JP2004185670A - 不揮発性半導体記憶装置及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置において、ユーザが使用可能な第1の記憶部と、試験モードが入力された場合のみ選択可能となる、製造情報が格納された第2の記憶部4とを有することを特徴とし、試験モード信号が入力された場合のみ選択される記憶部4を、問題が発生した調査時には、試験モード信号を入力して製造情報を読み出す。これにより、顧客への迅速なサポートを展開する事が可能となる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、不揮発性の半導体記憶装置及び、不揮発性の記憶領域を有した半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、不揮発性半導体記憶装置、特にフラッシュメモリの市場が非常に大きくなっている。このような状況下では、設計開発の期間短縮などによる市場への製品のタイムリーな投入のみならず、投入後の顧客サポートも重要になっている。
【0003】
図14は、従来のフラッシュメモリの概略の構成図である。
フラッシュメモリ60は、各部を制御する制御部61と、図示しない外部アドレス入力パッドからの外部アドレス信号A(0)〜A(20)を受けて内部アドレス信号を生成するアドレスシーケンサ62と、図示しない入出力パッドを介して外部とのデータI/O(0)〜I/O(7)の入出力を行うためのデータ入出力バッファ63と、制御部61の制御のもと高電圧を生成する高電圧制御部64とを有する。
【0004】
制御部61は、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnの制御のもと、データ入出力バッファ63を介して外部から入力されたコマンドをデコードして、各部を制御する制御信号CSを生成する。また、コマンドを格納するコマンドレジスタ、コマンドに応じて、書き込みまたは消去動作中であるなどの状態を外部へ通知するためのステート信号SSを生成するステートコントローラなどの機能を有している。
【0005】
アドレスシーケンサ62は、制御信号CSの制御のもと、外部アドレス信号A(0)〜A(21)を受けて内部アドレス信号を生成し、Xデコーダ66、Yデコーダ67に送出する。
【0006】
データ入出力バッファ63は、制御信号CSの制御のもと入出力されるデータI/O(0)〜I/O(7)のバッファを行う。
高電圧制御部64は、制御信号CSの制御のもと、書き込みまたは消去のための高電圧を発生させる。なお、図2において破線で示している高電圧信号は、Xデコーダ66へ入力するように示しているが、基板領域(セクタ単位)またはYデコーダ67に入力するようにしてもよい。
【0007】
メモリセルアレイ65は、行列状に配列される複数の不揮発性メモリセル(以下メモリセルと略す)からなる。
Xデコーダ66は、アドレスシーケンサ62が生成する内部アドレス信号のうちXアドレスに従ってメモリセルアレイ65のワード線を選択する。
【0008】
Yデコーダ67は、アドレスシーケンサ62が生成する内部アドレス信号のうちYアドレスに従ってメモリセルアレイ65のビット線を選択する。
Yゲートユニット68は、Yデコーダ67によりデコードされ選択された行のビット線を、読み出しのためのセンスアンプや書き込みのためのライトアンプ(図示を省略)を介して、データ入出力バッファ63と接続させる。
【0009】
以下、フラッシュメモリ60の動作を説明する。
図示しない入出力パッドよりコマンドが入力されると、データ入出力バッファ63を介して制御部61に入力され、制御部61はこれをデコードして制御信号CSを生成する。一方、外部より入力された外部アドレス信号A(0)〜A(21)に応じてアドレスシーケンサ62は、内部アドレス信号を生成し、Xデコーダ66及びYデコーダ67によりメモリセルアレイ65内の所望のメモリセルを選択する。
【0010】
読み出しの場合、選択されたメモリセルから、Yゲートユニット68を介してセンスアンプによりデータが読み出される。読み出されたデータは、データ入出力バッファ63により、外部に出力される。
【0011】
図示しない入出力パッドより、書き込みまたは消去を行う旨のコマンドが入力されると、高電圧制御部64は、制御信号CSを受け、書き込み、または、消去などの動作に応じて所定の高電圧を生成し、Xデコーダ66、Yデコーダ67に供給する。消去の場合は、選択されたメモリセルのデータが消去され、書き込みの場合は、データ入出力バッファ63を介して入力されたデータがライトアンプ(図示せず)とYゲートユニット68を介して、選択されたメモリセルへ書き込まれる。
【0012】
このような、フラッシュメモリにおいて、様々な改良がなされており、例えば、不正コピーを防止するための特殊コードを格納するユーザ非公開の隠し記憶領域を、主記憶領域と別に設けて不正コピーを防止するようにしたものなどがある(例えば特許文献1)。
【0013】
一方、このような、フラッシュメモリにおいて、従来、市場で不良が発生した場合、その原因を探るために、顧客から返却された機器を直接試験により調査するばかりではなく、返却された機器の捺印番号などから遡ってロット履歴を検索し、そのロットのウェハプロセス工程中に異常がなかったか、出荷試験に使用されたテストプログラムのバージョンは問題のものであるかなどを調査していた。
【0014】
【特許文献1】
特開2001−35169号公報(段落番号〔0021〕〜〔0027〕,第2図)
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、近年のように市場規模が大きくなると、顧客からの不良製品返却の数量も増大していくことが予想され、従来のように返却製品の履歴調査作業に要する時間も増大していく可能性が大きい。このような状況下でも、顧客への迅速なサポートを展開するための効果的な調査補助機能が必要であるという問題があった。
【0016】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、製造工程におけるプロセス情報などの製造情報を迅速に調査可能な不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0017】
また、本発明の他の目的は、製造工程におけるプロセス情報などの製造情報を迅速に調査可能な、不揮発性の半導体記憶部を有した半導体装置を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、図1に示すような不揮発性半導体記憶装置において、第1の記憶部と、試験モード信号が入力された場合のみ選択可能となる、製造情報が格納された第2の記憶部と、を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置が提供される。
【0019】
上記構成によれば、試験モード信号が入力された場合のみ選択される記憶部4を、ユーザが使用可能な記憶部3と別に設け、これに製造情報を格納するので、調査時には、試験モード信号を入力して製造情報を読み出す。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図1は本発明の不揮発性半導体記憶装置の原理を示す概略の構成図である。
【0021】
不揮発性半導体記憶装置1は、各部を制御する制御部2と、2つの記憶部3、4を有する。
制御部2は外部からアクセス許可信号が入力されると試験モード信号を生成し、記憶部3、4に送出する。
【0022】
記憶部3は、ユーザ(以下顧客と呼ぶこともある)からのアクセスが可能な記憶領域である。
記憶部4は、この不揮発性半導体記憶装置1の製造情報が格納されており、試験モード信号が入力された場合のみ選択することができる。
【0023】
製造情報は、製造工程におけるプロセス情報、マスク情報または、出荷試験に使用されたテストプログラムのバージョンなどの試験情報、などである。
本発明の不揮発性半導体記憶装置1において、アクセス許可信号は、詳細は後述するが、顧客が入力できないような信号であり、不良発生時に返品された製品において、メーカーなどが製造情報を調査したい場合に入力される信号である。
【0024】
アクセス許可信号が制御部2に入力されると、制御部2は製造情報の調査を行うための試験モード信号を生成する。試験モード信号は、通常使用可能な記憶部3及び、製造情報が格納された記憶部4に入力される。記憶部3に試験モード信号が入力されると、記憶部3の選択が不可能となり、記憶部4のみ選択可能な状態となる。これにより、外部からのアドレス指定により、記憶部4において指定されたアドレスからの製造情報の読み出しを行うことが可能になる。
【0025】
このように、試験モード信号が入力された場合のみ選択される記憶部4を、ユーザが使用可能な記憶部3と別に設け、これに製造情報を格納するので、調査時には、試験モード信号を入力して製造情報を読み出すことができる。これにより、顧客への迅速なサポートを展開することが可能となる。また、アクセス許可信号を顧客が入力できないような信号にすることで、製造情報を顧客が書き換えてしまうことを防止することができる。
【0026】
次に、32Mbit NOR型フラッシュメモリを例に本発明の実施の形態の不揮発性半導体記憶装置を説明する。
図2は、本発明の第1の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
【0027】
本発明の第1の実施の形態のフラッシュメモリ10は、各部を制御する制御部11と、図示しない外部アドレス入力パッドからの外部アドレス信号A(0)〜A(21)を受けて内部アドレス信号を生成するアドレスシーケンサ12と、図示しない入出力パッドを介して外部とのデータI/O(0)〜I/O(7)の入出力を行うためのデータ入出力バッファ13と、制御部11の制御のもと高電圧を生成する高電圧制御部14とを有する。
【0028】
さらに、本発明の第1の実施の形態のフラッシュメモリ10は、図1で示し顧客が使用可能な記憶部3に対応する部分として、32Mビットのメモリセルアレイ15、Xデコーダ16、Yデコーダ17、ビット線を選択するYゲートユニット18とを有し、図1で示した製造情報が格納された顧客がアクセス不可能な記憶部4に対応する部分として、メモリセルアレイ19、Xデコーダ20、Yデコーダ21、Yゲートユニット22とを有する。
【0029】
制御部11は、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnの制御のもと、データ入出力バッファ13を介して外部から入力されたコマンドをデコードして、各部を制御する制御信号CSを生成する。また、コマンドを格納するコマンドレジスタや、コマンドに応じて書き込みまたは消去動作中であるなどの状態を外部へ通知するためのステート信号SSを生成するステートコントローラなどの機能を有している。
【0030】
さらに、制御部11は、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnに、顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧の信号(図1のアクセス許可信号に相当する)が入力されたときに、試験モード信号CIDを生成する。
【0031】
アドレスシーケンサ12は、制御信号CSの制御のもと、外部アドレス信号A(0)〜A(21)を受けて内部アドレス信号を生成し、各記憶部のデコーダ(Xデコーダ16、20、Yデコーダ17、21)に送出する。また、制御信号CSの制御で、例えば、ワード線を順次選択して一括消去を行うために、内部アドレス信号を順次変更するなどの機能を有する。なお、点線で示したように、試験モード信号CIDを受けた場合、内部アドレス信号を製造情報が格納された記憶部のデコーダ(Xデコーダ20、Yデコーダ21)のみに送出するようにしてもよい。
【0032】
データ入出力バッファ13は、制御信号CSの制御のもと入出力されるデータI/O(0)〜I/O(7)のバッファを行う。
高電圧制御部14は、制御信号CSの制御のもと、書き込みまたは消去のための高電圧を発生させる。なお、図2において破線で示している高電圧信号は、Xデコーダ16、20へ入力するように示しているが、メモリセルアレイ15、19の基板領域(セクタ単位)またはYデコーダ17、21に入力するようにしてもよい。
【0033】
メモリセルアレイ15、19は、行列状に配列される複数のメモリセルからなる。メモリセルは、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read−Only Memory)セルなどである。本発明の実施の形態において、ユーザが使用するメモリセルアレイ15は32Mビットで、製造情報が格納されるメモリセルアレイ19は、例えば、1Kバイト、512バイトなどと小さい。
【0034】
Xデコーダ16、20は、アドレスシーケンサ12が生成する内部アドレス信号のうちXアドレスに従ってメモリセルアレイ15、19のワード線を選択する。
【0035】
Yデコーダ17、21は、アドレスシーケンサ12が生成する内部アドレス信号のうちYアドレスに従ってメモリセルアレイ15、19のビット線を選択する。
【0036】
ここで、Xデコーダ20及びYデコーダ21は、制御部11で生成される試験モード信号CIDが入力されたときのみ動作する。つまり試験モード時のみ、メモリセルアレイ19へのアクセスが可能である。
【0037】
一方、Xデコーダ16及びYデコーダ17は、試験モード信号CIDが入力されると、デコード動作を停止する。つまり、試験モード時には、メモリセルアレイ15へのアクセスが不可能となる。
【0038】
Yゲートユニット18、22は、Yデコーダ17、21によりデコードされ選択された行のビット線を、読み出しのためのセンスアンプや書き込みのためのライトアンプ(図示を省略)を介して、データ入出力バッファと接続させる。
【0039】
以下、フラッシュメモリ10の動作を説明する。
まず、試験モード信号CIDがLowレベル(以下Lレベルと呼ぶ)の場合、つまり、顧客が使用するモードの場合について説明する。
【0040】
図示しない入出力パッドよりコマンドが入力されると、データ入出力バッファ13を介して制御部11に入力され、制御部11はこれをデコードして制御信号CSを生成する。一方、外部より入力された外部アドレス信号A(0)〜A(21)に応じてアドレスシーケンサ12は、内部アドレス信号を生成し、Xデコーダ16及びYデコーダ17によりメモリセルアレイ15内の所望のメモリセルを選択する。一方、Xデコーダ20及びYデコーダ21は、試験モード信号CIDがLレベルの場合は、動作せずメモリセルアレイ19内のメモリセルの選択は行わない。
【0041】
読み出しの場合、メモリセルアレイ15の選択されたメモリセルから、Yゲートユニット18を介してセンスアンプによりデータが読み出される。読み出されたデータは、データ入出力バッファ13により、外部に出力される。
【0042】
図示しない入出力パッドより、書き込みまたは消去を行う旨のコマンドが入力されると、高電圧制御部14は、制御信号CSを受け、書き込み、または、消去などの動作に応じて所定の高電圧を生成し、Xデコーダ16、Yデコーダ17に供給する。消去の場合は、選択されたメモリセルのデータが消去され、書き込みの場合は、データ入出力バッファ13を介して入力されたデータがライトアンプ(図示せず)とYゲートユニット18を介して、選択されたメモリセルへ書き込まれる。
【0043】
このようにして、入出力パッドに顧客はコマンドを入力することで、メモリセルアレイ15へのアクセスが可能となる。
次に、試験モード信号CIDがHighレベル(以下Hレベルと呼ぶ)の場合、つまり、試験モードの場合について説明する。
【0044】
コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnに顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧の信号が入力された場合、制御部11は、試験モード信号CIDを生成(Hレベルに)する。
【0045】
試験モードでの調査において、図示しない入出力パッドに試験モードコマンドが入力されると、制御部11はこれをデコードして制御信号CSを生成する。一方、外部より入力された外部アドレスA(0)〜A(21)に応じてアドレスシーケンサ12は、内部アドレス信号を生成し、Xデコーダ20及びYデコーダ21によりメモリセルアレイ19内の所望のメモリセルを選択する。一方、Xデコーダ16及びYデコーダ17は、試験モード信号がHレベルの場合は、動作せずメモリセルアレイ15内のメモリセルの選択は行わない。
【0046】
読み出し、書き込み及び消去動作は、試験モード信号CIDがLレベルの場合に、メモリセルアレイ19、Xデコーダ20、Yデコーダ21、Yゲートユニット22で行われた動作と同様に行われる。
【0047】
読み出しの場合、選択されたメモリセルから、フラッシュメモリ10の製造情報がYゲートユニット18を介してセンスアンプにより読み出される。読み出されたデータは、データ入出力バッファ13により、外部に出力される。
【0048】
製造情報は、前述のように、製造工程におけるプロセス情報、マスク情報または、出荷試験に使用されたテストプログラムのバージョンなどの試験情報、などである。
【0049】
図示しない入出力パッドより、製造情報の書き込みまたは消去を行う旨のコマンドが入力されると、高電圧制御部14は、制御信号CSを受け、書き込み、または、消去などの動作に応じて所定の高電圧を生成し、Xデコーダ16、Yデコーダ17に供給する。消去の場合は、選択されたメモリセルのデータが消去され、書き込みの場合は、データ入出力バッファ13を介して入力された製造情報がライトアンプ(図示せず)とYゲートユニット18を介して、選択されたメモリセルへ書き込まれる。
【0050】
このように、顧客が使用できないレベルの高電圧の信号を入力した場合のみ試験モード信号CIDを生成し、メモリセルアレイ19に格納されたフラッシュメモリ10の製造情報へのアクセスを可能としたので、顧客が偶然、試験モードに入って製造情報を書き換えや、消去をしてしまう恐れがない。
【0051】
次に、試験モード信号CIDを生成する制御部11の一部であるテストモードコマンドデコーダの例について説明する。
図3は、テストモードコマンドデコーダの回路図である。
【0052】
テストモードコマンドデコーダ100は、コントロールパッドP1、P2に高電圧の信号が入力された場合に、試験モード信号CIDを生成する。
コントロールパッドP1、P2から入力される信号P1IN、P2INはそれぞれ高電圧検出回路110a、110bに入力される。高電圧検出回路110a、110bの出力の信号HP1、HP2は、NAND回路111に入力され、NOR回路112には、NAND回路111の出力と、コントロールパッドP3から入力される信号P3INが入力される。NOR回路112の出力の信号CLKは、MIS(Metal−Insulator−Semiconductor)電界効果トランジスタQ1のゲートに入力される。NAND回路113は、データ入出力バッファ13を介して入力されるコマンドを受け、信号IN(0)〜IN(7)を入力する。NAND回路113の出力は、MIS電界効果トランジスタQ1のドレインに入力され、ソース側は、ラッチ回路を構成するインバータIV1、IV2、NOR回路114のうち、インバータIV1に入力される。ラッチ回路は、インバータIV1の出力がインバータIV2及びNOR回路114に入力され、NOR回路114の出力がインバータIV1に入力される構成であり、NOR回路114の一方の入力端子にはリセット信号RESETが入力される。ラッチ回路の出力であるインバータIV2の出力はインバータIV3に入力され、インバータIV3の出力は、試験モード信号CIDとして、テストモードコマンドデコーダ100から出力される。
【0053】
テストモードコマンドデコーダ100の動作を説明する。
図4は、テストモードコマンドデコーダの動作を説明するタイミングチャートである。
【0054】
コントロールパッドP1、P2の両方に、顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧の信号P1IN、P2INが入力されると、高電圧検出回路110a、110bは、電源電圧、110bは、電源電圧Vccと比較して十分高電圧(図ではVHと示している)であれば、出力の信号HP1、HP2がHレベルとなる。信号HP1、HP2がともにHレベルとなった場合、コントロールパッドP3の信号P3INがLレベルとなると、信号CLKがHレベルとなり、MIS電界効果トランジスタQ1がオン状態となる。このとき入出力パッド(図ではI/O(7:0)と示している)に入力されるコマンドをもとに、データ入出力バッファ13で生成される信号IN(0)〜IN(7)(図ではIN(7:0)と示している)が、全てHレベルのとき、NAND回路113の出力の信号CIDB0がLレベルとなる。ラッチ回路はこれを記憶し、試験モード信号CIDはHレベルとなる。その後、コントロールパッドP1、P2に印加していた高電圧を通常使用するレベルに戻すことで、図2に示した、製造情報が格納されたメモリセルアレイ19へのエントリーが完了する。
【0055】
なお、図4のタイムチャートでは図示を省略したが、上記の動作ではラッチ回路において、リセット信号RESETはHレベルである。リセット信号RESETがLレベルとなると、試験モード信号CIDがLレベルとなり、通常、顧客が使用するモードとなり、メモリセルアレイ19へのアクセスが不可能な状態となる。
【0056】
図5は、高電圧検出回路の回路図である。
ここでは、図3のコントロールパッドP1に接続された高電圧検出回路110aの例を示した。なお、高電圧検出回路110bは、これと同様の構成である。
【0057】
高電圧検出回路110aは、nチャネルのMIS電界効果トランジスタQ2、Q3、Q5と、pチャネルのMIS電界トランジスタQ4と、インバータ210、211とから構成される。詳細は省略するが、信号P1INが、電源電圧Vccより十分高電圧であれば、出力の信号HP1がHレベルとなる。
【0058】
このように、顧客が使用するメモリセルアレイ15のほかに、製造情報を格納したメモリセルアレイ19を設けたため、不良製品として返却された場合、直ちに、製造情報を参照して、製造工程におけるプロセス、マスクまたは、出荷試験に使用されたテストプログラムなどに異常がなかったかを調査でき、顧客への迅速なサポートを展開できる。また、コントロールパッドP1、P2に、顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧の信号が入力されたときのみ、試験モードにエントリーし、製品情報が格納されたメモリセルアレイ19にアクセスするようにしたので、顧客が、製品情報が格納されたメモリセルアレイ19にアクセスすることを防止することができる。
【0059】
次に本発明の第2の実施の形態のフラッシュメモリを説明する。
図6は、本発明の第2の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
本発明の第2の実施の形態のフラッシュメモリ30は、第1の実施の形態のフラッシュメモリ10と、ビット線を選択するYデコーダ31及びYゲートユニット32を、2つのメモリセルアレイ15、19で共用していることが異なる。他の構成は、第1の実施の形態のフラッシュメモリ10と同じであるので、同一の符号として説明を省略する。
【0060】
製造情報が格納されたメモリセルアレイ19にアクセスするためには、まず、第1の実施の形態と同様に、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnに顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧を印加することで、試験モード信号CIDを生成する。試験モード信号CIDは、Xデコーダ16、20に入力され、製造情報が格納されたメモリセルアレイ19のワード線を選択するXデコーダ20が動作可能な状態になり、顧客が通常使用するメモリセルアレイ15のワード線を選択するXデコーダ16は動作不可能な状態になり、メモリセルアレイ19のみへのアクセスが可能になる。
【0061】
このようにすることで、第1の実施の形態のフラッシュメモリ10と異なり、Yデコーダ31及びYゲートユニット32を共有できるので、高集積化が可能になる。
【0062】
なお、図6では、ビット線を選択するYデコーダ31及びYゲートユニット32は、メモリセルアレイ15、19の全てのビット線を共有しているように図示されているが、一部のみ共用するようにしてもよい。
【0063】
前述した第1の実施の形態のフラッシュメモリ10及び、第2の実施の形態のフラッシュメモリ30では、顧客がアクセス可能なメモリセルアレイと、製造情報が格納された顧客がアクセス不可能なメモリセルアレイと、2つのメモリセルアレイを設けたが、1つのメモリセルアレイの中に顧客がアクセス可能な記憶領域と、製造情報が格納された顧客がアクセス不可能な記憶領域を設けてもよい。
【0064】
以下、近年フラッシュメモリに搭載されることがあるOTP(One Time Programmable)領域に顧客がアクセス不可能な記憶領域を設ける場合を例にして、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリを説明する。
【0065】
図7は、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリ40は、第1、第2の実施の形態と同様に顧客が通常使用するメモリセルアレイ15の他に、顧客などの入力により制御部41で生成される各種のモード信号によりアクセス可能な、OTP領域49を有する。
【0066】
さらに、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリ40におけるOTP領域49では、顧客がアクセス不可能な記憶領域を有する。具体的には、ワード線のうち、顧客が選択不可能なワード線を設定し、そこに製造情報を格納する。
【0067】
OTP領域49内のメモリセルは、Xデコーダ50、Yデコーダ51により選択され、Yゲートユニット52を介してデータの入出力が行われる。他の構成要素については、第1及び第2の実施の形態のフラッシュメモリ10、30と共通であるので同符号を用い説明を省略する。
【0068】
制御部41は、試験モード信号CIDのほかに、OTP領域49を選択する(OTPモードにエントリーする)ための信号OTP、消去信号MERS、書き込み信号MPGMを生成する。
【0069】
OTP領域49は、顧客がアクセス可能な記憶領域であるが、書き込み及び読み出しは可能で、消去はできない領域である。OTP領域49の選択は、顧客によるコマンド入力などによって、信号OTPがHレベルになったときのみ可能である。この場合、メモリセルアレイ15を選択するXデコーダ16、Yデコーダ17は、デコードを行わない。つまり、メモリセルアレイ15は非選択状態となる。
【0070】
消去信号MERS及び、書き込み信号MPGMは、OTP領域49への、製造情報が格納される顧客がアクセス不可能な領域を含めた書き込み及び消去を行う信号である。消去信号MERS及び、書き込み信号MPGMは、顧客による書き換えなどを防止するため、出荷後は、不活性化(ともにLレベル)される。
【0071】
図8は、OTP領域における記憶領域の割り当ての例を示した図である。
ここで、OTP領域49は、ダミーワード線を除いて4本のワード線WL0、WL1、WL2、WL3で構成されているものとしている。ワード線WL0、WL1、WL2、WL3の選択は、Xデコーダ50の一部であるアドレス変換回路で、入力された外部アドレス信号A(6)、A(7)と、各種のモード信号をもとにアドレス変換された信号A(6)_OTP、A7_OTPにより行われる。顧客が使用できる領域は、ワード線WL0、WL1、WL2であり、製造情報が格納され、顧客が使用できない記憶領域はワード線WL3となる。
【0072】
図9は、OTP領域へアクセスするXデコーダが有するアドレス変換回路の回路図である。
アドレス変換回路300は、消去信号MERSと書き込み信号MPGM及び試験モード信号を入力するNOR回路301と、外部アドレス信号A(6)、A(7)及びNOR回路301の出力を入力するNAND回路302と、NAND回路302の出力である信号TESTMを入力するインバータ303と、試験モード信号CID、外部アドレス信号A(6)とインバータ303の出力を入力するNOR回路304と、NOR回路304の出力の信号である信号AB(6)_OTPと、インバータ303の出力を入力するNOR回路305を有する。さらに、OTP信号を入力するインバータ306と、インバータ306の出力と、試験モード信号CID及び外部アドレス信号A(7)を入力するNOR回路307と、NOR回路307の出力の信号AB(7)_OTPと、インバータ306の出力を入力するNOR回路308とから構成される。
【0073】
まず、試験モード信号CIDがLレベルの場合についてアドレス変換回路300の動作を説明する。
出荷前に、消去信号MERSまたは書き込み信号MPGMのいずれかをHレベルにすることにより、信号TESTMはHレベルとなる。よって、出力の信号A(6)_OTPは、外部アドレス信号A(6)の状態に従う。また、信号OTPはHレベルであるので、信号A(7)_OTPも、外部アドレス信号A(7)の状態に従う。これにより、図8で示したOTP領域49の全てのワード線WL0、WL1、WL2、WL3を選択できることになり、消去及び書き込みを、外部アドレス信号A(6)、A(7)で指定されたメモリセルに対して実行することができる。
【0074】
出荷後には、消去信号MERS及び書き込み信号MPGMがともにLレベルとなるが、この場合は、信号TESTMがLレベルとなる。このとき出力の信号A(6)_OTP、A(7)_OTPがともにHレベルとなることはなく、ワード線WL3は選択されない。つまり、製造情報を格納した記憶領域への書き込み及び消去が不可能な状態となる。
【0075】
試験モード信号CIDがHレベルの場合は、外部アドレス信号A(6)、A(7)の状態によらず、出力の信号A(6)_OTP、A(7)_OTPはHレベルとなる。これにより、ワード線WL3を選択でき、製造情報の読み出しを行うことができる。
【0076】
以下、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリ40の動作を、特に、OTP領域49へアクセスする場合について説明する。顧客が、通常使用する、メモリセルアレイ15へのアクセスの際の動作については、第1の実施の形態のフラッシュメモリ10の動作と同様であるので説明を省略する。
【0077】
まず、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリ40の出荷前に行う、製造情報が格納される記憶領域を含めたOTP領域49への、書き込み及び消去について説明する。
【0078】
図10は、顧客非公開モードでOTP領域への書き込み及び消去方法を示すフローチャートである。
S1:OTPモードへのエントリー
データ入出力バッファ13に、OTPモードへのエントリーを行う旨のコマンドが入力されると、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnの制御のもと制御部41では、信号OTPをHレベルにする。これにより、OTP領域49が選択状態となる。一方、メモリセルアレイ15は非選択状態となる。
【0079】
S2:コマンド入力
外部から読み出しまたは消去を行う旨のコマンドが入力されると、制御部41は、消去信号MERSまたは書き込み信号MPGMをHレベルにする。
【0080】
S3:アドレス入力
消去信号MERSまたは書き込み信号MPGMがHレベルになると、外部アドレス信号A(6)、A(7)で指定されたアドレスのメモリセルが、消去または書き込み可能な状態になる。
【0081】
S4:実行
ステップS3で指定されたアドレスのメモリセルにおいて、制御信号CSの制御のもと、高電圧制御部14により、OTP領域49のワード線に高電圧を印加し、消去またはデータ入出力バッファ13を介して入力されたデータの書き込みを行う。
【0082】
次に、本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリ40の出荷後に行う、OTP領域49のうち、製造情報が格納される記憶領域の読み出しについて説明する。
【0083】
図11は、顧客非公開モードでOTP領域のうち、顧客がアクセス不可能な記憶領域の読み出しを示すフローチャートである。
S10:OTPモードへのエントリー
データ入出力バッファ13に、OTPモードへのエントリーを行う旨のコマンドが入力されると、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnの制御のもと制御部41では、信号OTPをHレベルにする。これにより、OTP領域49が選択状態となる。一方、メモリセルアレイ15は非選択状態となる。
【0084】
S11:CID入力
第1の実施の形態のフラッシュメモリ10で説明したように、コントロールパッドP1、P2、P3、…、Pnに顧客では使用を禁止されているレベルの高電圧を印加することで、制御部41は、試験モード信号CIDをHレベルにする。
【0085】
S12:アドレス入力
次に、外部アドレス信号A(6)、A(7)を入力するが、図9を用いて説明したように、試験モード信号CIDがHレベルであるので、アドレス変換回路300の出力の信号A(6)_OTP、A(7)_OTPは、Hレベルとなり、顧客のアクセスが不可能な、製造情報が格納されるメモリセルに接続されたワード線WL3のみ選択可能な状態となる。
【0086】
S13:読み出し
ここで、制御信号CSの制御のもと、OTP領域49の選択されたワード線WL3に接続されるメモリセルに格納された情報が、Yゲートユニット52を介して読み出され、データ入出力バッファ13を介して、外部に出力される。
【0087】
出荷後は、顧客によるOTP領域49の読み出しや書き込みが、ワード線WL0、WL1、WL2で選択されるメモリセル(顧客使用記憶領域)について、行うことが可能である。
【0088】
以下に、出荷前と出荷後に分けてOTP領域49内の可能な動作をまとめる。
図12は、出荷前のOTP領域内の可能な動作についてまとめた図である。
顧客非公開モードでは、試験モード信号がLレベルのとき顧客が使用する記憶領域のワード線WL0、WL1、WL2のほか、製造情報を記憶する領域のワード線WL3を含めたOTP領域49への書き込み消去が、書き込み信号MPGM及び消去信号MERSで行うことができる。これは外部アドレス信号A(6)、A(7)で指定される。Hレベルの試験モード信号CIDを入力した場合は、前述したように、顧客が使用する記憶領域のワード線WL0、WL1、WL2の選択は不可能になり、製造情報の記憶領域であるワード線WL3のみ選択可能で、製造情報を読み出すことが可能である。
【0089】
顧客公開されるモードでは、顧客が使用する記憶領域のワード線WL0、WL1、WL2は選択可能であるので、読み出し、書き込みが可能である。製造情報を記憶する領域のワード線WL3は、選択不可能であるので、読み出し及び書き込みが不可能である。ただし消去については、品種により消去可能するものもある。
【0090】
図13は、出荷後のOTP領域内の可能な動作についてまとめた図である。
顧客非公開モードでは、出荷後は、試験モード信号CIDがLレベルのとき書き込み信号MPGM及び消去信号MERSが不活性となるので、これらを用いての書き込み消去は不可能になる。製造情報の記憶領域のワード線WL3の選択は、Hレベルの試験モード信号CIDが入力されたときのみ可能であり、読み出しが可能である。
【0091】
顧客に公開されるモードでは、顧客が使用する記憶領域のワード線WL0、WL1、WL2は選択可能であるので、読み出し、書き込みが可能である。しかし消去は不可能である。製造情報を記憶する領域のワード線WL3は、選択不可能であるので、読み出し及び書き込みが不可能である。ただし、顧客で書き込みも禁止した場合は、書き込みも不可能となる。
【0092】
なお、前述した第1、第2及び第3の実施の形態のフラッシュメモリ10、30、40のいずれにおいても、製造情報を格納するメモリセルは、顧客が使用可能なメモリセルと同タイプであることがプロセス設計の面からも望ましい。
【0093】
また、以上の説明では、フラッシュメモリを例にとって説明してきたが、本発明の適用範囲がフラッシュメモリだけに限定されることを示唆するものではない。例えば、半導体記憶装置ではない半導体装置の場合であっても本発明を適用することは可能である。例えば、フラッシュメモリ搭載マイコンのように、すでに不揮発性半導体記憶装置を搭載しているものへの適用は容易に考えられるし、また不揮発性半導体記憶装置を持っていないものであっても、プロセスが許すならば特殊用途用の小容量の不揮発性半導体記憶領域を設けることは可能である。その場合、不揮発性半導体記憶セルの書き込みや消去に必要な高電圧を発生させるための回路が必要になるが、その代わりにこの記憶領域のための専用パッドを設け、そこから試験時のみ高電圧を供給する構造にすれば、余計な回路の搭載も必要ではなく、また、専用パッドを使用するので、製品で使用されるパッドへのストレスの不安もなくてすむ。
【0094】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、試験モード信号が入力された場合のみ選択される記憶部を、ユーザが使用可能な記憶部と別に設け、これに製造情報を格納するので、回収された不良品の調査時には、試験モード信号を入力して製造情報を読み出すことができる。これにより、顧客への迅速なサポートを展開することが可能となる。また、アクセス許可信号を顧客が入力できないような信号にすることで、製造情報を顧客が書き換えてしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の不揮発性半導体記憶装置の原理を示す概略の構成図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
【図3】テストモードコマンドデコーダの回路図である。
【図4】テストモードコマンドデコーダの動作を説明するタイミングチャートである。
【図5】高電圧検出回路の回路図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
【図7】本発明の第3の実施の形態のフラッシュメモリの構成図である。
【図8】OTP領域における記憶領域の割り当ての例を示した図である。
【図9】OTP領域へアクセスするXデコーダが有するアドレス変換回路の回路図である。
【図10】顧客非公開モードでOTP領域への書き込み及び消去方法を示すフローチャートである。
【図11】顧客非公開モードでOTP領域のうち、顧客がアクセス不可能な記憶領域の読み出しを示すフローチャートである。
【図12】出荷前のOTP領域内の可能な動作についてまとめた図である。
【図13】出荷後のOTP領域内の可能な動作についてまとめた図である。
【図14】従来のフラッシュメモリの概略の構成図である。
【符号の説明】
1 不揮発性半導体記憶装置
2 制御部
3、4 記憶部
Claims (10)
- 不揮発性半導体記憶装置において、
第1の記憶部と、
試験モード信号が入力された場合のみ選択可能となる、製造情報が格納された第2の記憶部と、
を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記第1の記憶部は、前記試験モード信号が入力されると、非選択状態となることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
- アクセス許可信号が入力されると前記試験モード信号を生成する制御部を有することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記アクセス許可信号は、ユーザでは使用を禁止されているレベルの高電圧であることを特徴とする請求項3記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記第2の記憶部で使用されるビット線選択部は、前記第1の記憶部のビット線選択部とは独立に設置されることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記第2の記憶部で使用されるビット線選択部は、前記第1の記憶部のビット線選択部と一部または全てを共用することを特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記製造情報は、製造工程におけるプロセス情報、マスク情報または試験情報であることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
- 不揮発性半導体記憶装置において、
読み出し時、試験モード信号が入力された場合のみ選択可能な、製造情報が格納された不揮発メモリセルが接続されたワード線を有した記憶部、
を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 半導体装置において、
第1の記憶部と、
試験モード信号が入力された場合のみ選択可能となる、製造情報が格納された第2の記憶部と、
を有することを特徴とする半導体装置。 - 前記第1または第2の記憶部を構成する不揮発性半導体記憶セルの、書き込み及びまたは消去のために試験専用のパッドを有することを特徴とする請求項9記載の半導体装置。
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Country | Link |
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2002
- 2002-11-29 JP JP2002348485A patent/JP2004185670A/ja not_active Withdrawn
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