JP2004165354A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光電変換基板を大きくすることなく実装部品やコストの削減ができ、且つ、安定した高画質の放射線撮像装置を得る。
【解決手段】複数個の光電変換素子と信号転送素子を有する画像が二次元的に配列された光電変換装置と前記光電変換装置の駆動や信号を読み出す為の半導体素子からなる電子部品及び電気回路基板が備わる半導体装置において、前記半導体素子からなる電子部品に形成される回路に接続されないスルー配線が設けられ、前記スルー配線の一方は前記光電変換装置と、また、もう一方は前記電気回路基板と接続されている。
【選択図】 図1
【解決手段】複数個の光電変換素子と信号転送素子を有する画像が二次元的に配列された光電変換装置と前記光電変換装置の駆動や信号を読み出す為の半導体素子からなる電子部品及び電気回路基板が備わる半導体装置において、前記半導体素子からなる電子部品に形成される回路に接続されないスルー配線が設けられ、前記スルー配線の一方は前記光電変換装置と、また、もう一方は前記電気回路基板と接続されている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大面積プロセスを用いて形成する半導体装置に係わり、例えば、液晶テレビ・液晶プロジェクター等の薄膜トランジスタを用いた表示装置やファクシミリ・デジタルコピーあるいはX線撮像装置等の光電変換素子に薄膜半導体を用いた等倍読み取り系の光電変換装置が備わる半導体装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】
従来、ファクシミリや複写機、スキャナあるいはX線撮像装置等の読み取り装置として、縮小光学系とCCD型センサーを組み合わせたシステムであった。しかしながら、近年になり水素化アモルファスシリコン(以下a−Siと記す)に代表される光電変換半導体材料の開発により、光電変換素子及び信号処理部を大面積の基板に形成し、情報源と等倍の光学系で読み取る密着型センサーの開発が進んでいる。
【0003】
特にa−Siは光電変換材料としてだけでなく、薄膜電界効果型トランジスタ(以下TFTと記す)の半導体材料としても用いることができるので光電変換半導体層とTFTの半導体層と同時に形成することができる利点を有している。
【0004】
以下、従来技術について図を用いて説明する。図3は従来の半導体装置である光電変換装置を用いた放射線撮像装置におけるの模式的回路図である。図4(A)(B)(C)は従来の放射線撮像装置の概略の構成図であり、11図(A)は模式的平面図、図4(B)及び(C)はそれぞれ図4(A)のA−−−A’の模式的断面図、B−−−B’の模式的断面図である。
【0005】
尚、図3は、説明を簡潔にするため、放射線可視光変換装置、読出し装置については、不図示の部分があり、詳細図示していない。
【0006】
図3に示すように光電変換装置:100には、二次元的に画素が配列されていて画素はフォトダイオード等からなる光電変換素子と薄膜トランジスタ(TFT)等による信号転送素子から構成されている。フォトダイオードのカソード電極はバイアスラインVsに接続されバイアス電圧が印加されている。TFTのソース電極はデータラインSigNに、ゲート電極はゲートラインVgNにそれぞれ接続されている。この例において光電変換装置の駆動及び光電変換素子は得た画像信号を読み出すのに必要な配線は、バイアスライン、ゲートライン、データラインである。またフォトダイオードのアノード電極とTFTのドレイン電極は各画素で相互に接続されている。この例ではバイアスラインとデータラインは垂直上方向、ゲートラインは水平左方向に引き回され、光電変換装置の各々一辺に引き出される。更に、バイアスラインとデータラインは読み出し回路の電子部品が実装されたTCP:500を経由して駆動読み出し装置:300の光電変換素子制御信号読出し回路部:311に接続さている。またゲートラインは光電変換装置上のTFT駆動回路の電子部品に接続されており、光電変換基板:100上の電子部品に必要な電源や制御信号は外部のTFT駆動制御回路部と配線部材:400により接続され得ている。
【0007】
次に図4(A)〜(C)を用いて本従来例における構成を説明する。
【0008】
光電変換装置:100の光電変換素子や信号転送素子及び配線は、ガラス基板からなる光電変換基板:101上に薄膜半導体プロセスによって作製されている。
【0009】
電気回路基板からなる読み出し装置:300は、配線パターンが形成されたPCB(Print Circuit Board)等の電気回路基板:301上に、光電変換素子を駆動させる為の各種電位等を作る電源回路、その電源を制御する為の制御回路、光電変換素子からの信号を受取る信号処理回路(A/D変換など)等が備わっている。前記回路は、半導体素子からなる各種アンプIC、各種ロジックIC、レギュレータIC等の電子部品:303からなり、PCB上に搭載されている。また、前述の一部の回路を形成する電子部品(ICチップ等)をフレキシブル配線板上に実装した実装部品付フレキのTCP:500を光電変換装置:100と読み取り装置:300の接続に用い、TCP:500の読取装置:300側の電気接続本数を軽減し作製を容易にしている。
【0010】
もう一辺の電気回路であるTFT駆動用回路(シフトレジスタ)は、光電変換基板:100上の電子回路部品:302からなり、回路を形成したICチップをCOG(Chip On Glass)方式で光電変換基板:100上に実装し電気的に接続している。また、光電変換基板上に実装された電子部品:302への電源や制御配線は光電変換変換基板上に共通化されて引き回され各々に分配される。更に、光電変換基板外部との接続にはフレキシブル配線板等の配線部材:400を異方性導電膜などを用いて接着接続し引き出され外部の電源や制御回路に接続される。
【0011】
更に、光電変換装置:100の上には画素領域:109を覆うように、X線を可視光に変換するための蛍光板からなる放射線可視光変換装置:150が配置され、本従来例の放射線装置を構成している。
【0012】
このような本従来例の放射線撮像装置は、蛍光板へ入射したX線を可視光に変換し、変換された可視光が光電変換装置:100の光電変換素子に入射し電気信号として蓄積され光電変換される。光電変換された信号は、信号転送素子によってTCP:500上の電子部品に転送し電子部品のAmp回路にて信号増幅され、更に、読出し装置:300に送られる。読み出し装置300に送られた増幅信号は、更に、A/D変換等の回路で信号処理されX線画像データをデジタルデータとして得ることができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
このような、図3及び図4(A)〜図4Cの従来の放射線装置は、図4Cのように光電変換基板:100上に電子部品をCOG方式により実装し、更に電子部品の接続端子郡を光電変換基板:100上の接続端子郡と対向するように配置して一括に接続するFaceDownとすることで、接続にかかる工数や部品コストを低減している。
【0014】
しかながら、光電変換装置:100と駆動読み出し装置:300などの外部回路基板との接続には、配線のみの為の部材の配線部材:400及び高価なTCP:500により接続されておいる。
【0015】
更に、ノイズによる画像品位の低下を防ぐため配線部材やTCPには、シールド材を別途必要としコスト高を招いている。
【0016】
また、光電変換基板上の電子部品への共通電源や制御線の配線を光電変換基板上に形成できるため、光電変換装置の外部への接続端子数、即ち配線部材:400との接続端子を減らすことで作製を容易にしており、同様に図4BのTCP:500上の電子部品:303を光電変換基板:101上に実装できれば、更なる工数の低減並びに作製を容易にすることが可能である。
【0017】
しかしながら、TCP:500上の電子部品:303は、光電変換素子からの非常に微弱な信号を扱うため、低ノイズで高階調のA/D変換ができるレベルのアナログ信号の増幅しなければならない。そのため、Amp回路を形成するトランジスタ素子のサイズが大きく、光電変換基板上の電子品:302のTFT駆動用のシフトレジスタ回路を形成するICチップサイズに比べ非常に大きく、256ラインのデータラインを扱うICチップのサイズは約10mm×20mm程度になってしまう。そのため、光電変換変換基板上に配置し実装すると光電変換基板が大きくなってしまうという問題が生じ、装置の大型化を招く。
【0018】
また、非常に高倍率の信号増幅を行うため、各チップへの供給電源電圧の微妙なばらつきがチップ間の特性差となって現れ画像品位を低下させたり、による配線配線のインピーダンスのばらつきを抑制する必要がある。しかしながら、薄膜プロセスを用いる光電変換基板上の配線の低抵抗化が必要であるが厚膜化するには光電変換装置のコストが高くなってしまう。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を解決するため、本出願に係わる発明は、複数個の光電変換素子と信号転送素子を有する画素が二次元的に配列された光電変換装置と前記光電変換装置の駆動や信号を読み出す為の半導体素子からなる電子部品及び電気回路基板が備わる半導体装置において、前記半導体素子からなる電子部品に形成される回路に接続されないスルー配線が設けられ、前記スルー配線の一方は前記光電変換装置と、また、もう一方は前記電気回路基板と接続されていることを特徴とする。
【0020】
また、前記光電変換装置と前記電気回路基板とが前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品のみで接続されていることを特徴とする。
【0021】
また、前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品にはアナログ信号を増幅するAmp回路が形成されていることを特徴とする。
【0022】
また、前記光電変換装置と前記駆動読出し装置は、各々の接続端子が形成される面を同一平面に配置し、前記光電変換素子と前記駆動読出し装置とを接続する前記電子部品が前記光電変換装置と前記駆動読出し装置の双方の上に近接して配置されることを特徴とする。
【0023】
また、前記光電変換装置と前記駆動読出し装置との接続が前記光電変換装置並びに前記電気回路基板に設けられた各々の接続端子と対向配置された前記スルー配線が形成された半導体素子からなる電子部品の接続端子との接続により接続されることを特徴とする。
【0024】
【発明の実施の形態】
図1及び図2(A)〜(C)は本発明、第1の実施例を示す半導体装置であり、図1は本実施例の放射線撮像装置におけるの模式的回路図である。また、図4(A)(B)(C)は本実施例の放射線撮像装置の概略の構成図であり、11図(A)は模式的平面図、図4(B)及び(C)はそれぞれ図4(A)のA−−−A’の模式的断面図、B−−−B’の模式的断面図である。
【0025】
尚、図1は、説明を簡潔にするため、放射線可視光変換装置、読出し装置については、不図示の部分があり、詳細図示していない。
【0026】
尚、前述の従来例の説明に用いた図3及び図4(A)、(B)及び(C)と同一または同等のものには、同一番号を付し、説明を簡略あるいは省略する。
【0027】
図1において、光電変換装置:10には、従来例と同様に二次元的に画素が配列されていて画素領域:109を形成している。また同様に、バイアスラインVsとデータラインSigNは垂直上方向、ゲートラインVgNは水平左方向に引き回され、光電変換装置の各々一辺に引き出される。
【0028】
本実施例において、SigNと接続される電子部品:303からなるAmp回路は、光電変換装置1と駆動読み出し装置:30の双方に重なり跨ぐような領域になっている。
【0029】
また、光電変換基板:11上の電子部品:302に必要な電源や制御信号、更にバイアスラインVsは、電子部品:303に設けられたスルー配線:313を経由し駆動読み出し装置:30のTFT駆動制御回路部:312、Vs用電源回路にそれぞれ接続され得ている。
【0030】
スルー配線:313は、半導体チップである電子部品:303上にAmp回路とは寄与や接続されない別の配線である。本実施例では、半導体チップに形成されたAmp回路の両脇に1ラインづつの計2ライン形成し、電子部品:302に必要な電源や制御信号、バイアスラインVsの光電変換装置:10と外部回路基板である駆動読み出し装置:30との接続配線としている。
【0031】
次に、図2(A)〜(C)において、本実施例の構成を説明する。
【0032】
従来例と同様の光電変換装置:10、光電変換装置上に配置される放射線可視光変換装置:150、電気回路基板からなる駆動読み出し装置:30、TFT駆動用回路(シフトレジスタ)等を形成する電子部品:302、光電変換素子を駆動させる為の各種電位等を作る電源回路、その電源を制御する為の制御回路、光電変換素子からの信号を受取る信号処理回路(A/D変換など)等を形成する電子部品:303からなっている。
【0033】
図2(B)で明らかなように本実施例の放射線撮像装置は、光電変換装置:10と駆動読み取り装置:30との接続を電子部品:303でのみ行っている。
光電変換装置:10を構成する光電変換基板:11と駆動読み取り装置:30を構成する電気回路基板:31上に電子部品:303が跨るように配置され、光電変換基板:11並びに電気回路基板:31に設けられた各々の接続端子と対向配置された電子部品:303の接続端子を異方性導電膜等を用い加熱接着により接続されている。
【0034】
光電変換装置:10と駆動読出し装置:30は、各々の接続端子が形成される面を同一平面に配置し、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303が光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置されている。また、光電変換基板:11上のTFT駆動回路の電子部品:302に必要な電源や制御信号は駆動読み出し装置:30にTFT駆動制御回路を形成し、前述の光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303内に形成されたスルー配線:313により接続され得ている。
【0035】
以上説明したように、本実施例の放射線撮像装置は、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続を光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303のみで接続できるため他の配線部材を必要とせず、部材や接続工数を削減できた。
【0036】
また、光電変換基板:11に接続する電子部品:303の全体を光電変換基板:11上に配置せずに済むため光電変換装置:10を大きくすることなく、接続にかかる工数や部品コストを低減することができる。更に、光電変換基板基板:11と接続されている電子部品:303への電源供給は、低抵抗配線が容易なPCB上の配線で行うため電位が安定した電源の分配ができ電子部品の特性差が発生せず高画質の画像が得られる。
【0037】
尚、本実施例では、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続を光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303で行ったが、スルー配線:312を形成した電子部品:303を従来例の用にTCPの形態に実装し電子部品を搭載したTCPのみで光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続をすることもできる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、光電変換基板を大きくすることなく実装部品やコストの削減ができ、且つ、安定した高画質の放射線撮像装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の模式的回路図である。
【図2】(A) 本発明の模式的平面図である。
(B) 本発明の図2(A)A−−−A’部の模式的断面図である。
(C) 本発明の図2(A)B−−−B’部の模式的断面図である。
【図3】従来例の模式的回路図である。
【図4】(A) 従来例の模式的平面図である。
(B) 従来例の図4(A)A−−−A’部の模式的断面図である。
(C) 従来例の図4(A)B−−−B’部の模式的断面図である。
【符号の説明】
10,100 光電変換装置
30,300 駆動読み出し装置(電気回路基板)
150 放射線可視光変換装置
302,303 半導体からなる電子部品
400 配線部材
【発明の属する技術分野】
本発明は、大面積プロセスを用いて形成する半導体装置に係わり、例えば、液晶テレビ・液晶プロジェクター等の薄膜トランジスタを用いた表示装置やファクシミリ・デジタルコピーあるいはX線撮像装置等の光電変換素子に薄膜半導体を用いた等倍読み取り系の光電変換装置が備わる半導体装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】
従来、ファクシミリや複写機、スキャナあるいはX線撮像装置等の読み取り装置として、縮小光学系とCCD型センサーを組み合わせたシステムであった。しかしながら、近年になり水素化アモルファスシリコン(以下a−Siと記す)に代表される光電変換半導体材料の開発により、光電変換素子及び信号処理部を大面積の基板に形成し、情報源と等倍の光学系で読み取る密着型センサーの開発が進んでいる。
【0003】
特にa−Siは光電変換材料としてだけでなく、薄膜電界効果型トランジスタ(以下TFTと記す)の半導体材料としても用いることができるので光電変換半導体層とTFTの半導体層と同時に形成することができる利点を有している。
【0004】
以下、従来技術について図を用いて説明する。図3は従来の半導体装置である光電変換装置を用いた放射線撮像装置におけるの模式的回路図である。図4(A)(B)(C)は従来の放射線撮像装置の概略の構成図であり、11図(A)は模式的平面図、図4(B)及び(C)はそれぞれ図4(A)のA−−−A’の模式的断面図、B−−−B’の模式的断面図である。
【0005】
尚、図3は、説明を簡潔にするため、放射線可視光変換装置、読出し装置については、不図示の部分があり、詳細図示していない。
【0006】
図3に示すように光電変換装置:100には、二次元的に画素が配列されていて画素はフォトダイオード等からなる光電変換素子と薄膜トランジスタ(TFT)等による信号転送素子から構成されている。フォトダイオードのカソード電極はバイアスラインVsに接続されバイアス電圧が印加されている。TFTのソース電極はデータラインSigNに、ゲート電極はゲートラインVgNにそれぞれ接続されている。この例において光電変換装置の駆動及び光電変換素子は得た画像信号を読み出すのに必要な配線は、バイアスライン、ゲートライン、データラインである。またフォトダイオードのアノード電極とTFTのドレイン電極は各画素で相互に接続されている。この例ではバイアスラインとデータラインは垂直上方向、ゲートラインは水平左方向に引き回され、光電変換装置の各々一辺に引き出される。更に、バイアスラインとデータラインは読み出し回路の電子部品が実装されたTCP:500を経由して駆動読み出し装置:300の光電変換素子制御信号読出し回路部:311に接続さている。またゲートラインは光電変換装置上のTFT駆動回路の電子部品に接続されており、光電変換基板:100上の電子部品に必要な電源や制御信号は外部のTFT駆動制御回路部と配線部材:400により接続され得ている。
【0007】
次に図4(A)〜(C)を用いて本従来例における構成を説明する。
【0008】
光電変換装置:100の光電変換素子や信号転送素子及び配線は、ガラス基板からなる光電変換基板:101上に薄膜半導体プロセスによって作製されている。
【0009】
電気回路基板からなる読み出し装置:300は、配線パターンが形成されたPCB(Print Circuit Board)等の電気回路基板:301上に、光電変換素子を駆動させる為の各種電位等を作る電源回路、その電源を制御する為の制御回路、光電変換素子からの信号を受取る信号処理回路(A/D変換など)等が備わっている。前記回路は、半導体素子からなる各種アンプIC、各種ロジックIC、レギュレータIC等の電子部品:303からなり、PCB上に搭載されている。また、前述の一部の回路を形成する電子部品(ICチップ等)をフレキシブル配線板上に実装した実装部品付フレキのTCP:500を光電変換装置:100と読み取り装置:300の接続に用い、TCP:500の読取装置:300側の電気接続本数を軽減し作製を容易にしている。
【0010】
もう一辺の電気回路であるTFT駆動用回路(シフトレジスタ)は、光電変換基板:100上の電子回路部品:302からなり、回路を形成したICチップをCOG(Chip On Glass)方式で光電変換基板:100上に実装し電気的に接続している。また、光電変換基板上に実装された電子部品:302への電源や制御配線は光電変換変換基板上に共通化されて引き回され各々に分配される。更に、光電変換基板外部との接続にはフレキシブル配線板等の配線部材:400を異方性導電膜などを用いて接着接続し引き出され外部の電源や制御回路に接続される。
【0011】
更に、光電変換装置:100の上には画素領域:109を覆うように、X線を可視光に変換するための蛍光板からなる放射線可視光変換装置:150が配置され、本従来例の放射線装置を構成している。
【0012】
このような本従来例の放射線撮像装置は、蛍光板へ入射したX線を可視光に変換し、変換された可視光が光電変換装置:100の光電変換素子に入射し電気信号として蓄積され光電変換される。光電変換された信号は、信号転送素子によってTCP:500上の電子部品に転送し電子部品のAmp回路にて信号増幅され、更に、読出し装置:300に送られる。読み出し装置300に送られた増幅信号は、更に、A/D変換等の回路で信号処理されX線画像データをデジタルデータとして得ることができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
このような、図3及び図4(A)〜図4Cの従来の放射線装置は、図4Cのように光電変換基板:100上に電子部品をCOG方式により実装し、更に電子部品の接続端子郡を光電変換基板:100上の接続端子郡と対向するように配置して一括に接続するFaceDownとすることで、接続にかかる工数や部品コストを低減している。
【0014】
しかながら、光電変換装置:100と駆動読み出し装置:300などの外部回路基板との接続には、配線のみの為の部材の配線部材:400及び高価なTCP:500により接続されておいる。
【0015】
更に、ノイズによる画像品位の低下を防ぐため配線部材やTCPには、シールド材を別途必要としコスト高を招いている。
【0016】
また、光電変換基板上の電子部品への共通電源や制御線の配線を光電変換基板上に形成できるため、光電変換装置の外部への接続端子数、即ち配線部材:400との接続端子を減らすことで作製を容易にしており、同様に図4BのTCP:500上の電子部品:303を光電変換基板:101上に実装できれば、更なる工数の低減並びに作製を容易にすることが可能である。
【0017】
しかしながら、TCP:500上の電子部品:303は、光電変換素子からの非常に微弱な信号を扱うため、低ノイズで高階調のA/D変換ができるレベルのアナログ信号の増幅しなければならない。そのため、Amp回路を形成するトランジスタ素子のサイズが大きく、光電変換基板上の電子品:302のTFT駆動用のシフトレジスタ回路を形成するICチップサイズに比べ非常に大きく、256ラインのデータラインを扱うICチップのサイズは約10mm×20mm程度になってしまう。そのため、光電変換変換基板上に配置し実装すると光電変換基板が大きくなってしまうという問題が生じ、装置の大型化を招く。
【0018】
また、非常に高倍率の信号増幅を行うため、各チップへの供給電源電圧の微妙なばらつきがチップ間の特性差となって現れ画像品位を低下させたり、による配線配線のインピーダンスのばらつきを抑制する必要がある。しかしながら、薄膜プロセスを用いる光電変換基板上の配線の低抵抗化が必要であるが厚膜化するには光電変換装置のコストが高くなってしまう。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を解決するため、本出願に係わる発明は、複数個の光電変換素子と信号転送素子を有する画素が二次元的に配列された光電変換装置と前記光電変換装置の駆動や信号を読み出す為の半導体素子からなる電子部品及び電気回路基板が備わる半導体装置において、前記半導体素子からなる電子部品に形成される回路に接続されないスルー配線が設けられ、前記スルー配線の一方は前記光電変換装置と、また、もう一方は前記電気回路基板と接続されていることを特徴とする。
【0020】
また、前記光電変換装置と前記電気回路基板とが前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品のみで接続されていることを特徴とする。
【0021】
また、前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品にはアナログ信号を増幅するAmp回路が形成されていることを特徴とする。
【0022】
また、前記光電変換装置と前記駆動読出し装置は、各々の接続端子が形成される面を同一平面に配置し、前記光電変換素子と前記駆動読出し装置とを接続する前記電子部品が前記光電変換装置と前記駆動読出し装置の双方の上に近接して配置されることを特徴とする。
【0023】
また、前記光電変換装置と前記駆動読出し装置との接続が前記光電変換装置並びに前記電気回路基板に設けられた各々の接続端子と対向配置された前記スルー配線が形成された半導体素子からなる電子部品の接続端子との接続により接続されることを特徴とする。
【0024】
【発明の実施の形態】
図1及び図2(A)〜(C)は本発明、第1の実施例を示す半導体装置であり、図1は本実施例の放射線撮像装置におけるの模式的回路図である。また、図4(A)(B)(C)は本実施例の放射線撮像装置の概略の構成図であり、11図(A)は模式的平面図、図4(B)及び(C)はそれぞれ図4(A)のA−−−A’の模式的断面図、B−−−B’の模式的断面図である。
【0025】
尚、図1は、説明を簡潔にするため、放射線可視光変換装置、読出し装置については、不図示の部分があり、詳細図示していない。
【0026】
尚、前述の従来例の説明に用いた図3及び図4(A)、(B)及び(C)と同一または同等のものには、同一番号を付し、説明を簡略あるいは省略する。
【0027】
図1において、光電変換装置:10には、従来例と同様に二次元的に画素が配列されていて画素領域:109を形成している。また同様に、バイアスラインVsとデータラインSigNは垂直上方向、ゲートラインVgNは水平左方向に引き回され、光電変換装置の各々一辺に引き出される。
【0028】
本実施例において、SigNと接続される電子部品:303からなるAmp回路は、光電変換装置1と駆動読み出し装置:30の双方に重なり跨ぐような領域になっている。
【0029】
また、光電変換基板:11上の電子部品:302に必要な電源や制御信号、更にバイアスラインVsは、電子部品:303に設けられたスルー配線:313を経由し駆動読み出し装置:30のTFT駆動制御回路部:312、Vs用電源回路にそれぞれ接続され得ている。
【0030】
スルー配線:313は、半導体チップである電子部品:303上にAmp回路とは寄与や接続されない別の配線である。本実施例では、半導体チップに形成されたAmp回路の両脇に1ラインづつの計2ライン形成し、電子部品:302に必要な電源や制御信号、バイアスラインVsの光電変換装置:10と外部回路基板である駆動読み出し装置:30との接続配線としている。
【0031】
次に、図2(A)〜(C)において、本実施例の構成を説明する。
【0032】
従来例と同様の光電変換装置:10、光電変換装置上に配置される放射線可視光変換装置:150、電気回路基板からなる駆動読み出し装置:30、TFT駆動用回路(シフトレジスタ)等を形成する電子部品:302、光電変換素子を駆動させる為の各種電位等を作る電源回路、その電源を制御する為の制御回路、光電変換素子からの信号を受取る信号処理回路(A/D変換など)等を形成する電子部品:303からなっている。
【0033】
図2(B)で明らかなように本実施例の放射線撮像装置は、光電変換装置:10と駆動読み取り装置:30との接続を電子部品:303でのみ行っている。
光電変換装置:10を構成する光電変換基板:11と駆動読み取り装置:30を構成する電気回路基板:31上に電子部品:303が跨るように配置され、光電変換基板:11並びに電気回路基板:31に設けられた各々の接続端子と対向配置された電子部品:303の接続端子を異方性導電膜等を用い加熱接着により接続されている。
【0034】
光電変換装置:10と駆動読出し装置:30は、各々の接続端子が形成される面を同一平面に配置し、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303が光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置されている。また、光電変換基板:11上のTFT駆動回路の電子部品:302に必要な電源や制御信号は駆動読み出し装置:30にTFT駆動制御回路を形成し、前述の光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303内に形成されたスルー配線:313により接続され得ている。
【0035】
以上説明したように、本実施例の放射線撮像装置は、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続を光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303のみで接続できるため他の配線部材を必要とせず、部材や接続工数を削減できた。
【0036】
また、光電変換基板:11に接続する電子部品:303の全体を光電変換基板:11上に配置せずに済むため光電変換装置:10を大きくすることなく、接続にかかる工数や部品コストを低減することができる。更に、光電変換基板基板:11と接続されている電子部品:303への電源供給は、低抵抗配線が容易なPCB上の配線で行うため電位が安定した電源の分配ができ電子部品の特性差が発生せず高画質の画像が得られる。
【0037】
尚、本実施例では、光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続を光電変換装置:10と駆動読出し装置:30の双方の上に近接して配置された光電変換装置:10と駆動読出し装置:30とを接続する電子部品:303で行ったが、スルー配線:312を形成した電子部品:303を従来例の用にTCPの形態に実装し電子部品を搭載したTCPのみで光電変換装置:10と駆動読出し装置:30との接続をすることもできる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、光電変換基板を大きくすることなく実装部品やコストの削減ができ、且つ、安定した高画質の放射線撮像装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の模式的回路図である。
【図2】(A) 本発明の模式的平面図である。
(B) 本発明の図2(A)A−−−A’部の模式的断面図である。
(C) 本発明の図2(A)B−−−B’部の模式的断面図である。
【図3】従来例の模式的回路図である。
【図4】(A) 従来例の模式的平面図である。
(B) 従来例の図4(A)A−−−A’部の模式的断面図である。
(C) 従来例の図4(A)B−−−B’部の模式的断面図である。
【符号の説明】
10,100 光電変換装置
30,300 駆動読み出し装置(電気回路基板)
150 放射線可視光変換装置
302,303 半導体からなる電子部品
400 配線部材
Claims (5)
- 複数個の光電変換素子と信号転送素子を有する画素が二次元的に配列された光電変換装置と前記光電変換装置の駆動や信号を読み出す為の半導体素子からなる電子部品及び電気回路基板が備わる半導体装置において、前記半導体素子からなる電子部品に形成される回路に接続されないスルー配線が設けられ、前記スルー配線の一方は前記光電変換装置と、また、もう一方は前記電気回路基板と接続されていることを特徴とする半導体装置。
- 前記光電変換装置と前記電気回路基板とが前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品のみで接続されていることを特徴とする半導体装置。
- 前記スルー配線が形成された半導体からなる電子部品にはアナログ信号を増幅するAmp回路が形成されていることを特徴とする請求項1及び2記載の半導体装置
- 前記光電変換装置と前記駆動読出し装置は、各々の接続端子が形成される面を同一平面に配置し、前記光電変換素子と前記駆動読出し装置とを接続する前記電子部品が前記光電変換装置と前記駆動読出し装置の双方の上に近接して配置されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置半導体装置。
- 前記光電変換装置と前記駆動読出し装置との接続が前記光電変換装置並びに前記電気回路基板に設けられた各々の接続端子と対向配置された前記スルー配線が形成された半導体素子からなる電子部品の接続端子との接続により接続されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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WO2009066556A1 (ja) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 放射線検出装置 |
JP2011091175A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像撮影装置 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009066556A1 (ja) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | 放射線検出装置 |
JP2009122058A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Toshiba Corp | 放射線検出装置 |
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JP2011091175A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 放射線画像撮影装置 |
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