JP2004191556A - 支持装置、ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射鏡と構造体とに線膨張係数差があっても、反射鏡の反射面を変形させない支持装置を提供する。
【解決手段】Y軸方向を長手方向とする反射鏡5を構造体50上で支持する支持装置10は、反射鏡5のY軸方向における位置Aを構造体50に対して固定する固定部11と、反射鏡5のY軸方向における位置B、Cを構造体50に対してY軸方向に移動可能に支持する支持部12、13とを備えている。
【選択図】 図2
【解決手段】Y軸方向を長手方向とする反射鏡5を構造体50上で支持する支持装置10は、反射鏡5のY軸方向における位置Aを構造体50に対して固定する固定部11と、反射鏡5のY軸方向における位置B、Cを構造体50に対してY軸方向に移動可能に支持する支持部12、13とを備えている。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射鏡を支持する支持装置、ステージ装置及び露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示デバイスや半導体デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。
このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。露光装置には移動するステージの2次元方向の位置を計測するために光干渉計(レーザ干渉計)が設けられている。光干渉計はレーザ光等のコヒーレント光の干渉を利用してステージの位置計測を行うものである。レーザ干渉計は、ステージ上に設けられた反射鏡である移動鏡にレーザ光を照射し、入反射するレーザ光の干渉を利用してステージの位置計測を行う。下記特許文献1〜3にはステージ上で移動鏡を支持する装置に関する技術が開示されている。特許文献1では、移動鏡底面を支持する点を明確にするために底面支持点が設けられ、移動鏡はピンにより挟持されている。特許文献2では、セラミックス材料を主成分とする移動鏡がステージに対してネジで固定されている。特許文献3では、移動鏡がステージに対してネジで固定され、固定位置は移動鏡の計測面の使用範囲外に設定されている。また、特許文献4には分光分析計における移動ミラーの支持構造に関する技術が開示されている。特許文献4では、分光分析計において強制的に横方向に駆動される移動ミラーが板ばねで支持されている。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−43491号公報
【特許文献2】
特開平9−280812号公報
【特許文献3】
特開平10−47914号公報
【特許文献4】
特開2001−194235号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、移動鏡を例えば光学ガラスにより構成しステージをアルミナセラミックスにより構成すると、移動鏡とステージとは互いに異なる材料により構成されているため、両者の線膨張係数の相違により移動鏡が変形する場合がある。すなわち、移動鏡の周辺温度が変化した場合に、移動鏡とステージとの変形量に差が生じ、移動鏡の反射面(鏡面)が歪み変形を生じる。移動鏡の反射面が変形するとレーザ干渉計でのステージ位置計測が精度良く行われない。特に、液晶表示デバイスを製造する際には、近年の表示領域の大型化の要求から基板として大型のガラス基板が用いられるため、ガラス基板の大型化に伴って移動鏡も長尺化される必要があるが、長尺化した反射鏡の場合、前記反射面の変形は顕著となる。
【0005】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、反射鏡である移動鏡と構造体であるステージとに線膨張係数差があっても、移動鏡の反射面を変形させない支持装置を提供することを目的とする。また、この支持装置により支持された移動鏡を用いて精度良く位置計測できるステージ装置、及びこのステージ装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図1〜図7に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の支持装置(10)は、所定方向(Y)を長手方向とする反射鏡(5)を構造体(50、PST)上で支持する支持装置において、反射鏡(5)の長手方向(Y)における第1の位置(A)を構造体(50、PST)に対して固定する固定部(11)と、反射鏡(5)の長手方向(Y)における第1の位置(A)とは別の第2の位置(B、C)を構造体(50、PST)に対して所定方向(Y)に移動可能に支持する支持部(12、13)とを備えることを特徴とする。
【0007】
本発明によれば、反射鏡の第1の位置は固定部により構造体に対して位置決めされつつ固定される。また、反射鏡と構造体との間で線膨張係数に相違があり温度変化によって互いの変形量に差が生じても、第2の位置に設けられた支持部が長手方向である所定方向に構造体に対して移動することでこの変形量の差を吸収できる。したがって、反射鏡の反射面が変形するといった不都合の発生を回避できる。
【0008】
本発明の支持装置(10)は、所定方向(Y)を長手方向とする反射鏡(5)を構造体(50、PST)上で支持する支持装置において、反射鏡(5)と構造体(50、PST)との間に介在し、反射鏡(5)を保持するとともに反射鏡(5)の鏡面の平面状態を変化させないようにする低膨張部材(40)を備えることを特徴とする。
【0009】
本発明によれば、反射鏡と構造体との間に低膨張部材を介在させ反射鏡を低膨張部材で保持することにより、反射鏡の変形を抑えることができる。例えば、反射鏡を低膨張部材に固定することにより、反射鏡を堅固に固定することができるとともに、熱的な変動に対して反射鏡の平面状態の変形を抑えることができる。
また、反射鏡が長尺であっても低膨張部材に保持されることにより、自重による撓み変形が抑えられる。あるいは、例えば構造体が熱変形したとしても、反射鏡を低膨張部材に堅固に固定することで、この構造体の変形の反射鏡に対する影響を低膨張部材で抑制できる。
【0010】
本発明のステージ装置(PST、MST)は、物体(P、M)を支持して移動可能なステージ装置において、該ステージ装置の位置を計測する干渉計(7、8、3、4)の一部を構成する移動鏡(5、6、1、2)を該ステージ装置上で支持する支持装置を備え、前記支持装置に、上記記載の支持装置(10)が用いられていることを特徴とする。
本発明の露光装置(EX)は、マスク(M)を支持するマスクステージ(MST)と、基板(P)を支持する基板ステージ(PST)とを備えた露光装置において、マスクステージ(MST)及び基板ステージ(PST)のうち少なくともいずれか一方に上記記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする。
【0011】
本発明によれば、移動鏡の鏡面(反射面)の変形が抑えられているので、干渉計はステージ装置の位置を精度良く計測できる。そして、高精度に位置計測されることによりマスクあるいは基板の位置制御を高精度に行うことが可能である。
したがって、高精度な露光処理を実現できる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の支持装置、ステージ装置及び露光装置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、感光基板Pを基板ホルダPHを介して支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンを基板ステージPSTに支持されている感光基板Pに投影する投影光学系PLと、露光装置EXの動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。本実施形態において、投影光学系PLは複数(5つ)の投影光学系PLa〜PLeを有しており、これら投影光学系PLa〜PLeが並んで露光するように設けられている。そして、本実施形態に係る露光装置EXは、この投影光学系PLに対してマスクMと感光基板Pとを所定方向に同期移動しつつマスクMを露光光ELで照明し、マスクMのパターンを感光基板Pに露光する、いわゆるマルチレンズスキャン型露光装置である。感光基板Pはガラスプレート(ガラス基板)に感光剤(フォトレジスト)を塗布したものである。
【0013】
ここで、以下の説明において、水平面内においてマスクMと感光基板Pとが同期移動する方向(走査方向)をY軸方向、水平面内において前記走査方向と直交する方向(非走査方向)をX軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸の軸線まわり方向を、それぞれθX、θY、及びθZ方向とする。
【0014】
照明光学系ILは露光光ELでマスクMを照明する。照明光学系ILより射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2 レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。マスクMは照明光学系ILの複数の照明系モジュールにより異なる複数の照明領域をそれぞれ照明される。
【0015】
マスクステージMSTは露光光ELの光路上に設けられており、物体としてのマスクMを支持してXY方向に移動可能に設けられている。マスクステージMSTは、一次元の走査露光を行うべくY軸方向に長いストロークと、走査方向と直交するX軸方向に所定距離のストロークとを有している。マスクステージMSTはリニアモータ等を含んで構成されるマスクステージ駆動部MSTDにより駆動される。マスクステージMST上のX軸方向及びY軸方向のそれぞれの端縁には、互いに直交するように移動鏡1、2が設けられている。移動鏡1はマスクステージMSTのX軸方向の端縁においてY軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡2はマスクステージMSTのY軸方向の端縁においてX軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡1にはレーザ干渉計3が対向して配置され、移動鏡2にはレーザ干渉計4が対向して配置されている。レーザ干渉計3、4のそれぞれは、移動鏡1、2のそれぞれにレーザ光を照射して移動鏡1、2との間の距離を計測することにより、マスクステージMSTのX軸方向及びY軸方向の位置、ひいてはマスクMの位置を計測する。レーザ干渉計3、4の計測結果は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTはレーザ干渉計3、4の計測結果に基づいてマスクステージ駆動部MSTDを介してマスクステージMSTの位置を制御する。
【0016】
複数の投影光学系PLa〜PLeにおいて、投影光学系PLa、PLc、PLeと投影光学系PLb、PLdとは2列に千鳥状に配列されている。すなわち、千鳥状に配置されている各投影光学系PLa〜PLeは、隣合う投影光学系どうし(例えば投影光学系PLaとPLb、PLbとPLc)をY軸方向に所定量変位させて配置されている。これら投影光学系PLa〜PLeのそれぞれは照明光学系ILから射出されマスクMを透過した複数の露光光ELを透過させ、基板ステージPSTに支持されている感光基板PにマスクMのパターン像を投影する。
【0017】
基板ステージPSTは露光光ELの光路上に設けられており、物体としての感光基板Pを支持してXY方向に移動可能に設けられている。基板ステージPSTは、一次元の走査露光を行うべくY軸方向に長いストロークと、走査方向と直交するX軸方向にステップ移動するための長いストロークとを有している。更に、基板ステージPSTはZ軸方向にも移動可能であるとともに、θX、θY、及びθZ方向にも移動可能である。基板ステージPSTは、リニアモータ等を含んで構成される基板ステージ駆動部PSTDにより駆動される。基板ステージPST上のX軸方向及びY方向のそれぞれの端縁には、互いに直交するように移動鏡5、6が設けられている。移動鏡5は基板ステージPSTのX軸方向の端縁においてY軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡6は基板ステージPSTのY軸方向の端縁においてX軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡5にはレーザ干渉計7が対向して配置され、移動鏡6にはレーザ干渉計8が対向して配置されている。レーザ干渉計7、8のそれぞれは、移動鏡5、6のそれぞれにレーザ光を照射して移動鏡5、6との間の距離を計測することにより、基板ステージPSTのX軸方向及びY軸方向の位置、ひいては感光基板Pの位置を計測する。レーザ干渉計7、8の計測結果は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTはレーザー干渉計7、8の計測結果に基づいて基板ステージ駆動部PSTDを介して基板ステージPSTの位置を制御する。
【0018】
本実施形態において、反射鏡である移動鏡5は支持装置10を介してステージ装置としての基板ステージPST上に設けられている。以下、移動鏡5を基板ステージPST上で支持する支持装置10について説明する。なお、以下では、移動鏡5が基板ステージPST上で支持装置10に支持される例について説明するが、移動鏡6やマスクステージMSTに設けられている移動鏡1、2も、以下で説明する支持装置10で支持することができる。
【0019】
図2は、Y軸方向を長手方向とする移動鏡5を構造体としての基板ステージPST上で支持する支持装置10を示す図であって、図2(a)は上方(+Z側)から見た図、図2(b)は側方(+X側)から見た図である。ここで、本実施形態では、基板ステージPST上に移動鏡5を支持するための支持台50が固定されており、移動鏡5は構造体としての支持台50上で支持装置10により支持されるものとする。支持台50は移動鏡5とほぼ同じ幅を有するとともにその長さは移動鏡5より短く設定されている。支持台50は、例えばアルミナセラミックスやインバー等の低熱膨張材料により構成されている。一方、移動鏡5は膨張率がほぼゼロである光学ガラス(ゼロ膨張ガラス)により構成されている。
【0020】
図2において、支持装置10は、移動鏡5のY軸方向における位置(第1の位置)Aを支持台50に対して固定する固定部11と、移動鏡5のY軸方向における位置Aとは別の位置(第2の位置)B、Cを支持台50に対してY軸方向に移動可能に支持する2つの支持部12、13とを備えている。本実施形態において、移動鏡5のうち支持台50に対して固定部11を介して固定される位置AはY軸方向の中央部の1箇所に設定され、支持台50に対して支持部12を介して支持される位置Bは位置Aの−Y側に設定され、位置Cは位置Aの+Y側に設定されている。すなわち、支持台50に対して支持部12、13を介して支持される位置B、Cは、位置AのY軸方向両側の2箇所に設定されており、移動鏡5は支持装置10により長手方向中央部及びその両側において3点支持されている。また、位置Aと位置Bとの距離は、位置Aと位置Cとの距離とほぼ同じ値に設定されている。本実施形態では、位置Aと位置Bとの距離(位置Aと位置Cとの距離)をL1、位置Bと移動鏡5の−Y側端部との距離(位置Cと移動鏡5の+Y側端部との距離)をL2とした場合、L1=2×L2に設定されている。
【0021】
図3(a)は固定部11の拡大図である。図3(a)において、固定部11は移動鏡5の位置Aを支持台50に固定するものであって、滑り止め用の中間部材15を介して移動鏡5の位置Aを支持する支持部材16と、移動鏡5に形成されている穴部9に配置され、支持部材16と締結する締結部材17とを有している。支持部材16の下端部には鍔部20が設けられており、鍔部20には複数の貫通孔21が設けられている。貫通孔21のそれぞれにはねじ部材22が配置され、支持台50に設けられた雌めじ部23と螺合することにより、支持部材16と支持台50とが固定される。
【0022】
穴部9は、大径部9Aと大径部9Aの下方に連続する小径部9Bとを有しており、大径部9Aと小径部9Bとの境界には段部9Cが形成されている。締結部材17は、小径部9Bに配置可能な径を有する軸部18と、軸部18の下端部に設けられた雄ねじ部19とを備えている。雄ねじ部19は支持部材16に設けられている雌ねじ部24と螺合する。雄ねじ部19と雌ねじ部24とが螺着することにより、締結部材17と支持台50に固定されている支持部材16とが固定される。
【0023】
締結部材17は、軸部18の軸線方向(Z軸方向)中間位置に設けられ、軸部18を囲むように設けられたリング状の第1鍔部25と、軸部18を囲むように設けられ、段部9Cに当接するリング状の第2鍔部26と、第1、第2鍔部25、26の間に配置され、軸部18を囲むように設けられたばね部27とを備えている。第2鍔部26は軸部18の軸線方向に移動可能に設けられている。軸部18の上端部には第3鍔部30が設けられている。また、軸部18の上端には軸線方向に雌ねじ部28が形成されており、雌ねじ部28には雄ねじ部材29が螺合されるようになっている。第3鍔部30は雌ねじ部28と雄ねじ部材29とが螺着することで軸部18に取り付けられる。また、第3鍔部30と第1鍔部25との間にはスラストベアリング31が設けられている。
【0024】
締結部材17を支持部材16に締結する際には、まず、締結部材17を穴部9に配置し、軸部18と一体で回転する第3鍔部30を軸部18の軸線まわりに回転させる。すると、軸部18の雄ねじ部19が支持部材16の雌ねじ部24に対してねじ込まれる。なお、第3鍔部30(及び軸部18)を回転しても、第3鍔部30と第1鍔部25との間にはスラストベアリング31が介在しているため、第1鍔部25は回転しない。雄ねじ部19が雌ねじ部24にねじ込まれることで、締結部材17と支持部材16とが連結される。ここで、雄ねじ部19が雌ねじ部24にねじ込まれることで、締結部材17が支持部材16に接近する方向に、すなわち下方向(−Z方向)に移動するが、このとき、軸部18の軸線方向に移動可能に設けられ、段部9Cに当接している第2鍔部26が第1鍔部25に対して接近する。第2鍔部26が第1鍔部25に対して接近することで、ばね部27は圧縮され、第2鍔部26を下向きに付勢する。すなわち、圧縮されたばね部27の復元力(付勢力)により、第2鍔部26が移動鏡5を段部9Cを介して支持部材16(中間部材15)に押し付ける。この押し付け力(付勢力)により、移動鏡5は支持台50に固定されている支持部材16に対して動かないように支持される。こうして、移動鏡5の位置Aは固定部11により支持台50に固定される。
【0025】
図3(b)は支持部13の拡大図である。なお、ここでは支持部13について説明するが、支持部12も同等の構成を有する。
図3(b)において、支持部13は移動鏡5の位置Cを支持台50に対してY軸方向に移動可能に支持するものであって、移動鏡5の位置Cに締結部材17によりワッシャ32を介して連結される連結部材33を備えている。連結部材33には、締結部材17の雄ねじ部19と螺合する雌ねじ部34が設けられている。
なお、支持部13における締結部材17は、図3(a)を用いて説明した固定部11における締結部材17と同等の構成を有するためその説明を省略する。連結部材33は保持部材35に保持されている。保持部材35は支持台50に固定されている。
【0026】
図4は支持部13(12)の連結部材33を示す図であって、図4(a)は+Z側から見た図、図4(b)は斜視図である。
図4において、連結部材33は略直方体状に形成され、その上端面に前述した雌ねじ部34を有している。また、保持部材35は内部空間36を有しており、連結部材33は内部空間36に配置されている。連結部材33のうち、反射鏡5の短手方向、すなわちX軸方向両側のそれぞれには板ばね部材37が設けられている。本実施形態において、板ばね部材37は連結部材33のX軸方向の側面38のそれぞれに2つずつ、全部で4つ設けられている。そして、それぞれの板ばね部材37は、その一端部を連結部材33の側面38に接続し、他端部を支持台50に固定されている保持部材(構造体)35の内壁面39に接続している。そして、板ばね部材37のそれぞれは、その板面の法線方向とY軸方向(移動鏡5の長手方向)とを略一致するように設けられている。したがって、連結部材33は板ばね部材37の撓み変形により、Y軸方向に移動可能となっている(図4中、矢印y参照)。したがって、連結部材33に連結されている移動鏡5の位置C(B)もY軸方向に移動可能となっている。なお、ここでは、連結部材33は支持台50に固定された保持部材35の内部空間36に配置されている構成であるが、支持台50に内部空間を形成し、この内壁面に板ばね部材を接続する構成であってもよい。
【0027】
次に、上述した構成を有する支持装置10の作用について説明する。
支持装置10により支持台50(基板ステージPST)上で移動鏡5を支持している状態において、周辺温度が変化した場合について考える。移動鏡5と支持台50との線膨張係数に相違がある場合、周辺温度が変化した際の移動鏡5と支持台50とのそれぞれの変形量に差が生じる。例えば、移動鏡5の線膨張係数が0.05ppm、支持台50の線膨張係数が7ppmであり、位置Aと位置Cとの距離L1が0.6mであり、周辺温度が0.5℃変化したとすると、移動鏡5の変形量(伸び量)は、
0.5〔℃〕×0.6〔m〕×0.05〔ppm〕=0.015〔μm〕
である。一方、支持台50の変形量(伸び量)は、
0.5〔℃〕×0.6〔m〕×7〔ppm〕=2.1〔μm〕
である。したがって、移動鏡5及び支持台50の伸び量の差は、2.085μmとなる。この伸び量の差は、板ばね部材37が撓み変形することで吸収される。
すなわち、この伸び量の差だけ、連結部材33がY軸方向(図4中、矢印y参照)に移動することで、伸び量の差が吸収される。したがって、移動鏡5の反射面に歪み変形が発生するのを抑えることができる。
【0028】
以上説明したように、移動鏡5の位置Aを固定部11により支持台50に対して固定し、他の位置B、Cを移動鏡5の長手方向に移動可能に支持部12、13で支持するようにしたので、固定部11により移動鏡5と支持台50との位置決めが行われるとともに、周辺温度の変化により生じる移動鏡5と支持台50との変形量の差を支持部12、13で吸収できる。したがって、移動鏡5の反射面が変形するといった不都合の発生を回避でき、レーザ干渉計による高精度なステージ位置計測を実現できる。
【0029】
本実施形態では、支持装置10は、1つの固定部11と2つの支持部12、13との3点で移動鏡5を支持する3点支持構造である。これにより、長尺の移動鏡5を例えば2点で支持する構成に比べて固有振動数を高くすることができる。
移動鏡5の固有振動数が低いと一般に共振しやすくなり、仮に移動鏡が共振すると正確なステージ位置計測を行うことができない。しかしながら、3点支持構造にして長尺な移動鏡5の固有振動数を高くすることで、共振の発生のおそれを抑えることができる。
【0030】
また、本実施形態では、固定部11が移動鏡5の長手方向中央部に設けられ、その両側のそれぞれに移動鏡12、13が設けられた構成である。したがって、移動鏡5と支持台50との間に変形量の差が生じた際、移動鏡の長手方向両側の変位をほぼ同じ値に設定することができる。これにより、前記変形量の差は移動鏡12、13に均等に分配されるので、前記変形量の差を円滑に吸収できる。すなわち、仮に固定部11が移動鏡5の長手方向一端部に設けられ他端部に支持部が設けられている場合、上記変形量の差を吸収する際に他端部に設けられた支持部の移動量(すなわち板ばね部材の撓み変形量)は大きくなる。このとき、移動量が大きすぎると板ばね部材の撓み変形許容値(板ばね部材の弾性変形領域)を超えてしまう場合が考えられる。しかしながら、固定部1を移動鏡5の長手方向中央部に設定し、その両側のそれぞれに支持部12、13を設けたことにより、支持部それぞれの移動量(板ばね部材の変形撓み量)は、一端部に固定部を設け他端部に支持部を設けた場合に比べて例えば半分に抑えることができる。
【0031】
なお、上記実施形態では、支持装置10は移動鏡5を3点支持する構成であるが、これは共振の発生を抑えるためであって、防振装置が設けられている等、移動鏡の共振の発生の恐れが十分に抑えられていたり、あるいは、比較的短尺な移動鏡5である場合には、移動鏡の2つの位置をそれぞれ支持する2点支持構造であってもよい。この場合、一方の位置には固定部が設けられ、他方の位置には支持部が設けられる。また、比較的短尺な移動鏡であれば、上記変形量の差は小さいので、例えば固定部を移動鏡の長手方向一端部に設け他端部に支持部を設ける構成とすることも可能である。
【0032】
なお、本実施形態では、板ばね部材37は連結部材33を介して移動鏡5に接続されている構成であるが、弾性部材としての板ばね部材37の一端部を移動鏡5に直接取り付け、他端部を支持台50(保持部材35)に接続する構成も可能である。この場合、板ばね部材37の移動鏡5に対する取り付け位置(第2の位置)は、移動鏡5の計測面の使用範囲外に設定される。
【0033】
次に、本発明の支持装置の第2実施形態について図5を参照しながら説明する。ここで、以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
図5において、反射鏡5と支持台50との間には低膨張部材40が介在している。低膨張部材40は支持台50を構成するアルミナセラミックスより線膨張係数が十分に小さい(膨張率が十分に小さい)セラミックス材料により構成されている。以下の説明では、低膨張部材40を構成する低膨張率のセラミックス材料を適宜「低膨張セラミックス」と称する。低膨張部材40は、移動鏡5とほぼ同じ幅を有し、その長さは移動鏡5より若干短く設定されている。低膨張部材40には上述した締結部材17の雄ねじ部18に螺合可能な雌ねじ部が形成されており、締結部材17により移動鏡5と低膨張部材40とが固定されている。そして、固定部11は支持台50に対して低膨張部材40を固定し、支持部12、13は支持台50に対して低膨張部材40を支持している。ここで、本実施形態に係る固定部11は低膨張セラミックスからなる低膨張部材40とアルミナセラミックスからなる支持台50とを堅固に固定するボルト部材により構成されている。
【0034】
本実施形態において、移動鏡5と低膨張部材40とはほぼ同じ線膨張係数を有する(すなわち、移動鏡5及び低膨張部材40は殆ど熱変形しない)。一方、支持台50は比較的熱変形する。この場合、移動鏡5を低膨張部材40で保持することで移動鏡5の自重による撓み変形の発生を防止でき、移動鏡5の反射面の平面状態を変化させないようにする効果が得られる。また、締結部材17により移動鏡5を低膨張部材40に固定することで、移動鏡5を堅固に固定することができるとともに、熱的な変動に対して移動鏡5の平面状態の変形を抑えることができる。また、移動鏡5に対して固定部11としての締結部材17を配置するための穴部9を多数設けるなどの加工を施すことは加工性や移動鏡5の強度維持の観点から不都合が生じる場合があるが、移動鏡5を低膨張部材40で保持することで、例えば、固定安定化のために低膨張部材40と支持台50との固定位置の数(ボルト部材の設置数)を多く設定することができ、移動鏡5を低膨張部材40を介して支持台50に堅固に固定できるなど、移動鏡5の支持形態を多様化することができる。
【0035】
なお、第2実施形態では、移動鏡5を低膨張部材40で保持し、この低膨張部材40を支持台50上で固定部11及び支持部12、13により支持する構成であるが、移動鏡5を低膨張部材40で保持し、この移動鏡5を保持した低膨張部材40を直接支持台50に取り付ける構成とすることも可能である。この構成によっても、移動鏡5の反射面の平面状態を良好に維持できる。
【0036】
なお、図5における低膨張部材40は、移動鏡5の位置A、B、及びCの各位置に接続されている1つの部材により構成されているが、これら各位置A、B、Cに対応して分割した部材により構成されてもよい。
【0037】
次に本発明の支持装置の第3実施形態について図6を参照しながら説明する。
図6は第3実施形態に係る支持装置のうち、移動鏡5の位置Cを移動鏡5の長手方向に移動可能に支持する支持部13を示す図である。
図6において、支持部13は、移動鏡5に設けられた可動部としての車輪部60と、支持台50に設けられ、車輪部60のY軸方向(移動鏡5の長手方向)への移動を案内するガイド部としての溝部61とを備えている。溝部61は支持台50上にY軸方向に延びるように形成されている。移動鏡5の下面には車輪部60を回転可能に支持する車輪支持部62が設けられ、車輪部60は車輪支持部62に回転可能に支持されている。
【0038】
第3実施形態に係る支持部13においては、移動鏡5と支持台50との変形量に差が生じた場合に、移動鏡5に取り付けられた車輪部60が溝部61に沿って移動することで、前記変形量の差を吸収できる。なお、図6に示した構成の他に、移動鏡5の下面にガイド部としての溝部を設け、支持台50に可動部としての車輪部を設ける構成であっても構わない。
【0039】
なお、上記実施形態における露光装置EXは、互いに隣接する複数の投影光学系を有する、いわゆるマルチレンズスキャン型露光装置であるが、投影光学系が1つである走査型露光装置ついても本発明を適用することができる。更に、露光装置EXとしては、マスクMと感光基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光する走査型露光装置の他に、マスクMと感光基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを露光し、感光基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の露光装置にも適用することもできる。
【0040】
露光装置EXの用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【0041】
本実施形態の露光装置EXの光源は、g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)のみならず、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)を用いることができる。
【0042】
投影光学系PLの倍率は等倍系のみならず、縮小系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザを用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にする。
【0043】
基板ステージPSTやマスクステージMSTにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【0044】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニットと電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0045】
基板ステージPSTの移動により発生する反力は、特開平8−166475号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0046】
マスクステージMSTの移動により発生する反力は、特開平8−330224号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0047】
以上のように、本願実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0048】
半導体デバイスは、図7に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板(ウエハ、ガラスプレート)を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンを基板に露光し、この露光した基板を現像する基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0049】
【発明の効果】
本発明によれば、構造体と反射鏡との熱変形量の差は支持部の移動により吸収されるので、反射鏡の周辺温度が変化しても反射鏡の平面状態が維持される。したがって、この反射鏡を用いて高精度なステージ位置計測を行うことができ、精度良い露光処理を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
【図2】本発明の支持装置の第1実施形態を示す図であって、(a)は上方から見た図、(b)は側方から見た図である。
【図3】図2の要部拡大図であって、(a)は固定部の拡大図、(b)は支持部の拡大図である。
【図4】支持部のうち連結部材及び板ばね部材を示す図であって、(a)は上方から見た図、(b)は斜視図である。
【図5】本発明の支持装置の第2実施形態を示す図である。
【図6】本発明の支持装置の第3実施形態を示す図である。
【図7】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
5…移動鏡(反射鏡)、7…レーザ干渉計、10…支持装置、11…固定部、
12、13…支持部、33…連結部材、35…保持部材(構造体)、
37…板ばね部材、弾性部材、40…低膨張部材、50…支持台(構造体)、
60…車輪部(可動部)、61…溝部(ガイド部)、A…第1の位置、
B、C…第2の位置、EX…露光装置、M…マスク、
MST…マスクステージ(構造体、ステージ装置)、P…感光基板(基板)、
PST…基板ステージ(構造体、ステージ装置)
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射鏡を支持する支持装置、ステージ装置及び露光装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示デバイスや半導体デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。
このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。露光装置には移動するステージの2次元方向の位置を計測するために光干渉計(レーザ干渉計)が設けられている。光干渉計はレーザ光等のコヒーレント光の干渉を利用してステージの位置計測を行うものである。レーザ干渉計は、ステージ上に設けられた反射鏡である移動鏡にレーザ光を照射し、入反射するレーザ光の干渉を利用してステージの位置計測を行う。下記特許文献1〜3にはステージ上で移動鏡を支持する装置に関する技術が開示されている。特許文献1では、移動鏡底面を支持する点を明確にするために底面支持点が設けられ、移動鏡はピンにより挟持されている。特許文献2では、セラミックス材料を主成分とする移動鏡がステージに対してネジで固定されている。特許文献3では、移動鏡がステージに対してネジで固定され、固定位置は移動鏡の計測面の使用範囲外に設定されている。また、特許文献4には分光分析計における移動ミラーの支持構造に関する技術が開示されている。特許文献4では、分光分析計において強制的に横方向に駆動される移動ミラーが板ばねで支持されている。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−43491号公報
【特許文献2】
特開平9−280812号公報
【特許文献3】
特開平10−47914号公報
【特許文献4】
特開2001−194235号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、移動鏡を例えば光学ガラスにより構成しステージをアルミナセラミックスにより構成すると、移動鏡とステージとは互いに異なる材料により構成されているため、両者の線膨張係数の相違により移動鏡が変形する場合がある。すなわち、移動鏡の周辺温度が変化した場合に、移動鏡とステージとの変形量に差が生じ、移動鏡の反射面(鏡面)が歪み変形を生じる。移動鏡の反射面が変形するとレーザ干渉計でのステージ位置計測が精度良く行われない。特に、液晶表示デバイスを製造する際には、近年の表示領域の大型化の要求から基板として大型のガラス基板が用いられるため、ガラス基板の大型化に伴って移動鏡も長尺化される必要があるが、長尺化した反射鏡の場合、前記反射面の変形は顕著となる。
【0005】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、反射鏡である移動鏡と構造体であるステージとに線膨張係数差があっても、移動鏡の反射面を変形させない支持装置を提供することを目的とする。また、この支持装置により支持された移動鏡を用いて精度良く位置計測できるステージ装置、及びこのステージ装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図1〜図7に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の支持装置(10)は、所定方向(Y)を長手方向とする反射鏡(5)を構造体(50、PST)上で支持する支持装置において、反射鏡(5)の長手方向(Y)における第1の位置(A)を構造体(50、PST)に対して固定する固定部(11)と、反射鏡(5)の長手方向(Y)における第1の位置(A)とは別の第2の位置(B、C)を構造体(50、PST)に対して所定方向(Y)に移動可能に支持する支持部(12、13)とを備えることを特徴とする。
【0007】
本発明によれば、反射鏡の第1の位置は固定部により構造体に対して位置決めされつつ固定される。また、反射鏡と構造体との間で線膨張係数に相違があり温度変化によって互いの変形量に差が生じても、第2の位置に設けられた支持部が長手方向である所定方向に構造体に対して移動することでこの変形量の差を吸収できる。したがって、反射鏡の反射面が変形するといった不都合の発生を回避できる。
【0008】
本発明の支持装置(10)は、所定方向(Y)を長手方向とする反射鏡(5)を構造体(50、PST)上で支持する支持装置において、反射鏡(5)と構造体(50、PST)との間に介在し、反射鏡(5)を保持するとともに反射鏡(5)の鏡面の平面状態を変化させないようにする低膨張部材(40)を備えることを特徴とする。
【0009】
本発明によれば、反射鏡と構造体との間に低膨張部材を介在させ反射鏡を低膨張部材で保持することにより、反射鏡の変形を抑えることができる。例えば、反射鏡を低膨張部材に固定することにより、反射鏡を堅固に固定することができるとともに、熱的な変動に対して反射鏡の平面状態の変形を抑えることができる。
また、反射鏡が長尺であっても低膨張部材に保持されることにより、自重による撓み変形が抑えられる。あるいは、例えば構造体が熱変形したとしても、反射鏡を低膨張部材に堅固に固定することで、この構造体の変形の反射鏡に対する影響を低膨張部材で抑制できる。
【0010】
本発明のステージ装置(PST、MST)は、物体(P、M)を支持して移動可能なステージ装置において、該ステージ装置の位置を計測する干渉計(7、8、3、4)の一部を構成する移動鏡(5、6、1、2)を該ステージ装置上で支持する支持装置を備え、前記支持装置に、上記記載の支持装置(10)が用いられていることを特徴とする。
本発明の露光装置(EX)は、マスク(M)を支持するマスクステージ(MST)と、基板(P)を支持する基板ステージ(PST)とを備えた露光装置において、マスクステージ(MST)及び基板ステージ(PST)のうち少なくともいずれか一方に上記記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする。
【0011】
本発明によれば、移動鏡の鏡面(反射面)の変形が抑えられているので、干渉計はステージ装置の位置を精度良く計測できる。そして、高精度に位置計測されることによりマスクあるいは基板の位置制御を高精度に行うことが可能である。
したがって、高精度な露光処理を実現できる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の支持装置、ステージ装置及び露光装置について図面を参照しながら説明する。図1は本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、感光基板Pを基板ホルダPHを介して支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンを基板ステージPSTに支持されている感光基板Pに投影する投影光学系PLと、露光装置EXの動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。本実施形態において、投影光学系PLは複数(5つ)の投影光学系PLa〜PLeを有しており、これら投影光学系PLa〜PLeが並んで露光するように設けられている。そして、本実施形態に係る露光装置EXは、この投影光学系PLに対してマスクMと感光基板Pとを所定方向に同期移動しつつマスクMを露光光ELで照明し、マスクMのパターンを感光基板Pに露光する、いわゆるマルチレンズスキャン型露光装置である。感光基板Pはガラスプレート(ガラス基板)に感光剤(フォトレジスト)を塗布したものである。
【0013】
ここで、以下の説明において、水平面内においてマスクMと感光基板Pとが同期移動する方向(走査方向)をY軸方向、水平面内において前記走査方向と直交する方向(非走査方向)をX軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸の軸線まわり方向を、それぞれθX、θY、及びθZ方向とする。
【0014】
照明光学系ILは露光光ELでマスクMを照明する。照明光学系ILより射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2 レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。マスクMは照明光学系ILの複数の照明系モジュールにより異なる複数の照明領域をそれぞれ照明される。
【0015】
マスクステージMSTは露光光ELの光路上に設けられており、物体としてのマスクMを支持してXY方向に移動可能に設けられている。マスクステージMSTは、一次元の走査露光を行うべくY軸方向に長いストロークと、走査方向と直交するX軸方向に所定距離のストロークとを有している。マスクステージMSTはリニアモータ等を含んで構成されるマスクステージ駆動部MSTDにより駆動される。マスクステージMST上のX軸方向及びY軸方向のそれぞれの端縁には、互いに直交するように移動鏡1、2が設けられている。移動鏡1はマスクステージMSTのX軸方向の端縁においてY軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡2はマスクステージMSTのY軸方向の端縁においてX軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡1にはレーザ干渉計3が対向して配置され、移動鏡2にはレーザ干渉計4が対向して配置されている。レーザ干渉計3、4のそれぞれは、移動鏡1、2のそれぞれにレーザ光を照射して移動鏡1、2との間の距離を計測することにより、マスクステージMSTのX軸方向及びY軸方向の位置、ひいてはマスクMの位置を計測する。レーザ干渉計3、4の計測結果は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTはレーザ干渉計3、4の計測結果に基づいてマスクステージ駆動部MSTDを介してマスクステージMSTの位置を制御する。
【0016】
複数の投影光学系PLa〜PLeにおいて、投影光学系PLa、PLc、PLeと投影光学系PLb、PLdとは2列に千鳥状に配列されている。すなわち、千鳥状に配置されている各投影光学系PLa〜PLeは、隣合う投影光学系どうし(例えば投影光学系PLaとPLb、PLbとPLc)をY軸方向に所定量変位させて配置されている。これら投影光学系PLa〜PLeのそれぞれは照明光学系ILから射出されマスクMを透過した複数の露光光ELを透過させ、基板ステージPSTに支持されている感光基板PにマスクMのパターン像を投影する。
【0017】
基板ステージPSTは露光光ELの光路上に設けられており、物体としての感光基板Pを支持してXY方向に移動可能に設けられている。基板ステージPSTは、一次元の走査露光を行うべくY軸方向に長いストロークと、走査方向と直交するX軸方向にステップ移動するための長いストロークとを有している。更に、基板ステージPSTはZ軸方向にも移動可能であるとともに、θX、θY、及びθZ方向にも移動可能である。基板ステージPSTは、リニアモータ等を含んで構成される基板ステージ駆動部PSTDにより駆動される。基板ステージPST上のX軸方向及びY方向のそれぞれの端縁には、互いに直交するように移動鏡5、6が設けられている。移動鏡5は基板ステージPSTのX軸方向の端縁においてY軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡6は基板ステージPSTのY軸方向の端縁においてX軸方向を長手方向として設けられている。移動鏡5にはレーザ干渉計7が対向して配置され、移動鏡6にはレーザ干渉計8が対向して配置されている。レーザ干渉計7、8のそれぞれは、移動鏡5、6のそれぞれにレーザ光を照射して移動鏡5、6との間の距離を計測することにより、基板ステージPSTのX軸方向及びY軸方向の位置、ひいては感光基板Pの位置を計測する。レーザ干渉計7、8の計測結果は制御装置CONTに出力され、制御装置CONTはレーザー干渉計7、8の計測結果に基づいて基板ステージ駆動部PSTDを介して基板ステージPSTの位置を制御する。
【0018】
本実施形態において、反射鏡である移動鏡5は支持装置10を介してステージ装置としての基板ステージPST上に設けられている。以下、移動鏡5を基板ステージPST上で支持する支持装置10について説明する。なお、以下では、移動鏡5が基板ステージPST上で支持装置10に支持される例について説明するが、移動鏡6やマスクステージMSTに設けられている移動鏡1、2も、以下で説明する支持装置10で支持することができる。
【0019】
図2は、Y軸方向を長手方向とする移動鏡5を構造体としての基板ステージPST上で支持する支持装置10を示す図であって、図2(a)は上方(+Z側)から見た図、図2(b)は側方(+X側)から見た図である。ここで、本実施形態では、基板ステージPST上に移動鏡5を支持するための支持台50が固定されており、移動鏡5は構造体としての支持台50上で支持装置10により支持されるものとする。支持台50は移動鏡5とほぼ同じ幅を有するとともにその長さは移動鏡5より短く設定されている。支持台50は、例えばアルミナセラミックスやインバー等の低熱膨張材料により構成されている。一方、移動鏡5は膨張率がほぼゼロである光学ガラス(ゼロ膨張ガラス)により構成されている。
【0020】
図2において、支持装置10は、移動鏡5のY軸方向における位置(第1の位置)Aを支持台50に対して固定する固定部11と、移動鏡5のY軸方向における位置Aとは別の位置(第2の位置)B、Cを支持台50に対してY軸方向に移動可能に支持する2つの支持部12、13とを備えている。本実施形態において、移動鏡5のうち支持台50に対して固定部11を介して固定される位置AはY軸方向の中央部の1箇所に設定され、支持台50に対して支持部12を介して支持される位置Bは位置Aの−Y側に設定され、位置Cは位置Aの+Y側に設定されている。すなわち、支持台50に対して支持部12、13を介して支持される位置B、Cは、位置AのY軸方向両側の2箇所に設定されており、移動鏡5は支持装置10により長手方向中央部及びその両側において3点支持されている。また、位置Aと位置Bとの距離は、位置Aと位置Cとの距離とほぼ同じ値に設定されている。本実施形態では、位置Aと位置Bとの距離(位置Aと位置Cとの距離)をL1、位置Bと移動鏡5の−Y側端部との距離(位置Cと移動鏡5の+Y側端部との距離)をL2とした場合、L1=2×L2に設定されている。
【0021】
図3(a)は固定部11の拡大図である。図3(a)において、固定部11は移動鏡5の位置Aを支持台50に固定するものであって、滑り止め用の中間部材15を介して移動鏡5の位置Aを支持する支持部材16と、移動鏡5に形成されている穴部9に配置され、支持部材16と締結する締結部材17とを有している。支持部材16の下端部には鍔部20が設けられており、鍔部20には複数の貫通孔21が設けられている。貫通孔21のそれぞれにはねじ部材22が配置され、支持台50に設けられた雌めじ部23と螺合することにより、支持部材16と支持台50とが固定される。
【0022】
穴部9は、大径部9Aと大径部9Aの下方に連続する小径部9Bとを有しており、大径部9Aと小径部9Bとの境界には段部9Cが形成されている。締結部材17は、小径部9Bに配置可能な径を有する軸部18と、軸部18の下端部に設けられた雄ねじ部19とを備えている。雄ねじ部19は支持部材16に設けられている雌ねじ部24と螺合する。雄ねじ部19と雌ねじ部24とが螺着することにより、締結部材17と支持台50に固定されている支持部材16とが固定される。
【0023】
締結部材17は、軸部18の軸線方向(Z軸方向)中間位置に設けられ、軸部18を囲むように設けられたリング状の第1鍔部25と、軸部18を囲むように設けられ、段部9Cに当接するリング状の第2鍔部26と、第1、第2鍔部25、26の間に配置され、軸部18を囲むように設けられたばね部27とを備えている。第2鍔部26は軸部18の軸線方向に移動可能に設けられている。軸部18の上端部には第3鍔部30が設けられている。また、軸部18の上端には軸線方向に雌ねじ部28が形成されており、雌ねじ部28には雄ねじ部材29が螺合されるようになっている。第3鍔部30は雌ねじ部28と雄ねじ部材29とが螺着することで軸部18に取り付けられる。また、第3鍔部30と第1鍔部25との間にはスラストベアリング31が設けられている。
【0024】
締結部材17を支持部材16に締結する際には、まず、締結部材17を穴部9に配置し、軸部18と一体で回転する第3鍔部30を軸部18の軸線まわりに回転させる。すると、軸部18の雄ねじ部19が支持部材16の雌ねじ部24に対してねじ込まれる。なお、第3鍔部30(及び軸部18)を回転しても、第3鍔部30と第1鍔部25との間にはスラストベアリング31が介在しているため、第1鍔部25は回転しない。雄ねじ部19が雌ねじ部24にねじ込まれることで、締結部材17と支持部材16とが連結される。ここで、雄ねじ部19が雌ねじ部24にねじ込まれることで、締結部材17が支持部材16に接近する方向に、すなわち下方向(−Z方向)に移動するが、このとき、軸部18の軸線方向に移動可能に設けられ、段部9Cに当接している第2鍔部26が第1鍔部25に対して接近する。第2鍔部26が第1鍔部25に対して接近することで、ばね部27は圧縮され、第2鍔部26を下向きに付勢する。すなわち、圧縮されたばね部27の復元力(付勢力)により、第2鍔部26が移動鏡5を段部9Cを介して支持部材16(中間部材15)に押し付ける。この押し付け力(付勢力)により、移動鏡5は支持台50に固定されている支持部材16に対して動かないように支持される。こうして、移動鏡5の位置Aは固定部11により支持台50に固定される。
【0025】
図3(b)は支持部13の拡大図である。なお、ここでは支持部13について説明するが、支持部12も同等の構成を有する。
図3(b)において、支持部13は移動鏡5の位置Cを支持台50に対してY軸方向に移動可能に支持するものであって、移動鏡5の位置Cに締結部材17によりワッシャ32を介して連結される連結部材33を備えている。連結部材33には、締結部材17の雄ねじ部19と螺合する雌ねじ部34が設けられている。
なお、支持部13における締結部材17は、図3(a)を用いて説明した固定部11における締結部材17と同等の構成を有するためその説明を省略する。連結部材33は保持部材35に保持されている。保持部材35は支持台50に固定されている。
【0026】
図4は支持部13(12)の連結部材33を示す図であって、図4(a)は+Z側から見た図、図4(b)は斜視図である。
図4において、連結部材33は略直方体状に形成され、その上端面に前述した雌ねじ部34を有している。また、保持部材35は内部空間36を有しており、連結部材33は内部空間36に配置されている。連結部材33のうち、反射鏡5の短手方向、すなわちX軸方向両側のそれぞれには板ばね部材37が設けられている。本実施形態において、板ばね部材37は連結部材33のX軸方向の側面38のそれぞれに2つずつ、全部で4つ設けられている。そして、それぞれの板ばね部材37は、その一端部を連結部材33の側面38に接続し、他端部を支持台50に固定されている保持部材(構造体)35の内壁面39に接続している。そして、板ばね部材37のそれぞれは、その板面の法線方向とY軸方向(移動鏡5の長手方向)とを略一致するように設けられている。したがって、連結部材33は板ばね部材37の撓み変形により、Y軸方向に移動可能となっている(図4中、矢印y参照)。したがって、連結部材33に連結されている移動鏡5の位置C(B)もY軸方向に移動可能となっている。なお、ここでは、連結部材33は支持台50に固定された保持部材35の内部空間36に配置されている構成であるが、支持台50に内部空間を形成し、この内壁面に板ばね部材を接続する構成であってもよい。
【0027】
次に、上述した構成を有する支持装置10の作用について説明する。
支持装置10により支持台50(基板ステージPST)上で移動鏡5を支持している状態において、周辺温度が変化した場合について考える。移動鏡5と支持台50との線膨張係数に相違がある場合、周辺温度が変化した際の移動鏡5と支持台50とのそれぞれの変形量に差が生じる。例えば、移動鏡5の線膨張係数が0.05ppm、支持台50の線膨張係数が7ppmであり、位置Aと位置Cとの距離L1が0.6mであり、周辺温度が0.5℃変化したとすると、移動鏡5の変形量(伸び量)は、
0.5〔℃〕×0.6〔m〕×0.05〔ppm〕=0.015〔μm〕
である。一方、支持台50の変形量(伸び量)は、
0.5〔℃〕×0.6〔m〕×7〔ppm〕=2.1〔μm〕
である。したがって、移動鏡5及び支持台50の伸び量の差は、2.085μmとなる。この伸び量の差は、板ばね部材37が撓み変形することで吸収される。
すなわち、この伸び量の差だけ、連結部材33がY軸方向(図4中、矢印y参照)に移動することで、伸び量の差が吸収される。したがって、移動鏡5の反射面に歪み変形が発生するのを抑えることができる。
【0028】
以上説明したように、移動鏡5の位置Aを固定部11により支持台50に対して固定し、他の位置B、Cを移動鏡5の長手方向に移動可能に支持部12、13で支持するようにしたので、固定部11により移動鏡5と支持台50との位置決めが行われるとともに、周辺温度の変化により生じる移動鏡5と支持台50との変形量の差を支持部12、13で吸収できる。したがって、移動鏡5の反射面が変形するといった不都合の発生を回避でき、レーザ干渉計による高精度なステージ位置計測を実現できる。
【0029】
本実施形態では、支持装置10は、1つの固定部11と2つの支持部12、13との3点で移動鏡5を支持する3点支持構造である。これにより、長尺の移動鏡5を例えば2点で支持する構成に比べて固有振動数を高くすることができる。
移動鏡5の固有振動数が低いと一般に共振しやすくなり、仮に移動鏡が共振すると正確なステージ位置計測を行うことができない。しかしながら、3点支持構造にして長尺な移動鏡5の固有振動数を高くすることで、共振の発生のおそれを抑えることができる。
【0030】
また、本実施形態では、固定部11が移動鏡5の長手方向中央部に設けられ、その両側のそれぞれに移動鏡12、13が設けられた構成である。したがって、移動鏡5と支持台50との間に変形量の差が生じた際、移動鏡の長手方向両側の変位をほぼ同じ値に設定することができる。これにより、前記変形量の差は移動鏡12、13に均等に分配されるので、前記変形量の差を円滑に吸収できる。すなわち、仮に固定部11が移動鏡5の長手方向一端部に設けられ他端部に支持部が設けられている場合、上記変形量の差を吸収する際に他端部に設けられた支持部の移動量(すなわち板ばね部材の撓み変形量)は大きくなる。このとき、移動量が大きすぎると板ばね部材の撓み変形許容値(板ばね部材の弾性変形領域)を超えてしまう場合が考えられる。しかしながら、固定部1を移動鏡5の長手方向中央部に設定し、その両側のそれぞれに支持部12、13を設けたことにより、支持部それぞれの移動量(板ばね部材の変形撓み量)は、一端部に固定部を設け他端部に支持部を設けた場合に比べて例えば半分に抑えることができる。
【0031】
なお、上記実施形態では、支持装置10は移動鏡5を3点支持する構成であるが、これは共振の発生を抑えるためであって、防振装置が設けられている等、移動鏡の共振の発生の恐れが十分に抑えられていたり、あるいは、比較的短尺な移動鏡5である場合には、移動鏡の2つの位置をそれぞれ支持する2点支持構造であってもよい。この場合、一方の位置には固定部が設けられ、他方の位置には支持部が設けられる。また、比較的短尺な移動鏡であれば、上記変形量の差は小さいので、例えば固定部を移動鏡の長手方向一端部に設け他端部に支持部を設ける構成とすることも可能である。
【0032】
なお、本実施形態では、板ばね部材37は連結部材33を介して移動鏡5に接続されている構成であるが、弾性部材としての板ばね部材37の一端部を移動鏡5に直接取り付け、他端部を支持台50(保持部材35)に接続する構成も可能である。この場合、板ばね部材37の移動鏡5に対する取り付け位置(第2の位置)は、移動鏡5の計測面の使用範囲外に設定される。
【0033】
次に、本発明の支持装置の第2実施形態について図5を参照しながら説明する。ここで、以下の説明において、上述した実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略もしくは省略する。
図5において、反射鏡5と支持台50との間には低膨張部材40が介在している。低膨張部材40は支持台50を構成するアルミナセラミックスより線膨張係数が十分に小さい(膨張率が十分に小さい)セラミックス材料により構成されている。以下の説明では、低膨張部材40を構成する低膨張率のセラミックス材料を適宜「低膨張セラミックス」と称する。低膨張部材40は、移動鏡5とほぼ同じ幅を有し、その長さは移動鏡5より若干短く設定されている。低膨張部材40には上述した締結部材17の雄ねじ部18に螺合可能な雌ねじ部が形成されており、締結部材17により移動鏡5と低膨張部材40とが固定されている。そして、固定部11は支持台50に対して低膨張部材40を固定し、支持部12、13は支持台50に対して低膨張部材40を支持している。ここで、本実施形態に係る固定部11は低膨張セラミックスからなる低膨張部材40とアルミナセラミックスからなる支持台50とを堅固に固定するボルト部材により構成されている。
【0034】
本実施形態において、移動鏡5と低膨張部材40とはほぼ同じ線膨張係数を有する(すなわち、移動鏡5及び低膨張部材40は殆ど熱変形しない)。一方、支持台50は比較的熱変形する。この場合、移動鏡5を低膨張部材40で保持することで移動鏡5の自重による撓み変形の発生を防止でき、移動鏡5の反射面の平面状態を変化させないようにする効果が得られる。また、締結部材17により移動鏡5を低膨張部材40に固定することで、移動鏡5を堅固に固定することができるとともに、熱的な変動に対して移動鏡5の平面状態の変形を抑えることができる。また、移動鏡5に対して固定部11としての締結部材17を配置するための穴部9を多数設けるなどの加工を施すことは加工性や移動鏡5の強度維持の観点から不都合が生じる場合があるが、移動鏡5を低膨張部材40で保持することで、例えば、固定安定化のために低膨張部材40と支持台50との固定位置の数(ボルト部材の設置数)を多く設定することができ、移動鏡5を低膨張部材40を介して支持台50に堅固に固定できるなど、移動鏡5の支持形態を多様化することができる。
【0035】
なお、第2実施形態では、移動鏡5を低膨張部材40で保持し、この低膨張部材40を支持台50上で固定部11及び支持部12、13により支持する構成であるが、移動鏡5を低膨張部材40で保持し、この移動鏡5を保持した低膨張部材40を直接支持台50に取り付ける構成とすることも可能である。この構成によっても、移動鏡5の反射面の平面状態を良好に維持できる。
【0036】
なお、図5における低膨張部材40は、移動鏡5の位置A、B、及びCの各位置に接続されている1つの部材により構成されているが、これら各位置A、B、Cに対応して分割した部材により構成されてもよい。
【0037】
次に本発明の支持装置の第3実施形態について図6を参照しながら説明する。
図6は第3実施形態に係る支持装置のうち、移動鏡5の位置Cを移動鏡5の長手方向に移動可能に支持する支持部13を示す図である。
図6において、支持部13は、移動鏡5に設けられた可動部としての車輪部60と、支持台50に設けられ、車輪部60のY軸方向(移動鏡5の長手方向)への移動を案内するガイド部としての溝部61とを備えている。溝部61は支持台50上にY軸方向に延びるように形成されている。移動鏡5の下面には車輪部60を回転可能に支持する車輪支持部62が設けられ、車輪部60は車輪支持部62に回転可能に支持されている。
【0038】
第3実施形態に係る支持部13においては、移動鏡5と支持台50との変形量に差が生じた場合に、移動鏡5に取り付けられた車輪部60が溝部61に沿って移動することで、前記変形量の差を吸収できる。なお、図6に示した構成の他に、移動鏡5の下面にガイド部としての溝部を設け、支持台50に可動部としての車輪部を設ける構成であっても構わない。
【0039】
なお、上記実施形態における露光装置EXは、互いに隣接する複数の投影光学系を有する、いわゆるマルチレンズスキャン型露光装置であるが、投影光学系が1つである走査型露光装置ついても本発明を適用することができる。更に、露光装置EXとしては、マスクMと感光基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光する走査型露光装置の他に、マスクMと感光基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを露光し、感光基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の露光装置にも適用することもできる。
【0040】
露光装置EXの用途としては角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、例えば、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【0041】
本実施形態の露光装置EXの光源は、g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)のみならず、KrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193nm)、F2レーザ(157nm)を用いることができる。
【0042】
投影光学系PLの倍率は等倍系のみならず、縮小系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系PLとしては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザを用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にする。
【0043】
基板ステージPSTやマスクステージMSTにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。
【0044】
ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニットと電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側(ベース)に設ければよい。
【0045】
基板ステージPSTの移動により発生する反力は、特開平8−166475号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0046】
マスクステージMSTの移動により発生する反力は、特開平8−330224号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露光装置においても適用可能である。
【0047】
以上のように、本願実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【0048】
半導体デバイスは、図7に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板(ウエハ、ガラスプレート)を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンを基板に露光し、この露光した基板を現像する基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
【0049】
【発明の効果】
本発明によれば、構造体と反射鏡との熱変形量の差は支持部の移動により吸収されるので、反射鏡の周辺温度が変化しても反射鏡の平面状態が維持される。したがって、この反射鏡を用いて高精度なステージ位置計測を行うことができ、精度良い露光処理を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のステージ装置を備えた露光装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
【図2】本発明の支持装置の第1実施形態を示す図であって、(a)は上方から見た図、(b)は側方から見た図である。
【図3】図2の要部拡大図であって、(a)は固定部の拡大図、(b)は支持部の拡大図である。
【図4】支持部のうち連結部材及び板ばね部材を示す図であって、(a)は上方から見た図、(b)は斜視図である。
【図5】本発明の支持装置の第2実施形態を示す図である。
【図6】本発明の支持装置の第3実施形態を示す図である。
【図7】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
5…移動鏡(反射鏡)、7…レーザ干渉計、10…支持装置、11…固定部、
12、13…支持部、33…連結部材、35…保持部材(構造体)、
37…板ばね部材、弾性部材、40…低膨張部材、50…支持台(構造体)、
60…車輪部(可動部)、61…溝部(ガイド部)、A…第1の位置、
B、C…第2の位置、EX…露光装置、M…マスク、
MST…マスクステージ(構造体、ステージ装置)、P…感光基板(基板)、
PST…基板ステージ(構造体、ステージ装置)
Claims (10)
- 所定方向を長手方向とする反射鏡を構造体上で支持する支持装置において、
前記反射鏡の前記長手方向における第1の位置を前記構造体に対して固定する固定部と、
前記反射鏡の前記長手方向における前記第1の位置とは別の第2の位置を前記構造体に対して前記所定方向に移動可能に支持する支持部とを備えることを特徴とする支持装置。 - 前記支持部は、その一端部を前記第2の位置に接続し他端部を前記構造体に接続した弾性部材を有することを特徴とする請求項1記載の支持装置。
- 前記支持部は、前記反射鏡の前記第2の位置に連結された連結部材と、
前記反射鏡の短手方向両側のそれぞれに少なくとも設けられ、その一端部を前記連結部材に接続し他端部を前記構造体に接続した複数の板ばね部材とを有し、前記板ばね部材は、その板面の法線方向と前記所定方向とを略一致するように設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の支持装置。 - 前記支持部は、前記構造体又は前記反射鏡のいずれか一方に設けられた可動部と、他方に設けられ前記可動部を前記所定方向に案内するガイド部とを備えることを特徴とする請求項1記載の支持装置。
- 前記第1の位置は前記反射鏡の1箇所に設定され、前記第2の位置は前記反射鏡の2箇所に設定されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の支持装置。
- 前記第1の位置は前記反射鏡の長手方向中央部に設定され、前記第2の位置は前記第1の位置の前記長手方向両側に設定されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の支持装置。
- 前記反射鏡と前記構造体との間に介在し、前記反射鏡に固定された低膨張部材を備え、
前記固定部は前記構造体に対して前記低膨張部材を固定し、
前記支持部は前記構造体に対して前記低膨張部材を支持することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載の支持装置。 - 所定方向を長手方向とする反射鏡を構造体上で支持する支持装置において、
前記反射鏡と前記構造体との間に介在し、前記反射鏡を保持するとともに前記反射鏡の鏡面の平面状態を変化させないようにする低膨張部材を備えることを特徴とする支持装置。 - 物体を支持して移動可能なステージ装置において、
該ステージ装置の位置を計測する干渉計の一部を構成する移動鏡を該ステージ装置上で支持する支持装置を備え、
前記支持装置に、請求項1〜請求項8のいずれか一項記載の支持装置が用いられていることを特徴とするステージ装置。 - マスクを支持するマスクステージと、基板を支持する基板ステージとを備えた露光装置において、
前記マスクステージ及び基板ステージのうち少なくともいずれか一方に請求項9記載のステージ装置が用いられていることを特徴とする露光装置。
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JP2002358097A JP2004191556A (ja) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 支持装置、ステージ装置及び露光装置 |
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
EP2085803A1 (de) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | Astrium GmbH | Temperatur-unempfindliches Spiegelmodul zur Befestigung an einem Strukturelement |
JP2010509762A (ja) * | 2006-11-09 | 2010-03-25 | ヴィステック・リソグラフィー・インコーポレーテッド | 運動感応性機器におけるコンポーネントの搭載 |
KR20110133788A (ko) * | 2010-06-07 | 2011-12-14 | 삼성전자주식회사 | 바미러 장치 |
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EP2085803A1 (de) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | Astrium GmbH | Temperatur-unempfindliches Spiegelmodul zur Befestigung an einem Strukturelement |
KR20110133788A (ko) * | 2010-06-07 | 2011-12-14 | 삼성전자주식회사 | 바미러 장치 |
KR101678016B1 (ko) * | 2010-06-07 | 2016-11-23 | 삼성전자주식회사 | 바미러 장치 |
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