JP2004164815A - 強誘電体メモリ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】高集積回路でデータバスの容量負荷を最小化し、これによって高速のFRAMを具現することができる。
【解決手段】強誘電体メモリ装置は、カラム選択制御部と連結されたメインビットライン、及びそれぞれ両端でメインビットラインと連結され複数の単位セルが連結された複数のサブビットラインを含むセルアレイブロック、カラム選択制御部と連結されるデータバス部、及びデータバス部に連結されたセンスアンプデータバスとデータ入/出力バッファとの間に連結されたセンスアンプアレイを含む制御回路部を含む。複数のセルアレイブロックは格子状に配置され、制御回路部はメインビットラインに平行した長手方向に配置されてセルアレイブロック等を二等分し、データバス部はメインビットラインに垂直の長手方向に配置されセルアレイブロック等を二等分する。
【選択図】図5

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、強誘電体メモリ装置に関し、特に、チップの集積度を向上させ信号の遅延要素を最少化するため、セルアレイ及び周辺制御回路等を効率的に配置する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、強誘電体メモリ、すなわち、FRAM(Ferroelectric Random Access Memory)はDRAM(Dynamic Random Access Memory)程度のデータ処理速度を有し、電源のオフ(Off)時にもデータが保存される特性のため次世代記憶素子として注目されている(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3及び特許文献4参照。)。
【0003】
FRAMは、DRAMと殆ど類似した構造を有する記憶素子であり、キャパシタの材料に強誘電体を用いて強誘電体の特性である高い残留分極を利用したものである。このような残留分極特性により電界を除去してもデータが消失しない。
【0004】
図1は、強誘電体物質の特性を示すヒステリシスループである。図1に示されているように、電界により誘起された分極は電界を除去しても残留分極(又は自発分極)の存在により消滅せず、一定量(d、a状態)を維持していることが分かる。強誘電体メモリセルはd、a状態をそれぞれ1、0に対応させて記憶素子に応用したものである。
【0005】
図2は、従来の強誘電体メモリに用いられる単位セルを示す図である。図2に示されているように、一方向にビットラインBLが形成され、ビットラインと交差する方向にワードラインWLが形成され、ワードラインに一定の間隔を置いてワードラインと同一の方向にプレートラインPLが形成され、ゲートはワードラインに連結され、ソースはビットラインに連結されるようトランジスタT1が形成され、2つの端子のうち第1の端子がトランジスタT1のドレインに連結され、第2の端子はプレートラインに連結されるよう強誘電体キャパシタFC1が形成される。
【0006】
図3は、図2に示した強誘電体メモリ素子のライトモード(Write Mode)の動作を示すタイミング図である。
外部から印加されるチップイネーブル信号(CSBpad)がハイ(High)からロー(Low)に活性化され、同時にライトイネーブル信号(WEBpad)をハイからローに印加するとライトモードが始まる。次に、ライトモードでアドレスディコーディングが始まると該当ワードラインに印加されるパルスが「ロー」から「ハイ」に遷移してセルが選択される。
選択されたセルにロジック値「1」を書き込むためにはビットラインに「ハイ」信号を印加しプレートラインには「ロー」信号を印加し、セルにロジック値「0」を書き込むためにはビットラインに「ロー」信号を印加しプレートラインには「ハイ」信号を印加する。
【0007】
図4は、図2に示した強誘電体メモリ素子のリードモード(Read Mode)の動作を示すタイミング図である。外部からチップイネーブル信号(CSBpad)を「ハイ」から「ロー」に活性化させると、該当ワードラインが選択される以前に全てのビットラインはイコライズ信号により「ロー」電圧に等電位化される。
【0008】
そして、各ビットラインを非活性化させた後アドレスをディコーティングし、ディコーディングされたアドレスにより該当ワードラインでは「ロー」信号が「ハイ」信号に遷移されて該当セルを選択する。選択されたセルのプレートラインに「ハイ」信号を印加し、強誘電体メモリに貯蔵されたロジック値「1」に相応するデータQsを破壊する。若し、強誘電体メモリにロジック値「0」が貯蔵されていれば、それに相応するデータQnsは破壊されない。
【0009】
このように破壊されたデータと破壊されないデータは、前述のヒステリシスループの原理により互いに異なる値を出力することになり、センスアンプはロジック値「1」又は「0」を感知することになる。データが破壊された場合は図1のヒステリシスループでのようにdからfに変更された場合に該当し、データが破壊されない場合はaからfに変化する場合に該当する。
【0010】
一定時間が経過した後センスアンプがイネーブルされると、データが破壊された場合は増幅されてロジック値「1」を出力し、データが破壊されない場合は増幅されてロジック値「0」を出力する。このように、センスアンプでデータを増幅した後は元のデータが損傷されるので、該当ワードラインに「ハイ」信号を印加した状態でプレートラインを「ハイ」から「ロー」に非活性化させることにより元のデータを復元する。
【0011】
【特許文献1】
米国特許第6,542,414号明細書
【特許文献2】
米国特許第6,538,929号明細書
【特許文献3】
米国特許第6,449,197号明細書
【特許文献4】
米国特許第6,438,029号明細書
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、高集積・高速のFRAMを具現するためにはセルアレイ及びその他の周辺回路等を効率的に配置する必要がある。
【0013】
本発明は、パッドアレイ、センスアンプアレイ、アドレスバッファ等の周辺回路等を格子状に配置されたセルアレイブロックの一対称線上に配置し、これと直角方向のさらに他の対称線上にデータバス部を配置してレイアウトの効率を極大化する。これにより、高集積回路におけるデータバスの容量負荷を最小化し、セルセンシングデータのセンスアンプへの伝達時間を短縮させて高速のFRAMを具現することに目的がある。
【0014】
本発明は、カラム選択信号を利用してリード・ライト動作時にセンスアンプを制御することによりリストア(restore)及びデータライト動作が効率的に行われるようにすることにさらに他の目的がある。
【0015】
本発明は、セル動作に関連したVpp関連回路を小容量のゲート制御関連Vpp回路と大容量のVppポンプ回路に分類し、これらを効率的に配置して各セルアレイブロック毎にVppが高速に供給できるようにすることにさらに他の目的がある。
【0016】
本発明は、工程マージン及び信号伝達効率を増加させて必要な面積が最小となるようにするデータバス部とセルアレイブロックの連結部に対するレイアウトを提供することにさらに他の目的がある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る強誘電体メモリ装置は、カラム選択制御部と連結されたメインビットライン、及びそれぞれ両端で前記メインビットラインと連結され複数の単位セルが連結された複数のサブビットラインにビットラインが階層化されたセルアレイブロック、前記カラム選択制御部と連結されるデータバス部、及び前記データバス部に連結されたセンスアンプデータバスとデータ入/出力バッファとの間に連結されたセンスアンプアレイを含む制御回路部を含む。前記複数のセルアレイブロックはマトリクス状に配置され、前記制御回路部は前記メインビットラインに平行した長手方向に前記セルアレイブロック等の一対称線上に配置され、前記データバス部は前記メインビットラインに垂直の長手方向に前記セルアレイブロック等のさらに他の対称線上に配置されることを特徴とする。
【0018】
前記データバス部に含まれた複数のデータバスラインは、前記センスアンプデータバスに含まれた複数の前記センスアンプデータバスラインと一対一に連結されることを特徴とする。
【0019】
前記強誘電体メモリ装置は、前記データバス部の中間部分に互いに隔離して連結された第1及び第2のスイッチ素子をさらに含み、前記センスアンプデータバスに含まれた複数の前記センスアンプデータバスラインは、前記第1及び第2のスイッチ素子の中間領域で前記データバス部に含まれた複数のデータバスラインと一対一に連結され、前記第1及び第2のスイッチ素子のオン・オフに従い前記データバス部の一側と電気的に連結されることを特徴とする。
【0020】
前記データバス部は、第1のデータバス部及び前記第1のデータバス部と遮断された第2のデータバス部で構成され、前記センスアンプデータバスは前記第1のデータバス部と連結される第1のセンスアンプデータバスと、前記第2のデータバス部と連結される第2のセンスアンプデータバスで構成され、前記それぞれのセンスアンプは前記第1のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスライン、又は前記第2のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインと選択的に連結されることを特徴とする。
【0021】
前記第1のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインと前記第2のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインは、それぞれ第1のスイッチ素子及び第2のスイッチ素子を経由し前記センスアンプと連結されることを特徴とする。
【0022】
前記センスアンプアレイは、それぞれ所定の個数のセンスアンプで構成された複数のサブセンスアンプアレイ、カラムアドレスビットを受信し前記所定のサブセンスアンプアレイに含まれたセンスアンプにのみ共通の制御信号を提供する複数のローカルコントローラ、及び前記センスアンプアレイに含まれた全てのセンスアンプに共通の制御信号を提供するグローバルコントローラを含むことを特徴とする。
【0023】
前記センスアンプは、前記センスアンプデータバスラインと連結されたデータラインをプルアップするデータラインプルアップ制御部、リード動作時には前記データラインに提供されたデータを増幅して貯蔵し、ライト動作時には入/出力バッファから提供されたデータを増幅して貯蔵する増幅部、及びライト動作時には前記増幅部に貯蔵されたデータを前記データラインに提供し、リード動作時には増幅部に貯蔵されたデータを前記入/出力バッファ及び前記データラインに提供する入/出力制御部を含むことを特徴とする。
【0024】
前記増幅部は、前記データラインの信号と前記レファレンス信号を比較し前記データラインの信号が前記レファレンス信号より大きいときハイレベルの出力を有する第1の比較部、前記データラインの信号と前記レファレンス信号を比較するが、前記第1の比較部の出力と逆レベルの出力を有する第2の比較部、及び前記第1の比較部の出力端子と第1のトランスミッションゲートを経由して連結された第1の入力端子、及び前記第2の比較部の出力端子と第2のトランスミッションゲートを経由して連結された第2の入力端子を有し、前記第1及び第2の入力端子に提供された信号を貯蔵する貯蔵部を含み、前記第1の比較部、第2の比較部、第1のトランスミッションゲート、第2のトランスミッションゲート、及び貯蔵部は前記グローバルコントローラにより制御されることを特徴とする。
【0025】
前記増幅部は、前記第1の比較部の出力端子と前記第2の比較部の出力端子との間に連結されたスイッチをさらに含み、前記スイッチはグローバルコントローラにより制御されることを特徴とする。
【0026】
前記増幅部は、前記データラインをプルアップする場合前記第1の比較部の出力端子をプルアップするPMOSトランジスタをさらに含むことを特徴とする。
【0027】
前記入/出力制御部は、前記入/出力バッファから入力されたデータ及び前記入力されたデータの相補値(complementary value)をそれぞれ前記貯蔵部の第1及び第2の入力端子に提供する第1の経路、前記貯蔵部の第2の入力端子の値を出力する第2の経路、前記第2の経路から出力された値を前記入/出力バッファに提供する第3の経路、及び前記第2の経路から出力された値を前記データラインに提供する第4の経路を含み、前記第1の経路、第2の経路、及び第3の経路は前記ローカルコントローラにより制御され、前記第4の経路は前記グローバルコントローラにより制御されることを特徴とする。
【0028】
前記セルアレイブロックは、第1の制御信号により前記メインビットラインをプルアップさせるメインビットラインプルアップ制御部、及び前記メインビットラインプルアップ制御部と前記カラム選択制御部との間に連結されたセルアレイを含むことを特徴とする。
【0029】
前記セルアレイは、陽の電源と前記メインビットラインとの間に連結され第2の制御信号により電流の流れを制御するメインビットライン負荷制御部、前記メインビットラインプルアップ制御部と前記カラム選択制御部との間に一列に配列され、それぞれの両端で前記メインビットラインと連結される複数のサブセルブロックを含むことを特徴とする。
【0030】
前記メインビットラインプルアップ制御部は、ゲートに前記第1の制御信号が入力され、ソースが陽の電源と連結され、ドレインが前記メインビットラインに連結されたPMOSトランジスタであることを特徴とする。
【0031】
前記メインビットライン負荷制御部は、前記メインビットライン毎に1つずつ連結されることを特徴とする。
【0032】
前記メインビットライン負荷制御部は、前記メインビットライン毎に複数が連結され前記所定の個数のサブセルブロック毎に均一に配置されることを特徴とする。
【0033】
前記サブセルブロックは、ゲートに前記サブビットラインの第1端が連結され、ドレインが前記メインビットラインに連結された電流調節用第1のNMOSトランジスタ、ゲートに第3の制御信号が連結され、ドレインが前記第1のNMOSトランジスタのソースに連結され、ソースが接地されている第2のNMOSトランジスタ、ゲートに第4の制御信号が連結され、ドレインが前記サブビットラインの第2端に連結され、ソースが接地されている第3のNMOSトランジスタ、ゲートに第5の制御信号が連結され、ソースが前記サブビットラインの第2端に連結され、ドレインが第6の制御信号に連結される第4のNMOSトランジスタ、及びゲートに第7の制御信号が連結され、ドレインが前記メインビットラインに連結され、ソースが前記サブビットラインの第2端に連結される第5のNMOSトランジスタを含むことを特徴とする。
【0034】
前記カラム選択制御部と前記データバス部の連結部分は、ソースに前記メインビットラインが連結され、ドレインに第1の共有レイヤが連結された前記カラム選択制御部が存在する第1階層、前記第1の共有レイヤと前記データバス部のデータバスラインを連結する第2の共有レイヤが存在する第2階層、及び前記データバス部が存在する第3階層を含み、前記第1〜第3階層は下から上に層状構造を有するよう形成されていることを特徴とする。
【0035】
前記強誘電体メモリ装置は、第1Vppポンプ回路、及びそれぞれ前記第1のVppポンプ回路からVppを提供され前記セルアレイブロックに駆動電圧を提供する複数のVpp駆動回路をさらに含み、第1のVppポンプ回路は前記制御回路部の両端で前記Vpp駆動回路と隣接するよう配置され、前記複数のVpp駆動回路は前記第1のVppポンプ回路に対称に前記セルアレイブロック毎に複数が配置されることを特徴とする。
【0036】
前記Vpp駆動回路は、ゲートVpp信号を発生させる第2のVppポンプ回路、ゲートに前記第2のVppポンプ回路から発生したゲートVpp信号が入力され、ソースにアドレスディコーダの出力信号が入力される第1のNMOSトランジスタ、ゲートに前記第1のNMOSトランジスタのドレインが連結され、ドレインには前記第1のVppポンプから出力されたVppが提供される第2のNMOSトランジスタ、及びゲートはプルダウン制御信号及びアドレスディコーダの出力信号により制御され、ソースは接地されており、ドレインは前記第2のNMOSトランジスタのソースと連結され、前記ドレインの電圧を駆動電圧として出力する第3のNMOSトランジスタを含むことを特徴とする。
【0037】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明に係る実施の形態に対し詳しく説明する。
図5は、本発明に係るFRAMに含まれた各構成要素等の配置図である。1つのチップ上には4個のセルアレイブロック300が2×2マトリクス状に配置される。第1列と第2列の間にはアドレス入力パッド、バッファ、ディコーダ、センスアンプアレイ等を含む制御回路部100が配置される。第1行と第2行の間にはデータバス部200が配置される。セルアレイブロック300のビットライン(図示省略)とデータバス部200に含まれたデータバスラインはカラム選択制御部310を介して連結される。
【0038】
図6は、図5に示した制御回路部100の詳細な構成を示す図である。
制御回路部100には、複数のセンスアンプを含むセンスアンプアレイ110、カラムアドレスが入力されるカラムアドレスパッド122、カラムアドレスを貯蔵するカラムアドレスバッファ121、カラムアドレスをディコーディングするカラムアドレスディコーダ120、ローアドレスが入力されるローアドレスパッド112、ローアドレスを貯蔵するローアドレスバッファ131、ローアドレスをディコーディングするローアドレスディコーダ130、データが入/出力されるI/Oパッド141、入/出力データを貯蔵するデータ入/出力バッファ140、及びチップの動作を制御するチップ制御部150を含む。
ローアドレスディコーダ130の出力信号は、ワードライン及びプレートライン駆動部320を制御しリード・ライト動作でワードライン及びプレートラインに駆動電圧を提供する。
【0039】
図7は、図5に示した制御回路部100に含まれたセンスアンプアレイ110と前記センスアンプアレイ110とデータバス部200を連結するセンスアンプデータバス160を示す図である。センスアンプアレイ110に含まれたそれぞれのセンスアンプはデータバス部200を共有する。
【0040】
センスアンプアレイ110とデータバス部200を連結する方式には幾種類があり、これに対しては次に詳しく説明する。
図8は、図7に示したセンスアンプアレイ110とデータバス部200の連結部の第1の実施の形態を示す図である。センスアンプアレイ110に含まれたそれぞれのセンスアンプ111は、センスアンプデータバス160に含まれたセンスアンプデータバスライン161と連結される。前記センスアンプデータバスライン161は、データバス部200に含まれたデータバスライン210と直接連結される。
【0041】
図9は、図7に示したセンスアンプアレイ110とデータバス部200の連結部の第2の実施の形態を示す図である。データバス部200の中間部分には2つのスイッチSW1、SW2が間隔を置いて配置される。各センスアンプ111に対応するセンスアンプデータバスライン161は、前記2つのスイッチSW1、SW2の間で対応するデータバスライン210と直接連結される。2つのスイッチSW1、SW2は、相補的に作動しセンスアンプ111がデータバス部200の右側又は左側とのみ連結されるようにする。
図10は、図9の連結部分を拡大して示す図である。
【0042】
図11は、図7に示したセンスアンプアレイ110とデータバス部200の連結部の第3の実施の形態を示す図である。本実施の形態は、第2の実施の形態とは別にデータバス部200が左側の第1のデータバス部と右側の第2のデータバス部に区分される。センスアンプデータバスも、第1のデータバス部と連結される第1のセンスアンプデータバスと、第2のデータバス部と連結される第2のセンスアンプデータバスに区分される。
第1のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスライン162は、第1のデータバス部に含まれた第1のデータバスライン210−Lと直接連結され、第2のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスライン163は、第2のデータバス部に含まれた第2のデータバスライン210−Rと直接連結される。
【0043】
図12は、図11の連結部分を拡大して示した図である。第1のセンスアンプデータバスに含まれたそれぞれのデータバスライン162には第1のスイッチSW1が連結され、第2のセンスアンプデータバスに含まれたそれぞれのデータバスライン163には第2のスイッチSW2が連結される。前記2つのスイッチSW1、SW2は、センスアンプ111の同一のポートと連結される。センスアンプ111の構造に対しては、後で詳しく説明する。2つのスイッチSW1、SW2は相補的に作動し、センスアンプ111が第1のセンスアンプデータバスライン162又は第2のセンスアンプデータバスライン163とのみ連結できるようにする。
【0044】
図13は、本発明に係るセンスアンプを制御するグローバルコントローラとローカルコントローラの配置構造を示す図である。センスアンプ111に提供される制御信号は、グローバルコントローラ170及びローカルコントローラ180から発生する。グローバルコントローラ170は、センスアンプアレイに含まれた全てのセンスアンプ111に共通の制御信号を提供する。ローカルコントローラ180は、センスアンプアレイの一部分であるサブセンスアンプアレイ毎に1つずつ提供され、前記サブセンスアンプアレイに含まれた複数のセンスアンプ111に共通の制御信号を提供する。ローカルコントローラ180は、カラムアドレスビットYi<n>により制御される。しかし、グローバルコントローラ170はカラムアドレスビットとは係わりなく制御信号を発生させる。
【0045】
カラムアドレスビットにより選択されたセンスアンプ111等は、リード又はライトモードを行う。リードモードではリストア(restore)モードが必ず伴われなければならないので、カラムアドレスビットにより選択されたセンスアンプ111はリストア又はライト動作を行う。しかし、カラムアドレスビットにより選択されていないセンスアンプ111等はリードモードだけを行うので、リストア動作のみ行う。
【0046】
したがって、前記グローバルコントローラはリード及びライトモードで共通に作動する信号を発生させる。ローカルコントローラは、選択されたセンスアンプ111に対してはリード及びライトモードを行うようにする制御信号を発生させ、選択されていないセンスアンプ111に対しては基本的なリードモードのみ行うようにする制御信号を発生させる。
センスアンプ111の具体的な動作及び関連した制御信号に対しては、以下で詳しく説明する。
【0047】
図14は、図13に示したセンスアンプ111の回路図である。本発明に係るセンスアンプ111は、データラインプルアップ制御部400、増幅部500及び入出力制御部600で構成される。
【0048】
データラインプルアップ制御部400は、制御信号DBPU_Cによりデータラインの電圧をVccにプルアップする。データラインはセンスアンプデータバスラインと連結される。
【0049】
増幅部500は、データラインの信号とレファレンスラインの信号を比較し、データラインの信号がレファレンスラインの信号より大きい場合ハイレベルの出力を有する第1の比較部510、第1の比較部510と逆レベルの出力を有する第2の比較部530、第1の比較部510の出力部と第2の比較部530の出力部の電圧を同様にするイコライザー520、及び第1の比較部510及び第2の比較部530とそれぞれスイッチ550、560を介して連結された2つの入力端子を有する貯蔵部540で構成される。
【0050】
入/出力制御部600は、データ入/出力バッファ(図示省略)から入力されたデータを貯蔵部540に伝達する第1の経路610、貯蔵部540に貯蔵されたデータを出力する第2の経路620、第2の経路620の出力をデータ入/出力バッファに伝える第3の経路630、及び第2の経路620の出力をデータラインに伝える第4の経路640を含む。
【0051】
貯蔵部540は、リードモードで第1の比較器510及び第2の比較器530の出力を貯蔵し、リード動作が終了した後リストア動作を行うことができるようにする。ライトモードでは、第1の経路610から伝えられたデータを貯蔵していながら第2の経路620及び第4の経路640のデータラインに伝えてメモリセルにデータを書き込むことができるようにする。リストア動作とライト動作は類似して行われる。
【0052】
図15は、図13に示したセンスアンプ111の他の実施の形態による回路図である。図14で説明したセンスアンプと主な機能は全て同様である。ただ、図14に示したイコライザー520に代えてPMOSトランジスタ521を用いるとの点に差がある。PMOSトランジスタ521のゲートにはデータラインプルアップ制御部400の制御信号と同様の制御信号が印加され、ソースはVccに連結され、ドレインは第1の比較部510の出力端子に連結される。
【0053】
図16及び図17は、図14及び図15に示したセンスアンプの動作タイミング図である。図16はカラムアドレスビットYi<n>が活性化される場合ライトモードのタイミング図であり、図17はカラムアドレスビットYi<n>が非活性化される場合ライトモードのタイミング図である。
【0054】
図16でライトイネーブル信号WEBが活性化されると、WSNがハイとなり第1の経路(図14の610)が活性化され、WHSNがローとなり第2の経路(図14の620)が非活性化される(t0)。次に、SEN1、STGN、SEN2が活性化されデータラインの信号が貯蔵部(図14の540)に貯蔵される(t2)。カラムアドレスビットYi<n>が活性化されると、SEN2及びスイッチ(図14の550、560)が非活性化され入/出力バッファに入力されたデータが貯蔵部(図14の540)に貯蔵される(t3)。WHSNがハイとなり第2の経路が活性化されると(t5)、貯蔵部(図14の540)に貯蔵されたデータが既に活性化された(t4)第4の経路(図14の640)を介してデータラインに提供される。
【0055】
図17では、ライトイネーブル信号WEBが活性化されるとしてもWSNはローに維持されて第1の経路610が非活性化され、WHSNはハイに維持され第2の経路が活性化される。SEN1、SEN2及びSTGNが活性化されると、データラインの値を読み出して貯蔵部540に貯蔵する(t2)。終りに、LSNを活性化して第4の経路を活性化し(t4)、貯蔵部に貯蔵された値がデータラインに提供されるようにする。すなわち、カラムアドレスビットYi<n>が活性化されていないときはリストア動作のみ行われる。
【0056】
前述のように、カラムアドレスビットが選択された場合と選択されていない場合に同様に動作する信号はグローバルコントローラ170で発生し、同様に動作しない信号はローカルコントローラ180で発生する。図16及び図17に示されているように、グローバルコントローラ170で発生する制御信号はSEN1、SEN2、LSN、LSP、STGN、STGP、SEQN及びSEQPであり、ローカルコントローラ180で発生する信号はRSN、RSP、WSN、WSP、WHSN及びWHSPである。
【0057】
図18は、図5に示したセルアレイブロックに含まれた複数の単位ブロック中1つの概略的な構造を示す図である。
各単位ブロックはメインビットラインプルアップ制御部330、セルアレイ及びカラム選択制御部310で構成される。セルアレイは、メインビットラインプルアップ制御部330とカラム選択制御部310との間に直列に連結された複数のサブセルブロック350とメインビットライン負荷制御部340を含む。
【0058】
図19は、図18に含まれたメインビットラインプルアップ制御部330を示す図である。
メインビットラインプルアップ制御部330は、ゲートに制御信号MBPUCが連結され、ソースにVpp又はVccが連結され、ドレインがメインビットライン360と連結されるPMOSトランジスタで構成される。メインビットラインプルアップ制御部330は、「プリチャージ」時にメインビットラインを「ハイ」レベルにプルアップさせる役割を果たす。
【0059】
図20は、図18に含まれたカラム選択制御部310を示す図である。カラム選択制御部310は制御信号CSN、CSPによりメインビットラインとデータバスラインを連結するトランスミッションゲートで構成される。
【0060】
図21は、図18に示したメインビットライン負荷制御部340及びサブセルブロック350の回路図である。便宜上、サブセルブロック350は1つのみ図示した。メインビットライン負荷制御部340はゲートに制御信号MBLCが連結され、ソースはVpp又はVccと連結され、ドレインがメインビットライン360と連結されるPMOSトランジスタで構成される。
【0061】
制御信号MBLCが活性化された場合、メインビットライン負荷制御部340はメインビットライン360の負荷の役割を果たす。メインビットライン360の感知電圧は、メインビットライン360の負荷抵抗と電流レベルにより決定される。電流レベルは、トランジスタN1により決定される。メインビットライン負荷制御部340は、メインビットラインに1つずつ付着することができる。しかし、駆動負荷が大きい場合は複数のサブセルブロック350毎に1つずつ均等に配置し、それぞれのメインビットライン負荷制御部340が担当する駆動負荷を減少させることができる。
【0062】
1つのサブセルブロック350は、それぞれワードラインWL<m>及びプレートラインPL<m>に連結された複数の単位メモリセルに共通に連結されたサブビットライン351、ゲートにサブビットライン351の第1端が連結され、ドレインがメインビットライン360に連結された電流調節用NMOSトランジスタN1、ゲートに制御信号MBSWが連結され、ドレインが電流調節用NMOSトランジスタN1のソースに連結され、ソースが接地されているNMOSトランジスタN2、ゲートに制御信号SBPDが連結され、ドレインがサブビットライン351の第2端に連結され、ソースが接地されているNMOSトランジスタN3、ゲートに制御信号SBSW2が連結され、ソースがサブビットラインSBLの第2端に連結され、ドレインが制御信号SBPUに連結されるNMOSトランジスタN4、及びゲートに制御信号SBSW1が連結され、ドレインがメインビットライン360に連結され、ソースがサブビットライン351の第2端に連結されるNMOSトランジスタN5で構成される。
【0063】
メインビットライン360に含まれた複数のサブビットライン351のうち一度に1個のみ活性化させることにより、メインビットラインの負荷を1つのサブビットライン351の負荷水準に減少させることができる。サブビットライン351の選択は、SBSW1により行われる。
サブビットライン351は、プルダウンNMOSトランジスタN3の調整信号であるSBPD信号が活性化されるとサブビットライン351の電位をグラウンドレベルに調整する。
【0064】
SBPU信号は、サブビットライン351に供給する電源電圧を調整する信号である。低電圧で「ハイ」電圧が必要な場合、Vcc電圧より高い電圧を生成して供給する。
SBSW1はメインビットラインMBLとサブビットラインSBL間の信号の流れを制御し、SBSW2はSBPUとサブビットラインSBL間の信号の流れを制御する。サブビットラインSBLには複数の単位セル等が連結されている。サブビットライン351は、NMOSトランジスタN1のゲートに連結されメインビットライン360のセンシング電圧を調節することになっている。
【0065】
図22は、図21に示したサブセルブロックのライト動作時のタイミング図である。
t2、t3区間は感知区間であり、t4区間はセルフブースティングのための準備期間である。t5区間は「ハイ」レベルを書き込む区間であり、t6区間は「ロー」レベルを書き込む区間である。
【0066】
セルに書き込まれた信号のレベルを感知する原理は、次の通りである。セルのデータが「ハイ」であればサブビットライン351の電圧も「ハイ」レベルになるので、NMOSトランジスタN1に流れる電流が大きくなってレファレンスレベルよりメインビットライン360電圧が低くなる。したがって、逆にセルのデータが「ロー」であればサブビットライン351の電圧も低いレベルになるので、NMOSトランジスタN1に流れる電流が小さくなりレファレンスレベルよりメインビットライン360の電圧が高くなる。このようにして、セルに貯蔵されたデータを感知することができる。
【0067】
t4区間は、セルフブースティングのための準備期間である。SBPUが「ロー」に維持される状態でSBSW2を「ハイ」にすると、トランジスタN4のゲートとソース又はドレイン間の寄生キャパシタに電荷が充電される。このとき、t5区間でSBPUを「ハイ」にすると前記充電された電荷による追加的な電位差ほどSBSW2、サブビットライン351及びワードラインWL<i>の電位がブースティングされる。t5区間では、セルに「1」が自動的に貯蔵される。
【0068】
もし、入/出力バッファを介してメインビットライン360に提供された値が「0」であれば、SBSW1を活性化してSBSW2を非活性化した後、プレートラインPL<i>の電位をハイにするとサブビットライン351の電位も「0」になるので、セルに貯蔵されていた電荷がサブビットラインに移動しながらセルに「0」が書き込まれる(区間t6)。
【0069】
図23は、図21に示したサブセルブロックのリード動作を示すタイミング図である。
t2、t3区間は感知区間であり、t5区間は「1」レベルを書き込む区間である。t6区間は、「0」レベルを復旧する区間である。
t2〜t4区間の動作は、図22に対する説明と同様である。ただ、リード動作後にはリストア動作が行われなければならないが、t5、t6区間がリストアを行う。ところが、t5区間では元来貯蔵されていた値が「1」か「0」かに係わりなく「1」をリストアする。「0」はt6区間でリストアされる。リストア動作は、書込み動作と同様であるので説明を省略する。
【0070】
図24は、図5に示したデータバス部200とカラム選択制御部310の連結部の垂直方向の断面を示す図である。連結部は、第1〜第3階層(L1〜L3)で構成される。第1階層L1は、ソースとドレインが共通の2つのNMOSトランジスタで構成される。ソースにはメインビットライン360が連結され、ドレインには第1の共有レイヤ370と連結される。第2階層L2には、第1の共有レイヤ370とデータバスライン210を連結する第2の共有レイヤ380が存在する。第3階層L3には、データバスライン210が存在する。
【0071】
前記のように、第2の共有レイヤ380を用いることにより第1の共有レイヤ370の面積を最小化することができる。これにより、第1の共有レイヤ370の面積増加による全体チップレイアウトの面積の増加を防止することができる。さらに、前記のようにレイアウトの設計によりデザインに余裕が生じ、これにより工程マージン及び信号伝達に効率を期すことができる。
【0072】
図25は、図5に示したセルアレイブロックに電源を供給するVpp供給回路の配置図である。本発明に係る強誘電体メモリには各セルアレイブロック300毎に複数のVpp駆動回路800が配置され、制御回路部100の上下には第1のVppポンプ回路700が配置される。
【0073】
Vpp駆動回路800は、ゲートVpp信号を発生させるための第2のVppポンプ回路820、第1のVppポンプ回路の出力レベルをシフトするレベルシフター810、及びゲートVpp信号とレベルシフター810の出力信号により制御され駆動電圧を提供するドライバー830で構成される。
【0074】
第1のVppポンプ回路700は、レイアウトサイズも大きく相対的に高速を必要としない部分である。したがって、全体レイアウトの面積を縮小させながら効率的にVppレベルを調整するため、中央部から左右の領域全体に信号を提供する。その反面、Vpp駆動回路800は短いパルス幅を用いて高速で動作する必要のある部分である。したがって、Vpp駆動回路800はセルアレイブロックに含まれた各単位ブロック毎に独立的に提供される。
【0075】
図26は、図25に示したVpp駆動回路800を示す図である。
ドライバー830回路は、NMOSトランジスタ832、821を含んで構成される。NMOSトランジスタ832のソースは接地されてドレインで駆動電圧が発生し、ゲートはプルダウン制御信号及びアドレスディコーダの出力信号の論理演算結果に基づき制御される。NMOSトランジスタ821のゲートには第2のVppポンプ回路820から提供されるVppが供給され、ソースにはアドレスディコーダの出力信号が提供される。NMOSトランジスタ821のドレインは、NMOSトランジスタ831のゲートとノードN1で連結される。
【0076】
レベルシフター回路は、NMOSトランジスタ831で構成される。NMOSトランジスタ831のドレインには第1のVppポンプ回路から出力されたVppが提供され、ソースはNMOSトランジスタ832のドレインと連結され、ゲートはNMOSトランジスタ821のドレインN1と連結される。
ゲートVppポンプ回路820は、NMOSトランジスタ821のゲートにゲートVpp信号を提供する。
【0077】
図27は、図26に示したVpp駆動回路800の動作タイミング図である。セル動作時にはVpp電圧はワードライン、プレートライン、SBPU、SBSW2(図21を参照)等に提供される。図27を参照し、Vpp伝達方法の一例を説明する。T1区間におけるWLCON信号は、第2のVppポンプ回路820の出力としてN1ノード(図26を参照)をVccレベルにするためのものである。すなわち、NMOSトランジスタ821のゲート電圧がVppに上昇するとVppよりやや小さい電圧がN1ノードに現われる。この値をVccと表わす。このとき、NMOSトランジスタ821のゲート電圧が再びVccになると、NMOSトランジスタ821はOFF状態となりN1ノードはフローティング状態となる。
【0078】
T2区間が始まるとき、第1のVppポンプ回路700から提供される駆動Vpp信号がVppとなる。このとき、N1ノードとNMOSトランジスタ831のドレイン間の寄生キャパシタに貯蔵されていた電荷によりN1ノードはVcc+Vppにブースティングされる。さらに、NMOSトランジスタ831がON状態となるので、ワードライン電圧はVppとなる。
【0079】
T2区間終盤のWLCON信号のVppはNMOSトランジスタ821をON状態にし、これに従いN1ノードはVccレベルに下降する。このとき、WLCON信号が再びVccに下降するので、NMOSトランジスタ821はOFFとなりN1ノードはフローティング状態となる。さらに、N1ノードの電圧がVccとなり、NMOSトランジスタ831もOFFとなる。したがって、ワードラインWLがフローティングされる。このとき、フローティングされていたワードラインWLとサブビットライン351との間には寄生キャパシタに貯蔵された電荷により電位差が維持される。このような状態でSBPU信号がハイとなれば、サブビットライン351がハイとなる(図21、18を参照)。したがって、ワードラインWLとサブビットライン351との間に維持されていた電位差ほどブースティングが発生する(T3)。このようにブースティングされて発生したワードラインWLの電圧は、セルアレイブロックに提供される。
【0080】
【発明の効果】
本発明に係るレイアウトを用いることにより、高集積回路においてデータバスの容量負荷を最小化し高速のFRAMを具現することができる。センスアンプの動作時にカラムアドレスビットを用いることにより、リストアとライト動作が容易になる。さらに、データバス部の連結時に第2の共有レイヤを用いることにより、レイアウトの増加要素を除去することができる。Vppを提供する回路を2種類に分け各ブロック毎にVpp供給源を設けて高速の動作が可能であるようにし、相対的に容量の大きいVppポンプ回路は各セルアレイブロックの中間地点に配置してレイアウト効率を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】強誘電体物質の特性を示すヒステリシス曲線である。
【図2】従来の技術に係るFRAMセル素子の構成を示す図である。
【図3】図2に示したFRAMセルのリード及びライト動作を示すタイミング図である。
【図4】図2に示したFRAMセルのリード及びライト動作を示すタイミング図である。
【図5】本発明に係るFRAMに含まれた各構成ブロック等の配置図である。
【図6】図5に示した制御回路部とセルアレイブロックの構成を示す図である。
【図7】図5に示した制御回路部に含まれているセンスアンプアレイ部とセンスアンプデータバス部の配置図である。
【図8】図7に示したセンスアンプアレイ部とデータバス部の連結方式を示す第1の実施の形態である。
【図9】図7に示したセンスアンプアレイ部とデータバス部の連結方式を示す第2の実施の形態である。
【図10】図7に示したセンスアンプアレイ部とデータバス部の連結方式を示す第2の実施の形態である。
【図11】図7に示したセンスアンプアレイ部とデータバス部の連結方式を示す第3の実施の形態である。
【図12】図7に示したセンスアンプアレイ部とデータバス部の連結方式を示す第3の実施の形態である。
【図13】本発明に係るセンスアンプを制御するグローバルコントローラとローカルコントローラの配置図である。
【図14】図13に示したセンスアンプの回路図である。
【図15】図13に示したセンスアンプの回路図である。
【図16】図14及び図15に示したセンスアンプの動作タイミング図である。
【図17】図14及び図15に示したセンスアンプの動作タイミング図である。
【図18】図5に示したセルアレイブロックの構成を示す図である。
【図19】図18に示したメインビットラインプルアップ制御部の回路図である。
【図20】図18に示したカラム選択制御部を示す図である。
【図21】図18に示したメインビットライン負荷制御部とサブセルブロックの回路図である。
【図22】図21に示したサブセルブロックのリード・ライト動作時のタイミング図である。
【図23】図21に示したサブセルブロックのリード・ライト動作時のタイミング図である。
【図24】本発明に係るデータバス部とカラム選択制御部の連結部のレイアウト図である。
【図25】本発明に係るFRAMのセルアレイブロックにVppを供給するVpp供給回路の配置図である。
【図26】図25に示したVpp駆動回路800の構成を示す図である。
【図27】図26に示したVpp駆動回路の動作タイミング図である。
【符号の説明】
100 制御回路部
110 センスアンプアレイ
111 センスアンプ
112 ローアドレスパッド
120 カラムアドレスディコーダ
121 カラムアドレスバッファ
122 カラムアドレスパッド
130 ローアドレスディコーダ
131 ローアドレスバッファ
140 入/出力バッファ
141 I/Oパッド
150 チップ制御部
160 センスアンプデータバス
161 センスアンプデータバスライン
162、163 データバスライン
170 グローバルコントローラ
180 ローカルコントローラ
200 データバス部
210 データバスライン
300 セルアレイブロック
310 カラム選択制御部
320 ワードライン及びプレートライン駆動部
330 メインビットラインプルアップ制御部
340 メインビットライン負荷制御部
350 サブセルブロック
351 サブビットライン
360 メインビットライン
370 第1の共有レイヤ
380 第2の共有レイヤ
400 データラインプルアップ制御部
500 増幅部
510 第1の比較部
520 イコライザー
521 PMOSトランジスタ
530 第2の比較部
540 貯蔵部
550、560 スイッチ
600 入/出力制御部
610 第1の経路
620 第2の経路
630 第3の経路
640 第4の経路
700 第1のVppポンプ回路
800 Vpp駆動回路
810 レベルシフター
820 第2のVppポンプ回路
821、831、832 NMOSトランジスタ
830 ドライバー

Claims (15)

  1. カラム選択制御部と連結されたメインビットライン、及びそれぞれ両端で前記メインビットラインと連結され複数の単位セルが連結された複数のサブビットラインにビットラインが階層化されたセルアレイブロック、
    前記カラム選択制御部と連結されるデータバス部、及び
    前記データバス部に連結されたセンスアンプデータバスとデータ入/出力バッファとの間に連結されたセンスアンプアレイを含む制御回路部を含むが、
    前記複数のセルアレイブロックはマトリクス状に配置され、前記制御回路部は前記メインビットラインに平行した長手方向に前記セルアレイブロック等の一対称線上に配置され、前記データバス部は前記メインビットラインに垂直の長手方向に前記セルアレイブロック等のさらに他の対称線上に配置されることを特徴とする強誘電体メモリ装置。
  2. 前記データバス部に含まれた複数のデータバスラインは、前記センスアンプデータバスに含まれた複数の前記センスアンプデータバスラインと一対一に連結されることを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  3. 前記強誘電体メモリ装置は、前記データバス部の中間部分に互いに隔離して連結された第1及び第2のスイッチ素子をさらに含み、前記センスアンプデータバスに含まれた複数の前記センスアンプデータバスラインは、前記第1及び第2のスイッチ素子の中間領域で前記データバス部に含まれた複数のデータバスラインと一対一に連結され、前記第1及び第2のスイッチ素子のオン・オフに従い前記データバス部の一側と電気的に連結されることを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  4. 前記データバス部は、第1のデータバス部及び前記第1のデータバス部と遮断された第2のデータバス部で構成され、前記センスアンプデータバスは前記第1のデータバス部と連結される第1のセンスアンプデータバスと、前記第2のデータバス部と連結される第2のセンスアンプデータバスで構成され、前記それぞれのセンスアンプは前記第1のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスライン、又は前記第2のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインと選択的に連結されることを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  5. 前記第1のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインと、前記第2のセンスアンプデータバスに含まれたデータバスラインは、それぞれ第1のスイッチ素子及び第2のスイッチ素子を経由し前記センスアンプと連結されることを特徴とする請求項4に記載の強誘電体メモリ装置。
  6. 前記センスアンプアレイは、それぞれ所定の個数のセンスアンプで構成された複数のサブセンスアンプアレイ、
    カラムアドレスビットを受信し前記所定のサブセンスアンプアレイに含まれたセンスアンプにのみ共通の制御信号を提供する複数のローカルコントローラ、及び
    前記センスアンプアレイに含まれた全てのセンスアンプに共通の制御信号を提供するグローバルコントローラを含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の強誘電体メモリ装置。
  7. 前記センスアンプは、前記センスアンプデータバスラインと連結されたデータラインをプルアップするデータラインプルアップ制御部、
    リード動作時には前記データラインに提供されたデータを増幅して貯蔵し、ライト動作時には入/出力バッファから提供されたデータを増幅して貯蔵する増幅部、及び
    ライト動作時には前記増幅部に貯蔵されたデータを前記データラインに提供し、リード動作時には増幅部に貯蔵されたデータを前記入/出力バッファ及び前記データラインに提供する入/出力制御部を含むことを特徴とする請求項6に記載の強誘電体メモリ装置。
  8. 前記増幅部は、前記データラインの信号と前記レファレンス信号を比較し前記データラインの信号が前記レファレンス信号より大きい場合ハイレベルの出力を有する第1の比較部、
    前記データラインの信号と前記レファレンス信号を比較するが、前記第1の比較部の出力と逆レベルの出力を有する第2の比較部、及び
    前記第1の比較部の出力端子と第1のトランスミッションゲートを経由し連結された第1の入力端子、及び前記第2の比較部の出力端子と第2のトランスミッションゲートを経由し連結された第2の入力端子を有し、前記第1及び第2の入力端子に提供された信号を貯蔵する貯蔵部を含み、前記第1の比較部、第2の比較部、第1のトランスミッションゲート、第2のトランスミッションゲート、及び貯蔵部は前記グローバルコントローラにより制御されることを特徴とする請求項7に記載の強誘電体メモリ装置。
  9. 前記入/出力制御部は、前記入/出力バッファから入力されたデータ及び前記入力されたデータの相補値をそれぞれ前記貯蔵部の第1及び第2の入力端子に提供する第1の経路、
    前記貯蔵部の第2の入力端子の値を出力する第2の経路、
    前記第2の経路から出力された値を前記入/出力バッファに提供する第3の経路、及び
    前記第2の経路から出力された値を前記データラインに提供する第4の経路を含み、前記第1の経路、第2の経路、及び第3の経路は前記ローカルコントローラにより制御され、前記第4の経路は前記グローバルコントローラにより制御されることを特徴とする請求項7に記載の強誘電体メモリ装置。
  10. 前記セルアレイブロックは、第1の制御信号により前記メインビットラインをプルアップさせるメインビットラインプルアップ制御部、及び
    前記メインビットラインプルアップ制御部と前記カラム選択制御部との間に連結されたセルアレイを含むことを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  11. 前記セルアレイは、陽の電源と前記メインビットラインとの間に連結され、第2の制御信号により電流の流れを制御するメインビットライン負荷制御部、
    前記メインビットラインプルアップ制御部と前記カラム選択制御部との間に一列に配列され、それぞれの両端で前記メインビットラインと連結される複数のサブセルブロックを含むことを特徴とする請求項10に記載の強誘電体メモリ装置。
  12. 前記サブセルブロックは、ゲートに前記サブビットラインの第1端が連結され、ドレインが前記メインビットラインに連結された電流調節用第1のNMOSトランジスタ、
    ゲートに第3の制御信号が連結され、ドレインが前記第1のNMOSトランジスタのソースに連結され、ソースが接地されている第2のNMOSトランジスタ、
    ゲートに第4の制御信号が連結され、ドレインが前記サブビットラインの第2端に連結され、ソースが接地されている第3のNMOSトランジスタ、
    ゲートに第5の制御信号が連結され、ソースが前記サブビットラインの第2端に連結され、ドレインが第6の制御信号に連結される第4のNMOSトランジスタ、及び
    ゲートに第7の制御信号が連結され、ドレインが前記メインビットラインに連結され、ソースが前記サブビットラインの第2端に連結される第5のNMOSトランジスタを含むことを特徴とする請求項11に記載の強誘電体メモリ装置。
  13. 前記カラム選択制御部と前記データバス部の連結部分は、ソースに前記メインビットラインが連結され、ドレインに第1の共有レイヤが連結された前記カラム選択制御部が存在する第1階層、
    前記第1の共有レイヤと前記データバス部のデータバスラインを連結する第2の共有レイヤが存在する第2階層、及び
    前記データバス部が存在する第3階層を含み、前記第1〜第3階層は下から上に層状構造を有するよう形成されていることを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  14. 前記強誘電体メモリ装置は、第1Vppポンプ回路、及び
    それぞれ前記第1のVppポンプ回路からVppを提供され前記セルアレイブロックに駆動電圧を提供する複数のVpp駆動回路をさらに含み、
    第1のVppポンプ回路は前記制御回路部の両端で前記Vpp駆動回路と隣接するよう配置され、前記複数のVpp駆動回路は前記第1のVppポンプ回路に対称に前記セルアレイブロック毎に複数が配置されることを特徴とする請求項1に記載の強誘電体メモリ装置。
  15. 前記Vpp駆動回路は、ゲートVpp信号を発生させる第2のVppポンプ回路、
    ゲートに前記第2のVppポンプ回路から発生したゲートVpp信号が入力され、ソースにアドレスディコーダの出力信号が入力される第1のNMOSトランジスタ、
    ゲートに前記第1のNMOSトランジスタのドレインが連結され、ドレインには前記第1のVppポンプから出力されたVppが提供される第2のNMOSトランジスタ、及び
    ゲートはプルダウン制御信号及びアドレスディコーダの出力信号により制御され、ソースは接地されており、ドレインは前記第2のNMOSトランジスタのソースと連結され、前記ドレインの電圧を駆動電圧として出力する第3のNMOSトランジスタを含むことを特徴とする請求項14に記載の強誘電体メモリ装置。
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