【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示ディスプレイなどに用いる、プラズマディスプレイパネルの製造方法、およびプラズマディスプレイパネルに用いるガラス基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の低コスト化のために、各製造設備のリードタイム短縮、固定費削減、生産性向上が求められている。
【０００３】
なかでも、製造設備において、基板のハンドリング、位置決めに要する時間を短縮できること、小型パネルの量産性を向上させることが可能なことから、いわゆる多面取りと呼ばれるＰＤＰの製造方法が有効な手段として考えられている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
これは、ＰＤＰの前面パネルに形成する構造物を、一枚のガラス基板の複数の領域に対してそれぞれ形成し、また、同様に、ＰＤＰの背面パネルに形成する構造物を、別の、一枚のガラス基板の複数の領域に対してそれぞれ形成し、その後、ガラス基板を複数の領域毎に分割することで、複数台分の前面パネルあるいは背面パネルを一括して作製するというものであり、効率良く前面パネルあるいは背面パネルを作製することができるという利点がある。
【０００５】
ここで、ガラス基板の分割には、分割する領域毎を区切る溝をガラス基板に設け、その溝にしたがって割断するという方法が採られる。
【０００６】
【非特許文献１】
日経ＢＰ社刊、「フラットパネルディスプレイ２００２、戦略編」、ｐ１３８
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、以上のような製造方法によって製造したＰＤＰには、前面パネルおよび背面パネルを一台分毎、別個に作製することで製造したＰＤＰに比べ、点灯不良や絶縁耐圧不良などが多く見られるという課題が発生した。この課題に対し、本発明者らが種々の実験と検討を行った結果、上述の不良は、ＰＤＰの製造工程はクリーンルーム内で行なわれているにもかかわらず、ＰＤＰ内部に混入した異物が原因であり、その異物は、分析の結果、ガラス基板と同じ材質、すなわちガラス基板の一部であること、および、その混入ルートは、ガラス基板を溝にしたがって割断する際に、チッピングなど、ガラスの欠片のようなガラス粉が発生し、それがガラス基板に形成した電極や隔壁など、ＰＤＰの構造物に付着し、そのまま製造工程が進行することでＰＤＰ内部に持ち込まれたものであるということが判った。
【０００８】
ＰＤＰ内部に持ち込まれたガラス粉は、たとえその数が１個であっても、その結果、ＰＤＰに点灯不良や絶縁不良が発生してしまえば、そのＰＤＰは不良品となるため、その対策は非常に重要である。
【０００９】
本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものであり、ＰＤＰの不良の原因となる、ガラス基板を割断する際に発生するガラス粉が、ＰＤＰ製造時に発生することを抑制することで、多面取りによるＰＤＰの製造方法を実現することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、複数の領域に割段するための溝と、その溝の表面を被覆する樹脂層とを備える基板を、前記溝にしたがって割断することにより、プラズマディスプレイパネルの基板を得る工程を有するものである。
【００１１】
また、上記目的を実現するために本発明のプラズマディスプレイパネル用のガラス基板は、複数の領域に割断するための溝と、その溝の表面を被覆する樹脂層とを備えるものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下の説明において、割断とは、亀裂、スクライブ痕等の溝を形成したガラスなどの脆性材料の、板材、棒材などに対し、力を加えてその溝を厚み方向に成長させることで、板材、棒材などを分割する切断方式である。
【００１３】
本発明の請求項１に記載の発明は、複数の領域に割段するための溝と、その溝の表面を被覆する樹脂層とを備える基板を、前記溝にしたがって割断することにより、プラズマディスプレイパネルの基板を得る工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１４】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記樹脂層が、水溶性樹脂層であるというものである。
【００１５】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記水溶性樹脂層が、水溶性樹脂成分と水に対して自由混合性を有する多価アルコール誘導体とを有し、水溶性樹脂成分は、平均分子量３万から４０万の、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、の中から選ばれる少なくとも１つであり、多価アルコール誘導体は、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、３−メトキシ−３−メチルブタノール、アリルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、グリシドール、テトラヒドロフルフィリルアルコール、ｔ−ブタノール、フリフリルアルコール、プロパルギルアルコール、１−プロパノール、メタノール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、酸化プロピレン、１，４−ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドラフラン、アセトアルデヒド、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、γ−ブチロラクトン、グリセリン、グリセリン１，２−ジメチルエーテル、グリセリン１，３−ジメチルエーテル、グリセリン１−アセタート、２−クロロ−１，３−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールクロロヒドリン、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールの中から選ばれる少なくとも１つであるというものである。
【００１６】
また、請求項４に記載の発明は、複数の領域に割断するための溝と、その溝の表面を被覆する樹脂層とを備えるプラズマディスプレイパネル用のガラス基板である。
【００１７】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記樹脂層が、水溶性樹脂層であるというものである。
【００１８】
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記水溶性樹脂層が、水溶性樹脂成分と水に対して自由混合性を有する多価アルコール誘導体とを有し、水溶性樹脂成分は、平均分子量３万から４０万の、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、の中から選ばれる少なくとも１つであり、多価アルコール誘導体は、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、３−メトキシ−３−メチルブタノール、アリルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、グリシドール、テトラヒドロフルフィリルアルコール、ｔ−ブタノール、フリフリルアルコール、プロパルギルアルコール、１−プロパノール、メタノール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、酸化プロピレン、１，４−ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドラフラン、アセトアルデヒド、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、γ−ブチロラクトン、グリセリン、グリセリン１，２−ジメチルエーテル、グリセリン１，３−ジメチルエーテル、グリセリン１−アセタート、２−クロロ−１，３−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールクロロヒドリン、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールの中から選ばれる少なくとも１つであるというものである。
【００１９】
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２０】
図１（ａ）は、本発明の一実施の形態のＰＤＰ用のガラス基板の平面図を示すものである。マザー基板であるガラス基板１は、溝２により例えば３つの領域３ａ、３ｂ、３ｃに割断可能となっている。ここで、溝２を形成する面は、電極などのＰＤＰの構造物を形成しない方の面とした。そして、溝２の表面を被覆する樹脂層４が形成されている。ここで溝２の表面とは、溝２の凹部表面を指すものである。図１（ｂ）に、図１（ａ）におけるＸ−Ｘ矢視断面での溝２部の拡大図を示す。
【００２１】
樹脂層４の厚みは、５μｍ〜２０μｍであることが好ましい。５μｍ未満では膜にピンホールが形成され、均一な皮膜が形成できず、また、膜厚が２０μｍを超えると乾燥に時間がかかってしまうからである。
【００２２】
ここで、ガラス基板１に溝２を形成する形成方法としては、ガラス基板１に対してスクライブにより形成する方法や、ガラス基板１を製造する際に鋳型等に流し込んだり、ガラス基板１がまだ軟らかい時期に凸形状の型を圧接することにより転造したりして形成する方法などが挙げられる。
【００２３】
ここで、ガラス基板１の厚さは２．８ｍｍであり、溝２の深さはガラス基板１の厚さの１０分の１以下の、例えば０．２ｍｍとしている。これは、ＰＤＰはその製造工程において熱プロセスを用いており、その際、ガラス基板１に作用する熱応力により、この溝２を起点としてガラス基板１が割れてしまう場合があるため、それを抑制するためである。板厚が１．５ｍｍから３ｍｍのガラス基板１に対して本発明者らが行なった、４２インチサイズのガラス板を２枚、多面取りするという実験によれば、ガラス基板１に対してその板厚の１０分の１以上の深さの溝２、例えば板厚が２．８ｍｍのガラス基板１に対して深さ０．３５ｍｍの溝２を形成したガラス板１では、２０枚中５枚が熱プロセス中に溝２を起点として割れてしまったが、溝の深さを１０分の１以下、例えば深さを０．２ｍｍ以下にすることで、熱プロセス中での割れが大幅に抑制され、ほぼ発生しなくなることを確認している。これは、溝２の深さが浅くなることで、熱応力の集中が緩和されるためと考えられる。また、溝２の深さは、ＰＤＰ製造工程におけるハンドリングの際のガラス基板１の割れにも大きく影響し、当然、溝２の深さが浅い方がガラス基板１の強度が増し、ハンドリング中に溝２を起点として割れてしまうという問題の発生も抑制することができる。
【００２４】
また、樹脂層４の形成方法としては、溝２の表面、すなわち凹部の内面を被覆して形成する必要性から、樹脂層４となる材料は流体状、例えばインキで、溝２に対しては、例えばディスペンサーで塗布した後、乾燥するという方法が好ましい。このように形成した樹脂層４の表面は、ガラス基板１に比べ若干の粘着性を有する。
【００２５】
次に、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法について説明する。
【００２６】
まず、最初に、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰの概略構造を示す平面図を図２に示す。また図３は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造されるＰＤＰの、画像表示領域における部分断面を示す斜視図である。両図を参照しながらＰＤＰの構造について説明する。
【００２７】
図２に示すように、ＰＤＰ１００は、前面ガラス基板１０１（図示せず）と、背面ガラス基板１０２と、Ｎ本の表示電極１０３と、Ｎ本の表示スキャン電極１０４（Ｎ本目を示す場合はその数字を付す。）と、Ｍ本のアドレス電極群１０７（Ｍ本目を示す場合はその数字を付す。）、および斜線で示す気密シール層１２１などからなり、各電極１０３、１０４、１０７による３電極構造の電極マトリックスを有しており、表示スキャン電極１０４とアドレス電極１０７との交点に放電セルが形成されている。
【００２８】
このＰＤＰ１００は、図３に示すように、前面ガラス基板１０１の一主面上に表示電極１０３、表示スキャン電極１０４、誘電体ガラス層１０５、ＭｇＯ保護層１０６が配された前面パネルと、背面ガラス基板１０２の一主面上にアドレス電極１０７、誘電体ガラス層１０８、隔壁１０９、および蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂが配された背面パネルとが気密シール層１２１にて張り合わされて、前面パネルと背面パネルとの間に形成される放電空間１２２内に放電ガスが封入され、表示領域１２３を形成した構成となっている。
【００２９】
ここで、表示電極１０３、表示スキャン電極１０４、誘電体ガラス層１０５、ＭｇＯ保護層１０６、およびアドレス電極１０７、誘電体ガラス層１０８、隔壁１０９、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂなどの一部もしくは全部をＰＤＰの構造物１１１というものとする。
【００３０】
図４に、ＰＤＰ１００の一部断面図を示す。隔壁１０９の間隙寸法Ｗは、３２インチ〜５０インチのＨＤ−ＴＶの場合、１３０μｍ〜２４０μｍ程度となる。
【００３１】
そして、隔壁１０９と隔壁１０９の間の蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂの、アドレス電極１０７上における積層方向の厚みＬは、各色蛍光体粒子の平均粒径のおよそ８〜２５倍程度に形成することが望ましい。すなわち、蛍光体層に一定の紫外線を照射したときの輝度（発光効率）を確保するために、蛍光体層は、放電空間において発生した紫外線を透過させることなく吸収するために蛍光体粒子が最低でも８層、好ましくは２０層程度積層された厚みを保持することが望ましく、それ以上の厚みとなれば蛍光体層の発光効率はほとんどサチュレートしてしまうとともに、２０層程度積層された厚みを超えると放電空間１２２の大きさを十分に確保できなくなるからである。また、水熱合成法により得られた蛍光体粒子のように、その粒径が十分小さく、かつ球状であれば、球状でない粒子を使用する場合と比べ積層段数が同じ場合であっても蛍光体層充填度が高まるとともに蛍光体粒子の総表面積が増加するため、蛍光体層における実際の発光に寄与する蛍光体粒子表面積が増加しさらに発光効率が高まることとなる。
【００３２】
そして、図５に示すように、ＰＤＰ駆動装置１５０に接続されてプラズマ表示装置１６０を構成している。
【００３３】
このプラズマ表示装置１６０の駆動時には、図４に示すように、ＰＤＰ１００に表示ドライバ回路１５３、表示スキャンドライバ回路１５４、アドレスドライバ回路１５５を接続して、コントローラ１５２の制御に従い点灯させようとする放電セルにおいて表示スキャン電極１０４とアドレス電極１０７に印加することによりその間でアドレス放電を行った後に、表示電極１０３、表示スキャン電極１０４間にパルス電圧を印加して維持放電を行う。この維持放電により、当該放電セルにおいて紫外線が発生し、この紫外線により励起された蛍光体層が発光することで放電セルが点灯し、各色放電セルの点灯、非点灯の組み合わせによって画像が表示される。
【００３４】
次に、上述したＰＤＰ１００について、その製造方法を説明する。
【００３５】
ガラス基板１は、溝２により、製造するＰＤＰの画面サイズである、例えば領域３ａ、３ｂ、３ｃの３枚のガラス基板に割断可能となっている。また、少なくとも溝２の表面を被覆する樹脂層４が形成されている。
【００３６】
このガラス基板１の、割断後の領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれが前面パネルとして機能できるよう、割断前の領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれに対して、Ｎ本の表示電極１０３および表示スキャン電極１０４（図３においては各２本のみ表示している。）を交互かつ平行にストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層１０５で被覆し、さらに誘電体ガラス層１０５の表面にＭｇＯ保護層１０６を形成する。
【００３７】
そして、上述のような、領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれに対してＰＤＰ１００の構造物１１１である、表示電極１０３、表示スキャン電極１０４、誘電体ガラス層１０５、ＭｇＯ保護層１０６を形成したガラス基板１を、溝２にしたがって割断することにより、領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれを前面ガラス基板１０１とした前面パネルを３枚、得る。
【００３８】
ここで、表示電極１０３および表示スキャン電極１０４は、例えば銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成する。また、誘電体ガラス層１０５は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、所定温度、所定時間（例えば５６０℃で２０分）焼成することによって、所定の層の厚み（約２０μｍ）となるように形成する。上記鉛系のガラス材料を含むペーストとしては、例えば、ＰｂＯ（７０ｗｔ％）、Ｂ２Ｏ３（１５ｗｔ％）、ＳｉＯ２（１０ｗｔ％）、およびＡｌ２Ｏ３（５ｗｔ％）と有機バインダ（α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの）との混合物が使用される。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトールなども使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤（例えば、グリセルトリオレエート）を混入させてもよい。また、ＭｇＯ保護層１０６は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成るものであり、例えばスパッタリング法やＣＶＤ法（化学蒸着法）によって層が所定の厚み（約０．５μｍ）となるように形成する。
【００３９】
背面パネルも同様に、溝２により、製造するＰＤＰの画面サイズである領域３ａ、３ｂ、３ｃに割断可能となっているガラス基板１に対して、割断後の領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれが背面パネルとして機能できるよう、割断前の領域３ａ、３ｂ、３ｃ上それぞれに対して、Ｍ本のアドレス電極１０７を平行にストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層１０８で被覆し、そしてアドレス電極１０７の間の位置に、同じく平行にストライプ状に隔壁１０９を形成する。そしてこの隔壁１０９間に、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂを塗布して形成する。
【００４０】
そして、前面パネルの場合と同様、上述のような、領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれに対してＰＤＰ１００の構造物１１１である、アドレス電極１０７、誘電体ガラス層１０８、隔壁１０９、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂを形成したガラス基板１を、溝２にしたがって割断することにより、領域３ａ、３ｂ、３ｃそれぞれを背面ガラス基板１０２とした背面パネルを３枚、得る。
【００４１】
ここで、アドレス電極１０７は銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成する。また、誘電体ガラス層１０８は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布した後、焼成することで形成する。また、隔壁１０９も、同じく鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後、焼成することによって形成する。また、蛍光体層１１０Ｒ、１１０Ｇ、１１０Ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各蛍光体粒子と有機バインダからなるペースト状の蛍光体インキを、隔壁１０９間に、例えばノズルを用いて塗布し、これを４００℃〜５９０℃の温度で焼成して有機バインダを焼失させることによって、蛍光体粒子が結着した構造として形成する。
【００４２】
そして、以上のようにして得られた前面パネルと背面パネルを、前面パネルの表示電極１０３および表示スキャン電極１０４と背面パネルのアドレス電極１０７とが直交するように重ね合わせるとともに、パネル周縁に封着用ガラスを介挿させ、これを例えば４５０℃程度で１０〜２０分間焼成して気密シール層１２１（図２）を形成させることにより封着する。
【００４３】
そして、放電空間１２２内を一旦、真空（例えば、１．１×１０−４Ｐａ）に排気した後、放電ガス（例えば、Ｈｅ−Ｘｅ系、Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰＤＰ１００が完成する。
【００４４】
以上述べたようなＰＤＰの製造方法によれば、ＰＤＰ１００の構造物１１１が形成されたガラス基板１を割断するための溝２は、樹脂層４にて覆われており、ガラス基板１に外力を加えて溝２で割断する際、発生するガラス粉は、樹脂層４により固着・固定され飛散しにくい状態となるため、大幅に抑制される。
【００４５】
以上により、ガラス粉がＰＤＰ１００の構造物１１１に付着したり、クリーンルーム内に飛散・浮遊したりすることを抑制した、多面取りを可能とするＰＤＰの製造方法を実現することができる。
【００４６】
また、樹脂層４を除去することにより、ガラス粉の除去も容易に行うことができる。この樹脂層４の除去の工程は、ＰＤＰ製造工程での適当な時期に除去を行えばよい。また、この除去の工程を容易にする観点から、樹脂層４は、例えば、水溶性樹脂成分と、水に対して自由混合性を有する多価アルコール誘導体とを有する、水溶性樹脂層であることが好ましい。樹脂層４をこのような材料とすることで除去工程を水洗いで行うことが可能となる。
【００４７】
ここで、水溶性樹脂成分としては、平均分子量３万から４０万の、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、の中から選ばれる少なくとも１つを用いることができる。また、水に対して自由混合性を有する多価アルコール誘導体としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、３−メトキシ−３−メチルブタノール、アリルアルコール、イソプロピルアルコール、エタノール、グリシドール、テトラヒドロフルフィリルアルコール、ｔ−ブタノール、フリフリルアルコール、プロパルギルアルコール、１−プロパノール、メタノール、３−メチル−１−ブチン−３−オール、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６、酸化プロピレン、１，４−ジオキサン、ジプロピルエーテル、ジメチルエーテル、テトラヒドラフラン、アセトアルデヒド、ジアセトンアルコール、乳酸メチル、γ−ブチロラクトン、グリセリン、グリセリン１，２−ジメチルエーテル、グリセリン１，３−ジメチルエーテル、グリセリン１−アセタート、２−クロロ−１，３−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールクロロヒドリン、ジエチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールの中から選ばれる少なくとも１つを用いることができる。
【００４８】
また、樹脂層４の水洗いに際しては、ＰＤＰ１００の構造物１１１の電極などにＡｇ材料を用いている場合、ＡｇのＮａイオンによる拡散を抑制する観点から、一般的な水道水ではなくＮａイオンの含有の少ない純水を用いることが好ましい。
【００４９】
なお、ガラス基板１に溝２を形成するタイミング、および樹脂層４を形成するタイミングは、上述の説明のような、ＰＤＰ１００の構造物１１１を形成する前に予め行うことに限るものではなく、構造物１１１の形成途中であっても、形成後であっても、構造物１１１形成に影響を与えないタイミングであれば、いつでもかまわない。
【００５０】
また、割断のタイミングも、上述の説明のようなタイミングは場合に限るものではなく、溝２および樹脂層４が形成した後であるならば、例えば、ガラス基板１上にＰＤＰ１００の構造物１１１を形成している途中であっても、また、前面パネルを得るためのガラス基板１と背面パネルを得るためのガラス基板１とを気密シール層１２１にて各領域３ａ、３ｂ、３ｃ毎に張り合わせた後に割断するというものであってもかまわない。
【００５１】
ここで、背面パネルは隔壁１０９を有し、隔壁１０９間に入り込んだガラス粉などの異物の除去が非常に困難であることから、本発明による効果は、特に背面パネルに対して大きく得られる。
【００５２】
なお、上述した例では、ガラス基板１の分割数を３領域とした例を示したが、特にこれに限るものではないことは当然であり、ガラス基板１のサイズと製造するＰＤＰのインチサイズとに応じて分割数を決定すればよい。具体的には、マザー基板として、１６００ｍｍ×１６００ｍｍのガラス基板１を用い、５０インチから３０インチ程度のインチサイズの領域を割断して得ようとする場合、２〜１５の領域に割断されるように、予め溝２をガラス基板１に形成すればよい。
【００５３】
また、上述した例では、ガラス基板１に予め溝２を形成する際、その形成面は、ＰＤＰの構造物を形成する面とは反対の面という例を示したが、溝２による割断面の形状を良好にするために、ガラス基板１の両面に形成してもよい。この場合にも、溝２の深さは、各溝２とも、ガラス基板１の厚さの１０分の１以下にするのがよい。この際、各溝２の表面に樹脂層４を形成することが好ましい。
【００５４】
また、必要に応じて、ガラス基板１の溝２によって割断された断面に対して、面取りや研磨などを行なえば、領域３ａ、３ｂ、３ｃの割断の際に発生するマイクロクラックによる強度低下を抑制することが可能となる。この場合、先述の、樹脂層４の除去の工程を、この割断面の研磨の工程と兼ねると効率的である。
【００５５】
また、樹脂層４の幅は、溝２の表面を被覆する範囲とすれば良いが、ＰＤＰ１００の構造物１１１に影響を与えない限りにおいては、図６にその一例を示すように、それ以上の範囲を被覆してもかまわない。ここで図６（ｂ）は図６（ａ）におけるＸ−Ｘ矢視断面図である。
【００５６】
上述の具体的な構成として、例えば溝２のそれぞれのエッジからそれぞれ２００μｍの範囲内に樹脂層４を塗布するという構成を挙げることができる。ここで、樹脂層４の幅を、溝２のそれぞれのエッジからそれぞれ２００μｍの範囲内としたのは、本発明者らが、従来の、樹脂層４の無いガラス基板を用いて割断を行い、その後、落射照明によりガラス基板上を観察したところ、割断により発生したガラス粉の最初の飛散距離は、割断面を中心にそれぞれ２００μｍの範囲内であることを確認したことによるものである。そして、ＰＤＰ１００の構造物１１１にガラス粉が付着してしまうのは、このガラス粉がガラス基板１上を移動したり、再浮遊したりすることが原因であると考えられる。
【００５７】
そこで、溝２の表面に樹脂層４を形成することで、割断時に割断面から発生するガラス粉は、樹脂層４により固着・固定され飛散しにくい状態となるため、大幅に抑制されるのであるが、それでもなお、飛散するガラス粉があり、それが問題となるような場合であれば、樹脂層４を、溝２のそれぞれのエッジから、それぞれ２００μｍの範囲に形成し、その樹脂層４の表面の若干の粘着性によって、その飛散したガラス粉をも樹脂層４にて固着・固定することでガラス粉の飛散を抑制するという考えに基づくものである。また、このような構成においても、樹脂層４を除去する際に同時にガラス粉の除去も行えるという利点がある。
【００５８】
また、上述の説明においては、プラズマディスプレイパネルの基板を得るためのマザー基板をガラス基板１とした例を示したが、特にそれに限るものではなく、セラミックス基板など脆性材料に対してであれば、本発明により同様の効果を得ることができる。
【００５９】
以下、本発明のＰＤＰの製造方法により製造した、ＰＤＰの性能を評価するために行った、実験結果について述べる。
【００６０】
まず、樹脂層４を水溶性樹脂層とし、その材料インキ（以下、水溶性樹脂インキと記す）を、水溶性樹脂成分としては平均分子量３０万のヒドロキシプロピルセルロースを、水に対して自由混合性を有する多価アルコール誘導体としては３−メトキシ−３−メチルブタノールを用い、ヒドロキシプロピルセルロースを１０重量％、３−メトキシ−３−メチルブタノールを９０重量％混合し、１００℃に加熱しながら均一に混合した後、室温にまで冷まし、その後、開口５μｍのフィルターで濾過し、凝集物ならびに異物を除去することで作製した。この水溶性樹脂インキの粘度は約１００００センチポイズであった。
【００６１】
なお、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジルのうちの１つ以上の可塑剤をこの水溶性樹脂インキ総重量の５重量％以下添加させ、塗布後のレベリング性を改善することも有効である。
【００６２】
また、上記の水溶性樹脂インキは、樹脂であるヒドロキシプロピルセルロース、溶剤である３−メトキシ−３−メチルブタノールは水に対して自由混合性を示すので、ガラス基板１の割断後、水洗工程により容易に除去することが可能である。
【００６３】
上述のようにして作製した水溶性樹脂インキをディスペンサーを用いて、ガラス基板１の溝２の上に描画し、５分間のべリング後に１００℃にて１５分乾燥し、その後、室温にまで冷却した。乾燥後に水溶性樹脂層による樹脂層４の形状を計測したところ、厚さは平均１０μｍであり、幅は溝４のそれぞれのエッジからそれぞれ約１９０μｍであった。
【００６４】
そして、上述のような、前面パネルとなるガラス基板１と、背面パネルとなるガラス基板１とに対して、ＰＤＰ１００の構造物１１１のそれぞれを前述のようにして形成する。
【００６５】
次に、ガラス基板１の溝２が形成されていない側から、溝２の近傍に外力を加え、溝２にしたがってガラス基板１を割断する。
【００６６】
そして、その後の焼成工程や搬送時において割断面からの欠けや割れが発生しないように割断面のアール研磨を行う。そしてアール研磨終了後の水洗時に、同時に水溶性樹脂層の樹脂層４を除去する。
【００６７】
ここで、樹脂層４を水洗により除去した後、前面パネルおよび背面パネルを構成する前面ガラス基板１０１および背面ガラス基板１０２の端部の割断部近傍を落射照明で観察したところ、ガラス粉の付着は認められなかった。
【００６８】
これは、上述の構成においては、割断の際、飛散するガラス粉が、樹脂層４の延性により捕獲されたり、飛散速度が抑制されたりすることで、発生するガラス粉の大部分が樹脂層４上に飛散することとなり、そのため、水洗いにより樹脂層４を除去する際、その上に飛散、付着したガラス粉も同時に除去されたものと考えられる。
【００６９】
そして、上述のように作製した前面パネルと背面パネルは、前面パネルの各電極１０３、１０４と背面パネルのアドレス電極１０７とが直交するように重ね合わせられるとともに、パネル周縁に封着用ガラスを介挿させ、これを例えば４５０℃程度で１０〜２０分間焼成して気密シール層１２１（図２）を形成させることにより封着した。そして、一旦放電空間１２２内を真空（例えば、１．１×１０−４Ｐａ）に排気した後、放電ガス（例えば、Ｈｅ−Ｘｅ系、Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰＤＰ１００を作製した。
【００７０】
以上により作製したＰＤＰは、従来見られたような、ＰＤＰ内部の異物が原因と考えられる点灯不良や絶縁耐圧不良などの発生が大幅に抑制され、良好な画像表示を行うことが可能であることを確認した。
【００７１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ＰＤＰの不良の原因となる、ガラス基板を割断する際に発生するガラス粉が、ＰＤＰ製造時に発生することを抑制することができ、よって多面取りを可能とするＰＤＰの製造方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネル用のガラス基板の平面図と一部断面図
【図２】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す平面図
【図３】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す部分断面斜視図
【図４】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図
【図５】同じく、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法により製造されるプラズマディスプレイパネルを用いたプラズマ表示装置の概略構成を示すブロック図
【図６】本発明の他の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネル用のガラス基板の平面図と一部断面図
【符号の説明】
１ ガラス基板
２ 溝
３ａ、３ｂ、３ｃ 領域
４ 樹脂層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel used for a display or the like, and a glass substrate used for the plasma display panel.
[0002]
[Prior art]
In order to reduce the cost of plasma display panels (hereinafter, referred to as PDPs), it is required to reduce the lead time of each manufacturing facility, reduce fixed costs, and improve productivity.
[0003]
Above all, a method for manufacturing a PDP, which is a so-called multi-panel manufacturing method, is considered to be an effective means because the time required for substrate handling and positioning can be reduced in manufacturing equipment and the mass productivity of small panels can be improved. (For example, see Non-Patent Document 1).
[0004]
This means that a structure formed on the front panel of the PDP is formed on each of a plurality of regions of one glass substrate, and a structure formed on the rear panel of the PDP is formed on another, one by one. That is, a plurality of front panels or rear panels for a plurality of glass substrates are collectively formed by forming the plurality of regions on a plurality of glass substrates, and then dividing the glass substrate into a plurality of regions, There is an advantage that the front panel or the rear panel can be manufactured efficiently.
[0005]
Here, for dividing the glass substrate, a method is adopted in which a groove is formed in the glass substrate to divide the region to be divided, and the glass substrate is cut along the groove.
[0006]
[Non-patent document 1]
Published by Nikkei BP, "Flat Panel Display 2002, Strategy", p.138
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, PDPs manufactured by the above-described manufacturing method have more lighting failures and dielectric breakdown voltage defects than PDPs manufactured by separately manufacturing a front panel and a rear panel for each unit. An issue has occurred. As a result of various experiments and studies conducted by the present inventors on this problem, the above-mentioned defect was caused by foreign matter mixed in the PDP, even though the PDP manufacturing process was performed in a clean room. As a result of the analysis, the foreign substance is the same material as the glass substrate, that is, it is a part of the glass substrate, and the mixing route is such that when the glass substrate is cut along the groove, chipping or the like occurs. Glass powder like fragments is generated and adheres to PDP structures such as electrodes and partition walls formed on a glass substrate, and is brought into the PDP as the manufacturing process proceeds. understood.
[0008]
Even if the number of glass powder brought into the PDP is one, if the lighting failure or insulation failure occurs in the PDP, the PDP becomes a defective product. Very important.
[0009]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and suppresses the generation of glass powder that is generated when a glass substrate is cleaved, which is a cause of PDP failure, during PDP production. It is another object of the present invention to realize a method of manufacturing a PDP by multi-panning.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention includes a step of cutting a substrate including a groove for dividing into a plurality of regions and a resin layer covering the surface of the groove according to the groove. By doing so, a step of obtaining a substrate of the plasma display panel is provided.
[0011]
In order to achieve the above object, a glass substrate for a plasma display panel of the present invention includes a groove for cutting into a plurality of regions, and a resin layer covering the surface of the groove.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
In the following description, the term “cleaving” refers to a method of growing a groove in a thickness direction by applying a force to a plate, a bar, or the like of a brittle material such as glass having grooves formed with cracks and scribe marks. This is a cutting method for dividing a bar or the like.
[0013]
The invention according to claim 1 of the present invention is directed to a plasma display by cutting a substrate provided with a groove for dividing into a plurality of regions and a resin layer covering the surface of the groove according to the groove. A method for manufacturing a plasma display panel including a step of obtaining a panel substrate.
[0014]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the resin layer is a water-soluble resin layer.
[0015]
Further, in the invention according to claim 3, in the invention according to claim 2, the water-soluble resin layer has a water-soluble resin component and a polyhydric alcohol derivative having free mixing with water, The water-soluble resin component is at least one selected from hydroxypropylcellulose, hydroxyethylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, polyvinyl alcohol and polyvinyl ether having an average molecular weight of 30,000 to 400,000, and is a polyhydric alcohol derivative. Is ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-3-methylbutane Knol, allyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, glycidol, tetrahydrofurphyryl alcohol, t-butanol, furfuryl alcohol, propargyl alcohol, 1-propanol, methanol, 3-methyl-1-butyn-3-ol, 15-crown -5,18-crown-6, propylene oxide, 1,4-dioxane, dipropyl ether, dimethyl ether, tetrahydrafuran, acetaldehyde, diacetone alcohol, methyl lactate, γ-butyrolactone, glycerin, glycerin 1,2-dimethyl ether, Glycerin 1,3-dimethyl ether, glycerin 1-acetate, 2-chloro-1,3-propanediol, 3-chloro-1,2-propanediol, diethylene glycol, diethylene glycol At least one selected from the group consisting of recol ethyl methyl ether, diethylene glycol chlorohydrin, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, and triethylene glycol. That is.
[0016]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a glass substrate for a plasma display panel, comprising: a groove for cutting into a plurality of regions; and a resin layer covering a surface of the groove.
[0017]
The invention according to claim 5 is the invention according to claim 4, wherein the resin layer is a water-soluble resin layer.
[0018]
The invention according to claim 6 is the invention according to claim 5, wherein the water-soluble resin layer has a water-soluble resin component and a polyhydric alcohol derivative having free mixing with water, The water-soluble resin component is at least one selected from hydroxypropylcellulose, hydroxyethylcellulose, ethylhydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, polyvinyl alcohol and polyvinyl ether having an average molecular weight of 30,000 to 400,000, and is a polyhydric alcohol derivative. Is ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-3-methylbutane Knol, allyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, glycidol, tetrahydrofurphyryl alcohol, t-butanol, furfuryl alcohol, propargyl alcohol, 1-propanol, methanol, 3-methyl-1-butyn-3-ol, 15-crown -5,18-crown-6, propylene oxide, 1,4-dioxane, dipropyl ether, dimethyl ether, tetrahydrafuran, acetaldehyde, diacetone alcohol, methyl lactate, γ-butyrolactone, glycerin, glycerin 1,2-dimethyl ether, Glycerin 1,3-dimethyl ether, glycerin 1-acetate, 2-chloro-1,3-propanediol, 3-chloro-1,2-propanediol, diethylene glycol, diethylene glycol At least one selected from the group consisting of recol ethyl methyl ether, diethylene glycol chlorohydrin, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, and triethylene glycol. That is.
[0019]
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0020]
FIG. 1A is a plan view of a glass substrate for a PDP according to an embodiment of the present invention. The glass substrate 1, which is a mother substrate, can be divided into, for example, three regions 3a, 3b, and 3c by the grooves 2. Here, the surface on which the groove 2 is formed is a surface on which a PDP structure such as an electrode is not formed. Then, a resin layer 4 that covers the surface of the groove 2 is formed. Here, the surface of the groove 2 refers to the surface of the concave portion of the groove 2. FIG. 1B is an enlarged view of the groove 2 taken along the line XX in FIG. 1A.
[0021]
The thickness of the resin layer 4 is preferably 5 μm to 20 μm. If the thickness is less than 5 μm, pinholes are formed in the film and a uniform film cannot be formed, and if the thickness exceeds 20 μm, it takes time to dry.
[0022]
Here, as a method of forming the groove 2 in the glass substrate 1, a method of forming the groove 2 in the glass substrate 1, a method of pouring the glass substrate 1 into a mold or the like when manufacturing the glass substrate 1, or a method in which the glass substrate 1 is still soft. A method of forming by rolling or forming by pressing a convex mold at the appropriate time.
[0023]
Here, the thickness of the glass substrate 1 is 2.8 mm, and the depth of the groove 2 is 1/10 or less of the thickness of the glass substrate 1, for example, 0.2 mm. This is because the PDP uses a thermal process in its manufacturing process. At that time, the thermal stress acting on the glass substrate 1 may cause the glass substrate 1 to be broken from the groove 2 as a starting point. To do that. According to an experiment conducted by the inventors of the present invention on a glass substrate 1 having a thickness of 1.5 mm to 3 mm and taking two glass plates of 42 inches in size, the glass substrate 1 In a glass plate 1 in which a groove 2 having a depth of 0.35 mm is formed on a glass substrate 1 having a thickness of 2.8 mm, for example, 5 out of 20 grooves are formed. Although cracks started from the groove 2 during the heat process, cracks during the heat process were greatly suppressed by reducing the depth of the groove to 1/10 or less, for example, 0.2 mm or less. , Has been confirmed that almost no longer occurs. This is probably because the shallow depth of the groove 2 eases the concentration of thermal stress. Further, the depth of the groove 2 has a great effect on the cracking of the glass substrate 1 during handling in the PDP manufacturing process. Naturally, the shallower the groove 2 increases the strength of the glass substrate 1, and during the handling, The occurrence of the problem of cracking starting from the groove 2 can also be suppressed.
[0024]
As a method of forming the resin layer 4, since it is necessary to cover and form the surface of the groove 2, that is, the inner surface of the concave portion, the material to be the resin layer 4 is a fluid, for example, ink, and For example, a method of drying after applying with a dispenser is preferable. The surface of the resin layer 4 thus formed has a slight adhesiveness compared to the glass substrate 1.
[0025]
Next, a method of manufacturing a PDP according to an embodiment of the present invention will be described.
[0026]
First, FIG. 2 is a plan view showing a schematic structure of a PDP manufactured by the PDP manufacturing method according to one embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view showing a partial cross section in an image display region of a PDP manufactured by the PDP manufacturing method according to one embodiment of the present invention. The structure of the PDP will be described with reference to FIGS.
[0027]
As shown in FIG. 2, the PDP 100 includes a front glass substrate 101 (not shown), a rear glass substrate 102, N display electrodes 103, and N display scan electrodes 104 (when the Nth display is shown, Number), M address electrode groups 107 (the number is added when the M-th electrode is shown), and a hermetic seal layer 121 indicated by oblique lines, and three electrodes 103, 104, and 107 are provided. A discharge cell is formed at the intersection of the display scan electrode 104 and the address electrode 107.
[0028]
As shown in FIG. 3, the PDP 100 has a front panel in which a display electrode 103, a display scan electrode 104, a dielectric glass layer 105, and a MgO protective layer 106 are arranged on one main surface of a front glass substrate 101, and a rear glass. A back panel on which an address electrode 107, a dielectric glass layer 108, a partition wall 109, and phosphor layers 110R, 110G, 110B are disposed on one main surface of a substrate 102 is adhered by an airtight seal layer 121 to form a front panel. A discharge gas is sealed in a discharge space 122 formed between the display panel and the rear panel, and a display area 123 is formed.
[0029]
Here, the display electrode 103, the display scan electrode 104, the dielectric glass layer 105, the MgO protective layer 106, and the address electrode 107, the dielectric glass layer 108, the partition 109, a part of the phosphor layers 110R, 110G, 110B, or the like. The whole is referred to as a PDP structure 111.
[0030]
FIG. 4 shows a partial cross-sectional view of PDP 100. In the case of a 32 inch to 50 inch HD-TV, the gap dimension W of the partition wall 109 is about 130 μm to 240 μm.
[0031]
The thickness L of the phosphor layers 110R, 110G, and 110B between the partition walls 109 in the stacking direction on the address electrode 107 is formed to be about 8 to 25 times the average particle size of the phosphor particles of each color. It is desirable. In other words, in order to secure the luminance (luminous efficiency) when the phosphor layer is irradiated with a certain amount of ultraviolet rays, the phosphor layer absorbs the ultraviolet rays generated in the discharge space without transmitting the phosphor layers, so that the phosphor particles have a minimum particle diameter. However, it is desirable to maintain a thickness of about 8 layers, preferably about 20 layers. If the thickness is more than 8 layers, the luminous efficiency of the phosphor layer is almost saturated and exceeds the thickness of about 20 layers. This is because the size of the discharge space 122 cannot be sufficiently secured. In addition, if the particle size is sufficiently small and spherical, such as phosphor particles obtained by a hydrothermal synthesis method, even if the number of stacked layers is the same as compared to the case where non-spherical particles are used, the phosphor is As the layer filling degree increases and the total surface area of the phosphor particles increases, the surface area of the phosphor particles contributing to actual light emission in the phosphor layer increases, and the luminous efficiency further increases.
[0032]
Then, as shown in FIG. 5, the plasma display device 160 is connected to the PDP driving device 150.
[0033]
At the time of driving the plasma display device 160, as shown in FIG. 4, a display driver circuit 153, a display scan driver circuit 154, and an address driver circuit 155 are connected to the PDP 100, and the discharge cells are to be turned on under the control of the controller 152. Then, after applying an address discharge between the display scan electrode 104 and the address scan electrode 104 by applying the voltage to the display scan electrode 104 and the address electrode 107, a sustain voltage is applied between the display electrode 103 and the display scan electrode 104 to perform a sustain discharge. Due to the sustain discharge, ultraviolet rays are generated in the discharge cells, and the phosphor layer excited by the ultraviolet rays emits light to turn on the discharge cells, and an image is displayed by a combination of lighting and non-lighting of each color discharge cell. .
[0034]
Next, a method of manufacturing the above-described PDP 100 will be described.
[0035]
The glass substrate 1 can be cut by the grooves 2 into three glass substrates of, for example, regions 3a, 3b, and 3c, which are the screen size of the PDP to be manufactured. Further, a resin layer 4 that covers at least the surface of the groove 2 is formed.
[0036]
The N display electrodes 103 and the display scan electrodes 104 (for each of the regions 3a, 3b, and 3c before the cutting, so that each of the regions 3a, 3b, and 3c after the cutting on the glass substrate 1 can function as a front panel. In FIG. 3, only two lines are shown alternately and in parallel in the form of stripes, and the upper surface is covered with a dielectric glass layer 105, and the surface of the dielectric glass layer 105 is further covered with an MgO protective layer. 106 is formed.
[0037]
Then, as described above, the glass substrate 1 on which the display electrode 103, the display scan electrode 104, the dielectric glass layer 105, and the MgO protective layer 106, which are the structures 111 of the PDP 100, are formed for each of the regions 3a, 3b, and 3c. Is cut in accordance with the groove 2, thereby obtaining three front panels each having the front glass substrate 101 in each of the regions 3a, 3b, and 3c.
[0038]
Here, the display electrode 103 and the display scan electrode 104 are electrodes made of, for example, silver. The display electrode 103 and the display scan electrode 104 are formed by applying a silver paste for an electrode by screen printing and then baking. The dielectric glass layer 105 is formed by applying a paste containing a lead-based glass material by screen printing, and then baking the paste at a predetermined temperature and a predetermined time (for example, at 560 ° C. for 20 minutes) to obtain a predetermined thickness (approximately 20 μm). Examples of the paste containing the lead-based glass material include PbO (70 wt%), B 2 O 3 (15 wt%), SiO 2 (10 wt%), and Al 2 O 3 A mixture of (5% by weight) and an organic binder (10% ethyl cellulose dissolved in α-terpineol) is used. Here, the organic binder is obtained by dissolving a resin in an organic solvent. In addition to ethyl cellulose, an acrylic resin can be used as a resin, and butyl carbitol can be used as an organic solvent. Further, a dispersant (for example, glycerol trioleate) may be mixed in such an organic binder. The MgO protective layer 106 is made of magnesium oxide (MgO), and is formed by, for example, a sputtering method or a CVD method (chemical vapor deposition method) so that the layer has a predetermined thickness (about 0.5 μm).
[0039]
Similarly, on the rear panel, each of the areas 3a, 3b, and 3c after the cutting is separated from the glass substrate 1 that can be cut into the areas 3a, 3b, and 3c that are the screen size of the PDP to be manufactured by the grooves 2. In order to function as a panel, M address electrodes 107 are formed in stripes in parallel on the regions 3a, 3b, and 3c before the cutting, and the upper surface is covered with a dielectric glass layer 108, and Similarly, partition walls 109 are formed in stripes at positions between the address electrodes 107. The phosphor layers 110R, 110G, and 110B are applied between the partition walls 109 to be formed.
[0040]
Then, as in the case of the front panel, the address electrodes 107, the dielectric glass layers 108, the partition walls 109, the phosphor layers 110R, which are the structures 111 of the PDP 100 for the regions 3a, 3b, and 3c, respectively, as described above. The glass substrate 1 on which 110G and 110B are formed is cut along the groove 2 to obtain three rear panels each having the regions 3a, 3b, and 3c as the rear glass substrate 102.
[0041]
Here, the address electrode 107 is an electrode made of silver, and is formed by applying a silver paste for an electrode by screen printing and baking. Further, the dielectric glass layer 108 is formed by applying a paste containing a lead-based glass material by a screen printing method and then firing the paste. The partition walls 109 are also formed by repeatedly applying a paste containing a lead-based glass material at a predetermined pitch by a screen printing method, followed by baking. The phosphor layers 110R, 110G, and 110B are provided with paste-like phosphor ink including red (R), green (G), and blue (B) phosphor particles and an organic binder between the partition walls 109, for example. The composition is applied using a nozzle, and is fired at a temperature of 400 ° C. to 590 ° C. to burn off the organic binder, thereby forming a structure in which the phosphor particles are bonded.
[0042]
Then, the front panel and the rear panel obtained as described above are overlapped so that the display electrode 103 and the display scan electrode 104 of the front panel and the address electrode 107 of the rear panel are orthogonal to each other, and sealed on the periphery of the panel. The glass is interposed and fired at, for example, about 450 ° C. for 10 to 20 minutes to form a hermetic seal layer 121 (FIG. 2) for sealing.
[0043]
Then, a vacuum (for example, 1.1 × 10 -4 After evacuation to Pa), a discharge gas (for example, a He-Xe-based or Ne-Xe-based inert gas) is sealed at a predetermined pressure, whereby the PDP 100 is completed.
[0044]
According to the PDP manufacturing method described above, the groove 2 for cutting the glass substrate 1 on which the structure 111 of the PDP 100 is formed is covered with the resin layer 4, and external force is applied to the glass substrate 1. In addition, when the glass powder is cleaved by the groove 2, the generated glass powder is fixed and fixed by the resin layer 4 and is hardly scattered.
[0045]
As described above, it is possible to realize a method of manufacturing a PDP capable of performing a multi-panel process, in which glass powder is prevented from adhering to the structure 111 of the PDP 100 and scattering or floating in a clean room.
[0046]
Further, by removing the resin layer 4, the glass powder can be easily removed. The step of removing the resin layer 4 may be performed at an appropriate time in the PDP manufacturing process. In addition, from the viewpoint of facilitating the removal step, the resin layer 4 is, for example, a water-soluble resin layer having a water-soluble resin component and a polyhydric alcohol derivative having free mixing properties with water. Is preferred. When the resin layer 4 is made of such a material, the removing step can be performed by washing with water.
[0047]
Here, as the water-soluble resin component, at least one selected from hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, and polyvinyl ether having an average molecular weight of 30,000 to 400,000 is used. Can be. Further, polyhydric alcohol derivatives having free mixing properties with water include ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-3-methylbutanol, allyl alcohol, isopropyl alcohol, ethanol, glycidol, tetrahydrofurfuryl alcohol, t-butanol, furfuryl alcohol, propargyl alcohol, 1-propanol, methanol, 3-methyl-1-butyne- 3-ol, 15-crown-5, 18-crown-6, propylene oxide, 1,4-dioxane, dipropyl ether, dimethyl ether, tet Hydrafuran, acetaldehyde, diacetone alcohol, methyl lactate, γ-butyrolactone, glycerin, glycerin 1,2-dimethyl ether, glycerin 1,3-dimethyl ether, glycerin 1-acetate, 2-chloro-1,3-propanediol, 3-chloro -1,2-propanediol, diethylene glycol, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol chlorohydrin, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol At least one selected from the following can be used.
[0048]
In addition, when the resin layer 4 is washed with water, if an Ag material is used for the electrodes of the structure 111 of the PDP 100 or the like, from the viewpoint of suppressing the diffusion of Ag by Na ions, not containing common tap water but containing Na ions. It is preferable to use pure water with a small amount.
[0049]
Note that the timing of forming the groove 2 and the timing of forming the resin layer 4 in the glass substrate 1 are not limited to being performed before forming the structure 111 of the PDP 100 as described above. It does not matter if the timing does not affect the formation of the structure 111, either during or after the formation of the object 111.
[0050]
Also, the timing of the cutting is not limited to the timing described above, but may be, for example, the structure 111 of the PDP 100 on the glass substrate 1 if the groove 2 and the resin layer 4 are formed. Even during the formation, the glass substrate 1 for obtaining the front panel and the glass substrate 1 for obtaining the rear panel are bonded together in the respective regions 3a, 3b, and 3c by the hermetic sealing layer 121. It may be that it is cleaved later.
[0051]
Here, the rear panel has the partition walls 109, and it is very difficult to remove foreign matter such as glass powder that has entered between the partition walls 109. Therefore, the effect of the present invention is particularly large for the rear panel.
[0052]
Note that, in the above-described example, an example in which the number of divisions of the glass substrate 1 is set to three regions is shown. However, it is needless to say that the number of divisions is not particularly limited. The number of divisions may be determined according to. Specifically, when a glass substrate 1 of 1600 mm × 1600 mm is used as a mother substrate, and an area of an inch size of about 50 inches to 30 inches is to be cut, the area is cut into 2 to 15 areas. Then, the groove 2 may be formed in the glass substrate 1 in advance.
[0053]
Further, in the above-described example, when the groove 2 is formed in advance on the glass substrate 1, the surface on which the groove 2 is formed is opposite to the surface on which the structure of the PDP is formed. In order to improve the shape, the glass substrate 1 may be formed on both sides. Also in this case, it is preferable that the depth of each groove 2 be equal to or less than 1/10 of the thickness of the glass substrate 1. At this time, it is preferable to form the resin layer 4 on the surface of each groove 2.
[0054]
Further, if necessary, by chamfering or polishing the cross section cut by the groove 2 of the glass substrate 1, the reduction in strength due to micro cracks generated at the time of cutting the regions 3a, 3b, 3c is suppressed. It is possible to do. In this case, it is efficient if the above-described step of removing the resin layer 4 also serves as the step of polishing the fractured surface.
[0055]
In addition, the width of the resin layer 4 may be in a range that covers the surface of the groove 2, but as long as the structure 111 of the PDP 100 is not affected, as shown in FIG. The range may be covered. Here, FIG. 6B is a sectional view taken along the line XX in FIG. 6A.
[0056]
As a specific configuration described above, for example, a configuration in which the resin layer 4 is applied within a range of 200 μm from each edge of the groove 2 can be given. Here, the reason why the width of the resin layer 4 is set to be within 200 μm from each edge of the groove 2 is that the present inventors performed cutting using a conventional glass substrate without the resin layer 4, Thereafter, when the glass substrate was observed by epi-illumination, it was confirmed that the initial scattering distance of the glass powder generated by the cleavage was within 200 μm around the fractured surface. It is considered that the reason why the glass powder adheres to the structure 111 of the PDP 100 is that the glass powder moves on the glass substrate 1 or re-floats.
[0057]
Therefore, by forming the resin layer 4 on the surface of the groove 2, the glass powder generated from the fractured surface at the time of cleaving is fixed and fixed by the resin layer 4 and hardly scattered, so that it is greatly suppressed. However, if there is still scattering glass powder and this is a problem, the resin layer 4 is formed in a range of 200 μm from each edge of the groove 2 and the resin layer 4 is formed. This is based on the idea that the scattering of the glass powder is suppressed by fixing and fixing the scattered glass powder with the resin layer 4 due to the slight adhesiveness of the surface. In addition, even in such a configuration, there is an advantage that the glass powder can be removed at the same time when the resin layer 4 is removed.
[0058]
In the above description, an example was given in which the mother substrate for obtaining the substrate of the plasma display panel was the glass substrate 1. However, the present invention is not particularly limited thereto. According to the present invention, a similar effect can be obtained.
[0059]
Hereinafter, the results of experiments performed to evaluate the performance of the PDP manufactured by the PDP manufacturing method of the present invention will be described.
[0060]
First, the resin layer 4 is a water-soluble resin layer, and a material ink (hereinafter, referred to as a water-soluble resin ink) is used. A water-soluble resin component is hydroxypropyl cellulose having an average molecular weight of 300,000. As a polyhydric alcohol derivative having the following formula, 3-methoxy-3-methylbutanol is used, 10% by weight of hydroxypropylcellulose and 90% by weight of 3-methoxy-3-methylbutanol are mixed, and the mixture is uniformly heated at 100 ° C. After mixing, the mixture was cooled to room temperature, and then filtered through a filter having an opening of 5 μm to remove aggregates and foreign substances. The viscosity of this water-soluble resin ink was about 10,000 centipoise.
[0061]
Incidentally, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, octyl decyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate It is also effective to add one or more plasticizers at 5% by weight or less based on the total weight of the water-soluble resin ink to improve the leveling property after application.
[0062]
In addition, since the above-mentioned water-soluble resin ink has a hydroxypropyl cellulose resin and a solvent 3-methoxy-3-methylbutanol that are freely mixed with water, the glass substrate 1 is cut and then washed by a water washing step. It can be easily removed.
[0063]
The water-soluble resin ink prepared as described above is drawn on the groove 2 of the glass substrate 1 using a dispenser, dried at 100 ° C. for 15 minutes after belling for 5 minutes, and then cooled to room temperature. did. When the shape of the resin layer 4 made of the water-soluble resin layer was measured after drying, the thickness was 10 μm on average, and the width was about 190 μm from each edge of the groove 4.
[0064]
Then, each of the structures 111 of the PDP 100 is formed on the glass substrate 1 serving as the front panel and the glass substrate 1 serving as the back panel as described above.
[0065]
Next, an external force is applied to the vicinity of the groove 2 from the side of the glass substrate 1 where the groove 2 is not formed, and the glass substrate 1 is cut along the groove 2.
[0066]
Then, R polishing of the fractured surface is performed so that chipping or cracking from the fractured surface does not occur in the subsequent baking step or during transportation. Then, at the time of washing with water after the end of the round polishing, the resin layer 4 of the water-soluble resin layer is removed at the same time.
[0067]
Here, after the resin layer 4 was removed by washing with water, the vicinity of the cut portions at the ends of the front glass substrate 101 and the rear glass substrate 102 constituting the front panel and the rear panel was observed by epi-illumination. I was not able to admit.
[0068]
This is because, in the above-described configuration, the glass powder scattered at the time of cutting is captured by the ductility of the resin layer 4 or the scattering speed is suppressed, so that most of the generated glass powder is reduced by the resin layer 4. Therefore, it is considered that when the resin layer 4 is removed by washing with water, the glass powder scattered and adhered thereon is also removed at the same time.
[0069]
The front panel and the rear panel manufactured as described above are overlapped so that the electrodes 103 and 104 of the front panel and the address electrodes 107 of the rear panel are orthogonal to each other, and a sealing glass is inserted around the panel. This was baked at, for example, about 450 ° C. for 10 to 20 minutes to form an airtight seal layer 121 (FIG. 2), thereby sealing. Then, once the inside of the discharge space 122 is vacuumed (for example, 1.1 × 10 -4 After evacuation to Pa), a discharge gas (for example, a He-Xe-based or Ne-Xe-based inert gas) was sealed at a predetermined pressure to produce PDP100.
[0070]
In the PDP manufactured as described above, the occurrence of lighting failure and insulation withstand voltage failure, which are considered to be caused by foreign matter inside the PDP, as conventionally seen, can be significantly suppressed, and a good image display can be performed. It was confirmed.
[0071]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION As mentioned above, according to this invention, it can suppress that the glass powder which generate | occur | produces at the time of cutting | disconnecting a glass substrate and which produces the defect of a PDP at the time of PDP manufacture can be suppressed, and, therefore, multi-paneling is possible. A method of manufacturing a PDP can be realized.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view and a partial cross-sectional view of a glass substrate for a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a plasma display panel manufactured by a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a partial cross-sectional perspective view showing a schematic configuration of a plasma display panel manufactured by a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a plasma display panel manufactured by a method of manufacturing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a block diagram showing a schematic configuration of a plasma display device using the plasma display panel manufactured by the method for manufacturing a plasma display panel according to one embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a plan view and a partial cross-sectional view of a glass substrate for a plasma display panel according to another embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Glass substrate
2 groove
3a, 3b, 3c area
4 Resin layer
