0020]
In order to form a two-layered electrode pattern on the front panel of a plasma display using the four-layered photosensitive film of the present invention, first, the release film is peeled off and the photosensitive film is formed on the transparent electrode of the substrate. Paste with a laminator. The lamination conditions are preferably a roll temperature of 60 to 250 ° C. and a feed rate of 0.01 to 10 m / min.
[0021]
Next, the PET film is peeled off, and ultraviolet light is irradiated through a desired mask by a photolithography method, and the exposed portion is light-cured. The light source used at this time includes ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like, and among them, ultraviolet rays are preferable. Usually, a high-pressure mercury lamp is used. The normal exposure is preferably about 20 to 1000 (mJ / cm ² ) in consideration of productivity and the like.
[0022]
Next, an unexposed portion is dissolved and removed with an alkali developing solution to form a pattern. Development includes an immersion method and a spray method, and a spray method is used for forming a fine pattern. As the developer, an aqueous solution of a metal alkali such as sodium hydroxide, calcium hydroxide or sodium carbonate or an aqueous solution of an organic alkali such as tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine or diethanolamine can be used. The concentration of the aqueous alkali solution is often about 0.1 to 2% by weight. The obtained pattern is fired in the air to completely oxidize and evaporate the photosensitive organic component, ie, the alkali-soluble resin, the crosslinkable monomer, and the photopolymerization initiator. As a temperature condition, baking is performed at 400 to 600 ° C. for 15 to 120 minutes, and a silver component is fused and baked on the transparent electrode of the substrate.
[0023]
When an electrode pattern is formed using the photosensitive film of the present invention, a fine pattern having a thickness of 5 to 15 μm and a minimum line width of about 30 μm can be formed after firing. By using them, a highly reliable image display device with high image quality can be manufactured. As a method for manufacturing the image display device, a conventionally known method can be used.
[0024]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples.
<Example 1>

A varnish was prepared using the components (A) to (C) and (F). This varnish component was mixed with the above amounts of (D) silver powder and (E) glass frit to prepare a photosensitive silver paste.
[0025]

A varnish was prepared using the components (A) to (C) and (F). This varnish component was blended with (D) silver powder, (E) glass frit and (G) black inorganic pigment in the above amounts to prepare a photosensitive black paste. Various properties of the obtained paste were evaluated. Table 1 shows the evaluation results.
[0026]
<Creating a film>
First, a photosensitive silver paste is applied to a PET film as a substrate film to a size of 200 mm × 200 mm, dried at 80 ° C. for 20 minutes, and a photosensitive black paste is applied to the same size on the photosensitive silver paste. After drying for 20 minutes, a photosensitive layer having a total film thickness of 20 μm was obtained by drying the photosensitive silver paste to form a silver layer of 10 μm and the photosensitive black paste to form a black layer of 10 μm.
[0027]
<Exposure and development>
The photosensitive film prepared as described above was attached to a 100 mm × 100 mm glass plate with a laminator. Laminator conditions were a roll temperature of 150 ° C. and a feed rate of 0.3 m / min. Using a mask having a test pattern of 10 to 100 μm, this film was irradiated with ultraviolet rays in increments of 50 (mJ / cm ² ) from 50 to 400 (mJ / cm ² ). Thereafter, a non-exposed portion was removed by spray development with a 0.5% by weight aqueous solution of sodium carbonate, followed by washing with water to form a pattern.
[0028]
<Firing>
The glass plate was fired in air at 500 ° C. for 60 minutes to form a pattern formed of a fired film.
<Evaluation>
The film thickness, resolution, volume resistivity, storage stability, blackness, and tackiness of the photosensitive film were measured.
The film thickness of the fired coating film (hereinafter, the film thickness of the photosensitive silver paste is referred to as a silver layer film thickness, and the film thickness of the photosensitive black paste is referred to as a black layer film thickness) was measured with a surface roughness meter. Regarding the film thickness, a photosensitive silver paste and a photosensitive black paste were each independently printed on a glass plate, and after drying at 80 ° C. for 10 minutes, the thickness of each of the silver layer and the black layer was 10 μm. After firing at 500 ° C. in the air for 60 minutes, the measurement was performed.
The resolution was observed with a metallographic microscope.
For the conductivity, the volume resistivity of the black-silver two-layer electrode was measured.
The storage stability was evaluated as ○ when the photosensitive film thus prepared was stored in a light-shielded state at room temperature and a pattern was formed every 30 days and the pattern could be formed, and x when the pattern could not be developed or the pattern flowed.
After firing the photosensitive black paste, the degree of blackness is determined by applying the photosensitive black paste on a glass plate, irradiating with ultraviolet light, firing at 500 ° C. in the air for 60 minutes, and measuring the Y value of the XYZ color system with a color difference meter. It was represented by the measured value.
Regarding the tackiness, the release film was peeled off from the four-layered photosensitive silver film, the peeled surface and the glass plate were laminated, the substrate film was peeled off, and the tackiness of the peeled surface was examined. In Comparative Example 23, a paste was prepared with the same composition as in Example 1, and this paste was printed on a glass plate using a screen plate, dried at 80 ° C. for 20 minutes, returned to room temperature, and examined for tackiness. In any case, the case where the hand was not touched by touching was marked as “○”, and the case where the hand was touched was marked as “×”.
<Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 22>
According to the compositions shown in Tables 1 to 4, a photosensitive film was prepared by the same method and operation as in Example 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Tables 1 to 4.
<Comparative Example 23>
A paste having the same composition as in Example 1 was prepared, printed on a glass plate using a 250-mesh (200 mm × 400 mm) screen plate without being formed into a film, and dried at 80 ° C. for 20 minutes. Was evaluated. Table 4 shows the results.
[0030]
[Table 1]

[0031]
[Table 2]

[0032]
[Table 3]

[0033]
[Table 4]

[0034]
【The invention's effect】
According to the present invention, after laminating a photosensitive film on a transparent electrode of a substrate, an electrode pattern having a two-layer structure is formed by photolithography, so that a fired black layer thickness of 4 to 6 μm and a silver layer thickness of 4 It is possible to obtain a highly accurate and fine two-layer structure electrode for a plasma display having a low line resistance of about 6 μm, a minimum line width of about 30 μm, and excellent conductivity. The blackness is such that the Y value is 10 or less, and the contrast ratio can be improved. Further, since it is in the form of a film, it does not require a coating step and a drying step as compared with the conventional photosensitive conductive paste, so that the steps can be shortened and the handling efficiency is excellent.

Claims

A layer is formed in the order of a substrate film, a photosensitive silver film obtained by drying the following photosensitive silver paste (1), a photosensitive black film obtained by drying the following photosensitive black paste (2), and a release film. A photosensitive film having a four-layer structure.
Photosensitive silver paste (1)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 400 to 1500 parts by weight of a silver powder (D) , A photosensitive silver paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E) and 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F).
Photosensitive black paste (2)
100 parts by weight of an alkali-soluble resin (A), 40 to 150 parts by weight of a crosslinkable monomer having an unsaturated double bond (B), 15 to 60 parts by weight of a photopolymerization initiator (C), 100 to 500 parts by weight of a silver powder (D) A photosensitive black paste containing 1 to 60 parts by weight of a glass frit (E), 50 to 250 parts by weight of an organic solvent (F), and 5 to 300 parts by weight of a black inorganic pigment (G).

A method for producing a two-layer electrode for a plasma display, comprising: laminating the photosensitive film according to claim 1 on a transparent electrode of a substrate, forming a pattern by photolithography, and firing.