JP2004107264A - アリールエチニルピラゾール類の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡便な操作及び安価な試薬で収率よく複素環芳香族ハロゲン化合物とアリールアセチレン類のカップリング反応を行うことができる
【解決手段】ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基の存在下で反応させることを特徴とするアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
【選択図】 なし
【解決手段】ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基の存在下で反応させることを特徴とするアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は医農薬品として有用なアセチレン誘導体の製造方法に関し、特に農薬として有用なアリールエチニルピラゾール類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハロゲン化合物、特に芳香族ハロゲン化物とアセチレン類とのカップリング反応は、Ｐｄ化合物／ＰＰｈ３のようなホスフィン配位子／ＣｕＩ等のハロゲン化銅という触媒成分の存在下に行われることが知られており、一般的には園頭反応と呼ばれている。
【０００３】
この反応は、芳香族ハロゲン化合物だけでなく複素環芳香族ハロゲン化合物にも適用可能であることが知られており、例えば、ピラゾール類とアセチレン類のとのカップリング反応が酢酸パラジウム、ＰＰｈ３、ＣｕＩという組み合わせの触媒成分と塩基の存在下で進行することが知られている（特許文献１参照）。しかし、このようにＰｄ、ＰＰｈ３及びＣｕという多成分からなる触媒系を用いた反応は、コストの点や反応後の触媒除去及び再利用といった操作が煩雑となる点から工業的にはあまり好ましくない。加えて、Ｐｄ化合物という高価な触媒を１５ｍｏｌ％も用いているにもかかわらず、例えば、１−エチル−４−ヨード−３−メチルピラゾール−５−イル酢酸メチルと３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレンとの反応（合成例−３参照）では収率が４８．２％と低く、工業的実施するには不十分である。
【０００４】
又、複素環芳香族ハロゲン化合物である２−ヨードインドールとメチルプロピオレートとのカップリング反応においては、ＣｕＩとＰＰｈ３を触媒成分として用いていることが報告されている（非特許文献１参照）。ここでも、触媒成分としてＰＰｈ３が必須となっている上、収率も５３％と低く工業的に実施するには不十分である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１５８７０４号公報（第８頁、及び第１３−１４頁）
【非特許文献１】Ｊ．Ｃ．Ｓ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ． １， （１９９９）， ｐ．２６６９−２６７０
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように複素環芳香族ハロゲン化合物とアリールアセチレン類とのカップリング反応を実施する上で、高価なＰｄ触媒を用いず、かつ、高収率で工業的に有利に行わせる反応方法が望まれていた。本発明の課題は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類のカップリング反応において工業的に有利に反応させる製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類のカップリング反応において、高価なＰｄ化合物を用いることなく、ハロゲン化銅および塩基の存在下に反応を行うことにより、温和な条件下でカップリング反応が進行することを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち本発明の要旨は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基の存在下で反応させることを特徴とするアリールエチニルピラゾール類の製造方法に存する。
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基からなる反応触媒を用いることを特徴とするものである。
（ハロゲン化ピラゾール類）
本発明に用いられるハロゲン化ピラゾール類は、ハロゲン原子が３位、４位、５位の何れに置換していても良く、ピラゾール環上にはハロゲン原子以外の置換基が結合してもよい。これらのうちハロゲン化ピラゾール類としては、一般式（１）で表されるハロゲン化ピラゾール類を用いることが好ましい。
【００１０】
【化４】
【００１１】
上記Ｒ１は、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子といったハロゲン原子；メチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、エチル基、メトキシメチル基、ｔ−ブチル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロオクチル基、アセチルメチル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルキル基；ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、スチリル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルケニル基；エチニル基、２−フェニルエチニル基、２−（ｐ−クロロフェニル）エチニル基、２−トリメチルシリルエチニル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルキニル基；メトキシ基、エトキシ基、ベンジロキシ基、２−メトキシエトキシ基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルコキシ基；又はフェニル基、ナフチル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−トリル基、４−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３，６−ジ−ｔ−ブチルナフチル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアリール基である。
【００１２】
これらのうち、Ｒ１としては、メチル基、エチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペルフルオロブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はハロアルキル基が好ましく、更に好ましくはハロアルキル基であり、特にトリフルオロメチル基が好ましい。
【００１３】
上記Ｒ２は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、又は置換されていても良いアリール基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基が例示される。
【００１４】
ハロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ペルフルオロブチル基等の炭素数１〜２０のハロアルキル基が例示される。
置換されていても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−トリル基、４−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３，６−ジ−ｔ−ブチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基が例示される。
【００１５】
これらのうちＲ２は水素原子、アルキル基又はハロアルキル基が好ましく、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に、メチル基、エチル基、ブチル基のような炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
Ｒ３は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；又はフェニル基、ナフチル基等のアリール基を示す。ここで、上記アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ましく、アラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、アリール基としては、炭素数６〜１２のものが好ましい。これらのうち、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基が好ましく、特に、メチル基又はエチル基が好ましい。
【００１６】
Ｘは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を示し、このうち、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、特にヨウ素原子が好ましい。
（アリールアセチレン類）
本発明のアリールアセチレン類としては、フェニルアセチレン、置換フェニルアセチレン、α−ナフチルアセチレン等が例示される。これらのうち、下記一般式（２）で表される置換フェニルアセチレンが好ましい。
【００１７】
【化５】
【００１８】
Ｒ４は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子といったハロゲン原子；メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロオクチル基等のアルキル基；クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−ブロモシクロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロオクチル基、５−ヨウ化ペンチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等のアルコキシ基；クロロメトキシ基、クロロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基等のハロアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等のアルキルチオ基；又はトリフルオロメチルチオ基、トリフルオロエチルチオ基、クロロプロピルチオ基等のハロアルキルチオ基である。
【００１９】
このうち、上記アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基及びハロアルキルチオ基としては炭素数１〜８のものが好ましい。
これらのうち、Ｒ４としては、ハロゲン原子、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基が好ましく、より好ましくは、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のハロアルキル基であり、特に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基が好ましい。
【００２０】
ｎは０から５の整数を表すが、１又は２が好ましい。
アリールアセチレン類の使用量は、ハロゲン化ピラゾール類に対して、通常、１当量以上用いられ、好ましくはアリールアセチレンを小過剰以上用いるのがよく、具体的には１．０１当量以上、より好ましくは１．１当量以上用いられる。但し、あまり過剰すぎるとコスト及び未反応分の除去の点から好ましくないため、通常、１０当量以下、好ましくは５当量以下、更に好ましくは３当量以下の範囲で用いられる。
【００２１】
（ハロゲン化銅）
触媒として用いるハロゲン化銅は、フッ化第１銅、塩化第１銅、臭化第１銅、ヨウ化第１銅の様な１価のハロゲン化銅や、塩化第２銅、臭化第２銅、ヨウ化第２銅のような２価のハロゲン化銅が例示される。これらのうち、アセチレン化合物自身の２量化反応を抑制するためには、１価のハロゲン化銅が好ましく、更に塩化第１銅、臭化第１銅又はヨウ化第１銅が好ましく、ヨウ化第１銅が特に好ましい。
【００２２】
ハロゲン化銅の使用量は、特に制限されるものではないが、経済性、反応後の処理の簡便さの点から、アリールアセチレン類に対して１当量未満用いられ、好ましくは０．８等量以下、更に好ましくは０．５等量以下用いられる。下限は反応性に依存するが、通常０．０１当量以上、好ましくは０．１当量以上用いる。
ハロゲン化銅は触媒として作用するが、反応に影響を及ぼさない錯形成するような添加物を加え、反応を実施することもできる。添加物としては、２，２‘−ビピリジルの様な含窒素配位子、ｎ−ブチルアンモニウムブロミドのようなアンモニウム塩が例示される。
【００２３】
（塩基）
本反応は塩基の存在下に行う。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基；又は、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン等のアミン類を用いることができる。これらのうち、経済性の点から無機塩基が好ましく、更には、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩が好ましい。
【００２４】
塩基の使用量は、ハロゲン化ピラゾール類に対して、１当量以上用いる。経済性の点ならびに反応性の点から使用量は決められるが、１０当量までの範囲で選択することができる。好ましくは５当量以下、更に好ましくは３当量以下の範囲で選択することができる。
（反応様式）
本反応は、基質が液体の場合は無溶媒で反応を行っても良いが、通常、溶媒が用いられる。本反応に用いられる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されないが、沸点が８０℃以上であることが好ましい。例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ＤＭＩ、ＨＭＰＡ、ＤＭＳＯ、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒；又は、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒等が例示される。これらのうち好ましくはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド基を含有する極性溶媒が挙げられる。
【００２５】
溶媒の使用量は、基質に対して体積／重量比で１倍〜１０００倍であり、好ましくは２〜１００倍の範囲が、特に好ましくは５〜２０倍の範囲が挙げられる。
反応温度は、反応が実質的に進行するためには８０℃以上の温度が必要である。好ましくは９０℃、更に好ましくは１００℃から１２０℃の範囲である。
反応は、空気下で行うこともできるが、アセチレン化合物の２量化反応を抑制するために、窒素、アルゴンのような不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００２６】
反応方法は、常圧下において溶媒中、
（１）アリールアセチレン類、ハロゲン化銅と塩基を混合させてから所定量のハロゲン化ピラゾール類を添加し、次いで加熱する方法、
（２）アリールアセチレン化合物、ハロゲン化銅と塩基を混合し、所定温度に加熱したところに、ハロゲン化ピラゾール類を添加する方法、
（３）ハロゲン化ピラゾール類、ハロゲン化銅と塩基を混合させたところにアリールアセチレン類を添加し、所定温度に加熱する方法、
（４）ハロゲン化ピラゾール類、ハロゲン化銅と塩基の混合し、所定温度に加熱したところに、アリールアセチレン類を所定量添加する方法、
の何れの方法を用いることができるが、アリールアセチレン類はハロゲン化銅と反応して銅アセチリドを形成してから、ハロゲン化ピラゾール類と反応することが推測され、このことから、アリールアセチレン類とハロゲン化銅を予め混合させておく方法である上記（１）又は（２）が好ましい。
【００２７】
反応時間は特に限定されるものではないが、通常１時間〜３６時間、好ましくは１〜２４時間で実施される。
反応終了後は通常の後処理方法により行うことができる。使用した銅塩を除去するために、反応液を塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、銅−アミン錯体として水層に除去することができる。その後抽出、洗浄操作を実施し、晶析、蒸留、カラム精製により目的物を単離することができる。場合によっては、単離することなく次工程に供する事も可能である。
【００２８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００２９】
【実施例】
（参考例１） ３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オールの合成
３，５−ビストリフロオルメチルブロムベンゼン３．０ｇ（１０．２４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．５ｍｌ、ＤＭＦ１０ｍｌ混合溶液中に、窒素ガスをバブリングしながらトリフェニルホスフィン５３ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ／Ｃ２１６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ） ３８．８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下３５℃で３０分間攪拌した。窒素雰囲気下で８０℃に昇温し、同温で３−メチル−１−ブチン−３−オル９２７ｍｇ（１１ｍｍｏｌ）を４０分かけて滴下し、滴下終了後８０℃で３時間半攪拌した。２０℃まで冷却し、不要物をろ過した。ろ液に酢酸エチルおよび氷水を加えて分液した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オールの粗体３．１ｇを薄黄色固体目的物として得た。収率は定量的だった。
【００３０】
融点：７４．５−７４．８℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．８５（２Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｓ），１．６５（６Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６３．２４（ＣＦ３，ｓ）。
（参考例２） ３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレンの合成
窒素雰囲気下で、５０ｍＬの三口フラスコに３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オール１０．０ｇ（３３．８ｍｍｏｌ）を加え、続いて粉末状水酸化カリウム０．９ｇ（０．４６ｅｑｕｉｖ）と流動パラフィン１０ｍＬを仕込んだ。減圧蒸留装置を組んで、減圧で副生成物のアセトンを除去しながら加熱反応を継続した。オイルバス温度を８５℃に保って、１時間反応継続したところ、アセトンの流出が認められなくなり、この時点で反応を終了した。
【００３１】
５０ｍＬのジエチルエーテルで流出物を希釈し、その後１５ｍＬの飽和食塩水で二回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン６．５５ｇを透明無色溶液として得た。単離収率８１．５％。純度９２．６％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
沸点：１４２．０−１４２．５℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．９２（２Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｓ），３．２７（１Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６３．２６（ＣＦ３，ｓ）。
【００３２】
実施例１
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５０ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４．４ｇ（６０．４ｍｍｏｌ； １．０５ｅｑｕｉｖ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）３．２９ｇ（０．３ｅｑｕｉｖ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム９．５４ｇ（１．２ｅｑｕｉｖ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２０ｇ（５７．５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち２．５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル２００ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２８．５ｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）１８．９ｇ （４１．２ｍｍｏｌ）を得た。単離収率７２％。純度９８．６％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
融点：１４８．４−１４８．７℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．９０（２Ｈ，ｓ），７．８３（１Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），３．８８（２Ｈ，ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６２．２４，−６３．１５。
元素分析：Ｃ１８Ｈ１１Ｆ９Ｎ２Ｏ２の計算値：Ｃ４７．１８，Ｈ２．４２，Ｎ６．１１，Ｆ３７．３１。測定値：Ｃ４７．８６，Ｈ１．６４，Ｎ６．３０，Ｆ３５．７０％。
【００３３】
（実施例２）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）０．３２９ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸セシウム２．２５ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち２時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体３．１５ｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）１．９７ｇを得た。単離収率７５％。純度９８．９％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
【００３４】
（実施例３）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４４ｍｇ（０．６０４ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）３３ｍ ｇ（０．１７３ｍｍｏｌ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム９０ｍｇ（０．６５１ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を９５℃に保ち５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２８０ｍｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）２００ｍｇを得た。単離収率７６％。
【００３５】
（実施例４）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いて塩化銅（Ｉ）０．１７１ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム０．９５４ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち３時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体３．０ｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は９２％、目的物の収率は７６％であった。
【００３６】
（実施例５）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いて臭化銅（Ｉ）０．２４８ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム０．９５４ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち４時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２．９５ｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は８６％、目的物の収率は６１％であった。
【００３７】
（実施例６）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに２，２‘−ビピリジル１８ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１６４ｍｇ（０．６９ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）２２ｍ ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム９５ｍｇ（０．６９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１１０℃に保ち４．５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２９０ｍｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は９１％、目的物の収率は５７％であった。
【００３８】
（実施例７）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４４ｍｇ（０．６０４ｍｍｏｌ）、続いてｎ−ブチルアンモニウムブロミド５５ｍｇ（０．１７３ｍｍｏｌ），ヨウ化銅（Ｉ）３３ｍ ｇ（０．１７３ｍｍｏｌ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム８８ｍｇ（０．６２３ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１００℃に保ち７時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２９０ｍｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は７３％、目的物の収率は５５％であることが分かった。
【００３９】
【発明の効果】
本発明によれば、簡便な操作及び安価な試薬で収率よく複素環芳香族ハロゲン化合物とアリールアセチレン類のカップリング反応を行うことができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は医農薬品として有用なアセチレン誘導体の製造方法に関し、特に農薬として有用なアリールエチニルピラゾール類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハロゲン化合物、特に芳香族ハロゲン化物とアセチレン類とのカップリング反応は、Ｐｄ化合物／ＰＰｈ３のようなホスフィン配位子／ＣｕＩ等のハロゲン化銅という触媒成分の存在下に行われることが知られており、一般的には園頭反応と呼ばれている。
【０００３】
この反応は、芳香族ハロゲン化合物だけでなく複素環芳香族ハロゲン化合物にも適用可能であることが知られており、例えば、ピラゾール類とアセチレン類のとのカップリング反応が酢酸パラジウム、ＰＰｈ３、ＣｕＩという組み合わせの触媒成分と塩基の存在下で進行することが知られている（特許文献１参照）。しかし、このようにＰｄ、ＰＰｈ３及びＣｕという多成分からなる触媒系を用いた反応は、コストの点や反応後の触媒除去及び再利用といった操作が煩雑となる点から工業的にはあまり好ましくない。加えて、Ｐｄ化合物という高価な触媒を１５ｍｏｌ％も用いているにもかかわらず、例えば、１−エチル−４−ヨード−３−メチルピラゾール−５−イル酢酸メチルと３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレンとの反応（合成例−３参照）では収率が４８．２％と低く、工業的実施するには不十分である。
【０００４】
又、複素環芳香族ハロゲン化合物である２−ヨードインドールとメチルプロピオレートとのカップリング反応においては、ＣｕＩとＰＰｈ３を触媒成分として用いていることが報告されている（非特許文献１参照）。ここでも、触媒成分としてＰＰｈ３が必須となっている上、収率も５３％と低く工業的に実施するには不十分である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−１５８７０４号公報（第８頁、及び第１３−１４頁）
【非特許文献１】Ｊ．Ｃ．Ｓ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ． １， （１９９９）， ｐ．２６６９−２６７０
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように複素環芳香族ハロゲン化合物とアリールアセチレン類とのカップリング反応を実施する上で、高価なＰｄ触媒を用いず、かつ、高収率で工業的に有利に行わせる反応方法が望まれていた。本発明の課題は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類のカップリング反応において工業的に有利に反応させる製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類のカップリング反応において、高価なＰｄ化合物を用いることなく、ハロゲン化銅および塩基の存在下に反応を行うことにより、温和な条件下でカップリング反応が進行することを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち本発明の要旨は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基の存在下で反応させることを特徴とするアリールエチニルピラゾール類の製造方法に存する。
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法は、ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基からなる反応触媒を用いることを特徴とするものである。
（ハロゲン化ピラゾール類）
本発明に用いられるハロゲン化ピラゾール類は、ハロゲン原子が３位、４位、５位の何れに置換していても良く、ピラゾール環上にはハロゲン原子以外の置換基が結合してもよい。これらのうちハロゲン化ピラゾール類としては、一般式（１）で表されるハロゲン化ピラゾール類を用いることが好ましい。
【００１０】
【化４】
上記Ｒ１は、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子といったハロゲン原子；メチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、エチル基、メトキシメチル基、ｔ−ブチル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロオクチル基、アセチルメチル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルキル基；ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、スチリル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルケニル基；エチニル基、２−フェニルエチニル基、２−（ｐ−クロロフェニル）エチニル基、２−トリメチルシリルエチニル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルキニル基；メトキシ基、エトキシ基、ベンジロキシ基、２−メトキシエトキシ基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアルコキシ基；又はフェニル基、ナフチル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−トリル基、４−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３，６−ジ−ｔ−ブチルナフチル基等の本反応に不活性な基で置換されていても良いアリール基である。
【００１２】
これらのうち、Ｒ１としては、メチル基、エチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペルフルオロブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はハロアルキル基が好ましく、更に好ましくはハロアルキル基であり、特にトリフルオロメチル基が好ましい。
【００１３】
上記Ｒ２は、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基、又は置換されていても良いアリール基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基が例示される。
【００１４】
ハロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ペルフルオロブチル基等の炭素数１〜２０のハロアルキル基が例示される。
置換されていても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−トリル基、４−ニトロフェニル基、３−シアノフェニル基、３，６−ジ−ｔ−ブチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基が例示される。
【００１５】
これらのうちＲ２は水素原子、アルキル基又はハロアルキル基が好ましく、より好ましくは水素原子又はアルキル基であり、特に、メチル基、エチル基、ブチル基のような炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
Ｒ３は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；又はフェニル基、ナフチル基等のアリール基を示す。ここで、上記アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ましく、アラルキル基としては、炭素数７〜２０のものが好ましく、アリール基としては、炭素数６〜１２のものが好ましい。これらのうち、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基が好ましく、特に、メチル基又はエチル基が好ましい。
【００１６】
Ｘは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子を示し、このうち、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、特にヨウ素原子が好ましい。
（アリールアセチレン類）
本発明のアリールアセチレン類としては、フェニルアセチレン、置換フェニルアセチレン、α−ナフチルアセチレン等が例示される。これらのうち、下記一般式（２）で表される置換フェニルアセチレンが好ましい。
【００１７】
【化５】
Ｒ４は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子といったハロゲン原子；メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロオクチル基等のアルキル基；クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−ブロモシクロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロオクチル基、５−ヨウ化ペンチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等のアルコキシ基；クロロメトキシ基、クロロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基等のハロアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等のアルキルチオ基；又はトリフルオロメチルチオ基、トリフルオロエチルチオ基、クロロプロピルチオ基等のハロアルキルチオ基である。
【００１９】
このうち、上記アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基及びハロアルキルチオ基としては炭素数１〜８のものが好ましい。
これらのうち、Ｒ４としては、ハロゲン原子、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基が好ましく、より好ましくは、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のハロアルキル基であり、特に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基が好ましい。
【００２０】
ｎは０から５の整数を表すが、１又は２が好ましい。
アリールアセチレン類の使用量は、ハロゲン化ピラゾール類に対して、通常、１当量以上用いられ、好ましくはアリールアセチレンを小過剰以上用いるのがよく、具体的には１．０１当量以上、より好ましくは１．１当量以上用いられる。但し、あまり過剰すぎるとコスト及び未反応分の除去の点から好ましくないため、通常、１０当量以下、好ましくは５当量以下、更に好ましくは３当量以下の範囲で用いられる。
【００２１】
（ハロゲン化銅）
触媒として用いるハロゲン化銅は、フッ化第１銅、塩化第１銅、臭化第１銅、ヨウ化第１銅の様な１価のハロゲン化銅や、塩化第２銅、臭化第２銅、ヨウ化第２銅のような２価のハロゲン化銅が例示される。これらのうち、アセチレン化合物自身の２量化反応を抑制するためには、１価のハロゲン化銅が好ましく、更に塩化第１銅、臭化第１銅又はヨウ化第１銅が好ましく、ヨウ化第１銅が特に好ましい。
【００２２】
ハロゲン化銅の使用量は、特に制限されるものではないが、経済性、反応後の処理の簡便さの点から、アリールアセチレン類に対して１当量未満用いられ、好ましくは０．８等量以下、更に好ましくは０．５等量以下用いられる。下限は反応性に依存するが、通常０．０１当量以上、好ましくは０．１当量以上用いる。
ハロゲン化銅は触媒として作用するが、反応に影響を及ぼさない錯形成するような添加物を加え、反応を実施することもできる。添加物としては、２，２‘−ビピリジルの様な含窒素配位子、ｎ−ブチルアンモニウムブロミドのようなアンモニウム塩が例示される。
【００２３】
（塩基）
本反応は塩基の存在下に行う。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩基；又は、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン等のアミン類を用いることができる。これらのうち、経済性の点から無機塩基が好ましく、更には、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩が好ましい。
【００２４】
塩基の使用量は、ハロゲン化ピラゾール類に対して、１当量以上用いる。経済性の点ならびに反応性の点から使用量は決められるが、１０当量までの範囲で選択することができる。好ましくは５当量以下、更に好ましくは３当量以下の範囲で選択することができる。
（反応様式）
本反応は、基質が液体の場合は無溶媒で反応を行っても良いが、通常、溶媒が用いられる。本反応に用いられる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定されないが、沸点が８０℃以上であることが好ましい。例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ＤＭＩ、ＨＭＰＡ、ＤＭＳＯ、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒；又は、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒等が例示される。これらのうち好ましくはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド基を含有する極性溶媒が挙げられる。
【００２５】
溶媒の使用量は、基質に対して体積／重量比で１倍〜１０００倍であり、好ましくは２〜１００倍の範囲が、特に好ましくは５〜２０倍の範囲が挙げられる。
反応温度は、反応が実質的に進行するためには８０℃以上の温度が必要である。好ましくは９０℃、更に好ましくは１００℃から１２０℃の範囲である。
反応は、空気下で行うこともできるが、アセチレン化合物の２量化反応を抑制するために、窒素、アルゴンのような不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００２６】
反応方法は、常圧下において溶媒中、
（１）アリールアセチレン類、ハロゲン化銅と塩基を混合させてから所定量のハロゲン化ピラゾール類を添加し、次いで加熱する方法、
（２）アリールアセチレン化合物、ハロゲン化銅と塩基を混合し、所定温度に加熱したところに、ハロゲン化ピラゾール類を添加する方法、
（３）ハロゲン化ピラゾール類、ハロゲン化銅と塩基を混合させたところにアリールアセチレン類を添加し、所定温度に加熱する方法、
（４）ハロゲン化ピラゾール類、ハロゲン化銅と塩基の混合し、所定温度に加熱したところに、アリールアセチレン類を所定量添加する方法、
の何れの方法を用いることができるが、アリールアセチレン類はハロゲン化銅と反応して銅アセチリドを形成してから、ハロゲン化ピラゾール類と反応することが推測され、このことから、アリールアセチレン類とハロゲン化銅を予め混合させておく方法である上記（１）又は（２）が好ましい。
【００２７】
反応時間は特に限定されるものではないが、通常１時間〜３６時間、好ましくは１〜２４時間で実施される。
反応終了後は通常の後処理方法により行うことができる。使用した銅塩を除去するために、反応液を塩化アンモニウム水溶液で洗浄し、銅−アミン錯体として水層に除去することができる。その後抽出、洗浄操作を実施し、晶析、蒸留、カラム精製により目的物を単離することができる。場合によっては、単離することなく次工程に供する事も可能である。
【００２８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００２９】
【実施例】
（参考例１） ３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オールの合成
３，５−ビストリフロオルメチルブロムベンゼン３．０ｇ（１０．２４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．５ｍｌ、ＤＭＦ１０ｍｌ混合溶液中に、窒素ガスをバブリングしながらトリフェニルホスフィン５３ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、５％Ｐｄ／Ｃ２１６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ） ３８．８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下３５℃で３０分間攪拌した。窒素雰囲気下で８０℃に昇温し、同温で３−メチル−１−ブチン−３−オル９２７ｍｇ（１１ｍｍｏｌ）を４０分かけて滴下し、滴下終了後８０℃で３時間半攪拌した。２０℃まで冷却し、不要物をろ過した。ろ液に酢酸エチルおよび氷水を加えて分液した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オールの粗体３．１ｇを薄黄色固体目的物として得た。収率は定量的だった。
【００３０】
融点：７４．５−７４．８℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．８５（２Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｓ），１．６５（６Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６３．２４（ＣＦ３，ｓ）。
（参考例２） ３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレンの合成
窒素雰囲気下で、５０ｍＬの三口フラスコに３−メチル−１−（３，５−ビストリフルオルメチルフェニル）−１−ブチン−３−オール１０．０ｇ（３３．８ｍｍｏｌ）を加え、続いて粉末状水酸化カリウム０．９ｇ（０．４６ｅｑｕｉｖ）と流動パラフィン１０ｍＬを仕込んだ。減圧蒸留装置を組んで、減圧で副生成物のアセトンを除去しながら加熱反応を継続した。オイルバス温度を８５℃に保って、１時間反応継続したところ、アセトンの流出が認められなくなり、この時点で反応を終了した。
【００３１】
５０ｍＬのジエチルエーテルで流出物を希釈し、その後１５ｍＬの飽和食塩水で二回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン６．５５ｇを透明無色溶液として得た。単離収率８１．５％。純度９２．６％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
沸点：１４２．０−１４２．５℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．９２（２Ｈ，ｓ），７．８４（１Ｈ，ｓ），３．２７（１Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６３．２６（ＣＦ３，ｓ）。
【００３２】
実施例１
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５０ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４．４ｇ（６０．４ｍｍｏｌ； １．０５ｅｑｕｉｖ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）３．２９ｇ（０．３ｅｑｕｉｖ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム９．５４ｇ（１．２ｅｑｕｉｖ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２０ｇ（５７．５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち２．５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル２００ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２８．５ｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）１８．９ｇ （４１．２ｍｍｏｌ）を得た。単離収率７２％。純度９８．６％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
融点：１４８．４−１４８．７℃；１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．９０（２Ｈ，ｓ），７．８３（１Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），３．８８（２Ｈ，ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ）；１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；外部標準：Ｃ６Ｆ６）δ（ｐｐｍ）＝−６２．２４，−６３．１５。
元素分析：Ｃ１８Ｈ１１Ｆ９Ｎ２Ｏ２の計算値：Ｃ４７．１８，Ｈ２．４２，Ｎ６．１１，Ｆ３７．３１。測定値：Ｃ４７．８６，Ｈ１．６４，Ｎ６．３０，Ｆ３５．７０％。
【００３３】
（実施例２）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）０．３２９ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸セシウム２．２５ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち２時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体３．１５ｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）１．９７ｇを得た。単離収率７５％。純度９８．９％（ＨＰＬＣ内部標準法）。
【００３４】
（実施例３）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４４ｍｇ（０．６０４ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）３３ｍ ｇ（０．１７３ｍｍｏｌ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム９０ｍｇ（０．６５１ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を９５℃に保ち５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２８０ｍｇを薄黄色固体として得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再結晶し、白色粉末（針状結晶）２００ｍｇを得た。単離収率７６％。
【００３５】
（実施例４）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いて塩化銅（Ｉ）０．１７１ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム０．９５４ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち３時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体３．０ｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は９２％、目的物の収率は７６％であった。
【００３６】
（実施例５）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１．５１ｇ（６．３３ｍｍｏｌ）、続いて臭化銅（Ｉ）０．２４８ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム０．９５４ｇ（６．９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２．０ｇ（５．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１０５℃に保ち４時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５０ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２．９５ｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は８６％、目的物の収率は６１％であった。
【００３７】
（実施例６）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに２，２‘−ビピリジル１８ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１６４ｍｇ（０．６９ｍｍｏｌ）、続いてヨウ化銅（Ｉ）２２ｍ ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を加えた。１５分間攪拌してから炭酸カリウム９５ｍｇ（０．６９ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１１０℃に保ち４．５時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２９０ｍｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は９１％、目的物の収率は５７％であった。
【００３８】
（実施例７）
窒素雰囲気下で、脱気ＤＭＦ２．５ｍＬに３，５−ビストリフルオロメチルフェニルアセチレン１４４ｍｇ（０．６０４ｍｍｏｌ）、続いてｎ−ブチルアンモニウムブロミド５５ｍｇ（０．１７３ｍｍｏｌ），ヨウ化銅（Ｉ）３３ｍ ｇ（０．１７３ｍｍｏｌ）を加えた。１０分間攪拌してから炭酸カリウム８８ｍｇ（０．６２３ｍｍｏｌ）と１−メチル−４−ヨード−３−トリフルオロメチルピラゾール−５−イル酢酸メチル２００ｍｇ（０．５７５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を１００℃に保ち７時間攪拌した。２０℃まで冷却し、酢酸エチル５ｍＬを反応液に加え、不溶物を濾過した。濾液に飽和の濃度の塩化アモニウム溶液を加えて分液し、その後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ過により除いて得られた溶液を濃縮し、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルエチニル］ピラゾール−５−イル−酢酸メチルの粗体２９０ｍｇを薄黄色固体として得た。ＨＰＬＣ内部標準法により定量した結果、反応の転化率は７３％、目的物の収率は５５％であることが分かった。
【００３９】
【発明の効果】
本発明によれば、簡便な操作及び安価な試薬で収率よく複素環芳香族ハロゲン化合物とアリールアセチレン類のカップリング反応を行うことができる。
Claims (7)
- ハロゲン化ピラゾール類とアリールアセチレン類とを反応させアリールエチニルピラゾール類を製造するに当たり、ハロゲン化銅及び塩基の存在下で反応させることを特徴とするアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
- ハロゲン化ピラゾール類が下記一般式（１）で表される２−（５−ピラゾリル）酢酸エステル誘導体であり、アリールアセチレン類が下記一般式（２）で表されるフェニルアセチレン誘導体であり、アリールエチニルピラゾール類が下記一般式（３）で表される４−アリールエチニルピラゾール誘導体であることを特徴とする請求項１に記載のアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
- Ｒ１がハロアルキル基であることを特徴とする請求項１又は２に記載のアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
- Ｒ２がアルキル基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
- Ｘのハロゲン原子がヨウ素原子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
- Ｒ４がハロゲン原子、ハロアルキル基又はハロアルコキシ基であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のアリールピラゾール類の製造方法。
- ハロゲン化銅の使用量が、アセチレン誘導体に対して１当量未満であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のアリールエチニルピラゾール類の製造方法。
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