JP2004166773A

JP2004166773A - 脱臭装置

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Publication number: JP2004166773A
Application number: JP2002333388A
Authority: JP
Inventors: Hiroo Nitta; 浩朗新田; Koichi Nakano; 幸一中野; Yoshifumi Moriya; 好文守屋; Motomichi Mishima; 基道三島
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2002-11-18
Filing date: 2002-11-18
Publication date: 2004-06-17

Abstract

【課題】生ゴミやトイレの臭気を除去する脱臭装置において、シーズヒータの周りにフィンを多段に配置する構成では、構成が複雑になり部品点数が多くなることで組み立て工程が多くなる、ヒータと触媒体の距離が近くヒータを高温にできない、筐体放熱が大きいなどの製造上、性能上の課題があった。
【解決手段】端面に吸気口２と排気口３を有し内部に加熱手段４と触媒部６とを有する筐体１を備え、吸気口２から吸入された臭気を含んだ気体は、加熱手段４で加熱された後、吸入方向と平行である加熱手段４の中心軸のまわりに配置された触媒部６を通過した後、排気口３から排出される構成とした。これにより、脱臭装置内に導かれた臭気を含んだ気体は加熱手段４と触媒部６にて効率よく脱臭され、また構成も簡単になるものである。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、生ゴミやトイレの臭気を除去する脱臭装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の脱臭装置として、シーズヒータなど筒型ヒータの外周に触媒を担持させたフィンを多段に配置して触媒体を形成し、この触媒体を容器に収納し、フィンと容器の隙間を臭気を含んだ気体が筒型ヒータと平行方向に通過することにより脱臭する方法があげられる（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−３１９４８７号公報
【特許文献２】
特開２００２−１２６４５２号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようにフィンを多段に配置して触媒体を形成する構成では、構成が複雑になり部品点数が多くなることで組み立て工程が多くなるなどの問題点や、ヒータと触媒体の距離が近くヒータを高温にできない、筐体放熱が大きいなどの製造上、性能上の課題やコスト高になるなどの課題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するもので、脱臭装置を、端面に吸気口と排気口を有し内部に加熱手段と触媒部とを有する筐体を備え、前記吸気口から吸入された臭気を含んだ気体は、前記加熱手段で加熱された後、吸入方向と平行である加熱手段の中心軸のまわりに配置された触媒部を通過した後、排気口から排出される構成とした。
【０００６】
上記発明によれば、脱臭装置内に導かれた臭気を含んだ気体は加熱手段と触媒部にて効率よく脱臭される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
請求項１に記載の発明は、端面に吸気口と排気口を有し内部に加熱手段と触媒部とを有する筐体を備え、前記吸気口から吸入された臭気を含んだ気体は、前記加熱手段で加熱された後、吸入方向と平行である加熱手段の中心軸のまわりに配置された触媒部を通過した後、排気口から排出される構成とすることで、臭気を加熱手段および触媒部にて効率的に除去できるものである。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、加熱手段と触媒部との間に遮へい板を設置する構成とすることで、加熱空間でのヒータ表面と臭気を含んだ気体との接触効率を上げるとともに、ヒータ近傍の触媒部の温度上昇による触媒劣化を抑制させることができるものである。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、触媒部の温度は３００℃〜６００℃の範囲となるようにすることにより、触媒を劣化させることなく最適な触媒活性温度に設定することで脱臭性能を維持することができるものである。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、遮へい板の温度は８００℃より低くなるようにすることにより、加熱空間における臭気成分の十分な酸化分解温度を確保しつつ遮へい版の高温酸化による劣化を防ぐことができるものである。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、触媒部の上面および底面と筐体との間に断熱材を設ける構成とすることにより、筐体放熱を低減し低入力電力で触媒部の温度を触媒活性温度に保つことができ、エネルギロスを少なくすることができるものである。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、断熱材と触媒部との間に金属板を設ける構成とすることにより、断熱材の劣化を防ぐことができるものである。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、金属板に触媒を担持することにより触媒面積が増加し、より脱臭性能を向上させることができるものである。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、触媒部の外周面と筐体との間に空間を設ける構成とすることにより、触媒部から筐体への熱の移動を最小限にとどめ、筐体側面に近い部分の触媒温度を触媒活性温度に保つことができるものである。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、触媒部は、金属の基材と、前記基材の表面に形成したアンダーコート層と、アンダーコート層の表面に形成した触媒層とから成る構成とすることにより、触媒層と基材との密着性をより強固にすることができるものである。
【００１６】
請求項１０に記載の発明は、触媒層は白金またはパラジウムの少なくとも１種類を含有する貴金属触媒層より形成することにより、高活性な貴金属触媒の性質により、低沸点分子の臭気成分を効率よく酸化分解することができるものである。
【００１７】
請求項１１に記載の発明は、臭気を含んだ空気が加熱手段を通過する際に流速が大きくなるような構成とすることで、加熱空間での放熱を低減し触媒体での脱臭効率を向上させることができるものである。
【００１８】
請求項１２に記載の発明は、脱臭装置を断熱材で覆う構成とすることで、熱損失を低減し脱臭効率を向上させることができるものである。
【００１９】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
【００２０】
（実施例１）
図１、図２は、本発明の第１の実施例における脱臭装置の断面図を示すものである。
【００２１】
図１において、１は筐体であり、その一方には吸気口２が設けられ、他方には排気口３が設けられている。４はヒータ（加熱手段）で、ガイシ５により筐体１に固定されている。６は触媒部で吸入方向に平行かつ加熱空間を形成するヒータ４の中心を通る軸を中心軸として円周方向に配置されている。筐体１は、耐熱性、耐食性、耐孔食性に優れたＳＵＳ３１６を用いた。
【００２２】
また、ヒータ４は小型で温度の立ち上がり特性に優れ、ヒータ表面温度は１０００℃程度の高温まで昇温可能な窒化珪素ヒータを用いた。触媒部６の基材には、より耐熱性、耐食性、耐孔食性に優れ、高温での熱膨張係数が小さく応力腐食割れに強いＳＵＳ４４４ハニカム体を用いた。以上のハニカム基材にアルミナを主成分とするアンダーコート層を塗布し焼成した後、白金―パラジウムからなる触媒を塗布し焼成を行うことにより触媒層の作製を行った。
【００２３】
以上のように構成された脱臭装置について、以下その動作、作用を説明する。
【００２４】
脱臭装置の窒化珪素ヒータ４の両端端子部に通電して、加熱状態にする。同時に、触媒部６も加熱される。この状態で、臭気を含んだ気体Ａを吸気口２から脱臭装置内に導入すると、まず臭気を含んだ気体は約１０００℃に熱せられた窒化珪素ヒータ４の表面と接触することにより酸化分解され、その後、触媒部６にて残りの臭気が酸化分解され、排気口３から脱臭された気体Ｂが排出される。
【００２５】
この実施例の効果について、図３を参照しながら説明する。
【００２６】
図３は、本発明の脱臭装置、および従来の脱臭装置の浄化性能を評価した結果を示すグラフである。この試験において、試験ガスとしては野菜などから発生する臭気成分の一つである硫化ジメチル（ＣＨ_３）_２Ｓを用い、初期濃度は５００ｐｐｍとした。空間速度は、市販の生ごみ処理機と同レベルの４０００ｈ^−１とした。測定は、吸気口直前と排気口直後の濃度をガスクロマトグラフのＦＩＤを用い、除去率を求めた。
【００２７】
また、従来例として、図４に示した脱臭装置を用いた。すなわち、臭気を含んだ気体Ａを吸気口ａから脱臭装置内に導入すると、臭気を含んだ気体はシーズヒータｂにより加熱された触媒部ｃにて臭気が酸化分解された後、排気口ｄから脱臭された気体Ｂが排出される。触媒担持量、試験ガス、初期濃度、空間速度、および測定方法は本実施例と同条件とした。
【００２８】
図３に示すように、従来例では約１４０Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示したのに対し、本実施例では約１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示した。これは、本実施例の脱臭装置では従来例と比較して、ヒータの高温化による脱臭性能の向上と、構成上の違いによる筐体放熱の低減によって触媒部温度が上昇したことによるものであると考えられる。
【００２９】
（実施例２）
図５、図６は、本発明の第２の実施例における脱臭装置の断面図を示すものである。
【００３０】
図５、図６において、遮へい板１７を設置した他は、実施例１に示した脱臭装置と同等とした。遮へい板１７は厚さ０．４ｍｍのＳＵＳ４４４を用いた。ＳＵＳ４４４平板に２ｍｍの孔をランダムに空け、これをパイプ状に丸めることにより作製した。
【００３１】
以上のように構成された脱臭装置について、以下その動作、作用を説明する。脱臭装置の窒化珪素ヒータ１４の両端端子部に通電して、加熱状態にする。同時に、触媒部１６も加熱される。この状態で、臭気を含んだ気体Ａを吸気口１２から脱臭装置内に導入すると、まず臭気を含んだ気体は約１０００℃に熱せられた窒化珪素ヒータ１４の表面および窒化珪素ヒータと遮へい板１７とで囲まれた高温加熱空間にて酸化分解され、その後、遮へい板に空けられた孔から円周方向に設置された触媒部１６にて残りの臭気が酸化分解され、排気口１３から脱臭された気体Ｂが排出される。
【００３２】
この実施例の効果について、図７を参照しながら説明する。
【００３３】
図７は、本発明の脱臭装置、および実施例１における脱臭装置の浄化性能を評価した結果を示すグラフである。この試験において、試験ガスとしては野菜などから発生する臭気成分の一つである硫化ジメチル（ＣＨ_３）_２Ｓを用い、初期濃度は５００ｐｐｍとした。空間速度は、市販の生ごみ処理機と同レベルの４０００ｈ^−１とした。測定は、吸気口直前と排気口直後の濃度をガスクロマトグラフのＦＩＤを用い、除去率を求めた。
【００３４】
図７に示すように、実施例１では約１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示したのに対し、本実施例では約９０Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示した。これは、本実施例の脱臭装置では従来例と比較して、窒化珪素ヒータ１４と遮へい板１７とで囲まれた高温加熱空間により臭気成分が酸化分解されているものと考えられる。
【００３５】
次に、耐久試験の結果を示す。本実施例における脱臭装置と実施例１における脱臭装置の耐久試験を行った。試験条件としては、ヒータ入力電力は１００Ｗとし、触媒部を通過する気体として空気１０％水蒸気９０％とし、３０分間隔でヒータのＯＮ−ＯＦＦを繰り返した。実施例１では、１０時間経過後には、ヒータ近傍の触媒部のアンダーコート層に剥れが見られた。一方、本実施例では１０００時間経過後においてもアンダーコート層に剥れは見られなかった。
【００３６】
以上の結果より、加熱空間と触媒部との間に遮へい板を設置する構成とすることで、加熱空間での臭気成分の酸化分解性能を上げるとともに、ヒータ近傍の触媒部の温度上昇による触媒劣化を抑制することができるものである。
【００３７】
（実施例３）
本発明の第３の実施例の効果を示すため、実施例１に示す脱臭装置を用いて、脱臭性能試験および触媒部の耐久試験を行った。各試験方法および試験条件、測定方法などは実施例１と同等とした。
【００３８】
図８は、触媒部の温度と硫化ジメチル除去性能の関係を示したものである。図８に示すように、触媒部温度が３００℃〜７００℃の範囲において、硫化ジメチル除去率は９９．５％以上となった。
【００３９】
次に、触媒部の耐久試験を行った。試験としては、触媒部の温度３００℃、５００℃、６００℃、７００℃、８００℃、触媒部を通過する気体としては空気１０％水蒸気９０％とし、３０分間隔でヒータのＯＮ−ＯＦＦを繰り返した。図９は、以上の温度において耐久試験を行った結果、硫化ジメチル除去率が９５％を下回った時点での積算時間をプロットしたものである。図９に示すように、触媒温度が６００℃より大きくなると急激に触媒劣化が進む結果となった。
【００４０】
以上の結果より、触媒部の温度は３００℃〜６００℃の範囲となるようにすることにより、触媒を劣化させることなく最適な触媒活性温度に設定することで脱臭性能を維持することができるものである。
【００４１】
次に、実施例２に示す脱臭装置を用いて、遮へい板の耐久試験を行った。試験としては、遮へい板の温度５００℃、６００℃、７００℃、８００℃、９００℃、１０００℃とし、遮へい板を通過する気体としては空気１０％水蒸気９０％とし、３０分間隔でヒータのＯＮ−ＯＦＦを繰り返した。図１０は、以上の温度において耐久試験を行った結果、遮へい板から発生した錆が脱臭装置の外部に流出し始めた時点での積算時間をプロットしたものである。図１０に示すように、触媒温度が８００℃より大きくなると急激に錆の発生時間が早まる結果となった。
【００４２】
以上の結果より、遮へい板の温度は８００℃より低くなるようにすることにより、加熱空間における臭気成分の十分な燃焼温度を確保しつつ遮へい版の高温酸化による劣化を防ぐことができるものである。
【００４３】
（実施例４）
図１１は、本発明の第４の実施例における脱臭装置の断面図を示すものである。図１１において、断熱材２７と金属板２８を設置した他は、実施例１に示した脱臭装置と同等とした。断熱材２７はセラミック繊維からなる断熱材を用いた。金属薄板は厚さ０．１ｍｍのＳＵＳ４４４を用いた。
【００４４】
次に、本実施例に示す脱臭装置を用いて、脱臭性能試験を行った。各試験方法および試験条件、測定方法などは実施例１と同等とした。
【００４５】
図１２は、ヒータ入力電力と硫化ジメチル除去性能の関係を示したものである。図１２に示すように、実施例１では約１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示したのに対し、本実施例では約８０Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示した。
【００４６】
以上の結果より、触媒部の上面および底面と筐体との間に断熱材を設けた構成とすることにより、筐体放熱を低減し低入力電力で触媒部の温度を触媒活性温度に保つことができ、エネルギロスを少なくすることができるものである。
【００４７】
また、金属薄板を設けない構成の場合、水蒸気を含んだ高温の気体によって断熱材が劣化するため、断熱材と触媒部との間に金属板を設けた構成とすることにより、断熱材の劣化を防ぐことができるものである。
【００４８】
次に、図１１に示す脱臭装置の金属板２８の表面に触媒層を設け、脱臭性能試験を行った。各試験方法および試験条件、測定方法などは実施例１と同等とした。
【００４９】
図１３は、ヒータ入力電力と硫化ジメチル除去性能の関係を示したものである。図１３に示すように、実施例１では約１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示したのに対し、本実施例では約９０Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示した。以上の結果より、金属薄板に触媒を担持することにより触媒面積が増加し、より脱臭性能を向上させることができるものである。
【００５０】
次に、触媒部２６と筐体２１との間に設けた空間の効果を示すため、図１に示す脱臭装置の触媒部の温度分布の測定を行った。測定条件としては、通過する気体を空気１０％水蒸気９０％、空間速度は４０００ｈ^−１とし、ヒータ近傍から排気口近傍までの温度分布を熱電対により測定した。比較例としては、図１において触媒部と筐体が接触したものを用いた。
【００５１】
図１４は、ヒータ近傍から排気口近傍までの温度分布を示したものである。図１４に示すように、本実施例での触媒部温度はほぼ全領域において１００℃近く比較例よりも高かった。以上の結果より、触媒部の外周面と筐体との間に空間を設けた構成とすることにより、触媒部から筐体への熱伝導を最小限にとどめ、筐体側面に近い部分の触媒温度を触媒活性温度に保つことができるものである。
【００５２】
（実施例５）
図１５は、本発明の第５の実施例における触媒体の断面図を示すものである。図１５において、３１は基材、３２はアンダーコート層であり、３３は触媒層である。基材３１は、耐熱性、耐食性、耐孔食性に優れ、高温での熱膨張係数が小さく応力腐食割れに強いＳＵＳ４４４を用いた。アンダーコート層３２は、水酸化アルミニウム７２０重量部、硝酸セリウム６水和物２１７重量部、炭酸バリウム３８重量部、イオン交換水１５２０重量部を攪拌、混合して形成しているものである。このスラリーを、１００℃で乾燥し、さらに１０００℃で６０分間焼結した後、粉砕する。こうして得られた焼結酸化物を４００重量部、硝酸アルミニウム９水和物５０重量部、コロイド状アルミナ８０重量部、イオン交換水４６０重量部を混合した後、ボールミルで粉砕し、粘度１０５ｃＰ、平均粒径４．１μｍに調製したものをアンダーコートスラリーとしている。このアンダーコートスラリーを、基材３１に塗布した後、１３０℃で２０分間乾燥させ、６００℃で２０分焼成してアンダーコート層３２を形成している。
【００５３】
触媒層３３は、６．５ｗｔ％ジニトロジアミンパラジウム硝酸水溶液と、６．５ｗｔ％ジニトロジアミン白金硝酸水溶液を１：１の割合で混合したものを、アンダーコート層２２の上に塗布して、１３０℃で２０分間乾燥した後、６００℃で２０分間焼成することにより形成している。アンダーコート層３２は、基材３１と触媒層３３のつなぎの役割をしており、基材３１上に触媒層３３を強固にとどめるとともに、触媒層３３の比表面積を大きくする役割もある。
【００５４】
以上の触媒層を図１に示す触媒部に設けた。
【００５５】
この実施例の効果について、以下に説明する。本実施例の効果を示すため、触媒部の耐久試験を行った。試験条件としては、ヒータ入力電力は１００Ｗとし、触媒部を通過する気体として空気１０％水蒸気９０％とし、３０分間隔でヒータのＯＮ−ＯＦＦを繰り返した。比較例としては、水酸化アルミニウム、硝酸セリウム、炭酸バリウムの焼結酸化物を添加しないアンダーコート層を用いた。
【００５６】
比較例では、５０時間経過後には、触媒層１の吸気口２に近い部分とヒータ近傍の触媒層２のアンダーコート層に剥れが見られた。一方、本実施例では１０００時間経過後においてもアンダーコート層に剥れは見られなかった。
【００５７】
以上の結果より、水酸化アルミニウム、硝酸セリウム、炭酸バリウムの焼結酸化物を添加することにより、基材と触媒層との密着性を高め、基材の熱膨張と熱収縮の繰り返しにも耐えうるものである。
【００５８】
次に、脱臭性能評価を行った。比較例としては、触媒層として▲１▼白金のみ、▲２▼パラジウムのみ、▲３▼酸化マンガン・酸化銅を用いた。この試験において、試験ガスとしては野菜などから発生する臭気成分の一つである硫化ジメチル（ＣＨ_３）_２Ｓを用い、初期濃度は５００ｐｐｍとした。空間速度は、市販の生ごみ処理機と同レベルの４０００ｈ^−１とした。測定は、吸気口直前と排気口直後の濃度をガスクロマトグラフのＦＩＤを用い、除去率を求めた。
【００５９】
図１６に示すように、▲１▼白金のみでは入力電力１１０Ｗで９９．５％の除去率、▲２▼パラジウムのみでは入力電力１２０Ｗで９９．５％の除去率、▲３▼酸化マンガン・酸化銅では入力電力１６０Ｗで９９．５％の除去率であった。本実施例では１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率であった。
【００６０】
本実施例のように触媒層は白金またはパラジウムの少なくとも１種類を含有する貴金属触媒層とすることにより、脱臭性能を高めることができるものである。
【００６１】
（実施例６）
図１７は、本発明の第６の実施例における脱臭装置の断面図を示すものである。図１７において、４１は筐体であり、その一方には吸気口４２が設けられ、他方には排気口４３が設けられている。４４はヒータで、ガイシ４５により筐体４１に固定されている。４６は触媒部で吸入方向に平行かつ加熱空間の中心を通る軸を中心軸として遠心方向に配置されている。筐体４１は、耐熱性、耐食性、耐孔食性に優れたＳＵＳ３１６を用いた。
【００６２】
また、ヒータ４４は小型で温度の立ち上がり特性に優れ、ヒータ表面温度は１０００℃程度の高温まで昇温可能な窒化珪素ヒータを用いた。触媒部４６の基材には、より耐熱性、耐食性、耐孔食性に優れ、高温での熱膨張係数が小さく応力腐食割れに強いＳＵＳ４４４ハニカム体を用いた。以上のハニカム基材にアルミナを主成分とするアンダーコート層を塗布し焼成した後、白金―パラジウムからなる触媒を塗布し焼成を行うことにより触媒層の作製を行った。断熱材４７は、１０００℃以上の耐熱性を有するセラミック繊維からなる断熱材を筐体が収納できるように加工した。
【００６３】
以上のように構成された脱臭装置の動作、作用は実施例１と同様である。
【００６４】
次に本実施例の効果について、図１８を参照しながら説明する。図１８は、本発明の脱臭装置、および実施例１の脱臭装置の浄化性能を評価した結果を示すグラフである。この試験において、試験条件などは実施例１と同様である。
【００６５】
図１８に示すように、実施例１では約１００Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示したのに対し、本実施例では約７０Ｗの入力電力で９９．５％の除去率を示し、３０％の省エネとなった。これは、筐体を断熱材で覆う構成とすることで筐体放熱が大幅に少なくなったためであると考えられる。
【００６６】
以上のことより、本発明のように脱臭装置を断熱材で覆う構成とすることで、熱損失を低減し脱臭効率を向上させることができるものである。
【００６７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、従来のようにシーズヒータの周りにフィンを多段に配置した構成と比較して、エネルギロスを少なくすることができる。また、構成が簡素であるため、部品点数が少なく組み立て工程を少なくすることができ、触媒体のメンテナンスも容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例における脱臭装置の縦断面図
【図２】同脱臭装置の横断面図
【図３】同脱臭装置のヒータ入力電力と硫化ジメチル除去率との関係を示すグラフ
【図４】本発明の第１の実施例における比較例の断面図
【図５】本発明の第２の実施例における脱臭装置の縦断面図
【図６】同脱臭装置の横断面図
【図７】同脱臭装置のヒータ入力電力と硫化ジメチル除去率との関係を示すグラフ
【図８】同脱臭装置における触媒部の温度と硫化ジメチル除去性能との関係を示すグラフ
【図９】同脱臭装置における触媒部の温度と触媒劣化時間との関係を示すグラフ
【図１０】同脱臭装置における触媒部の温度と遮へい板の劣化時間との関係を示すグラフ
【図１１】本発明の第４の実施例における脱臭装置の縦断面図
【図１２】同脱臭装置のヒータ入力電力と硫化ジメチル除去率との関係を示すグラフ
【図１３】同脱臭装置で、金属板に触媒を担持したタイプのヒータ入力電力と硫化ジメチル除去性能の関係を示すグラフ
【図１４】同脱臭装置のヒータ近傍から排気口近傍までの温度分布を示すグラフ
【図１５】本発明の第５の実施例における脱臭装置の断面図
【図１６】同脱臭装置のヒータ入力電力と硫化ジメチル除去性能の関係を示すグラフ
【図１７】本発明の第６の実施例における脱臭装置の縦断面図
【図１８】同脱臭装置のヒータ入力電力と硫化ジメチル除去性能の関係を示すグラフ
【符号の説明】
１筐体
２吸気口
３排気口
４、１４、２４、４４窒化珪素ヒータ（加熱手段）
６、１６、２６、４６触媒部
１７遮へい板
２７、４７断熱材
２８金属板

Claims

端面に吸気口と排気口を有し内部に加熱手段と触媒部とを有する筐体を備え、前記吸気口から吸入された臭気を含んだ気体は、前記加熱手段で加熱された後、吸入方向と平行である加熱手段の中心軸のまわりに配置された触媒部を通過した後、排気口から排出される構成とした脱臭装置。
加熱手段と触媒部との間に、遮へい板を設置する構成とした請求項１に記載の脱臭装置。
触媒部の温度は３００℃〜６００℃の範囲となるようにした請求項１または２に記載の脱臭装置。
遮へい板の温度は８００℃より低くなるようにした請求項２または３に記載の脱臭装置。
触媒部の上面および底面と筐体との間に、断熱材を設ける構成とした請求項１〜４のいずれか１項に記載の脱臭装置。
断熱材と触媒部との間に金属板を設ける構成とした請求項５に記載の脱臭装置。
金属板に触媒を担持した請求項６に記載の脱臭装置。
触媒部の外周面と筐体との間に、空間を設ける構成とした請求項１〜７のいずれか１項に記載の脱臭装置。
触媒部は、金属の基材と、前記基材の表面に形成したアンダーコート層と、アンダーコート層の表面に形成した触媒層とから成る請求項１〜８のいずれか１項に記載の脱臭装置。
触媒層は白金またはパラジウムの少なくとも１種類を含有する貴金属触媒層である請求項９に記載の脱臭装置。
臭気を含んだ気体が加熱手段を通過する際に、流速が大きくなるような構成とした請求項１〜１０のいずれか１項に記載の脱臭装置。
脱臭装置を断熱材で覆う構成とした請求項１〜１１のいずれか１項に記載の脱臭装置。