JP2004091291A - Glass plate, glass substrate for electrooptical panel, electrooptical panel, method for producing glass plate, method for producing glass substrate for electrooptical panel, method for producing electrooptical panel, and electronic equipment - Google Patents

Glass plate, glass substrate for electrooptical panel, electrooptical panel, method for producing glass plate, method for producing glass substrate for electrooptical panel, method for producing electrooptical panel, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass plate in which flaws and cracks formed on a glass substrate before FED to a production process or caused on the glass substrate in the process of the production process are removed, and the crack strength of the substrate is improved, to provide a method for producing the glass plate, to provide a glass substrate for an electrooptical panel, to provide a method for producing the glass substrate for the electrooptical panel, to provide the electrooptical panel, to provide a method for producing the electrooptical panel, and to provide electronic equipment. <P>SOLUTION: A glass substrate is subjected to etching treatment (stage S1), and chemical strengthening treatment (stage S2). Flaws and cracks formed on the substrate are removed by the etching treatment. Further, its mechanical strength is improved by performing the chemical strengthening treatment in a state where the flaws and cracks are removed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス板や電気光学パネルを構成するガラス基板上に存在する傷やクラックを除去することにより割れ強度を改善したガラス板、電気光学パネル用のガラス基板及び電気光学パネル、これを用いた電子機器に関する。また、本発明は、そのようなガラス板の製造方法、電気光学パネル用のガラス基板の製造方法及び電気光学パネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
電気光学パネルの一例としての液晶パネルは、2枚の透光性基板の間に電気光学物質としての液晶を封入して構成される。この透過性基板としてはガラス基板が使用されることが多く、液晶パネル自体としては、2枚のガラス基板を重ねて貼りあわせた構造となっている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開2001−281435号(第6頁、図1)
【発明が解決しようとする課題】
そのような液晶パネルにおいて、製造工程投入前のガラス基板自体についている傷やクラック、液晶パネル製造工程中にガラス基板に生じた傷やクラックは、液晶パネルに加えられる応力などの要因によって進行する性質があり、携帯電話機などの製品になった後の落下衝撃などにより液晶パネルが割れる原因となる。
【0004】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、製造工程投入前のガラス基板自体に形成されている傷やクラック、液晶パネル製造工程中に基板に生じる傷やクラックを除去して、基板の割れ強度を改善したガラス板、ガラス板の製造方法、電気光学パネル用のガラス基板、電気光学パネル用のガラス基板の製造方法、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法及び電子機器を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
このような課題を解決するため、本発明は以下のような構成を採用している。本発明のガラス板は、表面にエッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とする。
【0006】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることによりガラス板に形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、ガラス板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上するので、非常に割れにくいガラス板を得ることができる。
【0007】
本発明の電気光学パネル用のガラス基板は、表面にエッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とする。
【0008】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることによりガラス基板に形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、ガラス板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上する。従って、このようなガラス基板が備えられた電気光学パネルは、衝撃などにより割れ、破損が生じることが少なくなる。
【0009】
本発明の電気光学パネルは、第1面及び第2面を有する第1基板と、第1面及び第2面を有し、該第1面が前記第1基板の第1面と対向するように配置された第2基板とを具備する電気光学パネルであって、前記第1基板の前記第2面と前記第2基板の前記第2面は、エッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とする。
【0010】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることにより電気光学パネルに形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、電気光学パネル表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上する。従って、電気光学パネルが衝撃などにより割れ、破損が生じることが少なくなる。
【0011】
本発明のガラス板の製造方法は、ガラス板をエッチング処理する工程と、エッチング処理後、前記ガラス板を化学強化処理する工程とを具備することを特徴とする。
【0012】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることによりガラス板に形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、ガラス板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上するので、非常に割れにくいガラス板を得ることができる。
【0013】
本発明の電気光学パネル用のガラス基板の製造方法は、電気光学パネル用のガラス基板をエッチング処理する工程と、エッチング処理後、前記ガラス基板を化学強化処理する工程とを具備することを特徴とする。
【0014】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることによりガラス基板に形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、ガラス板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上する。従って、このようなガラス基板が備えられた電気光学パネルは、衝撃などにより割れ、破損が生じることが少なくなる。
【0015】
本発明の電気光学パネルの製造方法は、第1面及び第2面を有する第1基板と、第1面及び第2面を有する第2基板とを、互いの前記第1面が対向するように配置し、シール材により貼りあわせる工程と、前記シール材により貼り合わせた前記第1基板及び前記第2基板をエッチング処理する工程と、前記エッチング処理後、前記シール材により貼り合わせた前記第1基板及び前記第2基板を化学強化処理する工程とを有することを特徴とする。
【0016】
本発明のこのような構成によれば、エッチング処理が施されることにより電気光学パネルに形成されていた傷やクラックが除去され、その後、化学強化処理が施されることにより、電気光学パネル表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて機械的強度が向上する。従って、電気光学パネルが衝撃などにより割れ、破損が生じることが少なくなる。
【0017】
また、前記第2基板は前記第1基板より張り出した張り出し部を有し、前記貼り合わせ工程後、前記張り出し部の前記第1面に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする。
【0018】
このような構成によれば、張り出し部に電極や配線などが配置されている場合、これらを保護膜により、エッチング処理及び化学強化処理時における薬液から保護することができる。
【0019】
本発明の他の電気光学パネルの製造方法は、第1母基板と第2母基板とを、開曲線状のシール材及び該の開曲線状のシール材を囲む閉曲線状のシール材により貼りあわせる工程と、前記シール材により貼り合わせた前記第1母基板及び前記第2母基板をエッチング処理する工程と、前記エッチング処理後、前記シール材により貼り合わせた前記第1母基板及び前記第2母基板を化学強化処理する工程とを有することを特徴とする。
【0020】
本発明のこのような構成によれば、閉曲線状のシール材、第1基板及び第2基板により密閉空間が形成されているので、この密閉空間内に各処理時に用いられる薬液が入り込むことがなく、基板上に形成されている素子や配線などが侵されることがない。
【0021】
また、前記開曲線状のシール材は複数設けられ、前記化学強化処理工程後、前記第1母基板及び前記第2母基板を切断して、前記開曲線状のシール材を1つ有する電気光学パネルを複数形成する工程とを有することを特徴とする。
【0022】
このように複数の電気光学パネルを、1対の母基板から形成することができ、エッチング処理及び化学強化処理を1対の母基板の状態で一括して行うことができる。
【0023】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学パネル用ガラス基板、上述に記載の電気光学パネル、上述に記載の電気光学パネルの製造方法により製造された電気光学パネルのいずれか1つを備えていることを特徴とする。
【0024】
本発明のこのような構成によれば、電子機器は、機械的強度の高いガラス基板または電気光学パネルを供えているので、衝撃による基板の割れや破損の発生を少なくすることが出来る。
【発明の実施の形態】
以下、電気光学パネルの一例としての液晶パネルを例にあげ、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【0025】
本実施形態においては、電気光学パネルの一例である液晶パネルの製造工程投入前の段階でのガラス板としてのガラス基板についている傷、クラック、マイクロクラックなど、また、液晶パネルの製造工程においてガラス基板に生じる傷、クラック、マイクロクラックなどを、エッチング処理及び化学強化処理することにより除去し、ガラス基板の割れ強度を改善することを特徴とする。このエッチング処理及び化学強化処理は、液晶パネルの製造工程投入前の(1)ガラス基板の状態、液晶パネルの製造工程中の(2)大板パネル基板の状態、(2)大板パネルを1次切断して、いわゆる短冊状パネルとした後、(4)さらに2次切断を行い個々の液晶パネルを分断した後、(5)個々の液晶パネルに対して液晶駆動用のIC(以下「ドライバIC」と呼ぶ。)を実装した後、の各段階において実施することができる。本実施形態においては、ガラス板として液晶パネル製造工程に投入されるガラス基板、すなわち液晶パネル用のガラス基板を例としてあげるが、ガラス板としてガラス素板にエッチング処理及び化学強化処理を施した後、ガラス素板を所望の大きさに切断して、液晶パネル用のガラス基板として用いても良い。しかしながら、ガラス素板の切断時にクラックや傷などが生じる可能性が高いため、液晶パネル製造工程に投入する時点でのガラス基板に本発明のエッチング処理及び化学強化処理を施することが有効である。以下、各段階における処理について詳しく説明する。
【0026】
(1)ガラス基板の状態
まず、ガラス基板の状態で行う処理について図1を用いて説明する。図1はガラス基板の製造工程図である。まず、ガラス基板の全面に対して、後述する薬液を使用してエッチング処理(S1)を行い、ガラス基板の製作までに生じた傷やクラックを除去する。その後、ガラス基板の全面に対して、後述する薬液を使用して化学強化処理(S2)を行う。これによりガラス基板表面のナトリウム原子が、薬液中に含まれるナトリウムよりもイオン半径が大きい、例えばカリウム原子に置換されて、ガラス基板表面に化学強化層が形成され、機械的強度が向上する。その後、ガラス基板の全面に対して、純水によりリンス処理(S3)を行う。エッチング処理、化学強化処理、リンス処理は連続して行われる。これにより、ガラス基板上に形成されていた傷、クラックが除去された状態で、化学強化層が形成されて機械的強度が向上する。
【0027】
(2)大板パネル基板の状態
以下、大板パネル基板の状態で行うエッチング処理(以下、「エッチング処理A」と呼ぶ。)及び化学強化処理(以下、「化学強化処理A」と呼ぶ。)の処理について図2及び図3を用いて説明する。図2(A)は大板パネルの概略斜視図、図2(B)は図2(A)の線A−A´で切断した概略断面図、図3は大板パネル基板から単個の液晶パネルに切断されるまでの概略工程図である。
【0028】
図2(A)、(B)に示すように、大板パネル基板10は、第1母基板11と第2母基板12とを開曲線状のシール材13及び閉曲線状のシール材30によって貼りあわされた構造となっている。第1母基板11は互いに対向する第1面11b及び第2面11aを有し、第2母基板12は互いに対向する第1面12b及び第2面12aを有し、両母基板11及び12は互いの第1面11b及び12bが対向するように配置されている。開曲線状のシール材13は液晶注入口となる開口部14を有しており、閉曲線状のシール材30は複数の開曲線状のシール材13を囲むように配置され、この閉曲線状のシール材30と第1母板11と第2母基板12とにより密閉空間が形成される。
【0029】
このような大板パネル10基板を、図3(A)に示すように、切断線15及び16に沿って切断し、更に切断線18に沿って第1母基板11のみを切断し、液晶を基板間に封入することにより図3(C)に示す個々の液晶パネル1がえられる。なお、図3(A)の例では、まず、開曲線状のシール材13の開口部14が位置する切断線16に沿って大板パネル基板10を切断し、更に切断線18に沿って第1母基板11のみを切除して短冊状の基板を得る(「1次切断」という。)。短冊状の基板においては、その長辺に沿って複数の液晶パネルの開口部14が整列した状態となるので、真空注入その他の手法で各開口部14から液晶を、開曲線状のシール材13及び2枚の基板間により形成された空間内に注入した後、開口部14を封止材19により封止して、図3(B)に示す短冊状パネル20を得る。その後、短冊状パネルを切断線15に沿って更に切断して(「2次切断」という。)、図3(C)に示す個々の液晶パネル1を得る。
【0030】
本発明では、このような分断工程に先立って、大板パネル基板10の全面に対して、後述する薬液を使用してエッチング処理を行い、ガラス基板の製作までに生じた傷やクラックを除去する。その後、大板パネル基板10の全面に対して、後述する薬液を使用して化学強化処理を行う。これによりガラス基板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい、例えばカリウム原子に置換されて、ガラス基板表面に化学強化層が形成され、機械的的強度が向上する。その後、ガラス基板の全面に対して、純水によりリンス処理する。本実施形態においては、閉曲線状のシール材30、第1母基板11及び第2母基板12により密閉空間が形成されているので、この密閉空間内に各処理時に用いられる薬液が入り込むことがない。また、後述するが、閉曲線状のシール材30により囲まれた領域外であって第1母基板11及び第2母基板12により挟まれた領域は、単個状の液晶パネルにした際には、切断、除去されるので、処理時における薬液がこの領域に入り込んでも、何ら問題はない。
【0031】
また、本実施形態においては、多数個取りを例にあげているが、単個用の液晶パネル製造時にも閉曲線状のシール材を設けることができる。すなわち、1対の基板を1つの開曲線状のシール材とこれを囲むように形成された閉曲線状のシール材とにより貼り合わせてパネル基板を製造した後、エッチング処理及び化学強化処理を施して、閉曲線状のシール材が除去されるようにパネル基板を切断して、液晶パネルを形成することもできる。この場合においても、閉曲線状のシール材があることにより、閉曲線状のシール材により囲まれた領域内に薬液が浸入することがない。
【0032】
(3)1次切断後
次に、大板パネル基板を1次切断し、短冊状パネルを得た状態で行う場合のエッチング処理(以下、「エッチング処理B」とよぶ。)、化学強化処理(以下、「化学強化処理B」とよぶ。)について説明する。1次切断後の短冊状パネルの例を図4(A)及び(B)に示す。図4(A)は短冊状パネル20の平面図であり、図4(B)は短冊状パネル20の斜視図である。
【0033】
図3(B)及び図4(A)に示すように、短冊状パネル20は、図3(A)に示す大板パネル基板10を切断線16に沿って切断し、各液晶パネル1のセル内部に液晶を注入して開口部14を封止し、更に第1母基板11のみを切除したすいわゆる張り出し部21が形成された状態である。図4(A)、(B)に示すように、短冊状パネル20は、第1母基板11が切断された第1基板としての第1短冊基板22と、第2母基板12が切断された第2基板としての第2短冊基板23との間に開曲線状のシール材13と、閉曲線状のシール材30が切断されて一部残存したシール材30´とにより貼りあわされた構造となっている。第1短冊基板22は互いに対向する第1面22b及び第2面22aを有し、第2短冊基板23は互いに対向する第1面23bおよび第2面23aを有し、2つの短冊基板22及び23は互いの第1面22b及び23bが互いに対向するように配置されている。なお、張り出し部21には、2次切断して個別の液晶パネルを形成した後、液晶パネル1を駆動するためのドライバICが実装される。また、張り出し部21の第1面23b上には、外部の回路基板やドライバICなどと電気的接続を得るための端子が形成されている。
【0034】
この短冊状パネル20においては、大板パネル基板10からの分断工程により、傷やクラックが生じやすい。そのような傷やクラックは、切断面に沿って多く生じる。そこで、短冊状パネル20全体に対して、上述のガラス基板の状態及び大板パネル基板の状態と同様のエッチング処理及び化学強化処理を行う。
【0035】
その際、前述のように、張り出し部21上には端子などの電気的な配線が形
成されているので、それらをエッチングにより損傷しないよう、図4に示すように、張り出し部21のみを保護膜27によりマスクして保護する。保護膜27及びマスクの方法については後述する。そして、マスクした張り出し部21以外の全ての面に対して、エッチング処理により傷やクラックを除去し、その後、化学強化処理により機械的強度を向上させる。これにより、主として一時切断工程において生じた傷やクラックが除去され、これら傷やクラックが除去された状態で化学強化処理が行われるので、機械的強度が向上されて、液晶パネル1を構成する上側基板2及び下側基板基板3の割れ強度を大きく改善することができる。なお、短冊状パネル20の状態では、既に各液晶パネル1のセル内部に液晶が注入され、開口部14が封止材19により封止された後であるので、エッチング処理及び化学強化処理に使用する薬液がセル内部に浸入する恐れはない。
【0036】
(4)液晶パネルの分断後
次に、大板パネル基板を切断して個別の液晶パネルを取り出した後に行うエッチング処理(以下「エッチング処理C」と呼ぶ。)及び化学強化処理(以下「化学強化処理C」とよぶ。)について説明する。分断後の個別の液晶パネルの構造を図5(A)に概略的に示す。図5(A)に示すように、液晶パネル1は図3(A)に示す大板ガラス基板12を切断して得られたものであり、液晶パネル1はガラス製の第1基板としての上側基板2及び第2基板としての下側基板3を貼り合わせた構造を有する。上側基板2は互いに対向する第1面2b及び第2面2cを有し、下側基板3は互いに対向する第1面3b及び第2面3cを有し、上側基板2と下側基板3とは互いの第1面2b及び第2面3bとが互いに対向するように配置される。
【0037】
図5(A)に示すように、下側基板3は、上側基板2よりも面積が大きく、
上側基板2よりも張り出したいわゆる張り出し部4を有する。張り出し部4は、図3(A)に示す分断線15及び16に沿って大板パネル基板10を切断した後、さらに切断線18に沿って大板パネル基板11の部分のみを切断して除去することにより形成される。張り出し部4の第1面3b上には、前述のように、後の工程において液晶パネル1を駆動するためのドライバICが実装される。また、張り出し部4には、外部の回路基板やドライバなどと電気的な接続を得るための端子が形成されている。
【0038】
この液晶パネル1においては、大板パネル基板10からの分断工程により、傷やクラックが生じやすい。特に、上側基板2及び下側基板3の側面2aや3aは、切断面であるため、傷やクラック(符号5で示す)が多く形成されている(尚、図5(A)においては、傷やクラック5は説明の便宜上大きく図示している)。そこで、個別の液晶パネル1全体に対して、上述のガラス基板の状態及び大板パネル基板の状態と同様のエッチング処理及び化学強化処理を行う。
【0039】
その際、前述のように、張り出し部4上には端子などの電気的な配線が形成されているので、それらをエッチングにより損傷しないよう、図5(B)に示すように張り出し部4のみを保護膜7によりマスクして保護する。保護膜7に関しては後述する。そして、マスクした張り出し部4以外の全ての面に対して、エッチング処理により傷やクラックを除去し、その後、化学強化処理により物理的強度を向上させる。これにより、主として分断工程において生じた傷やクラックが除去され、更に物理的強度が向上されることによって、液晶パネル1を構成する上側基板2及び下側基板3の割れ強度を大きく改善することができる。
【0040】
(5)ドライバICの実装後
次に、ドライバICの実装後に行われるエッチング処理(以下「エッチング
処理D」とよぶ。)、化学強化処理(以下「化学強化処理D」とよぶ)について説明する。ドライバICの実装後に行うエッチング処理D及び化学強化処理Dは、基本的に上述の個別液晶パネルに対するエッチング処理C及び化学強化処理Cと同様である。ただし、ドライバIC実装後であるのでエッチング処理及び化学強化処理によりドライバICを損傷することがないよう、ドライバICの部分をマスクする必要がある。また、前述のように、張り出し部4には端子などの電気的配線が形成されているので、それらもマスクして保護する必要がある。よって、ドライバICの実装後も図5(B)に示すように、張り出し部4全体を保護膜7によりマスクして保護することが好ましい。また、張り出し部4上において、ドライバICと電気的配線が形成された領域がある程度集中しているような場合には、図5(C)に示すように、ドライバICの領域及び電気的配線が形成されている領域のみにマスク7a及び7bを形成し、それ以外のガラス基板の領域はマスクしないこととしてもよい。張り出し部4上であっても、傷やクラックが生じている場合には、ガラス基板の割れの原因となるので、エッチングにより除去し、化学強化処理して物理的強度をあげることが望ましい。ただし、ドライバICや電気的配線が形成されている領域はエッチング及び化学強化処理できないので、そのような領域もマスクして保護し、それ以外の領域は張り出し部4上であっても同様にエッチング処理及び化学強化処理することができれば有効である。
【0041】
(6)変形例
次に、短冊状パネル及び個々の液晶パネルの状態で行うエッチング処理及び
化学強化処理の変形例を示す。図4に示した短冊状パネルの状態でのエッチング処理及び化学強化処理、図5に示した個別の液晶パネル1の状態でのエッチング処理及び化学強化処理は、いずれも張り出し部21、4が形成された後に行われている。そのかわりに、大板パネル基板11を切断線18に沿って切断する工程を実行する前、すなわち、張り出し領域21、4を露出させる前の段階で短冊状パネル20または個別の液晶パネル1のエッチング処理(以下「エッチング処理E」とよぶ)及び化学強化処理(以下「化学強化処理E」とよぶ)を行うこともできる。この例を図6及び図7に示す。
【0042】
図6(A)及び(B)は短冊状パネル20について、側面全体をシール材37によりシールした状態を示す。また、図7(A)及び(B)は個別の液晶パネル1について側面全体をシール材37によりシールした状態を示す。いずれの場合も、張り出し部21、4に対応する領域では大板パネル基板11が除去されていないので、張り出し部21、4をマスクなどする必要はない。このエッチングにより、液晶パネル1の上側及び下側面に形成された傷やクラックを除去することができ、化学強化処理により機械的強度を向上させることができる。
【0043】
[エッチング処理方法]
次に、エッチング処理の詳細について説明する。エッチング処理は、エッチング液中に基板を浸漬して行われる。エッチング液としては、フッ酸系の薬液を好適に使用することができる。例えば、フッ酸液、フッ化硝酸液、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸などのエッチング液を好適に使用することができる。また、それらを含む水溶液も使用することができる。例えば、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムと硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムの水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液などを使用することが出来る。また、エッチング速度が遅いという面はあるが、苛性ソーダ(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)などの強アルカリ性の薬液を使用することもできる。
【0044】
エッチング方法としては、上述のようなエッチング液に処理基板を浸漬して行われるウエットエッチングが好適であるが、エッチングガスを用いたドライエッチング方法なども使用できる。ウエットエッチングを用いる場合、後述する化学強化処理方法がウエット処理のため、エッチング処理、化学強化処理の連続処理が可能となり、エッチング処理により傷やクラックが除去された状態のガラス基板をすぐに化学強化処理することにより、機械的強度の高いガラス基板が得られる。更に、これら処理後に行われるリンス処理も、ウエット処理のため3つの処理工程を連続して行うことができる。
【0045】
[化学強化処理方法]
次に、化学強化処理の詳細について説明する。化学強化処理は、薬液としてガラス基板に含まれるナトリウムイオンよりもイオン半径の大きい陽イオンをもつ塩の溶液もしくは溶融液を用い、この薬液にガラス基板を浸漬して行われる。これによりガラス基板表面のナトリウム原子がナトリウムよりもイオン半径が大きい原子に置換されて、ナトリウム原子と置換された原子が存在する化学強化層がガラス基板表面に形成され、機械的強度が向上する。ここで用いられる薬液としては、例えば、イオン半径の大きい陽イオンとしてカリウムイオンを有する溶融硝酸カリウム塩を用いることができる。具体的には例えば50%KNOと50%KNOの混合溶融塩中からなる薬液を用いることができる。そして、薬液中に浸漬する時間を調整することにより化学強化層の厚みを調整することができる。
【0046】
また、本発明におけるガラス板及び液晶パネルなどの電気光学パネルを構成するガラス基板の原料は、ナトリウムなどのアルカリ金属を含むソーダガラスなどを使用することができる。
【0047】
以上のように本発明においては、エッチング処理により傷、クラックなどを除去した状態のガラス基板を更に化学強化処理により機械的強度を向上するので、非常に割れにくいガラス基板及び液晶パネルを得ることができる。
【0048】
エッチング処理及び化学強化処理を行う際のマスクする方法としては、保護膜としてエッチング液や化学強化処理に使用する薬液に対する耐性を有する耐薬品性材料を使用する方法、保護膜としてポジレジストやネガレジストを塗布する方法などがあり、これらは基本的に上述のエッチング処理A〜E、化学強化処理A〜Eのいずれにも同様に適用することができる。尚、保護膜は、エッチング処理、化学強化処理及びリンス処理が終了した後、除去される。
【0049】
耐薬品性材料としては、例えばワックス、油性のコーティングを行う、耐薬品性のテープを張る、パテや粘土状の材料で被マスク部位を覆うなどの方法がある。
【0050】
また、レジストの塗布方法としては、被マスク部をレジスト中に漬け(ディップする)またはスプレー噴射してレジストを塗布した後、露光及び現像して所望のマスクパターンを形成する方法がある。また、刷毛や筆を用いてレジストを被マスク部位に塗るようにしてもよい。この場合、レジスト塗布に用いる設備を安価なものとすることができる。また、ノズルから液滴材料を吐出させて所望のマスクパターンにレジストを塗布する方法(いわゆるインジェクション)もある。インクジェットによりレジストを塗布する方法は、レジストを細密パターンで塗布することができるので、特にドライバICの実装後に行われるエッチング処理Cにおいて、張り出し部4上のドライバIC位置や電気的配線部などの特定の部位のみにマスクを行う際に非常に有効である。
【0051】
一方、そのようにして形成されたマスクの除去方法は、基本的にマスクの形成方法ごとに異なる。フォトレジストを使用した場合は、所定の薬液を使用してレジストを溶かすなどして剥離すればよい。ワックスや油性コーティングなどの場合も、薬液によりコーティングを溶かして除去することができる。また、耐薬品性テープやパテなどを使用した場合は、単にそれらを剥離すればよい。
【0052】
[液晶パネルの製造方法]
次に、本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用した液晶パネルの製造方法について図3及び図8を用いて説明する。図3は本発明による液晶パネルの概略製造工程図であり、図8は本発明による液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。
【0053】
まず、図3(A)に示す第1母基板11と第2母基板12に対して、透明電極の形成や配向膜の形成などの所定の処理を行った後(工程S1)、一方の母基板上に複数(ここでは16個)の開曲線状のシール材13と複数の開曲線状のシール材13を囲むように閉曲線状のシール材30とを塗布する。その後、2枚の母基板をシール材13及び30を介して貼りあわせる(工程S2)。これにより図3(A)に例示する大板パネル基板10が得られる。この状態で、前述のエッチング処理A(工程S3)及び化学強化処理A(工程S4)が実行された後、純水によりリンス処理が実行される。
【0054】
本実施形態においては、閉曲線状のシール材30、第1母基板11及び第2母基板12により密閉空間が形成されているので、この密閉空間内にエッチング処理A及び化学強化処理A時それぞれに用いられる薬液が入り込むことがない。また、後述するが、閉曲線状のシール材30により囲まれた領域外であって第1母基板11及び第2母基板12により挟まれた領域は、単個状の液晶パネルにした際には、切断、除去されるので、処理時における薬液がこの領域に入り込んでも、何ら問題はない。これにより、大判パネル基板10の全面に形成されていた傷やクラックが除去され、更に機械的強度が向上する。
【0055】
次に、図3(A)に示す切断線15に沿って1次切断を行い(工程S5)、更に切断線18に沿ってガラス基板11側のみを除去する。その後、切断面に露出した各液晶パネル開口部14から基板間に液晶を注入し、開口部14を封止する(工程S6)。これにより、図3(B)に示す液晶が封入された状態の張り出し部21を有する短冊状パネル20が得られる。そして、短冊状パネル20の張り出し部21に保護膜27を形成した後、エッチング処理B(工程S7)及び化学強化処理B(工程S8)を行い、その後保護膜27を除去する。
【0056】
次に、この短冊状パネル20を図3(A)に示す切断線15に沿って2次切断し、図3(C)に示すような個別の液晶パネル1を得る(工程S9)。
【0057】
次に、個別の液晶パネル1の張り出し部4に保護膜7を形成し、この状態で上述のエッチング処理C(工程S10)及び化学強化処理C(工程S11)を行い、その後、保護膜7を除去する。これにより、大板パネル基板10の切断により、図5(A)に示す上側基板2及び下側基板3の側面2a、3aや表面(第2面2c及び3c)に生じた傷やクラックを除去し、更に化学強化処理を施しているので、基板の割れ強度を改善することができる。
【0058】
その後、張り出し部4上の所定1にドライバICを実装し(工程S12)、張り出し部4上のドライバICや端子などの電気的配線の位置にのみレジストなどの保護膜を形成し、その状態でエッチング処理D(工程S13)及び化学強化処理D(工程S14)を行う。尚、このエッチング処理D及び化学強化処理Dの場合は、張り出し部4上のドライバIC及び配線位置のみをマスクする必要があるので、細密なパターンで保護膜を形成する必要がある。このため、前述したマスク形成方法の中でも、特にインジェクションによりレジストを塗布する方法が有効である。処理後、保護膜を除去する。
【0059】
以上のようにして製作された液晶パネル1は、分断面である側面や表面に存在した傷やクラックが除去され、更に化学強化処理が施されているので、割れ強度が改善されている。よって、この液晶パネル1が組み込まれる携帯電話や携帯型端末などの電子機器の製造工程や、ユーザの使用時における衝撃などにより割れ、破損が生じる事が少なくなる。
【0060】
尚、図8に示した製造工程の例は、説明の便宜上エッチング処理A〜D、化学強化処理A〜Dの全てを含んでいるが、実際には全てのエッチング処理及び化学強化処理を行う必要は必ずしもなく、いずれか1つの処理のみを実施するようにしてもよい。その場合、どの段階のエッチング処理及び化学強化処理を実施するかは、その液晶パネル自体の特性や、その液晶パネルが搭載される機器の性質、液晶パネル製造工程中の搬送条件などを考慮して決定される。例えば、液晶パネルを収容する機器の筐体の形状やその筐体に対する取り付け位置などに応じて、その機器において衝撃を受けやすい部位の傷やクラックを効果的に除去できるようにエッチング処理A〜D及び化学強化処理A〜Dを選択することができる。
【0061】
[電子機器]
次に、上記液晶表示パネルを含む液晶装置を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。図9は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶パネル1と同様の液晶表示パネル200と、これを制御する制御手段1200とを有する。ここでは、液晶表示パネル200を、パネル構造体200Aと、半導体ICなどで構成される駆動回路200Bとに概念的に分けてかいてある。また、制御手段1200は、表示情報出力源1210と、表示処理回路1220と、電源回路1230と、タイミングジェネレータ1240と、を有する。
【0062】
表示情報出力源1210は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ1240によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示法処理回路1220に供給するように構成されている。
【0063】
表示情報処理回路1220は、シリアルーパラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路200Bへ供給する。駆動回路200Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路1230は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【0064】
なお、本発明に係る電気光学パネルを適用可能な電子機器の具体例としては、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)、携帯電話機、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどがあげられる。
【0065】
また、以上説明した実施形態においては、電気光学パネルとして液晶パネルを例示してきたが、ガラス基板を構成の一部とするものであればよく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、フィールド・エミッション・ディスプレイ(電解放出表示装置)などの各種の電気光学装置に用いられる電気光学パネル及びこれに用いられるガラス基板に本発明の処理を適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用したガラス基板の製造フローチャート図である。
【図2】図2(A)は本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用する大板パネル基板の概略斜視図であり、図2(B)は図2(A)の線A−A´で切断した断面図である。
【図3】本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用する液晶パネルの概略製造工程図である。
【図4】本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用する短冊状パネルの構造概略的に示す図である。
【図5】本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用する液晶パネルの構造概略的に示す図である。
【図6】短冊パネルの状態で行われるエッチング処理及び化学強化処理の変形例を示す。
【図7】液晶パネルの状態で行われるエッチング処理及び化学強化処理の変形例を示す。
【図8】本発明のエッチング処理及び化学強化処理を適用した液晶パネルの製造方法のフローチャート図である。
【図9】本発明にかかわる電子機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。
【符号の説明】
1・・・液晶パネル
2・・・上側基板
2b、3b、11b、12b、22b、23b・・・第1面
2c、3c、11a、12a、22a、23a・・・第2面
3・・・下側基板
4、21・・・張り出し部
7,7a、7b、27・・・保護膜
10・・・大板パネル基板
11・・・第1母基板
12・・・第2母基板
13・・・開曲線状シール材
22・・・第1短冊基板
23・・・第2短冊基板
30・・・閉曲線状シール材
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a glass plate, a glass substrate for an electro-optical panel, and a glass substrate and an electro-optical panel for which the crack strength is improved by removing scratches and cracks present on the glass plate and the glass substrate constituting the electro-optical panel. Electronic devices. The present invention also relates to a method for manufacturing such a glass plate, a method for manufacturing a glass substrate for an electro-optical panel, and a method for manufacturing an electro-optical panel.
[0002]
[Prior art]
A liquid crystal panel as an example of an electro-optical panel is configured by sealing liquid crystal as an electro-optical material between two light-transmitting substrates. A glass substrate is often used as the transmissive substrate, and the liquid crystal panel itself has a structure in which two glass substrates are stacked and bonded (for example, see Patent Document 1).
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-2001-281435 (page 6, FIG. 1)
[Problems to be solved by the invention]
In such a liquid crystal panel, the scratches and cracks on the glass substrate itself before the manufacturing process is input, and the scratches and cracks generated on the glass substrate during the liquid crystal panel manufacturing process are caused by factors such as stress applied to the liquid crystal panel. This may cause the liquid crystal panel to break due to a drop impact after being made into a product such as a mobile phone.
[0004]
The present invention has been made in view of the above points, and removes scratches and cracks formed on the glass substrate itself before the manufacturing process is input, and scratches and cracks generated on the substrate during the liquid crystal panel manufacturing process. Provided are a glass plate having improved substrate cracking strength, a method for manufacturing a glass plate, a glass substrate for an electro-optical panel, a method for manufacturing a glass substrate for an electro-optical panel, an electro-optical panel, a method for manufacturing an electro-optical panel, and electronic equipment. The task is to
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve such a problem, the present invention employs the following configuration. The glass plate of the present invention is characterized in that the surface is subjected to a chemical strengthening treatment after being subjected to an etching treatment.
[0006]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the glass plate are removed by performing the etching process, and then the sodium on the surface of the glass plate is subjected to the chemical strengthening process. Since the atoms are replaced by atoms having an ionic radius larger than that of sodium and the mechanical strength is improved, it is possible to obtain a glass plate which is very hard to break.
[0007]
The glass substrate for an electro-optical panel according to the present invention is characterized in that the surface is subjected to an etching treatment and then to a chemical strengthening treatment.
[0008]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the glass substrate are removed by performing the etching process, and then the sodium strengthening of the glass plate surface is performed by performing the chemical strengthening process. The atoms are replaced by atoms having an ionic radius larger than that of sodium, and the mechanical strength is improved. Therefore, the electro-optical panel provided with such a glass substrate is less likely to be broken or damaged by an impact or the like.
[0009]
An electro-optical panel according to the present invention includes a first substrate having a first surface and a second surface, and a first surface and a second surface, wherein the first surface faces the first surface of the first substrate. An electro-optical panel comprising: a second substrate disposed on a substrate, wherein the second surface of the first substrate and the second surface of the second substrate are subjected to a chemical strengthening process after being subjected to an etching process. It is characterized by having been given.
[0010]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the electro-optical panel are removed by performing the etching process, and then the surface of the electro-optical panel is subjected to the chemical strengthening process. Is replaced by an atom having an ionic radius larger than that of sodium, thereby improving the mechanical strength. Therefore, the electro-optical panel is less likely to be cracked or damaged by impact or the like.
[0011]
The method for producing a glass sheet of the present invention is characterized by comprising a step of etching a glass sheet and a step of chemically strengthening the glass sheet after the etching processing.
[0012]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the glass plate are removed by performing the etching process, and then the sodium on the surface of the glass plate is subjected to the chemical strengthening process. Since the atoms are replaced by atoms having an ionic radius larger than that of sodium and the mechanical strength is improved, it is possible to obtain a glass plate which is very hard to break.
[0013]
The method of manufacturing a glass substrate for an electro-optical panel according to the present invention includes a step of etching the glass substrate for the electro-optical panel, and a step of chemically strengthening the glass substrate after the etching. I do.
[0014]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the glass substrate are removed by performing the etching process, and then the sodium strengthening of the glass plate surface is performed by performing the chemical strengthening process. The atoms are replaced by atoms having an ionic radius larger than that of sodium, and the mechanical strength is improved. Therefore, the electro-optical panel provided with such a glass substrate is less likely to be broken or damaged by an impact or the like.
[0015]
In the method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, the first substrate having the first surface and the second surface and the second substrate having the first surface and the second surface are arranged such that the first surfaces are opposed to each other. And a step of bonding the first substrate and the second substrate bonded by the sealing material, a step of etching the first substrate and the second substrate bonded by the sealing material, and a step of bonding the first substrate bonded by the sealing material after the etching processing. Subjecting the substrate and the second substrate to a chemical strengthening process.
[0016]
According to such a configuration of the present invention, the scratches and cracks formed on the electro-optical panel are removed by performing the etching process, and then the surface of the electro-optical panel is subjected to the chemical strengthening process. Is replaced by an atom having an ionic radius larger than that of sodium, thereby improving the mechanical strength. Therefore, the electro-optical panel is less likely to be cracked or damaged by impact or the like.
[0017]
Further, the second substrate has an overhanging portion extending from the first substrate, and after the bonding step, a step of forming a protective film on the first surface of the overhanging portion is provided.
[0018]
According to such a configuration, when an electrode, a wiring, and the like are arranged in the overhang portion, these can be protected from the chemical solution during the etching process and the chemical strengthening process by the protective film.
[0019]
In another method of manufacturing an electro-optical panel according to the present invention, the first motherboard and the second motherboard are attached to each other with an open-curve sealing material and a closed-curve sealing material surrounding the open-curve sealing material. A step of etching the first mother substrate and the second mother substrate bonded by the sealing material; and a step of etching the first mother substrate and the second mother bonded by the sealing material after the etching process. And a step of chemically strengthening the substrate.
[0020]
According to such a configuration of the present invention, since the closed space is formed by the closed-curve sealing material, the first substrate, and the second substrate, the chemical used for each processing does not enter the closed space. In addition, elements and wirings formed on the substrate are not affected.
[0021]
Also, a plurality of the open curved seal materials are provided, and after the chemical strengthening process, the first mother substrate and the second mother substrate are cut to have one open curved seal material. Forming a plurality of panels.
[0022]
Thus, a plurality of electro-optical panels can be formed from a pair of mother substrates, and the etching process and the chemical strengthening process can be performed collectively in a state of the pair of mother substrates.
[0023]
The electronic device of the present invention includes any one of the above-described glass substrate for an electro-optical panel, the above-described electro-optical panel, and the electro-optical panel manufactured by the above-described method for manufacturing an electro-optical panel. It is characterized by having.
[0024]
According to such a configuration of the present invention, since the electronic apparatus is provided with the glass substrate or the electro-optical panel having high mechanical strength, it is possible to reduce the occurrence of breakage or breakage of the substrate due to impact.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a liquid crystal panel will be described as an example of an electro-optical panel, and embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0025]
In the present embodiment, scratches, cracks, micro-cracks, etc. on a glass substrate as a glass plate at a stage before inputting a manufacturing process of a liquid crystal panel, which is an example of an electro-optical panel, In addition, the present invention is characterized in that flaws, cracks, microcracks, and the like generated in the glass substrate are removed by etching and chemical strengthening to improve the crack strength of the glass substrate. The etching process and the chemical strengthening process are performed by (1) the state of the glass substrate before the liquid crystal panel manufacturing process is input, (2) the state of the large panel substrate during the liquid crystal panel manufacturing process, and (2) the state of the large panel panel. Next, after cutting into a so-called strip panel, (4) further cutting is performed to separate each liquid crystal panel, and (5) a liquid crystal driving IC (hereinafter referred to as “driver”) for each liquid crystal panel. After the implementation of the “IC”), it can be performed at each stage. In the present embodiment, a glass substrate put into a liquid crystal panel manufacturing process as a glass plate, that is, a glass substrate for a liquid crystal panel will be described as an example, but after a glass plate is subjected to etching and chemical strengthening as a glass plate. Alternatively, the glass base plate may be cut into a desired size and used as a glass substrate for a liquid crystal panel. However, since there is a high possibility that cracks and scratches are generated when cutting the glass base plate, it is effective to perform the etching treatment and the chemical strengthening treatment of the present invention on the glass substrate at the time of entering the liquid crystal panel manufacturing process. . Hereinafter, the processing in each stage will be described in detail.
[0026]
(1) State of glass substrate
First, a process performed in a state of a glass substrate will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a glass substrate. First, an etching process (S1) is performed on the entire surface of the glass substrate using a chemical solution described later to remove scratches and cracks that have occurred up to the production of the glass substrate. Thereafter, a chemical strengthening process (S2) is performed on the entire surface of the glass substrate using a chemical solution described later. As a result, the sodium atoms on the surface of the glass substrate are replaced with potassium ions, for example, having a larger ionic radius than sodium contained in the chemical solution, and a chemically strengthened layer is formed on the surface of the glass substrate, thereby improving the mechanical strength. Thereafter, a rinsing process (S3) is performed on the entire surface of the glass substrate with pure water. The etching process, the chemical strengthening process, and the rinsing process are performed continuously. Thereby, in a state where the scratches and cracks formed on the glass substrate are removed, the chemical strengthening layer is formed, and the mechanical strength is improved.
[0027]
(2) Large panel substrate
Hereinafter, the etching process (hereinafter, referred to as “etching process A”) and the chemical strengthening process (hereinafter, referred to as “chemical strengthening process A”) performed in the state of the large panel substrate will be described with reference to FIGS. It will be described using FIG. 2A is a schematic perspective view of the large panel, FIG. 2B is a schematic sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2A, and FIG. 3 is a single liquid crystal from the large panel substrate. It is a schematic process figure until it is cut | disconnected by a panel.
[0028]
As shown in FIGS. 2A and 2B, in the large panel substrate 10, the first motherboard 11 and the second motherboard 12 are attached by an open curved seal material 13 and a closed curved seal material 30. It has a broken structure. The first mother substrate 11 has a first surface 11b and a second surface 11a facing each other, and the second mother substrate 12 has a first surface 12b and a second surface 12a facing each other. Are arranged such that the first surfaces 11b and 12b face each other. The open-curve sealing material 13 has an opening 14 serving as a liquid crystal injection port, and the closed-curve sealing material 30 is disposed so as to surround the plurality of open-curve sealing materials 13. A closed space is formed by the material 30, the first motherboard 11, and the second motherboard 12.
[0029]
As shown in FIG. 3 (A), such a large panel 10 substrate is cut along cutting lines 15 and 16, and further, only the first mother substrate 11 is cut along cutting line 18, so that the liquid crystal is cut. By encapsulating between the substrates, individual liquid crystal panels 1 shown in FIG. 3C are obtained. In the example of FIG. 3A, first, the large panel substrate 10 is cut along a cutting line 16 where the opening 14 of the sealing material 13 having an open curve is located, and further along the cutting line 18. Only one mother substrate 11 is cut out to obtain a strip-shaped substrate (referred to as “primary cutting”). In the case of a strip-shaped substrate, the openings 14 of the plurality of liquid crystal panels are aligned along the long sides thereof. After the injection into the space formed between the two substrates, the opening 14 is sealed with the sealing material 19 to obtain the strip-shaped panel 20 shown in FIG. Thereafter, the strip-shaped panel is further cut along the cutting line 15 (referred to as “secondary cutting”) to obtain the individual liquid crystal panel 1 shown in FIG.
[0030]
In the present invention, prior to such a dividing step, an etching process is performed on the entire surface of the large panel substrate 10 using a chemical solution to be described later to remove scratches and cracks generated until the production of the glass substrate. . Thereafter, a chemical strengthening process is performed on the entire surface of the large panel substrate 10 using a chemical solution described later. As a result, sodium atoms on the surface of the glass substrate are replaced with potassium ions, for example, having a larger ionic radius than sodium, and a chemical strengthening layer is formed on the surface of the glass substrate, thereby improving mechanical strength. Thereafter, the entire surface of the glass substrate is rinsed with pure water. In the present embodiment, since the closed space is formed by the closed curved sealing material 30, the first motherboard 11, and the second motherboard 12, the chemical used for each processing does not enter the closed space. . As will be described later, a region outside the region surrounded by the sealing material 30 having a closed curve and sandwiched by the first mother substrate 11 and the second mother substrate 12 is a single liquid crystal panel. Since it is cut and removed, there is no problem even if a chemical solution during processing enters this area.
[0031]
Further, in the present embodiment, multi-cavity is taken as an example, but a seal member having a closed curve shape can be provided even when a single liquid crystal panel is manufactured. That is, after a pair of substrates are bonded together with one open-curve sealing material and a closed-curve sealing material formed so as to surround the pair of substrates, an etching process and a chemical strengthening process are performed. Alternatively, the liquid crystal panel can be formed by cutting the panel substrate so that the closed-curve sealing material is removed. Also in this case, the presence of the closed-curve sealing material prevents the chemical solution from entering the region surrounded by the closed-curve sealing material.
[0032]
(3) After primary cutting
Next, an etching process (hereinafter, referred to as “etching process B”) and a chemical strengthening process (hereinafter, referred to as “chemical strengthening process B”) are performed when the large panel substrate is primarily cut to obtain a strip-shaped panel. ").). FIGS. 4A and 4B show examples of the strip-shaped panel after the primary cutting. FIG. 4A is a plan view of the strip-shaped panel 20, and FIG. 4B is a perspective view of the strip-shaped panel 20.
[0033]
As shown in FIGS. 3B and 4A, the strip-shaped panel 20 is obtained by cutting the large panel substrate 10 shown in FIG. In this state, a so-called overhang portion 21 is formed in which liquid crystal is injected into the inside to seal the opening portion 14 and further cut off only the first mother substrate 11. As shown in FIGS. 4A and 4B, the strip-shaped panel 20 has a first strip substrate 22 as a first substrate from which the first mother substrate 11 has been cut, and a second strip substrate 22 having been cut. A structure in which an open-curve sealing material 13 and a closed-curve sealing material 30 are cut and partially left and adhered to each other with a second strip substrate 23 as a second substrate is formed. ing. The first strip substrate 22 has a first surface 22b and a second surface 22a facing each other, and the second strip substrate 23 has a first surface 23b and a second surface 23a facing each other. Reference numeral 23 is arranged such that the first surfaces 22b and 23b face each other. Note that a driver IC for driving the liquid crystal panel 1 is mounted on the overhanging portion 21 after forming the individual liquid crystal panels by secondary cutting. Further, on the first surface 23b of the overhang portion 21, terminals for obtaining electrical connection with an external circuit board, a driver IC, and the like are formed.
[0034]
In the strip-shaped panel 20, scratches and cracks are likely to occur in the step of cutting from the large panel substrate 10. Such scratches and cracks often occur along the cut surface. Therefore, the entire strip-shaped panel 20 is subjected to the same etching treatment and chemical strengthening treatment as those of the above-described state of the glass substrate and the state of the large-sized panel substrate.
[0035]
At this time, as described above, electrical wiring such as terminals is formed on the overhang portion 21.
As shown in FIG. 4, only the overhanging portion 21 is protected by masking it with a protective film 27 so that it is not damaged by etching. The method of the protective film 27 and the mask will be described later. Then, scratches and cracks are removed by etching treatment on all surfaces other than the masked overhang portion 21, and thereafter, mechanical strength is improved by chemical strengthening treatment. Thereby, mainly the scratches and cracks generated in the temporary cutting step are removed, and the chemical strengthening process is performed in a state where these scratches and cracks are removed, so that the mechanical strength is improved and the upper side constituting the liquid crystal panel 1 is formed. The crack strength of the substrate 2 and the lower substrate 3 can be greatly improved. In the state of the strip-shaped panel 20, since liquid crystal has already been injected into the cells of each liquid crystal panel 1 and the openings 14 have been sealed with the sealing material 19, they are used for etching and chemical strengthening. There is no danger of the chemical solution entering the cell.
[0036]
(4) After the liquid crystal panel is divided
Next, an etching process (hereinafter, referred to as “etching process C”) and a chemical strengthening process (hereinafter, referred to as “chemical strengthening process C”) performed after the large panel substrate is cut and individual liquid crystal panels are taken out. explain. FIG. 5A schematically shows the structure of each liquid crystal panel after division. As shown in FIG. 5A, the liquid crystal panel 1 is obtained by cutting the large glass substrate 12 shown in FIG. 3A, and the liquid crystal panel 1 is an upper substrate as a first glass substrate. 2 and a lower substrate 3 as a second substrate. The upper substrate 2 has a first surface 2b and a second surface 2c facing each other, the lower substrate 3 has a first surface 3b and a second surface 3c facing each other, and the upper substrate 2 and the lower substrate 3 Are arranged such that the first surface 2b and the second surface 3b face each other.
[0037]
As shown in FIG. 5A, the lower substrate 3 has a larger area than the upper substrate 2,
It has a so-called overhang 4 that overhangs the upper substrate 2. The overhanging portion 4 cuts the large panel substrate 10 along the dividing lines 15 and 16 shown in FIG. 3A and then cuts and removes only the portion of the large panel substrate 11 along the cutting line 18. It is formed by doing. As described above, the driver IC for driving the liquid crystal panel 1 in a later step is mounted on the first surface 3b of the overhang portion 4. Further, the overhanging portion 4 is formed with terminals for obtaining electrical connection with an external circuit board, a driver, and the like.
[0038]
In the liquid crystal panel 1, scratches and cracks are likely to occur in the step of separating from the large panel substrate 10. In particular, since the side surfaces 2a and 3a of the upper substrate 2 and the lower substrate 3 are cut surfaces, many scratches and cracks (indicated by reference numeral 5) are formed (note that in FIG. And the cracks 5 are greatly illustrated for convenience of explanation). Therefore, the same etching process and chemical strengthening process as in the above-described state of the glass substrate and the state of the large panel substrate are performed on the entire individual liquid crystal panel 1.
[0039]
At this time, as described above, since electrical wiring such as terminals is formed on the overhang portion 4, only the overhang portion 4 is formed as shown in FIG. It is protected by masking with a protective film 7. The protective film 7 will be described later. Then, scratches and cracks are removed from all surfaces except the masked overhanging portion 4 by etching, and then the physical strength is improved by chemical strengthening. Thereby, the cracks and cracks mainly generated in the dividing step are removed, and the physical strength is further improved, so that the crack strength of the upper substrate 2 and the lower substrate 3 constituting the liquid crystal panel 1 can be greatly improved. it can.
[0040]
(5) After mounting the driver IC
Next, an etching process performed after mounting the driver IC (hereinafter referred to as “etching
Process D ". ) And chemical strengthening treatment (hereinafter referred to as “chemical strengthening treatment D”). The etching process D and the chemical strengthening process D performed after mounting the driver IC are basically the same as the etching process C and the chemical strengthening process C for the individual liquid crystal panel described above. However, since the driver IC has been mounted, it is necessary to mask the portion of the driver IC so that the driver IC is not damaged by the etching process and the chemical strengthening process. Further, as described above, since electrical wires such as terminals are formed on the overhang portion 4, it is necessary to protect them by masking them. Therefore, after the mounting of the driver IC, it is preferable to protect the entire overhanging portion 4 by masking it with the protective film 7 as shown in FIG. When the region where the driver IC and the electric wiring are formed on the overhanging portion 4 is concentrated to some extent, as shown in FIG. The masks 7a and 7b may be formed only in the formed area, and the other areas of the glass substrate may not be masked. Even if it is on the overhanging portion 4, if a scratch or a crack occurs, the glass substrate may be broken. Therefore, it is desirable to remove the glass substrate by etching and to perform a chemical strengthening treatment to increase the physical strength. However, since the region where the driver IC and the electric wiring are formed cannot be etched and chemically strengthened, such a region is protected by masking, and the other region is similarly etched even on the overhang portion 4. It is effective if it can be treated and chemically strengthened.
[0041]
(6) Modified example
Next, the etching process performed in the state of the strip-shaped panel and the individual liquid crystal panel and
The modification of a chemical strengthening process is shown. In the etching process and the chemical strengthening process in the state of the strip-shaped panel shown in FIG. 4, and the etching process and the chemical strengthening process in the state of the individual liquid crystal panel 1 shown in FIG. After being done. Instead, the strip panel 20 or the individual liquid crystal panel 1 is etched before the step of cutting the large panel substrate 11 along the cutting line 18, that is, before the overhang regions 21 and 4 are exposed. A process (hereinafter, referred to as “etching process E”) and a chemical strengthening process (hereinafter, referred to as “chemical strengthening process E”) can also be performed. This example is shown in FIG. 6 and FIG.
[0042]
FIGS. 6A and 6B show a state in which the entire side surface of the strip-shaped panel 20 is sealed with the sealing material 37. FIGS. 7A and 7B show a state where the entire side surface of the individual liquid crystal panel 1 is sealed with a sealing material 37. In any case, since the large panel substrate 11 is not removed in the area corresponding to the overhang portions 21 and 4, it is not necessary to mask the overhang portions 21 and 4. By this etching, scratches and cracks formed on the upper and lower side surfaces of the liquid crystal panel 1 can be removed, and the mechanical strength can be improved by the chemical strengthening treatment.
[0043]
[Etching treatment method]
Next, details of the etching process will be described. The etching process is performed by immersing the substrate in an etching solution. As the etchant, a hydrofluoric acid-based chemical can be suitably used. For example, an etching solution such as a hydrofluoric acid solution, a fluorinated nitric acid solution, hydrofluoric acid, ammonium fluoride, or hydrofluoric acid can be suitably used. Further, an aqueous solution containing them can also be used. For example, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid, ammonium fluoride and nitric acid, and an aqueous solution of hydrofluoric acid and ammonium hydrogen difluoride An aqueous solution of hydrofluoric acid, ammonium hydrogen difluoride, and nitric acid can be used. Although the etching rate is low, a strongly alkaline chemical such as caustic soda (NaOH) or potassium hydroxide (KOH) can also be used.
[0044]
As the etching method, wet etching performed by immersing the processing substrate in the above-described etching solution is preferable, but a dry etching method using an etching gas can also be used. When wet etching is used, the chemical strengthening method described later is a wet process, so that a continuous process of etching and chemical strengthening can be performed, and the glass substrate from which scratches and cracks have been removed by the etching process is immediately chemically strengthened. By performing the treatment, a glass substrate having high mechanical strength is obtained. Further, in the rinsing process performed after these processes, three processing steps can be continuously performed for the wet process.
[0045]
[Chemical strengthening treatment method]
Next, details of the chemical strengthening process will be described. The chemical strengthening treatment is performed by using a solution or a melt of a salt having a cation having a larger ionic radius than the sodium ion contained in the glass substrate as a chemical solution, and immersing the glass substrate in the chemical solution. As a result, the sodium atoms on the surface of the glass substrate are replaced with atoms having an ionic radius larger than that of sodium, and a chemically strengthened layer having the atoms replaced with sodium atoms is formed on the surface of the glass substrate, thereby improving the mechanical strength. As the chemical used here, for example, a molten potassium nitrate having potassium ions as cations having a large ionic radius can be used. Specifically, for example, 50% KNO 3 And 50% KNO 2 Can be used. The thickness of the chemical strengthening layer can be adjusted by adjusting the time of immersion in the chemical solution.
[0046]
Further, as a raw material of a glass substrate constituting an electro-optical panel such as a glass plate and a liquid crystal panel in the present invention, soda glass containing an alkali metal such as sodium or the like can be used.
[0047]
As described above, in the present invention, the glass substrate from which scratches, cracks, and the like have been removed by the etching treatment is further improved in mechanical strength by the chemical strengthening treatment, so that it is possible to obtain a glass substrate and a liquid crystal panel which are extremely hard to break. it can.
[0048]
As a method of masking when performing the etching process and the chemical strengthening process, a method using a chemical resistant material having resistance to an etchant or a chemical solution used for the chemical strengthening process as a protective film, a positive resist or a negative resist as a protective film. Is applied, and these can be basically applied to any of the above-described etching treatments A to E and chemical strengthening treatments A to E. The protective film is removed after the etching, the chemical strengthening, and the rinsing are completed.
[0049]
As the chemical-resistant material, there are, for example, a method of applying a wax or oil-based coating, attaching a chemical-resistant tape, and covering a portion to be masked with a putty or clay-like material.
[0050]
As a method of applying the resist, there is a method of applying a resist by immersing (dipping) or spraying a portion to be masked in the resist, and then exposing and developing to form a desired mask pattern. Further, a resist may be applied to the masked portion using a brush or a brush. In this case, the equipment used for resist coating can be inexpensive. There is also a method of applying a resist to a desired mask pattern by discharging a droplet material from a nozzle (so-called injection). In the method of applying the resist by the inkjet method, the resist can be applied in a fine pattern. Therefore, in particular, in the etching process C performed after the mounting of the driver IC, the position of the driver IC on the overhang portion 4 and the electrical wiring portion are specified. This is very effective when performing masking only on the part.
[0051]
On the other hand, the method of removing the mask thus formed basically differs for each mask forming method. When a photoresist is used, the resist may be removed by dissolving the resist using a predetermined chemical solution. In the case of wax or oil-based coating, the coating can be removed by dissolving the coating with a chemical solution. When a chemical resistant tape, putty, or the like is used, they may simply be peeled off.
[0052]
[Manufacturing method of liquid crystal panel]
Next, a method for manufacturing a liquid crystal panel to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a schematic manufacturing process diagram of a liquid crystal panel according to the present invention, and FIG. 8 is a flowchart of a liquid crystal panel manufacturing method according to the present invention.
[0053]
First, after performing predetermined processing such as formation of a transparent electrode and formation of an alignment film on the first mother substrate 11 and the second mother substrate 12 shown in FIG. A plurality of (here, 16) open-curve seal materials 13 and a closed-curve seal material 30 are applied on the substrate so as to surround the plurality of open-curve seal materials 13. Thereafter, the two mother substrates are bonded together via the sealing materials 13 and 30 (step S2). Thus, a large panel substrate 10 illustrated in FIG. 3A is obtained. In this state, after the etching process A (step S3) and the chemical strengthening process A (step S4) are performed, a rinsing process is performed using pure water.
[0054]
In the present embodiment, since the closed space is formed by the closed curved sealing material 30, the first motherboard 11, and the second motherboard 12, the closed space is formed by the etching process A and the chemical strengthening process A, respectively. The chemical used does not enter. As will be described later, a region outside the region surrounded by the sealing material 30 having a closed curve and sandwiched by the first mother substrate 11 and the second mother substrate 12 is a single liquid crystal panel. Since it is cut and removed, there is no problem even if a chemical solution during processing enters this area. Thereby, the scratches and cracks formed on the entire surface of the large-sized panel substrate 10 are removed, and the mechanical strength is further improved.
[0055]
Next, primary cutting is performed along the cutting line 15 shown in FIG. 3A (step S5), and only the glass substrate 11 side is removed along the cutting line 18. Thereafter, liquid crystal is injected between the substrates from the liquid crystal panel openings 14 exposed on the cut surface, and the openings 14 are sealed (step S6). As a result, the strip-shaped panel 20 having the protruding portion 21 in which the liquid crystal is sealed as shown in FIG. 3B is obtained. Then, after forming the protective film 27 on the projecting portion 21 of the strip-shaped panel 20, an etching process B (step S7) and a chemical strengthening process B (step S8) are performed, and then the protective film 27 is removed.
[0056]
Next, the strip-shaped panel 20 is secondarily cut along the cutting line 15 shown in FIG. 3A to obtain the individual liquid crystal panel 1 as shown in FIG. 3C (step S9).
[0057]
Next, the protective film 7 is formed on the overhanging portion 4 of the individual liquid crystal panel 1, and in this state, the etching process C (step S10) and the chemical strengthening process C (step S11) are performed. Remove. Thereby, the scratches and cracks generated on the side surfaces 2a, 3a and the surfaces (the second surfaces 2c and 3c) of the upper substrate 2 and the lower substrate 3 shown in FIG. 5A due to the cutting of the large panel substrate 10 are removed. Further, since the chemical strengthening treatment is performed, the crack strength of the substrate can be improved.
[0058]
After that, the driver IC is mounted on the predetermined portion 1 on the overhang portion 4 (step S12), and a protective film such as a resist is formed only on the position of the electrical wiring such as the driver IC and the terminal on the overhang portion 4, and in that state, An etching process D (step S13) and a chemical strengthening process D (step S14) are performed. In the case of the etching process D and the chemical strengthening process D, it is necessary to mask only the driver IC and the wiring position on the overhang portion 4, so that the protective film needs to be formed in a fine pattern. For this reason, among the above-described mask forming methods, a method of applying a resist by injection is particularly effective. After the treatment, the protective film is removed.
[0059]
In the liquid crystal panel 1 manufactured as described above, the flaws and cracks existing on the side surfaces and the surfaces, which are the cross sections, are removed, and furthermore, since the chemical strengthening treatment is performed, the crack strength is improved. Therefore, the liquid crystal panel 1 is less likely to be cracked or damaged by a manufacturing process of an electronic device such as a mobile phone or a portable terminal into which the liquid crystal panel 1 is incorporated, or by an impact during use by a user.
[0060]
Although the example of the manufacturing process shown in FIG. 8 includes all of the etching processes A to D and the chemical strengthening processes A to D for convenience of explanation, it is actually necessary to perform all the etching processes and the chemical strengthening processes. Is not necessarily required, and only one of the processes may be performed. In this case, which stage of the etching process and the chemical strengthening process should be performed is determined in consideration of the characteristics of the liquid crystal panel itself, the characteristics of the device on which the liquid crystal panel is mounted, and the transfer conditions during the liquid crystal panel manufacturing process. It is determined. For example, according to the shape of the housing of the device accommodating the liquid crystal panel, the mounting position with respect to the housing, and the like, the etching treatments A to D are performed so as to effectively remove the scratches and cracks in the portion of the device that is easily impacted. And chemical strengthening treatments A to D can be selected.
[0061]
[Electronics]
Next, an embodiment in which a liquid crystal device including the above liquid crystal display panel is used as a display device of an electronic device will be described. FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating the overall configuration of the present embodiment. The electronic device shown here has a liquid crystal display panel 200 similar to the liquid crystal panel 1 described above, and control means 1200 for controlling the same. Here, the liquid crystal display panel 200 is conceptually divided into a panel structure 200A and a driving circuit 200B including a semiconductor IC or the like. The control means 1200 includes a display information output source 1210, a display processing circuit 1220, a power supply circuit 1230, and a timing generator 1240.
[0062]
The display information output source 1210 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit for synchronizing and outputting a digital image signal. The display information processing circuit 1220 is configured to supply display information to the display method processing circuit 1220 in the form of an image signal in a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 1240.
[0063]
The display information processing circuit 1220 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit. Is supplied to the drive circuit 200B together with the clock signal CLK. The driving circuit 200B includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 1230 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.
[0064]
Specific examples of electronic equipment to which the electro-optical panel according to the present invention can be applied include portable personal computers (so-called notebook computers), mobile phones, liquid crystal televisions, viewfinder / monitor direct-view video tape recorders. , A car navigation device, a pager, an electronic organizer, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a digital still camera, and the like.
[0065]
Further, in the embodiment described above, the liquid crystal panel has been exemplified as the electro-optical panel, but any device may be used as long as the glass substrate is a part of the configuration, and an electroluminescence device, an organic electroluminescence device, a plasma display device, The processing of the present invention can be applied to an electro-optical panel used for various electro-optical devices such as an electrophoretic display device and a field emission display (field emission display device) and a glass substrate used for the same.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a manufacturing flowchart of a glass substrate to which an etching process and a chemical strengthening process of the present invention are applied.
FIG. 2A is a schematic perspective view of a large panel substrate to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied, and FIG. 2B is a line AA ′ of FIG. 2A. It is sectional drawing cut | disconnected by.
FIG. 3 is a schematic manufacturing process diagram of a liquid crystal panel to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied.
FIG. 4 is a diagram schematically showing the structure of a strip-shaped panel to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied.
FIG. 5 is a view schematically showing the structure of a liquid crystal panel to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied.
FIG. 6 shows a modification of the etching process and the chemical strengthening process performed in the state of the strip panel.
FIG. 7 shows a modification of the etching process and the chemical strengthening process performed in the state of the liquid crystal panel.
FIG. 8 is a flowchart of a method for manufacturing a liquid crystal panel to which the etching process and the chemical strengthening process of the present invention are applied.
FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating configuration blocks in an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.
[Explanation of symbols]
1 ... Liquid crystal panel
2 Upper substrate
2b, 3b, 11b, 12b, 22b, 23b ... first surface
2c, 3c, 11a, 12a, 22a, 23a... Second surface
3 Lower substrate
4, 21 ... overhang
7, 7a, 7b, 27 ... protective film
10 Large panel board
11 1st mother board
12 Second mother board
13 ... Open curved sealing material
22 1st strip substrate
23 ... second strip substrate
30 ... Closed curved sealing material

Claims (10)

表面にエッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とするガラス板。A glass plate having a surface subjected to a chemical strengthening treatment after being subjected to an etching treatment. 表面にエッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とする電気光学パネル用のガラス基板。A glass substrate for an electro-optical panel, wherein a surface is subjected to a chemical strengthening process after being subjected to an etching process. 第1面及び第2面を有する第1基板と、
第1面及び第2面を有し、該第1面が前記第1基板の第1面と対向するように配置された第2基板とを具備する電気光学パネルであって、
前記第1基板の前記第2面と前記第2基板の前記第2面は、エッチング処理が施された後、化学強化処理が施されたことを特徴とする電気光学パネル。
A first substrate having a first surface and a second surface;
An electro-optical panel, comprising: a second substrate having a first surface and a second surface, the first surface being disposed so as to face the first surface of the first substrate;
The electro-optical panel according to claim 1, wherein the second surface of the first substrate and the second surface of the second substrate are subjected to a chemical strengthening process after being subjected to an etching process.
ガラス板をエッチング処理する工程と、
エッチング処理後、前記ガラス板を化学強化処理する工程と
を具備することを特徴とするガラス板の製造方法。
A step of etching the glass plate;
A step of chemically strengthening the glass plate after the etching process.
電気光学パネル用のガラス基板をエッチング処理する工程と、
エッチング処理後、前記ガラス基板を化学強化処理する工程と
を具備することを特徴とする電気光学パネル用のガラス基板の製造方法。
A step of etching a glass substrate for an electro-optical panel,
And a step of chemically strengthening the glass substrate after the etching process.
第1面及び第2面を有する第1基板と、第1面及び第2面を有する第2基板とを、互いの前記第1面が対向するように配置し、シール材により貼りあわせる工程と、
前記シール材により貼り合わせた前記第1基板及び前記第2基板をエッチング処理する工程と、
前記エッチング処理後、前記シール材により貼り合わせた前記第1基板及び前記第2基板を化学強化処理する工程と
を有することを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
A step of arranging a first substrate having a first surface and a second surface and a second substrate having a first surface and a second surface such that the first surfaces are opposed to each other, and laminating with a sealant; ,
Etching the first substrate and the second substrate bonded by the sealing material;
Performing a chemical strengthening process on the first substrate and the second substrate bonded together with the sealant after the etching process.
前記第2基板は前記第1基板より張り出した張り出し部を有し、
前記貼り合わせ工程後、前記張り出し部の前記第1面に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項6記載の電気光学パネルの製造方法。
The second substrate has an overhang portion that overhangs the first substrate,
The method of manufacturing an electro-optical panel according to claim 6, further comprising a step of forming a protective film on the first surface of the overhang after the bonding step.
第1母基板と第2母基板とを、開曲線状のシール材及び該開曲線状のシール材を囲む閉曲線状のシール材により貼りあわせる工程と、
前記シール材により貼り合わせた前記第1母基板及び前記第2母基板をエッチング処理する工程と、
前記エッチング処理後、前記シール材により貼り合わせた前記第1母基板及び前記第2母基板を化学強化処理する工程と
を有することを特徴とする電気光学パネルの製造方法。
Bonding the first motherboard and the second motherboard with an open-curve sealing material and a closed-curve sealing material surrounding the open-curve sealing material;
Etching the first mother substrate and the second mother substrate bonded by the sealing material;
Performing a chemical strengthening process on the first mother substrate and the second mother substrate bonded together with the sealant after the etching process.
前記開曲線状のシール材は複数設けられ、
前記化学強化処理工程後、前記第1母基板及び前記第2母基板を切断して、前記開曲線状のシール材を1つ有する電気光学パネルを複数形成する工程と
を有することを特徴とする請求項8記載の電気光学パネルの製造方法。
A plurality of the open-curve sealing materials are provided,
After the chemical strengthening process, cutting the first mother substrate and the second mother substrate to form a plurality of electro-optical panels having one open-curve sealing material. A method for manufacturing an electro-optical panel according to claim 8.
請求項2記載の電気光学パネル用ガラス基板、請求項3記載の電気光学パネル、請求項6から請求項9いずれか一項に記載の電気光学パネルの製造方法により製造された電気光学パネルのいずれか1つを備えることを特徴とする電子機器。The glass substrate for an electro-optical panel according to claim 2, an electro-optical panel according to claim 3, or an electro-optical panel manufactured by the method for manufacturing an electro-optical panel according to any one of claims 6 to 9. An electronic device, comprising:
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