JP2004067815A

JP2004067815A - Vinyl ester resin, vinyl ester resin composition, and its cured product

Info

Publication number: JP2004067815A
Application number: JP2002227521A
Authority: JP
Inventors: Shige Kaku; 郭　▲樹▼; Takuya Kikawa; 木川　卓也; Mitsuhiro Yada; 矢田　光広; Kiichi Hosoda; 細田　喜一
Original assignee: Showa Highpolymer Co Ltd
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 2002-08-05
Filing date: 2002-08-05
Publication date: 2004-03-04
Anticipated expiration: 2022-08-05
Also published as: JP3659639B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vinyl ester resin which can easily be dried on preliminary heat drying to exhibit an improvement on tack-freeness, excels in developability with an alkali aqueous solution, and excels in the physical properties of a material after curing such as electrical properties, mechanical properties, heat resistance, solvent resistance, adhesion, and flexibility, a vinyl ester resin composition, and its cured product. <P>SOLUTION: The vinyl ester resin is obtained by reacting an epoxy resin (a) having two or more glycidyl groups in the molecule with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) and/or a polybasic acid (c) to obtain a reaction product (A), esterifying a part of the primary and/or secondary hydroxy groups of the above reaction product (A) with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d) to obtain a reaction product (B), and esterifying a part of the hydroxy groups or the entire hydroxy groups remaining in the above reaction product (B) with a polybasic acid (e) and/or a polybasic acid anhydride (f). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばプリント配線基板製造用ソルダーレジスト、無電解メッキレジスト、ビルドアップ法プリント配線基板の絶縁層あるいは印刷版や液晶表示板製造用のブラックマトリックスやカラーフィルター等に適した感光性樹脂材料として使用することのできるビニルエステル樹脂およびビニルエステル樹脂組成物、ならびにその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、省資源、省エネルギー、作業性向上、生産性向上を理由に各種分野で光硬化型の樹脂組成物が多用されてきている。さらにＩＣ、ＬＳＩの高密度化に伴いプリント配線基板やフラットパネルディスプレイの高精細化等も急速に進んでおり、当該分野では高解像度、高い寸法安定性が感光性樹脂材料にも望まれている。
従来のアルカリ現像型レジストは、ビニルエステル樹脂の末端に重合性の不飽和基を導入すると共に酸無水物を反応させてカルボキシル基を導入したカルボキシル基含有エポキシ（メタ）アクリレートが用いられ、例えば、特開昭６１−２４３８６９号公報、特開昭６３−２５８９７５号公報等に開示されている。しかし、これらのビニルエステル樹脂は、単位分子量当たりの重合性官能基の官能基数が少なく、光硬化速度に劣ると言う不都合があり、その点では光硬化性材料としては必ずしも高感度ではなかった。
また、硬化性および感度の向上のために、特開平７−２０７２１１号公報に提案されるようにビスフェノール型エポキシ樹脂のもつヒドロキシル基にグリシジル基を導入することで多官能エポキシを得ることで多価の感光硬化性基を導入したビニルエステル樹脂を提案しているが、多官能性のためにゲル化を避けて高性能化は困難である。
また、特開２０００−５３７４６号公報では、２官能性エポキシ樹脂のビニルエステル化反応で不飽和モノカルボン酸を、エポキシ基１化学当量当たりに０．５〜０．９化学当量用いることで、エポキシ基を残した状態で多塩基酸無水物を反応させることで分子量の増大とアルカリ現像性を両立させる感光性樹脂の製造方法を提案されているが、この技術は１分子当たりに導入できる感光性基に限界があり感光性感度が低いと言う点で難点がある。
【０００３】
また、プリント配線基板製造用ソルダーレジスト、無電解メッキレジスト、ビルドアップ法プリント配線基板の絶縁層あるいは印刷版や液晶表示板製造用のブラックマトリックスやカラーフィルター等のレジスト用樹脂組成物によるパターン形成方法には、ドライフィルム法、液状現像型レジスト法等があるが、高精細な配線基板等パターニングには液状現像型レジスト法が適している。この方法は、パターニング対象にレジスト用樹脂組成物を塗布し加熱乾燥して塗膜を形成したのち、この塗膜にパターン形成用フィルムを圧着して露光現像するという手法が取られる。この工程において、加熱乾燥後の塗膜にタック（粘着）性が残存していると、剥離後のパターン用フィルムに一部のレジストが付着して正確なパターンの再現ができなくなり、あるいはパターン用フィルムが剥離できなくなるという問題がある。このため、塗膜形成後のタックフリーは液状現像型レジストの重要な要求特性の一つである。それと共に露光後のアルカリ現像性も重要な特性である。すなわち、高精細で高い信頼性で再現性良く形成させるためには塗膜の未露光部分が現像の際に速やかに除去されなくてはならない。しかし、アルカリ現像性とタックフリー性は背反する特性であって現像性を良好にしようとするとタックフリー性が低下する傾向にあるため両立が困難である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、予備加熱乾燥時に容易に乾燥できタックフリー性の向上を示し、アルカリ水溶液による現像性に優れ、かつ硬化後の材料の電気特性、機械特性、耐熱性、耐溶剤性、密着性、可撓性等の物理性状に優れたビニルエステル樹脂およびビニルエステル樹脂組成物、ならびにその硬化物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ビニルエステル樹脂の分子量をあらかじめ増大させることにより、光硬化前のタックフリー性を確保し、かつビニルエステル樹脂の単位分子量当たりのエチレン性不飽和基およびカルボキシル基を多く導入することにより光硬化性を向上し、露光部の膜は高密度に架橋しているために未露光部のみ速やかにアルカリに溶解する材料を見出した。
【０００６】
すなわち、本発明は、２個以上のグリシジル基を１分子内にもつエポキシ樹脂（ａ）と、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）および／または多塩基酸（ｃ）とを反応させ、反応物（Ａ）を得、前記反応物（Ａ）の１級および／または２級のヒドロキシル基の一部をエチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）でエステル化反応させ、反応物（Ｂ）を得、前記反応物（Ｂ）に残存するヒドロキシル基の一部または全てを多塩基酸（ｅ）および／または多塩基酸無水物（ｆ）でエステル化反応させて得られるビニルエステル樹脂を提供するものである。
また、本発明は、エポキシ樹脂（ａ）が、グリシジル基を１分子内に２個もつ前記のビニルエステル樹脂を提供するものである。
また、本発明は、エポキシ樹脂（ａ）が、ビスフェノール型エポキシ樹脂である前記のビニルエステル樹脂を提供するものである。
また、本発明は、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）および（ｄ）が、アクリル酸および／またはメタクリル酸である前記のビニルエステル樹脂を提供するものである。
また、本発明は、前記のビニルエステル樹脂、反応性希釈剤（ｇ）および封止剤（ｈ）を含むビニルエステル樹脂組成物を提供するものである。
また、本発明は、さらに、光重合開始剤（ｉ）を含む前記のビニルエステル樹脂組成物を提供するものである。
また、本発明は、前記のビニルエステル樹脂組成物を硬化させた硬化物を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明のビニルエステル樹脂は、２個以上のグリシジル基を１分子内にもつエポキシ樹脂（ａ）と、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）および／または多塩基酸（ｃ）とを反応させ、反応物（Ａ）を得、前記反応物（Ａ）の１級および／または２級のヒドロキシル基の一部をエチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）でエステル化反応させ、反応物（Ｂ）を得、前記反応物（Ｂ）に残存するヒドロキシル基の一部または全てを多塩基酸（ｅ）および／または多塩基酸無水物（ｆ）でエステル化反応させて得ることができる。
【０００８】
本発明で用いられるエポキシ樹脂（ａ）の具体的な例は、ビスフェノール型エポキシ樹脂（例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳおよびテトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの、あるいはビスフェノールＡのグリシジルエーテルと前記ビスフェノール類の縮合物とエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等）、ビフェニル型エポキシ樹脂（例えば、ビフェノールとエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等で、具体例として、ジャパンエポキシエジン製　エピコート　ＹＸ−４０００）、ナフタレン型エポキシ樹脂（例えば、ジヒドロキシナフタレンとエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等で、具体例として、大日本インキ化学工業製　ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ−４０３２）、アルキルジフェノール型エポキシ樹脂（例えば、アルキルジフェノールとエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等で、具体例として、大日本インキ化学工業製　ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ−７１２０）、ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂（例えば、ダイマー酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等）、グリシジルアミン型エポキシ樹脂（例えば、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン等）、脂環式型エポキシ樹脂（例えば、アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート等）、さらに、前記エポキシ樹脂とジイソシアネートとを反応させて得られるオキサゾリドン環を有する（具体例として、旭化成エポキシ製　アラルダイト　ＡＥＲ４１５２）等、ノボラック型エポキシ樹脂（例えば、エピクロルヒドリンまたはメチルエピクロルヒドリンとフェノールノボラックまたはクレゾールノボラックとの反応で得られるエポキシ化合物等）、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂（例えば、トリスフェノールメタン、トリスクレゾールメタン等とエピクロルヒドリンおよび／またはメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるもの等）を挙げることができるが、これらに限られるものではない。また、これらのエポキシ樹脂（ａ）は、１種または２種以上混合して用いてもよい。中でも特に好ましいのは、分子内に２個のグリシジル基をもつビスフェノール型エポキシ樹脂であり、これは、耐熱性、耐薬品性に優れ、かつ反応においてはゲル化せず直鎖状に分子量を増加することができる。
【０００９】
本発明において、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）は、感光性基としてエチレン性不飽和基を樹脂末端に導入させるのに使用でき、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、等を挙げることができる。また、１個のヒドロキシル基と２個以上の（メタ）アクロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと多塩基酸無水物との反応物等も用いることができるが、好ましくは（メタ）アクリル酸である。
【００１０】
本発明において、多塩基酸（ｃ）は、前記エポキシ樹脂（ａ）の分子量を増大させるのに使用でき、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エチレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、ポリエチレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、プロピレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、ポリプロピレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物等が挙げられる。
また、前記エポキシ樹脂（ａ）と反応する多塩基酸（ｃ）としては、ヒドロキシル基を有するカルボン酸であってもよく、グリシジル基とカルボキシル基との反応で生じるヒドロキシル基以上に、反応物（Ａ）のもつヒドロキシル基を増加させる目的として有用であり、例えば、リンゴ酸、酒石酸、ムチン酸等を挙げることができる。
【００１１】
反応物（Ａ）を生成する場合の多塩基酸（ｃ）とエチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）との割合は、前者：後者としてモル比で１：２０〜５：１の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：５〜１：１の範囲である。エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）の割合が、５：１を下回ると分子量が増大し過ぎてしまい、本発明のビニルエステル樹脂は感光性樹脂材料として適さず、１：２０を上回ると充分な分子量増大の効果が得られない。
【００１２】
さらに、反応物（Ａ）を生成する場合のエポキシ樹脂（ａ）と、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）と、多塩基酸（ｃ）との割合は、エポキシ樹脂（ａ）のエポキシ基１当量に対し、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）と多塩基酸（ｃ）とのカルボキシル基当量の和は、０．９〜１．１当量が好ましく、さらに好ましくは、０．９５〜１．０５当量の範囲である。カルボキシル基当量が０．９未満では、多塩基酸無水物（ｆ）との反応時にゲル化しやすく、１．１を超えると未反応の酸が多くなりすぎ、インキ配合後の安定性を低下させる傾向となる。
【００１３】
本発明は、上記のように得られた反応物（Ａ）の１級および／または２級のヒドロキシル基の一部と、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）とをエステル化反応させて、さらにエチレン性不飽和基を導入した反応物（Ｂ）を得ることができる。
【００１４】
エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）としては、前記（ｂ）成分と同様なものでよく、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等が挙げられるが、これらの酸塩化物も挙げることができる。また、１個のヒドロキシル基と２個以上の（メタ）アクロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと多塩基酸無水物との反応物等も用いることができるが、好ましくは（メタ）アクリル酸、およびこれらの酸塩化物である。
【００１５】
得られた反応物（Ｂ）は、感光性基としてエチレン性不飽和基を樹脂の末端以外にも有するので、該反応物（Ｂ）は、分子量当たりのエチレン性不飽和結合数、すなわち感光性基を従来のビニルエステル樹脂系レジスト材料より多くもつ構造を示し、感光感度および露光後の３次元硬化密度が高いビニルエステル樹脂を与えることができる。
【００１６】
反応物（Ａ）の１級および／または２級のヒドロキシル基に対して、エチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）の付加率が、１％以上であるとビニルエステル樹脂の感光感度および露光後の３次元硬化密度の改善は発現するが、好ましくは１０％以上でその改善は明瞭となり、さらに好ましくは３０％以上である。
【００１７】
本発明は、上記のように得られた反応物（Ｂ）に残存するヒドロキシル基の一部または全てと、多塩基酸（ｅ）および／または多塩基酸無水物（ｆ）とをエステル化反応されて、さらにカルボキシル基を導入したビニルエステル樹脂を得ることができる。
【００１８】
多塩基酸（ｅ）および／または多塩基酸無水物（ｆ）としては、例えば、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、フタル酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エチレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、ポリエチレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、プロピレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、ポリプロピレングリコール・２モル無水マレイン酸付加物、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらを単独あるいは２種以上併用することができる。
【００１９】
本発明のビニルエステル樹脂がアルカリ現像性を充分に発揮するためには、反応物（Ｂ）に残存するヒドロキシル基１モルに対してカルボキシル基が０．２モル以上の割合で反応するが、好ましくは０．３モル以上であり、さらに好ましくは０．４モル以上である。
本発明のビニルエステル樹脂の分子量は、ポリスチレン換算の数平均分子量で８００〜１５０００の範囲であり、好ましくは１０００〜１００００の範囲である。分子量が８００未満であると加熱乾燥後にタックフリーの塗膜が得られず、分子量が１５０００を超えると塗装性に支障をきたすため好ましくない。
【００２０】
本発明によるビニルエステル樹脂の合成方法は、特に制限されないが、例えば、通常のポリカルボン酸の合成方法と同様に、エポキシ樹脂（ａ）にエチレン性不飽和モノカルボン酸（ｂ）と多塩基酸（ｃ）との各所定量を、エステル化触媒を用いて反応し、反応により生成した反応物（Ａ）の１級および／または２級のヒドロキシル基の一部にエチレン性不飽和モノカルボン酸（ｄ）を、触媒を用いて脱水縮合させて、反応物（Ｂ）が得られる。ヒドロキシル基への反応は、エチレン性不飽和モノカルボン酸の酸塩化物、酸無水物あるいはエステル交換法を用いても合成できるが、合成方法には特に制限されない。さらに、前記反応物（Ｂ）のヒドロキシル基の一部または全てと、多塩基酸（ｅ）および／または多塩基酸無水物（ｆ）とを、触媒を用いて開環付加、合成できるが、これらも合成方法には特に制限されない。
【００２１】
本発明は、タックフリー性の向上と感光感度が改善され、さらには良好なアルカリ現像性を示すビニルエステル樹脂を与えることができる。
【００２２】
本発明の別の見地によれば、前記ビニルエステル樹脂、反応性希釈剤（ｇ）および封止剤（ｈ）を含むビニルエステル樹脂組成物が提供される。また、前記ビニルエステル樹脂組成物は、光重合開始剤（ｉ）を含むことができ、光硬化型ビニルエステル樹脂組成物を提供することができる。さらに、本発明は、前記ビニルエステル樹脂組成物および前記光硬化型ビニルエステル樹脂組成物を硬化させた硬化物を提供するものである。
【００２３】
本発明のビニルエステル樹脂組成物において、反応性希釈剤（ｇ）を添加することができる。利用できる反応性希釈剤（ｇ）としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネート等の芳香族ビニル系モノマー類；酢酸ビニル、アジピン酸ビニル等のビニルエステルモノマー類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（ジ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（ジ）エチレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリル系モノマー；トリアリルシアヌレート等を挙げることができ、これらの１種または２種以上を用いることができる。
反応性希釈剤（ｇ）の配合量は、本発明のビニルエステル樹脂の固形分１００重量部に対して、５〜２００重量部であり、好ましくは１０〜１００重量部である。
【００２４】
本発明のビニルエステル樹脂組成物は、後硬化（ポストキュア）することも可能であり、そのために封止剤（ｈ）を用いることができる。封止剤（ｈ）は、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ樹脂を挙げることができ、さらにジシアンジアミド、イミダゾール化合物などのエポキシ硬化剤と共に用いることができる。
封止剤（ｈ）の配合量は、本発明のビニルエステル樹脂のカルボキシル基１当量に対し、封止剤（ｈ）のエポキシ当量で０．５〜２．０当量、好ましくは１．０〜１．５当量の範囲で配合する。
【００２５】
本発明のビニルエステル樹脂組成物は、紫外線照射などにより光硬化させるために光重合開始剤（ｉ）を添加することができる。利用できる光重合開始剤（ｉ）としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、４−（１−ｔ−ブチルジオキシ−１−メチルエチル）アセトフェノン等のアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４−（１−ｔ−ブチルジオキシ−１−メチルエチル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オンや２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン−１；アシルホスフィンオキサイド類およびキサントン類等が挙げられる。
光重合開始剤（ｉ）の配合量は、本発明のビニルエステル樹脂の固形分１００重量部に対して、０．５〜３０重量部で配合することが好ましい。
【００２６】
さらに、本発明の組成物は、必要に応じてタルク、クレー、硫酸バリウム等の充填材、着色性顔料、消泡剤、カップリング剤、レベリング剤等を含有することができる。
【００２７】
また、本発明の組成物は、プリント配線基板用途に適用される感光性レジスト材料だけではなく広範の印刷版、液晶表示材料用、プラズマディスプレイ用の感光性材料として用いることが可能であり、露光感度が高く、かつアルカリ水溶液による現像性が良好である。しかも、現像後の硬化で電気特性、機械特性、耐熱性、耐薬品性等に優れた硬化塗膜を形成しうる感光性樹脂材料である。
【００２８】
【実施例】
以下に実施例および比較例を示して、本発明を具体的に説明する。なお、部および％とあるのは、特に断らない限り、全て重量基準である。
【００２９】
［合成例１］
四つ口フラスコに攪拌器、温度計、空気封入管、還流冷却器をセットした反応装置に、フェノールノボラック型エポキシ樹脂〔ＤＥＮ４３８、ダウ・ケミカル日本（株）製、エポキシ当量１８０〕１８０部、アクリル酸５０．４部、フマル酸１７．４部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２２６．９部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に温度を１０℃まで下げ、アクリル酸クロリド２７．０部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を１０℃を保ちながら滴下して攪拌し続けた。これを水洗してトリエチルアミン塩酸塩を取り除き、共沸脱水させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、テトラヒドロ無水フタル酸７６．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８２．４ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−１）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、４０００であった。
【００３０】
［合成例２］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エピコート８２８、ジャパンエポキシレジン（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、アクリル酸５０．４部、フマル酸１７．４部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２１３．４部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に温度を１０℃まで下げ、メタクリル酸クロリド３１．２部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、テトラヒドロ無水フタル酸４５．６部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価５２．６ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−２）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、７５００であった。
【００３１】
［合成例３］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エポトートＹＤ−１２８、東都化成（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、アクリル酸３６．０部、フマル酸２９．０部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２１４．５部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に温度を１０℃まで下げ、メタクリル酸クロリド３１．２部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、無水コハク酸５０．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８７．２ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−３）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、４８００であった。
【００３２】
［合成例４］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エポミックＲ１４０Ｐ三井化学（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、アクリル酸２１．６部、フマル酸４０．６部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２３２．５部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に温度を１０℃まで下げ、メタクリル酸クロリド３１．２部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、無水イタコン酸７９．８部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価１１２．６ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−４）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、１８００であった。
【００３３】
［合成例５］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エピコート８２８、ジャパンエポキシレジン（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、メタクリル酸４３．０部、アジピン酸３６．５部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２３８．７部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に、アクリル酸クロリド２７．０部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部とを合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、テトラヒドロ無水フタル酸７６．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価７８．４ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−５）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、５５００であった。
【００３４】
［合成例６］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エポトートＹＤ−１２８、東都化成（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、メタクリル酸４３．０部、シクロヘキサンジカルボン酸４３．０部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２２５．７部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に、アクリル酸クロリド２７．０部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部とを合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、無水コハク酸５０．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８２．９ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−６）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、５８００であった。
【００３５】
［合成例７］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エポミックＲ１４０Ｐ三井化学（株）製、エポキシ当量１８６〕１８６部、メタクリル酸４３．０部、イタコン酸３２．５部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２１８．７部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に、アクリル酸クロリド２７．０部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、無水コハク酸５０．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８５．５ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−７）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、５０００であった。
【００３６】
［合成例８］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂〔エポミックＲ１１０、三井化学（株）製、エポキシ当量１７０〕１７０部、メタクリル酸４３．０部、リンゴ酸３３．５部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２１３．３部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次に、アクリル酸クロリド２７．０部と当モル数のトリエチルアミン３０．３部を合成例１と同様に反応させ、反応物を得た。
その後、温度を９０℃まで上げ、無水イタコン酸５７．０部、トリフェニルホスフィン０．５部、メチルハイドロキノン０．２部を仕込み、９０℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８７．７ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−８）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、５２００であった。
【００３７】
［比較合成例１］
合成例１と同一反応装置に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂〔エポトートＹＤ−１２８、東都化成（株）製、エポキシ当量１９０〕１９０部、アクリル酸７２部、トリフェニルホスフィン０．８部、メチルハイドロキノン０．２部、メチルイソブチルケトン２２５．３部を仕込み、空気を吹き込みながら、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．８ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次いで、テトラヒドロ無水フタル酸７６．０部を仕込み、１００℃で更に６時間反応させ、固形分酸価８３．０ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ｂ−１）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、３２０であった。
【００３８】
［比較合成例２］
合成例１と同一反応装置に、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂〔エポトートＹＤＣＮ−７０４、東都化成（株）製、エポキシ当量２１０、軟化点９０℃〕２１０部、アクリル酸７２．０部、メチルハイドロキノン０．２８部、メチルイソブチルケトン２３８．７部を仕込み、９５℃に加熱し、上記混合物が均一に溶解したことを確認後、トリフェニルホスフィン１．４部を仕込み、１００℃に加熱し、約３０時間反応させ、酸価０．５ＫＯＨｍｇ／ｇの反応物を得た。
次いで、テトラヒドロ無水フタル酸７６．０部を仕込み、９０℃に加熱し約６時間反応させ、固形分酸価７８．４ＫＯＨｍｇ／ｇ、固形分濃度６０．０％の感光性ビニルエステル樹脂（Ｂ−２）を得た。ポリスチレン換算の数平均分子量は、３０００であった。
【００３９】
［実施例１〜実施例８、比較例１および２］
合成例１〜８および比較合成例１および２から得られた感光性ビニルエステル樹脂（Ａ−１〜Ａ−８、Ｂ−１およびＢ−２）を用いて、下記に示す配合比率に従って各成分を配合し、３本ロールによって充分混練し、各々の光硬化型ビニルエステル樹脂組成物を得た。なお、樹脂Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５、Ａ−６、Ａ−７、Ａ−８、Ｂ−１およびＢ−２を用いた組成物をそれぞれ実施例１、２、３、４、５、６、７、８および比較例１、２とする。
【００４０】
感光性ビニルエステル樹脂の固形分（Ａ−１〜Ｂ−２）　　　　　１００部
ブチルセロソルブ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０部
トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　　　　　　　２０部
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン　　　　　　　　　５部
硫酸バリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５７部
微粉シリカ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
フタロシアニングリーン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１部
１，３，５−トリグリシジルイソシアヌレート　　　　　　　　　　１０部
ジシアンジアミド　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
【００４１】
次いで予め面処理済のプリント配線基板に、スクリーン印刷法によりこの光硬化型ビニルエステル樹脂組成物を３０〜４０μｍになるように塗布し、８０℃で２０分間予備乾燥後、室温まで冷却し乾燥塗膜を得た。この塗膜を、オーク製作所製平行超高圧水銀灯露光装置を用いて６０秒間露光し、その後熱風乾燥器を用い１５０℃で３０分間加熱処理して硬化塗膜を得た。
また、以下に示す評価試験方法に従って、各種物性評価を行なった。これらの結果を表１に示す。
【００４２】
＜指触乾燥性＞
８０℃で２０分間予備乾燥後の乾燥塗膜に感度測定用ステップタブレット（コダック１４段）を設置し、オーク製作所製平行超高圧水銀灯露光装置を用いて６０秒間露光し、ステップタブレットを剥離する時に発生するタックを下記の基準にて評価した。
○：タック感なく、ステップタブレットが容易に剥離可能。
△：タック感若干あり、ステップタブレットが引っかかるが剥離可能。
×：タック性あり、ステップタブレットにインキが付着し剥離し難い。
【００４３】
＜感度＞
８０℃で２０分間予備乾燥後の乾燥塗膜に感度測定用ステップタブレット（コダック１４段）を設置し、オーク製作所製平行超高圧水銀灯露光装置を用いて６０秒間露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液を用い、スプレー圧２．０ｋｇｆ／ｍｍ^２で６０秒間現像を行なった後の露光部分の除去されない部分のステップタブレットの段数を測定した。数字が大きい程感度が優れていることを示す。
【００４４】
＜現像管理幅＞
８０℃で２０分間予備乾燥後の乾燥塗膜および予備乾燥時間を７０分に延長した乾燥塗膜を、１％炭酸ナトリウム水溶液を用い、スプレー圧２．０ｋｇｆ／ｍｍ^２で現像を行い現像後の塗膜の有無を観察した。
○：現像時間６０秒後、目視で塗膜無し。
△：現像時間１２０秒後、目視で塗膜無し。
×：現像時間１２０秒後、目視で残膜有り。
【００４５】
＜半田耐熱性＞
硬化塗膜を、ＪＩＳ　Ｃ６４８１に準じて、２６０℃の半田浴に１０秒間、全面が半田浴に浸かるように３回浮かせ、取り出した後、膨れまたは剥れなどの塗膜の状態を観察した。
○：外観変化無し。
×：外観変化有り。
【００４６】
＜耐溶剤性＞
硬化塗膜を塩化メチレンに３０分浸せきした後の塗膜状態を評価した。
○：外観変化なし
△：外観わずかに変化あり
×：塗膜が剥離したもの
【００４７】
【表１】

【００４８】
本発明のビニルエステル樹脂組成物は、タックフリー性を示し、かつ感光性を維持しながら速やかにアルカリに溶解でき、現像管理幅も良好であり、耐熱性、電気絶縁性、耐溶剤性が優れたパターンを与えることができ、プリント配線基板用のソルダーレジストとして好適に用いられる。
【００４９】
【発明の効果】
本発明によれば、予備加熱乾燥時に容易に乾燥できタックフリー性の向上を示し、アルカリ水溶液による現像性に優れ、かつ硬化後の材料の電気特性、機械特性、耐熱性、耐溶剤性、密着性、可撓性等の物理性状に優れたビニルエステル樹脂およびビニルエステル樹脂組成物、ならびにその硬化物が提供される。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive resin material suitable for, for example, a solder resist for producing a printed wiring board, an electroless plating resist, an insulating layer of a build-up method printed wiring board or a black matrix or a color filter for producing a printing plate or a liquid crystal display panel. The present invention relates to a vinyl ester resin and a vinyl ester resin composition which can be used as a resin, and a cured product thereof.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, photocurable resin compositions have been widely used in various fields for resource saving, energy saving, workability improvement, and productivity improvement. Furthermore, with the increase in the density of ICs and LSIs, the fineness of printed wiring boards and flat panel displays is also rapidly increasing. In this field, high resolution and high dimensional stability are desired for photosensitive resin materials. .
Conventional alkali-developing resists use a carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate in which a carboxyl group is introduced by introducing a polymerizable unsaturated group into an end of a vinyl ester resin and reacting with an acid anhydride. It is disclosed in JP-A-61-243869 and JP-A-63-258975. However, these vinyl ester resins have a disadvantage that the number of functional groups of the polymerizable functional groups per unit molecular weight is small and the photocuring speed is inferior. In that respect, the photocurable material is not always highly sensitive.
Further, in order to improve curability and sensitivity, a polyfunctional epoxy is obtained by introducing a glycidyl group into a hydroxyl group of a bisphenol-type epoxy resin as proposed in JP-A-7-207211. However, it is difficult to achieve high performance by avoiding gelation due to polyfunctionality.
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-53746, an unsaturated monocarboxylic acid is used in a vinyl esterification reaction of a bifunctional epoxy resin by using 0.5 to 0.9 chemical equivalents per one chemical equivalent of an epoxy group. There has been proposed a method for producing a photosensitive resin in which a polybasic acid anhydride is reacted in a state where a group is left, thereby achieving both increase in molecular weight and alkali developability. There is a disadvantage in that the group has a limit and the photosensitivity is low.
[0003]
Also, a method for forming a pattern using a resin composition for a resist such as a solder resist for producing a printed wiring board, an electroless plating resist, an insulating layer of a printed wiring board or a black matrix or a color filter for producing a printing plate or a liquid crystal display panel. There are a dry film method, a liquid development type resist method, and the like, and a liquid development type resist method is suitable for patterning a high-definition wiring substrate or the like. This method employs a method in which a resin composition for resist is applied to an object to be patterned and dried by heating to form a coating film, and then a film for pattern formation is pressed against the coating film and exposed and developed. In this process, if the tackiness remains in the coating film after heating and drying, some resist adheres to the pattern film after peeling, making it impossible to accurately reproduce the pattern, or There is a problem that the film cannot be peeled. For this reason, tack-free after the formation of the coating film is one of the important required characteristics of the liquid development type resist. At the same time, alkali developability after exposure is also an important property. That is, in order to form a high definition, high reliability and good reproducibility, the unexposed portion of the coating film must be promptly removed at the time of development. However, alkali developability and tack-free property are contradictory properties, and it is difficult to achieve good tackiness because good tackiness tends to decrease tack-free property.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, an object of the present invention is to exhibit an improved tack-free property which can be easily dried at the time of preliminary heating drying, is excellent in developability with an aqueous alkali solution, and the electrical properties, mechanical properties, heat resistance, solvent resistance of the cured material, It is to provide a vinyl ester resin and a vinyl ester resin composition excellent in physical properties such as adhesion and flexibility, and a cured product thereof.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is to increase the molecular weight of the vinyl ester resin in advance, to ensure tack-free property before photocuring, and to introduce a large amount of ethylenically unsaturated groups and carboxyl groups per unit molecular weight of the vinyl ester resin. We have found a material that improves photocurability and rapidly dissolves in alkali only in the unexposed areas because the exposed areas are crosslinked at high density.
[0006]
That is, the present invention comprises reacting an epoxy resin (a) having two or more glycidyl groups in one molecule with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) and / or a polybasic acid (c). A product (A) is obtained, and a part of the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reaction product (A) is subjected to an esterification reaction with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d), whereby the reaction product (B) is obtained. A vinyl ester resin obtained by subjecting part or all of the hydroxyl groups remaining in the reaction product (B) to an esterification reaction with a polybasic acid (e) and / or a polybasic acid anhydride (f) is provided. Things.
The present invention also provides the above vinyl ester resin in which the epoxy resin (a) has two glycidyl groups in one molecule.
Further, the present invention provides the above vinyl ester resin, wherein the epoxy resin (a) is a bisphenol type epoxy resin.
The present invention also provides the above vinyl ester resin wherein the ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (b) and (d) are acrylic acid and / or methacrylic acid.
The present invention also provides a vinyl ester resin composition containing the vinyl ester resin, a reactive diluent (g) and a sealing agent (h).
The present invention further provides the above-mentioned vinyl ester resin composition further containing a photopolymerization initiator (i).
The present invention also provides a cured product obtained by curing the vinyl ester resin composition.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The vinyl ester resin of the present invention is obtained by reacting an epoxy resin (a) having two or more glycidyl groups in one molecule with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) and / or a polybasic acid (c). , A reactant (A), and a part of the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reactant (A) are subjected to an esterification reaction with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d) to give a reactant (B) ), And part or all of the hydroxyl groups remaining in the reaction product (B) are subjected to an esterification reaction with a polybasic acid (e) and / or a polybasic acid anhydride (f).
[0008]
Specific examples of the epoxy resin (a) used in the present invention include bisphenol-type epoxy resins (for example, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S and tetrabromobisphenol A, and epichlorohydrin and / or methylepichlorohydrin). A reaction product obtained by reacting a glycidyl ether of bisphenol A with a condensate of the bisphenol and epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin, and a biphenyl-type epoxy resin (for example, biphenol and epichlorohydrin and / or Or a product obtained by reacting with methyl epichlorohydrin. Specific examples include Epicoat YX-4000 manufactured by Japan Epoxy Edin) and naphthalene type epoxy Resin (for example, a resin obtained by reacting dihydroxynaphthalene with epichlorohydrin and / or methylepichlorohydrin, as specific examples, EPICLON HP-4032 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), an alkyl diphenol type epoxy resin (for example, Examples thereof include those obtained by reacting an alkyl diphenol with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin. Specific examples include EPICLON EXA-7120 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, a diglycidyl ester type epoxy resin (for example, diglycidyl dimerate). Esters, diglycidyl hexahydrophthalate), glycidylamine type epoxy resins (eg, diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, etc.), alicyclic epoxy resins (eg, A cyclic diepoxy acetal, an alicyclic diepoxy adipate, an alicyclic diepoxy carboxylate, etc.), and further having an oxazolidone ring obtained by reacting the epoxy resin with a diisocyanate (as a specific example, Araldite manufactured by Asahi Kasei Epoxy) AER4152), novolak type epoxy resins (eg, epoxy compounds obtained by the reaction of epichlorohydrin or methyl epichlorohydrin with phenol novolak or cresol novolak), trisphenolmethane type epoxy resins (eg, trisphenolmethane, triscresol methane, etc.) Such as those obtained by reacting epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin), but are not limited thereto. Not to. These epoxy resins (a) may be used alone or in combination of two or more. Among them, particularly preferred is a bisphenol-type epoxy resin having two glycidyl groups in the molecule, which is excellent in heat resistance and chemical resistance, and does not gel in the reaction and increases the molecular weight linearly. can do.
[0009]
In the present invention, the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) can be used to introduce an ethylenically unsaturated group as a photosensitive group into the terminal of the resin, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, And the like. In addition, a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having one hydroxyl group and two or more (meth) acryloyl groups and a polybasic acid anhydride can be used, but (meth) acrylic acid is preferable. It is.
[0010]
In the present invention, the polybasic acid (c) can be used to increase the molecular weight of the epoxy resin (a), for example, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid , Itaconic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, ethylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, polyethylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, propylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, polypropylene glycol / 2 Molar maleic anhydride adduct and the like.
Further, the polybasic acid (c) that reacts with the epoxy resin (a) may be a carboxylic acid having a hydroxyl group, and the reactant ( It is useful for the purpose of increasing the hydroxyl group of A), and examples thereof include malic acid, tartaric acid, and mucinic acid.
[0011]
The ratio between the polybasic acid (c) and the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) when producing the reactant (A) is preferably in the range of 1:20 to 5: 1 in molar ratio of the former: the latter. And more preferably in the range of 1: 5 to 1: 1. If the ratio of the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) is less than 5: 1, the molecular weight will increase too much, and the vinyl ester resin of the present invention is not suitable as a photosensitive resin material. The effect of increasing the molecular weight cannot be obtained.
[0012]
Furthermore, the ratio of the epoxy resin (a), the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b), and the polybasic acid (c) when the reactant (A) is formed is determined by the epoxy group of the epoxy resin (a). The sum of the carboxyl group equivalents of the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) and the polybasic acid (c) is preferably 0.9 to 1.1 equivalents, more preferably 0.95 to 1 equivalent. It is in the range of 1.05 equivalents. If the carboxyl group equivalent is less than 0.9, gelation tends to occur during the reaction with the polybasic acid anhydride (f), and if it exceeds 1.1, the amount of unreacted acid becomes too large, and the stability after compounding the ink decreases. It becomes a tendency.
[0013]
The present invention provides an esterification reaction between a part of the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reaction product (A) obtained as described above and an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d), Further, a reaction product (B) into which an ethylenically unsaturated group has been introduced can be obtained.
[0014]
The ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d) may be the same as the component (b), and includes, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, and cinnamic acid, and also includes acid chlorides thereof. be able to. In addition, a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having one hydroxyl group and two or more (meth) acryloyl groups and a polybasic acid anhydride can be used, but (meth) acrylic acid is preferable. , And their acid chlorides.
[0015]
Since the obtained reactant (B) has an ethylenically unsaturated group as a photosensitive group other than at the terminal of the resin, the reactant (B) has the number of ethylenically unsaturated bonds per molecular weight, that is, the photosensitive group. This shows a structure having more groups than conventional vinyl ester resin-based resist materials, and can provide a vinyl ester resin having high photosensitivity and three-dimensional curing density after exposure.
[0016]
When the rate of addition of the ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d) to the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reactant (A) is 1% or more, the photosensitivity of the vinyl ester resin and after exposure Although the improvement of the three-dimensional cured density is manifested, it is preferably 10% or more, and the improvement becomes clear, more preferably 30% or more.
[0017]
The present invention provides an esterification reaction between a part or all of the hydroxyl groups remaining in the reaction product (B) obtained as described above and the polybasic acid (e) and / or the polybasic anhydride (f). Thus, a vinyl ester resin into which a carboxyl group has been further introduced can be obtained.
[0018]
Examples of the polybasic acid (e) and / or polybasic anhydride (f) include, for example, malonic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, glutaric acid, adipic acid, phthalic acid, itaconic acid, tetrahydrophthalic acid, Hexahydrophthalic acid, ethylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, polyethylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, propylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, polypropylene glycol / 2 mol maleic anhydride adduct, anhydride Maleic acid, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, etc. The recited may be used in combination singly or in combination.
[0019]
In order for the vinyl ester resin of the present invention to sufficiently exhibit alkali developability, the carboxyl group reacts at a ratio of 0.2 mol or more to 1 mol of the hydroxyl group remaining in the reactant (B), preferably Is at least 0.3 mol, more preferably at least 0.4 mol.
The molecular weight of the vinyl ester resin of the present invention is in the range of 800 to 15,000, preferably in the range of 1,000 to 10,000 in terms of number average molecular weight in terms of polystyrene. If the molecular weight is less than 800, a tack-free coating film cannot be obtained after drying by heating, and if the molecular weight exceeds 15,000, the paintability is hindered, which is not preferable.
[0020]
The method for synthesizing the vinyl ester resin according to the present invention is not particularly limited. (C) is reacted with an esterification catalyst using an esterification catalyst, and a part of the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reaction product (A) produced by the reaction is replaced with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid ( d) is subjected to dehydration condensation using a catalyst to obtain a reaction product (B). The reaction to the hydroxyl group can be carried out by using an acid chloride, an acid anhydride or a transesterification method of an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid, but the method is not particularly limited. Furthermore, a part or all of the hydroxyl groups of the reactant (B) and the polybasic acid (e) and / or polybasic acid anhydride (f) can be ring-opened and synthesized using a catalyst, These are not particularly limited to the synthesis method.
[0021]
The present invention can provide a vinyl ester resin having improved tack-free properties and improved photosensitivity, and exhibiting good alkali developability.
[0022]
According to another aspect of the present invention, there is provided a vinyl ester resin composition comprising the vinyl ester resin, a reactive diluent (g) and a sealant (h). In addition, the vinyl ester resin composition can include a photopolymerization initiator (i), and can provide a photocurable vinyl ester resin composition. Further, the present invention provides a cured product obtained by curing the vinyl ester resin composition and the photocurable vinyl ester resin composition.
[0023]
In the vinyl ester resin composition of the present invention, a reactive diluent (g) can be added. Examples of usable reactive diluents (g) include, for example, aromatic vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, α-chloromethylstyrene, vinyltoluene, divinylbenzene, diallyl phthalate, and diallyl benzene phosphonate; vinyl acetate And vinyl ester monomers such as vinyl adipate; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, β-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, (Di) ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol (di) ethylene glycol (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, (Meth) acrylic monomers such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate; triallyl cyanurate; One or more of these can be used.
The amount of the reactive diluent (g) is 5 to 200 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the vinyl ester resin of the present invention.
[0024]
The vinyl ester resin composition of the present invention can be post-cured (post-cured), and for this purpose, a sealant (h) can be used. Examples of the sealant (h) include epoxy resins such as novolak type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and triglycidyl isocyanurate, and dicyandiamide and imidazole. It can be used together with an epoxy curing agent such as a compound.
The amount of the encapsulant (h) is 0.5 to 2.0 equivalents, preferably 1.0 to 2.0 equivalents of the epoxy equivalent of the encapsulant (h) based on 1 equivalent of the carboxyl group of the vinyl ester resin of the present invention. Mix in the range of 1.5 equivalents.
[0025]
The photopolymerization initiator (i) can be added to the vinyl ester resin composition of the present invention for photocuring by ultraviolet irradiation or the like. Examples of usable photopolymerization initiator (i) include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether and alkyl ethers thereof; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and 1,1-dichloro. Acetophenones such as acetophenone and 4- (1-t-butyldioxy-1-methylethyl) acetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone; Thioxanthones such as 4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenone; Benzophenones such as -t-butyldioxy-1-methylethyl) benzophenone and 3,3 ', 4,4'-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl) benzophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl 2-morpholino-propan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1; acylphosphine oxides and xanthones.
The amount of the photopolymerization initiator (i) is preferably 0.5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the vinyl ester resin of the present invention.
[0026]
Further, the composition of the present invention may contain a filler such as talc, clay, barium sulfate, etc., a coloring pigment, an antifoaming agent, a coupling agent, a leveling agent, and the like, if necessary.
[0027]
In addition, the composition of the present invention can be used as a photosensitive material for a wide range of printing plates, liquid crystal display materials, and plasma displays as well as photosensitive resist materials applied to printed wiring board applications. It has high sensitivity and good developability with an aqueous alkali solution. Moreover, it is a photosensitive resin material capable of forming a cured coating film having excellent electrical properties, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, and the like when cured after development.
[0028]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. All parts and percentages are by weight unless otherwise specified.
[0029]
[Synthesis Example 1]
180 parts of a phenol novolak type epoxy resin [DEN438, Dow Chemical Japan Co., Ltd., epoxy equivalent 180] was placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, an air sealing tube, and a reflux condenser. 50.4 parts of acid, 17.4 parts of fumaric acid, 0.8 parts of triphenylphosphine, 0.2 parts of methylhydroquinone and 226.9 parts of methyl isobutyl ketone were charged, and heated to 100 ° C. while blowing air thereinto. The reaction was carried out for 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOHmg / g.
Next, the temperature was lowered to 10 ° C., and 27.0 parts of acrylic acid chloride and 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine were added dropwise while maintaining the temperature at 10 ° C., and stirring was continued. This was washed with water to remove triethylamine hydrochloride and subjected to azeotropic dehydration to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 76.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours. A photosensitive vinyl ester resin (A-1) having 4 KOH mg / g and a solid concentration of 60.0% was obtained. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 4000.
[0030]
[Synthesis Example 2]
In the same reaction apparatus as in Synthesis Example 1, 186 parts of bisphenol A type epoxy resin [Epicoat 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent 186], 50.4 parts of acrylic acid, 17.4 parts of fumaric acid, triphenylphosphine 0.8 parts, 0.2 parts of methylhydroquinone and 213.4 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. Obtained.
Next, the temperature was lowered to 10 ° C., and 31.2 parts of methacrylic acid chloride and 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine were reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., 45.6 parts of tetrahydrophthalic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine and 0.2 parts of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours. A photosensitive vinyl ester resin (A-2) having 6 KOH mg / g and a solid concentration of 60.0% was obtained. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 7,500.
[0031]
[Synthesis Example 3]
In the same reactor as in Synthesis Example 1, 186 parts of a bisphenol A type epoxy resin [Epototo YD-128, manufactured by Toto Kasei KK, epoxy equivalent 186], 186 parts of acrylic acid, 36.0 parts of fumaric acid, 29.0 parts of triphenyl 0.8 parts of phosphine, 0.2 parts of methylhydroquinone, and 214.5 parts of methyl isobutyl ketone were charged, and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. Got.
Next, the temperature was lowered to 10 ° C., and 31.2 parts of methacrylic acid chloride and 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine were reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 50.0 parts of succinic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours, and the solid content acid value was 87.2 KOHmg. / G, a photosensitive vinyl ester resin (A-3) having a solid content of 60.0%. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 4,800.
[0032]
[Synthesis Example 4]
In the same reactor as in Synthesis Example 1, 186 parts of a bisphenol A type epoxy resin [Epomic R140P, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., epoxy equivalent 186], 21.6 parts of acrylic acid, 40.6 parts of fumaric acid, and 0.1% of triphenylphosphine were used. 8 parts, 0.2 parts of methylhydroquinone and 232.5 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. .
Next, the temperature was lowered to 10 ° C., and 31.2 parts of methacrylic acid chloride and 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine were reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 79.8 parts of itaconic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain a solid acid value of 112.6 KOHmg. / G, a photosensitive vinyl ester resin (A-4) having a solid content of 60.0%. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 1,800.
[0033]
[Synthesis Example 5]
In the same reactor as in Synthesis Example 1, 186 parts of a bisphenol A type epoxy resin [Epicoat 828, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd., epoxy equivalent 186], 186 parts of methacrylic acid, 36.5 parts of adipic acid, triphenylphosphine 0.8 parts, 0.2 parts of methylhydroquinone and 238.7 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. Obtained.
Next, 27.0 parts of acrylic acid chloride and 30.3 parts of equimolar number of triethylamine were reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 76.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours. A photosensitive vinyl ester resin (A-5) having 4 KOH mg / g and a solid content concentration of 60.0% was obtained. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 5,500.
[0034]
[Synthesis Example 6]
In the same reaction apparatus as in Synthesis Example 1, 186 parts of a bisphenol A type epoxy resin [Epototo YD-128, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 186], 43.0 parts of methacrylic acid, 43.0 parts of cyclohexanedicarboxylic acid, 0.8 parts of phenylphosphine, 0.2 parts of methylhydroquinone, and 225.7 parts of methyl isobutyl ketone were charged, and heated to 100 ° C. while blowing air, and allowed to react for about 30 hours to give an acid value of 0.5 KOH mg / g. I got something.
Next, 27.0 parts of acrylic acid chloride and 30.3 parts of equimolar number of triethylamine were reacted in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 50.0 parts of succinic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain a solid acid value of 82.9 KOHmg. / G, a photosensitive vinyl ester resin (A-6) having a solid content of 60.0%. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 5,800.
[0035]
[Synthesis Example 7]
In the same reaction apparatus as in Synthesis Example 1, 186 parts of a bisphenol A type epoxy resin [Epomic R140P, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., epoxy equivalent 186], 43.0 parts of methacrylic acid, 32.5 parts of itaconic acid, 0.1% of triphenylphosphine. 8 parts, 0.2 parts of methylhydroquinone, and 218.7 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. .
Next, 27.0 parts of acrylic acid chloride was reacted with 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 50.0 parts of succinic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours, and the solid content acid value was 85.5 KOHmg. / G, a photosensitive vinyl ester resin (A-7) having a solid content of 60.0%. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 5,000.
[0036]
[Synthesis Example 8]
In the same reactor as in Synthesis Example 1, 170 parts of bisphenol F type epoxy resin [Epomic R110, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., epoxy equivalent 170], 170 parts of methacrylic acid, 43.0 parts of malic acid, 33.5 parts of triphenylphosphine 0 .8 parts, methylhydroquinone 0.2 parts, and methyl isobutyl ketone 213.3 parts were charged, heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOH mg / g. Was.
Next, 27.0 parts of acrylic acid chloride was reacted with 30.3 parts of an equimolar number of triethylamine in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a reaction product.
Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 57.0 parts of itaconic anhydride, 0.5 part of triphenylphosphine, and 0.2 part of methylhydroquinone were charged, and the mixture was further reacted at 90 ° C. for 6 hours. / G, a photosensitive vinyl ester resin (A-8) having a solid content of 60.0%. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 5,200.
[0037]
[Comparative Synthesis Example 1]
In the same reaction apparatus as in Synthesis Example 1, 190 parts of bisphenol A type epoxy resin [Epototo YD-128, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 190], 72 parts of acrylic acid, 0.8 parts of triphenylphosphine, 0 parts of methylhydroquinone 0 .2 parts and 225.3 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 100 ° C. while blowing air, and reacted for about 30 hours to obtain a reaction product having an acid value of 0.8 KOH mg / g.
Next, 76.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride was charged and reacted at 100 ° C. for further 6 hours. Got. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 320.
[0038]
[Comparative Synthesis Example 2]
In the same reactor as in Synthesis Example 1, 210 parts of cresol novolak type epoxy resin [Epototo YDCN-704, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 210, softening point 90 ° C] 210 parts, acrylic acid 72.0 parts, methylhydroquinone 0. 28 parts and 238.7 parts of methyl isobutyl ketone were charged and heated to 95 ° C. After confirming that the mixture was uniformly dissolved, 1.4 parts of triphenylphosphine was charged and heated to 100 ° C. for about 30 hours. The reaction was performed to obtain a reaction product having an acid value of 0.5 KOHmg / g.
Next, 76.0 parts of tetrahydrophthalic anhydride was charged, and the mixture was heated to 90 ° C. and reacted for about 6 hours. A photosensitive vinyl ester resin (B- 2) was obtained. The number average molecular weight in terms of polystyrene was 3,000.
[0039]
[Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 and 2]
Using the photosensitive vinyl ester resins (A-1 to A-8, B-1 and B-2) obtained from Synthetic Examples 1 to 8 and Comparative Synthetic Examples 1 and 2, each component was used in accordance with the mixing ratio shown below. And kneaded sufficiently with three rolls to obtain each photocurable vinyl ester resin composition. In addition, the composition using resin A-1, A-2, A-3, A-4, A-5, A-6, A-7, A-8, B-1 and B-2 was implemented, respectively. Examples 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 and Comparative Examples 1 and 2.
[0040]
100 parts of solid content of photosensitive vinyl ester resin (A-1 to B-2)
Butyl cellosolve 10 parts
Trimethylolpropane triacrylate 20 parts
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 5 parts
Barium sulfate 57 parts
2 parts fine silica
1 part phthalocyanine green
1,3,5-triglycidyl isocyanurate 10 parts
Dicyandiamide 5 parts
[0041]
Next, this photocurable vinyl ester resin composition is applied to a surface-treated printed wiring board in a thickness of 30 to 40 μm by screen printing, preliminarily dried at 80 ° C. for 20 minutes, cooled to room temperature, and dried. A membrane was obtained. This coating film was exposed for 60 seconds using a parallel ultra-high pressure mercury lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., and then heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes using a hot air drier to obtain a cured coating film.
Various physical properties were evaluated according to the following evaluation test methods. Table 1 shows the results.
[0042]
<Touch dryness>
When a step tablet for sensitivity measurement (Kodak 14-stage) is installed on the dried coating film after pre-drying at 80 ° C. for 20 minutes, exposure is performed for 60 seconds using a parallel ultra-high pressure mercury lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. The tack generated was evaluated according to the following criteria.
：: The step tablet can be easily peeled off without tackiness.
Δ: Slightly tacky, step tablet caught, but peelable.
×: Tackiness is present, and ink adheres to the step tablet and is difficult to peel off.
[0043]
<Sensitivity>
A step tablet for sensitivity measurement (Kodak 14-stage) was set on the dried coating film after pre-drying at 80 ° C. for 20 minutes, and exposed for 60 seconds using a parallel ultra-high pressure mercury lamp exposure device manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. Use, spray pressure 2.0kgf / mm ² The number of steps of the step tablet in a portion where the exposed portion was not removed after development for 60 seconds was measured. The higher the number, the better the sensitivity.
[0044]
<Development control width>
The dried coating film obtained by pre-drying at 80 ° C. for 20 minutes and the dried coating film obtained by extending the pre-drying time to 70 minutes were sprayed with a 1% aqueous sodium carbonate solution at a spray pressure of 2.0 kgf / mm. ² And the presence or absence of the coating film after the development was observed.
：: No coating film was visually observed after a development time of 60 seconds.
Δ: No coating film was visually observed after a developing time of 120 seconds.
×: A residual film was visually observed after a developing time of 120 seconds.
[0045]
<Solder heat resistance>
According to JIS C6481, the cured coating film was floated three times in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds so that the entire surface was immersed in the solder bath, taken out, and the state of the coating film such as swelling or peeling was observed.
：: No change in appearance.
×: Appearance change.
[0046]
<Solvent resistance>
The state of the coating film after immersing the cured coating film in methylene chloride for 30 minutes was evaluated.
○: No change in appearance
△: Slight change in appearance
×: The coating film peeled off
[0047]
[Table 1]

[0048]
The vinyl ester resin composition of the present invention exhibits tack-free properties, can be rapidly dissolved in alkali while maintaining photosensitivity, has a good development control range, and has excellent heat resistance, electrical insulation, and solvent resistance. It can be used as a solder resist for a printed wiring board.
[0049]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can dry easily at the time of preliminary heating drying, shows the improvement of tack-free property, is excellent in developability with an alkaline aqueous solution, and the electrical properties, mechanical properties, heat resistance, solvent resistance, and adhesion of the cured material. A vinyl ester resin and a vinyl ester resin composition excellent in physical properties such as flexibility and flexibility, and a cured product thereof are provided.

Claims

An epoxy resin (a) having two or more glycidyl groups in one molecule is reacted with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (b) and / or a polybasic acid (c) to obtain a reactant (A). Reacting a part of the primary and / or secondary hydroxyl groups of the reactant (A) with an ethylenically unsaturated monocarboxylic acid (d) to obtain a reactant (B); A vinyl ester resin obtained by subjecting part or all of the hydroxyl groups remaining in B) to an esterification reaction with a polybasic acid (e) and / or a polybasic acid anhydride (f).

The vinyl ester resin according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) has two glycidyl groups in one molecule.

The vinyl ester resin according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) is a bisphenol type epoxy resin.

The vinyl ester resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (b) and (d) are acrylic acid and / or methacrylic acid.

A vinyl ester resin composition comprising the vinyl ester resin according to any one of claims 1 to 4, a reactive diluent (g), and a sealant (h).

The vinyl ester resin composition according to claim 5, further comprising a photopolymerization initiator (i).

A cured product obtained by curing the vinyl ester resin composition according to claim 5.