JP2004062915A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、少なくとも色素記録層と反射層を順次積層した光記録媒体において、真空中での波長λが645〜670nmの範囲の光に対して、光吸収率Lを10〜40%、光吸収率の波長特性L(λ)における最大値と最小値の比率を1.0〜2.0、光反射率を45〜85%としたことを特徴とする光記録媒体。
(2) グルーブのトラックピッチが0.73〜0.75μm、かつ、溝深さが1450〜1650Å、溝幅が0.21〜0.31μmであることを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の光記録媒体。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、色素記録層(光吸収層)を有する光記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
読み出し専用のCD(コンパクトディスク)などの光記録媒体に加えて、記録可能なCD(CD−R、CD−RW)が実用化され、広く普及している。
このCD−R、CD−RWは、従来のCDと異なりユーザが情報を記録することが可能であり、且つ記録後の信号は、従来のCDの規格を満足するため、市販のCDプレーヤで再生可能であるという特徴を有する。
このような媒体を実現する方法の1つとしては、例えばCD−Rでは、特開平2−42652号公報において、基板上に色素をスピンコーティングして光吸収層を設け、その背後に金属反射層を設けることが提案されており、このような光吸収層の材料としては色素系材料が用いられる。
その理由は、CD−RはCDの規格を満足する高反射率(65%以上)を有することが特徴の一つであるが、上記媒体構成において高反射率を得るためには、光吸収層が記録再生光波長で特定の複素屈折率を満足する必要があり、色素の光吸収特性が適しているからである。
しかし、この色素系材料を用いた光記録媒体の光吸収スペクトルは図1に示す通りであり、上記複素屈折率は、色素膜の光吸収スペクトルにおける吸収帯端部の特性を利用するものであって、波長依存性が大きいという問題があった。
【0003】
特に、次世代媒体として、高密度記録のため、従来のCD用780nm近傍のレーザー光よりも短波長である650nm近傍のレーザー光を使用して記録及び/又は再生できる媒体が、DVD−R、DVD+Rとして開発されているが、前述した従来のCD−R用色素(例えば、ペンタメチンシアニン系色素、フタロシアニン系色素)では、記録材料の波長依存性が大きく、650nm波長での記録再生特性を満足することができない。これは650nmでの吸収係数kが大きく反射率が低いために、記録再生が困難になることによる。
そこで、記録材料である色素の吸収帯波長を調節するため、記録層材料に用いる有機色素としてトリメチンシアニン系色素、アゾ色素、テトラアザポルフィラジン色素などが提案され、例えば、特開平9−169166号公報、特開平9−66671号公報、特開平11−48612号公報などに開示されている。
しかし、これらの色素は650nmでの光学特性は満足できるが、DVD+Rドライブの実使用波長範囲である645〜670nmでの特性を満足できないという問題があった。
【0004】
ドライブ環境によりレーザー光波長が変動した場合、DVD記録ドライブで記録の不具合が発生し易い。
特に、高温度環境ではレーザー光波長が長波長にシフトするため、色素記録層の吸収係数kが小さくなり、記録感度が不足するという問題があった。
このような波長依存性を小さくするために、特開2001−26180号公報では、500〜620nmに最大吸収波長を有する色素、長波長色素、短波長色素の3種を混合することが提案されているが、DVD記録ドライブでの記録波長域(645〜670nm)における吸収率や吸収率の波長変動については着目しておらず、上記記録感度の波長依存性を改善できない。
また、特開2001−93187号公報では、500〜620nmに最大吸収波長を有し、かつ630nmでの光吸収(B)と650nmでの光吸収(A)の比が1.1≦B/A≦2.2となる光吸収層が提案されているが、この発明は短波長630nmでの記録と再生及び650nmでの再生を満足させることを目的とするものであり、DVD記録ドライブでの記録波長域(645〜670nm)における吸収率や吸収率の波長変動については着目しておらず、記録感度の波長依存性を改善することができない。
【0005】
更に、DVDでは、CDと記録フォーマットが異なることに加え、トラックピッチ、最短ピット長を小さくし、再生光を絞ることで、CDの約6〜8倍の高密度化に成功しているが、これば光学構成が異なることに起因している
即ち、CDは、板厚:約1.2mm、再生波長:780nm、NA:0.45〜0.5、トラックピッチ:約1.6μm、最短ピット長:約0.8μmであるのに対し、DVDは、板厚:約0.6mm、再生波長:650nm、NA:0.6〜0.65、トラックピッチ:約0.74μm、最短ピット長:約0.4μmであるという違いがある。
このような高密度記録、即ちCDよりも小さなサイズの記録ピットを形成するためには、上記のような光学特性の調整のみでは不充分であって、混合する色素の熱分解特性を調整する必要があり、しかも記録信号のジッターが大きいという問題を解決する必要がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来技術の問題点を解消した、記録波長依存性が小さく記録特性に優れたDVD用記録媒体(DVD−R、DVD+R)の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、次の1)〜9)の発明(以下、本発明1〜9という。)によって解決される。
1) 表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、少なくとも色素記録層と反射層を順次積層した光記録媒体において、真空中での波長λが645〜670nmの範囲の光に対して、光吸収率Lを10〜40%、光吸収率の波長特性L(λ)における最大値と最小値の比率を1.0〜2.0、光反射率を45〜85%としたことを特徴とする光記録媒体。
2) 色素記録層が、光吸収率の波長特性の傾きdL/dλが互いに異なる2種以上の色素の混合物を含有することを特徴とする1)記載の光記録媒体。
3) 色素記録層が、光吸収率の波長特性の傾きdL/dλが互いに正負異なる2種以上の色素の混合物を含有することを特徴とする2)記載の光記録媒体。
4) 色素記録層が、少なくとも下記(i)の特性を有する色素化合物(α)と、下記(ii)の特性を有する色素化合物(β)を含有することを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の光記録媒体。
(i)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が550nm以上650nm未満である。
(ii)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が650nm以上750nm以下である。
5) 色素化合物(β)と色素化合物(α)の比率(β)/(α)が、モル比で0.005〜0.2であることを特徴とする4)記載の光記録媒体。
6) 色素化合物(α)と色素化合物(β)の熱分解温度が共に400℃以下であり、かつ(α)と(β)の熱分解温度の差が100℃以下であることを特徴とする4)又は5)記載の光記録媒体。
7) 色素化合物(α)が下記一般式(I)で表されるホルマザンキレート化合物であることを特徴とする4)〜6)の何れかに記載の光記録媒体。
【化2】
(式中、Zは、それが結合している炭素原子及び窒素原子と一緒になって多複素環を形成する残基を表わし、該多複素環にはアルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、置換アミノ基、アリル基、アリルオキシ基、アニリノ基、ケト基等の置換基を有していてもよい。Aは、アルキル基、アラルキル基、アリル基、シクロヘキシル基を表わし、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、ケト基、カルボキシル基又はそのエステル、ニトリル基、ニトロ基等の置換基を有していてもよい。Bは、アリル基を表わし、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基又はそのエステル、ニトリル基、ニトロ基等の置換基を有していてもよい。Mは、2価の金属原子を表わす。nは、Mに配位するホルマザン配位子の数を表わす。)
8) グルーブのトラックピッチが0.73〜0.75μm、かつ、溝深さが1450〜1650Å、溝幅が0.21〜0.31μmであることを特徴とする1)〜7)の何れかに記載の光記録媒体。
9) グルーブを略一定周波数で蛇行状にウォブリングさせることによりトラック情報が記録されていることを特徴とする1)〜8)の何れかに記載の光記録媒体。
【0008】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
図2にDVD+R又はDVD−R媒体の層構成例を示す。
1は基板、2は色素記録層(光吸収層)、3は反射層、4は保護層、5は接着層、6はカバー基板であり、基板1面側から光により記録再生が行われる。また、図3に示したように、基板1の表面には案内溝7が形成されている。
DVD+R又はDVD−Rでは、色素記録層の両界面の多重干渉効果により、高反射率を得る構成となっており、色素記録層には屈折率nが大きく吸収係数kが比較的小さい光学特性が要求される。好ましい範囲はn>2、0.03<k<0.2である。
このような光学特性は、色素膜の光吸収帯の長波長端部の特性を利用することにより得られる。
【0009】
前述した光吸収スペクトルの図1から分るように、650nmより長波長になると、n、k共に減少する。
本発明の光記録媒体は、表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、少なくとも色素記録層、反射層を順次積層形成した光記録媒体において、真空中での波長λが645〜670nmの範囲の光に対して、光吸収率Lを10〜40%、光吸収率の波長特性L(λ)における最大値と最小値の比率を1.0〜2.0、光反射率を45〜85%としたので、DVD用記録ドライブの実使用波長λ645〜670nmの範囲に適した光吸収を有すると共に、光吸収率の変化が小さく、波長変動による記録感度の変化が小さい。また、特に好ましい光吸収率Lは20〜40%である。光吸収率Lが20%よりも小さい場合は、光吸収が小さくなるため必要とする記録感度を得難い。
【0010】
このような光吸収特性を有する光記録媒体は、色素記録層に光吸収率の波長特性の傾きdL/dλが互いに異なる2種以上の色素混合物を含有させることにより得ることができる。
更に好ましくは、色素記録層にdL/dλが互いに正負異なる2種以上の色素の混合物を含有させるとよい。正負異なる色素を含有させることにより、容易に645〜670nmでの光吸収率Lの最大値と最小値の比率を1.0〜2.0とすることができる。
また、上記光吸収特性は、色素記録層に、少なくとも下記(i)の特性を有する色素化合物(α)と下記(ii)の特性を有する色素化合物(β)の2種を含有させることにより容易に得られる。
(i)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が550nm以上650nm未満である。
(ii)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が650nm以上750nm以下である。
【0011】
なお、本発明では、従来の技術の項において図1により説明した、色素膜の光吸収スペクトルにおける長波長側吸収端部の光学特性を利用している。そして、通常の膜スペクトルの長波長端部は、最大吸収波長からある程度の傾きを有するので、(α)の最大吸収波長は傾き分を考慮した値であることが好ましい。即ち、好ましい範囲は550〜630nmである。
更に、(ii)の特性を有する色素化合物(β)と(i)の特性を有する色素化合物(α)の比率(β)/(α)が、モル比で、0.005〜0.2であることが好ましい。
0.005よりも比率が小さいと混合の効果が小さく、また、0.2よりも比率が大きいと、記録再生波長(645nm〜670nm)での光吸収率が大きくなる為に、反射率が得難くなるためである。
【0012】
更に、ジッターの少ない記録ピットを形成するためには、記録層に用いる色素化合物の熱分解温度が共に400℃以下であり、かつ色素化合物(α)と色素化合物(β)の熱分解温度の差が100℃以下であることが好ましい。
熱分解温度が400℃よりも高いと記録に必要なレーザーパワーが大きくなると共に、記録ピットのジッターが増加し易い。また、混合する色素化合物の分解温度差が100℃よりも大きい場合もスムーズな色素分解ピットが形成されず、記録ピットのジッターが増加し易い。
熱分解温度の下限ついては、好ましくは120℃である。120℃よりも低いと、特に高温度環境下での耐久性が低下するし、媒体の生産プロセス中において熱ダメージを受け易く生産性が低下するため好ましくない。
また、2種以上の色素化合物を混合する場合の熱分解温度差は、色素化合物(α)又は色素化合物(β)の中の最も分解温度が高い化合物と最も分解温度の低い化合物の分解温度差となる。
最適な熱分解温度は200〜350℃、熱分解温度差は50℃以下である。
なお、ここでいう熱分解温度とは、熱天秤により色素化合物を10℃/min条件で昇温した場合のTg曲線の変曲点を指す。
【0013】
本発明で記録層(光吸収層)に用いる色素としては、例えば、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、アゾ系色素、ホルマザンキレート系色素、Ni、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、ニトロソ化合物が挙げられる。更に、必要に応じて他の第3成分、例えばバインダー、安定剤等を含有させることができる。
記録層の膜厚は、100〜5000Åが好ましく、特に500〜3000Åが望ましい。記録層の膜厚が、この範囲より薄くなると記録感度が低下し、またこの範囲より厚くなると反射率が低下するからである。
【0014】
上記色素(光吸収材料)の中でも、その色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が550nm以上650nm未満の色素化合物(α)としては、溶剤塗布による成膜性、光学特性の調整のし易さから、ホルマザンキレート色素、テトラアザポルフィラジン色素、シアニン色素、アゾ色素から選ばれる少なくとも1種の色素化合物が好ましい。
特に本発明7の一般式(I)で示すホルマザンキレート化合物が、光や熱に対する耐久性に優れると共に、200〜350℃の良好な熱分解特性を得やすく、更には混合する色素の光安定性を向上する性能を有するので、最も好ましい。
特に好ましい構造は、前記一般式(I)中、Zがピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環であり、かつ、Mが鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、パラジウムのものである。
このような色素化合物の具体例は、特開2001−23235号公報に開示されている。
【0015】
テトラアザポルフィラジン色素としては下記一般式(II)、シアニン色素としては後述する一般式(III)、アゾ色素としては後述する一般式(IV)のものが挙げられる。
まず、テトラアザポルフィラジン色素の一般式(II)を示す。
【化3】
(式中、M1は2価の金属原子、1置換3価金属原子、2置換4価金属原子、又はオキシ金属を表す。R1、R2は同じでも異っていてもよく、炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状の、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基;炭素数6〜20の、アリール基、アリールオキシ基又はアリールチオ基;ハロゲン原子、ニトロ基、CN基、OH基、又は水素原子。)
【0016】
中心金属M1の具体例としては、下記のようなものが挙げられるが、中でも、Zn、Ni、Cu、Pd、VO、TiOから選ばれる1つの金属原子又は金属酸化物がM1である場合には、製造が容易であり且つ良好な光吸収(記録)特性を有するので好ましい。
〈2価の金属〉
Cu2+、Zn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Ru2+、Rh2+、Pd2+、Pt2+、Mn2+、Mg2+、Ti2+、Be2+、Ca2+、Ba2+、Cd2+、Hg2+、Pb2+、Sn2+など。
〈1置換3価金属〉
Al−Cl、Al−Br、Al−F、Al−I、Ga−Cl、Ga−F、Ga−I、Ga−Br、In−Cl、In−Br、In−I、In−F、Tl−Cl、Tl−Br、Tl−I、Tl−F、Al−C6H5、Al−C6H4(CH3)、In−C6H5、In−C6H4(CH3)、In−C10H7、Mn(OH)、Mn(OC6H5)、Mn〔OSi(CH3)3〕、FeCl、RuClなど。
〈2置換4価金属〉
CrCl2、SiCl2、SiBr2、SiF2、SiI2、ZrCl2、GeCl2、GeBr2、GeI2、GeF2、SnCl2、SnBr2、SnI2、SnF2、TiCl2、TiBr2、TiF2、Si(OH)2、Ge(OH)2、Zr(OH)2、Mn(OH)2、Sn(OH)2、Ti(R)2、Cr(R)2、Si(R)2、Sn(R)2、Ge(R)2〔ここで、Rは、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はその誘導体を表す〕;Si(OR′)2、Sn(OR′)2、Ge(OR′)2、Ti(OR′)2、Cr(OR′)2〔ここで、R′は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、又はその誘導体を表す〕、Sn(SR″〜)2、Ge(SR″〜)2〔ここで、R″〜は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基又はその誘導体を表す〕など。
〈オキシ金属〉
VO、MnO、TiOなど。
【0017】
上記一般式(II)において、中心金属M1が、Mn2+、Fe2+、Co2+、Zn2+又はCd2+であるときは、成膜性の改良のためアミノ化合物を添加することが好ましい。
M1がこれらの金属である場合は、アミノ化合物がM1に配位し易く、配位により会合を防止すると共に、溶媒への溶解性、塗布成膜性が向上するためである。アミノ化合物としては、次のような化合物を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、tert−ブチルアミン、ピロール、ピロリジン、ピリジン、ピペリジン、プリン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、5,6−ジメチルベンズイミダゾール、2,5,6−トリメチルベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、2−メチルナフトイミダゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ベンズキノリン、フェナンスリジン、インドリン、カルバゾール、ノルハルマン、チアゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズトリアゾール、7−アザインドール、テトラヒドロキノリン、トリフェニルイミダゾール、フタルイミド、ベンゾイソキノリン−5,10−ジオン、トリアジン、ペリミジン、5−クロルトリアゾール、エチレンジアミン、アゾベンゼン、トリメチルアミン、N,N−ジメチルホルムアミド、1(2H)フタラジノン、フタルヒドラジド、1,3−ジイミノイソインドリン、オキサゾール、ポリイミダゾール、ポリベンズイミダゾール、ポリチアゾール、及びそれらの誘導体等。
これらの中で、フタロシアニン系化合物の会合を防ぐ効果が高く、かつ耐久性(耐熱性、耐光性)に優れているという点から、N原子を複素環に含む化合物が好ましい。
更に、記録層の熱安定性を維持するという点から、アミノ化合物は、融点が150℃以上のものであることが好ましい。融点が150℃未満の場合には、高温高湿環境下で記録層の特性(特に光学特性)が変化し易いためである。
中でも特に好ましいのは、イミダゾール、ベンズイミダゾール及びチアゾール誘導体である。
【0018】
炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、2−エチルブチル基、3−メチルペンチル基、2,3−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、2,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,5−ジメチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラメチルオクチル基、4−ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、2−クロルブチル基などが挙げられる。
【0019】
炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、neo−ペンチルオキシ基、iso−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、1−メチルブチルオキシ基、2−メチルブチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、2−クロルブチルオキシ基などが挙げられる。
【0020】
炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ基、1,2−ジメチルプロピルチオ基、n−ヘキシルチオ基、1−エチル−2−メチルプロピルチオ基、2−エチルブチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、2−メチル−1−iso−プロピルチオ基、n−ヘプチルチオ基、2−メチルヘキシルチオ基、1−エチルペンチルチオ基、n−オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、3−メチル−1−iso−プロピルブチルチオ基、n−ノニルチオ基、3−メチル−1−iso−ブチルブチルチオ基、3,5,5−トリメチルヘキシルチオ基、2−クロルブチルチオ基、4−tert−ブチルシクロヘキシルチオ基などが挙げられる。
【0021】
炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、フェニル基、2−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、2−iso−プロピルフェニル基、4−ブロモフェニル基、2,6−ジクロルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、炭素数6〜20のアリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、2−iso−プロピルフェノキシ基、4−ブロモフェノキシ基、2,6−ジクロルフェノキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられ、炭素数6〜20のアリールチオ基の具体例としては、フェニルチオ基、2−メチルフェニルチオ基、2,4−ジメチルフェニルチオ基、2,4,6−トリメチルフェニルチオ基、2−iso−プロピルフェニルチオ基、4−ブロモフェニルチオ基、2,6−ジクロルフェニルチオ基、ナフチルチオ基などが挙げられる。また、ハロゲン原子の具体例としては、F、Cl、Br、I各原子が挙げられる。
【0022】
以上の置換基の中で特に好ましいのは、炭素数4〜10の直鎖又は分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、及び炭素数6〜20のアリールオキシ基、アリールチオ基である。
これらの基を有する化合物は、溶解性に優れ、塗布成膜が容易である。
また、炭素数がこれらより大きくなると、記録層の単位膜当たりの吸光度が低下し、良好な複素屈折率が得難くなるので好ましくない。
更に、R1及びR2には、記録感度を向上させる、記録層の吸収波長を調節する、塗布溶媒に対する溶解性を向上させる等の理由で他の基を付加してもよく、このような基としては、スルホン酸基、アミノスルホン酸基、カルボキシル基、アミド基、イミド基などを挙げることができる。
上記一般式(II)で示されるテトラアザポルフィラジン系化合物は、例えばR1及びR2を置換基として有するマレオニトリルを、金属誘導体と共にアルコール中で加熱環化反応することにより、容易に合成できる。
【0023】
次に、シアニン色素としては、下記一般式(III)のトリメチンインドレニン系シアニン色素を使用することができる。
【化4】
(式中、Q3及びQ4は各々ピロール環と共にインドレニン環又はベンゾインドレニン環を完成するのに必要な原子群を表し、Q3又はQ4で完成される環は同一でも異なるものであってもよい。R3は水素原子又は一価の置換基を表す。R4及びR5は各々アルキル基を表す。X−は一価の陰イオンを表す。)
【0024】
一般式(III)について説明すると、Q3及びQ4は、各々ピロール環と共にインドレニン環又はベンゾインドレニン環を完成するのに必要な原子群を表し、Q3又はQ4で完成される環は同一でも異なるものであってもよい。また、このようなインドレニン環又はベンゾインドレニン環は、置換基を有していてもよく、このような置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アミノ基等がある。
R3は水素原子又は一価の置換基を表す。一価の置換基としては、アルキル基、アリール基、アゾ基、エステル基、アシル基、ハロゲン原子又は複素環基が挙げられ、これら一価の置換基のうち、ハロゲン原子以外の基は更に置換基を有していてもよい。そのような置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、複素環基、ニトロ基等が挙げられる。
【0025】
R4及びR5は各々アルキル基を表す。アルキル基は置換基を有するものであってもよく、その炭素数は1〜4であることが好ましい。R4、R5で表されるアルキル基としてはメチル基、エチル基、(n−,iso−)プロピル基、(n−,iso−,sec−,tert−)ブチル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基等が挙げられる。
R4、R5としては無置換のアルキル基、アルコキシアルキル基等が好ましく、塗布溶媒に対する溶解性を良化するという意味では、R4、R5の中の少なくとも一方がアルコキシアルキル基、特に総炭素数3〜6のアルコキシアルキル基であることが好ましい。
X−は一価の陰イオンを表し、ClO4 −、I−、BF4 −、PF6 −、SbF6 −、パラトルエンスルホン酸イオンなどが挙げられる。
【0026】
アゾ色素としては下記一般式(IV)のものが挙げられる。
【化5】
(式中、環Dは窒素原子及び炭素原子を含む複素環を表し、環Eは2つの炭素原子を含む芳香環を表す。また、Yは活性水素を有する基を表す。)
【0027】
上記一般式(IV)で表されるアゾ色素において、複素環Dの具体例としては、例えば、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリドベンゾチアゾール環、ベンゾピリドチアゾール環、ピリドチアゾール環、ピリジン環、キノリン環、チアジアゾール環、イミダゾール環等が挙げられるるが、好ましいのはピリジン環又はチアジアゾール環である。
これらの複素環は、一つ以上の置換基を有することが好ましく、置換基の具体例としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン化アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、ビニル基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換基を有していても良い。
【0028】
複素環上の置換基の中で好ましいのは、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のフルオルアルキル基、置換基を有していても良い炭素数1〜25のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキルチオ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のフルオルアルキルチオ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキルスルファモイル基、置換基を有していても良い炭素数6〜20のフェニルスルファモイル基、置換基を有していても良いフェニルアゾ基、置換基を有していても良いピリジノアゾ基、炭素数2〜16のエステル基、炭素数2〜16のカルバモイル基、炭素数2〜16のアシル基、炭素数2〜15のアシルアミノ基、炭素数1〜15のスルホンアミド基、−NR6R7(R6及びR7はそれぞれ独立に水素原子、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキル基、又は置換基を有していても良いフェニル基を表し、R6及びR7は連結して5員環又は6員環を形成していても良い)、ヒドロキシル基、−CR8=C(CN)R9(R8は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、R9はシアノ基又は炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基を表す)等が挙げられる。なお、上記全てのアルキル基部位はスルホン化、ニトロ化、シアノ化、ハロゲン化、アセチル化、又はヒドロキシル化されていても良い。
【0029】
前記一般式(IV)の2つの炭素原子を含む芳香環Eの具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリドン環、ピリジン環、ピラゾール環等が挙げられる。好ましいのはベンゼン環であり、特に少なくとも一つの電子供与性基で置換されているものが好ましい。
このような電子供与性の置換基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン化アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステル基、カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、ビニル基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換基を有していても良い。
【0030】
芳香環上の置換基の中で好ましいのは、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のフルオルアルキル基、置換基を有していても良い炭素数1〜25のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキルチオ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のフルオルアルキルチオ基、置換基を有していても良い炭素数1〜15のアルキルスルファモイル基、置換基を有していても良い炭素数6〜20のフェニルスルファモイル基、置換基を有していても良いフェニルアゾ基、置換基を有していても良いピリジノアゾ基、炭素数2〜16のエステル基、炭素数2〜16のカルバモイル基、炭素数2〜16のアシル基、炭素数1〜15のアシルアミノ基、炭素数1〜15のスルホンアミド基、−NR6R7(R6及びR7は前記と同じ)、ヒドロキシル基、−CR8=C(CN)R9(R8及びR9は前記と同じ)等である。
【0031】
特に好ましい電子供与性基としては、置換基を有していても良い炭素数1〜8のモノアルキルアミノ基、置換基を有していても良い炭素数2〜8のジアルキルアミノ基、置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルコキシ基、置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルキル基、置換基を有していても良い炭素数6〜12のアリールオキシ基、置換基を有していても良い炭素数7〜12のアラルキル基、カルバモイル基、アミノ基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
なお、上記全てのアルキル基部位はスルホン化、ニトロ化、シアノ化、ハロゲン化、アセチル化、又はヒドロキシル化されていても良い。
【0032】
前記式(IV)のDとしては、活性水素を有する基であれば特に制限はないが、好ましいものとしては、−OH、−COOH、−B(OH)2、−NHSO2R10(R10は水素原子、置換基を有していても良い炭素数1〜25のアルキル基又は置換基を有していても良いフェニル基を表す)、−CONH2、−SO2NH2、−NH2等が挙げられ、特に好ましいものとしては、−OH、−COOH、−NHSO2R10(R10は前記と同じ)が挙げられる。
なお、Yが−OH、−COOH等のように陰イオンに解離しうる基である場合には、アゾ金属錯体化合物の形成に際してはこのままの形で用いてもよいが、陽イオンとの塩の形で用いることもできる。
かかる陽イオンとしては、Na+、Li+、K+等の無機系の陽イオンやP+(C6H5)4、N+(C2H5)4、N+(C4H9)4、C6H5N+(CH3)3等の有機系陽イオンが挙げられる。
【0033】
前記アゾ色素は金属の錯体として用いられる。
アゾ色素と錯体を形成する能力を有する金属としては、例えば、Ni、Co、Fe、Ru、Rh、Pd、Cu、Zn、Mn、Os、Ir、Pt等の遷移金属が好ましく、特に、Ni、Co、Cu、Pd、Mn、Znが好ましい。
これらの遷移金属は、製造時に、酢酸塩、ハロゲン化物、BF4 −塩等の形で用いられ、その結果、Ni2+、Co2+、Co3+、Cu2+、Pd2+、Mn2+、Zn2+等の形でアゾ色素に配位した錯体が得られる。
【0034】
また、膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が650nm以上〜750nm以下である色素化合物(β)としては、溶剤塗布による成膜性、光学特性の調整のし易さから、フタロシアニン色素、シアニン色素から選ばれる少なくとも1種の色素であることが好ましい。
フタロシアニン色素の具体例としては下記一般式(V)、シアニン色素の具体例としては下記一般式(VI)のものが挙げられる。
【化6】
(式中、M2は2価の金属原子、1置換3価金属原子、2置換4価金属原子又はオキシ金属を表す。A1とA2、A3とA4、A5とA6及びA7とA8のそれぞれの組合せのどちらか一方は、それぞれ独立に−O−R11、S−R12、又はN(R13)(R14)、他方は水素原子を表す。なお、R11、R12、R13、R14は同じでも異っていてもよい、炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状の、アルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基;炭素数6〜20のアリール基、アリールオキシ基又はアリールチオ基;ハロゲン原子、ニトロ基、CN基、又は水素原子を表す。)
具体的な構造としては、M2、R11、R12、R13、R14は共に、前記テトラアザポルフィラジン色素の一般式(II)の例示と同様なものが採用できる。
【0035】
シアニン色素としては、下記一般式(VI)のペンタメチンインドレニン系シアニン色素材料を使用することができる。
【化7】
(式中、Q3及びQ4は各々ピロール環と共にインドレニン環又はベンゾインドレニン環を完成するのに必要な原子群を表し、Q3又はQ4で完成される環は同一でも異なるものであってもよい。R3は水素原子又は一価の置換基を表す。R4及びR5は各々アルキル基を表す。X−は一価の陰イオンを表す。)
具体的な構造は、メチン鎖の長さが長くなること以外、一般式(III)と同様である。
【0036】
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
基板材料の例としては、ポリメチルメタクリレートのようなアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ソーダ石灰ガラス等のガラス及びセラミックスを挙げることができる。
特に好ましいのは、寸法安定性、透明性及び平面性などの点から、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂である。
【0037】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上、及び記録層の変質防止の目的で、下塗層を設けてもよい。
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン/スルホン酸共重合体、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質やシランカップリング剤などの有機物質;及び無機酸化物(SiO2、Al2O3等)、無機フッ化物(MgF2)などの無機物質を挙げることができる。
なお、下塗層の膜厚は一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
【0038】
また、基板(又は下塗層)上には、トラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸を形成する目的で、プレグループ層が設けられてもよい。
プレグループ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルから選ばれる少なくとも一種のモノマー(又はオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
【0039】
更に、記録層の上には、S/N比、反射率の向上、及び記録時における感度の向上の目的で、反射層が設けられる。
反射層の材料である光反射性物質は、レーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ca、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Siなどの金属及び半金属を挙げることができる。
これらの中で好ましいものはAu、Al及びAgである。
これらの物質は単独で用いても二種以上の組合せで又は合金として用いてもよい。なお、反射層の層厚は一般に100〜3000Åの範囲にある。
【0040】
また、記録層(又は反射層)の上には、記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられる。この保護層は、基板の記録層が設けられていない側にも、耐傷性、耐湿性を高める目的で設けてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO2、MgF2、SnO2等の無機物質;熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂を挙げることができる。なお、保護層の層厚は一般的には500Å〜50μmの範囲にある。
【0041】
更に、本発明の光記録媒体では、グルーブのトラックピッチを0.73〜0.75μm、かつ、溝深さを1450〜1650Å、溝幅を0.21〜0.31μmとすることにより、色素記録層に形成した記録ピットの広がりをグルーブで整えることができるので良好な信号ジッターが得られる。溝幅は通常図4のような台形をしているが、本発明で言う溝幅とは底幅Wbotを指すものとする。
溝深さが1450Åよりも浅いと、記録ピットの形状を整える効果が減少し、信号ジッターが増加する。また溝深さが1650Åよりも深いと、反射率が45%以下に低下し易く、DVDプレーヤーでの再生が困難になる。
同様に、溝幅が0.21μmよりも狭いと、記録ピットの形状を整える効果が減少し、信号ジッターが増加する。また溝幅が0.31μmよりも広いと、反射率が45%以下に低下し易く、DVDプレーヤーでの再生が困難になる。
加えて、溝幅が広い場合は、再生信号に隣接溝同士の干渉が大きく影響し、ウォブル信号振幅が大きく変動する。これは、隣接溝の蛇行が同相のときは振幅が大きく、逆相のときは振幅が小さくなるためである。その結果、トラック情報の読み取り精度が低下するし、信号ジッターも増加する。
【0042】
更に、DVD+R、CD−RなどのCDプレーヤーで再生可能な記録媒体の特徴の一つとして、案内溝又はピット列を略一定の周波数で蛇行状にウォブリングさせることによりトラック情報が記録されていることが挙げられる。
案内溝の蛇行状態は、ウォブル信号としてトラック信号から検出でき、所定周波数をFM変調や位相変調することで、トラック情報を基板上に予め記録しておく。ここで、トラック情報とは、アドレス情報やディスクの回転周波数などであり、トラック信号から検出する場合は、情報データ信号として分離し易く、ROM信号互換性を得やすいという特徴がある。
以上のことから、上記ウォブリングの周波数は、一定である方が好ましいことは当然であるが、FM変調方式を用いた場合、ウォブリング周波数は単一周波数ではない。また、製造上の容易さも考慮すると、所望の信号C/Nが得られる範囲で実用上問題のない多少のバラツキは許容されている。一般にこのバラツキはウォブリング周波数の1/20以下である。本発明9における「略一定の周波数」とは、この実用上許容されているバラツキの範囲内の周波数という意味である。
【0043】
次に、本発明の光記録媒体の製造方法について説明する。
本発明の光記録媒体の製造方法は、次の(イ)〜(ハ)の工程からなる。
(イ)表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、直接又は他の層を介して前記色素化合物(α)(β)を主成分とする記録層(光吸収層)を塗布成膜手段により設ける工程、
(ロ)記録層上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設ける工程、
(ハ)光反射層上に保護層を設ける工程。
【0044】
<記録層(光吸収層)形成工程>
先ず表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、直接又は他の層を介して、前記色素化合物(α)(β)を主成分とする記録層(光吸収層)を塗布成膜手段により設ける。即ち、前記色素化合物(α)(β)を溶媒に溶解し、液状の塗布液として基板上にコートすることにより、記録層を形成する。
この塗布液を調整するための溶媒としては、公知の有機溶媒(例えばアルコール、セロソルブ、ハロゲン化炭素、ケトン、エーテル等)を使用することができる。また、コート方法としては、記録層の濃度、粘度、溶剤の乾燥温度を調節することにより膜厚を制御できるため、スピンコート法が望ましい。
また、基板表面の平面性の改善、接着力の向上、記録層の変質防止等の目的で、記録層が設けられる側の基体表面に下塗層を設けてもよい。
この場合の下塗層は、例えば前述した下塗層用物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調整したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
【0045】
<光反射層形成工程>
次に記録層上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設ける。即ち、前述した光反射性物質を、例えば蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングにより、光反射層を記録層の上に形成する。
<保護層形成工程>
次に光反射層上に保護層を設ける。即ち、前述した無機物質や種々の樹脂からなる保護層用材料を、真空成膜又は塗布成膜することにより形成する。
特にUV硬化性樹脂を用いることが好ましく、該樹脂をスピンコートした後、紫外線照射により硬化して形成する。
【0046】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【0047】
実施例1
直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート製円板の表面上に、深さ約1550Å、溝幅0.24μm、トラックピッチ0.74μmの案内溝凸凹パターンを有する基板を用意し、下記の色素化合物(α)、(β)を混合して2,2,3,3−テトラフルオルプロパノールに溶解した塗布液をスピンコートすることにより、膜厚約1000Åの記録層(光吸収層)を設けた。
<色素化合物(α)>
・一般式(I)中、Zが3,6−フェノキシトリアゾール、Aが2−トリフルオルメチルフェニル、Bがフェニル、n=2の構造のホルマザンNiキレート化合物(1)、及び、
・一般式(III)中、Q3及びQ4が、それぞれピロール環と共にベンゾインドレニン環を形成し、R3がH、R4、R5がCH3、X−がClO4 −であるトリメチンシアニン色素(2)
<色素化合物(β)>
・一般式(VI)中、Q3及びQ4が、それぞれピロール環と共にベンゾインドレニン環を形成し、R3がH、R4、R5がCH3、X−がClO4 −であるペンタメチンシアニン色素(11)
なお、色素化合物(1)(2)(11)の混合比は、モル比で49:49:2とした。
色素化合物(1)(2)(11)の特性は後掲の表1に示す通りである。
【0048】
次に、記録層の上に、Arをスパッタガスとして用いてスパッタ法により膜厚約1400ÅのAgの反射層を設けた。
更にその上に、紫外線硬化樹脂からなる膜厚約4μmの保護層を設けてディスク体を作成し、該ディスク体2枚をホットメルト接着剤で貼り合せて、本発明のDVD+R光記録媒体を得た。
この媒体のミラー反射部における波長645〜670nmの光吸収率、光反射率を分光光度計にて測定したところ、後掲の表2に示す結果が得られた。
また、図5に、波長と光吸収率の関係を示す。
更に、この媒体に対し、波長655nmと670nm、NA0.65、線速度3.49m/sの条件でDVD(8−16)信号を記録したところ、何れの波長においても、記録レーザーパワー10mW以下の良好な記録感度が得られた。
【0049】
実施例2
実施例1における色素化合物(α)を、一般式(II)中、M1がCu、R1が−O−C(CF3)2−C5H6、R2がHであるテトラアザポルフィラジン色素(3)に、同じく色素化合物(β)を、一般式(V)中、M2がVO、R11が−O−C(CF3)2−C5H6の色素化合物(12)に代え、色素化合物(3)と(12)の混合比をモル比で90:10とし、更に、テトラヒドロフラン、2−エトキシエタノール、エチルシクロヘキサンの混合溶媒に溶解してスピンコートした点以外は、実施例1と同様にして本発明のDVD+R光記録媒体を作成し、記録特性の評価を行った。
結果は後掲の表2の通りであり、良好な感度特性が得られた。
【0050】
実施例3
実施例1における色素化合物(11)に代えて、一般式(V)中、M2がSi(OCOC4H9)2、R11が−CH2−CF2−CF2−CF3の色素化合物(13)を用い、色素化合物(1)(2)(13)の混合比をモル比で46:46:8とした点以外は、実施例1と同様にして本発明のDVD+R光記録媒体を作成し、記録特性の評価を行った。
結果は後掲の表2の通りであり、良好な感度特性が得られた。
【0051】
実施例4
実施例1における基板溝形状を、深さ:1350Å、1450Å、1550Å、1650Å、幅:0.19μm、0.21μm、0.24μm、0.28μm、0.31μmに変えた点以外は、実施例1と全く同様にして光記録媒体を作成し、実施例1と同様にして評価を行った。
結果は、図6及び表3に示す通りであり、溝深さ1450Å、1550Å、1650Åでは、DVD規格(9%以下)を満足する良好なジッター値が得られたが、1350Åでは、ジッター規格を満足できなかった。
また、溝幅0.21μm、0.24μm、0.28μm、0.31μmでは、DVD規格(9%以下)を満足する良好なジッター値が得られたが、0.19μmでは、ジッター規格を満足できなかった。
【0052】
比較例1
実施例1における色素化合物(β)を省略した点、即ち、色素化合物(α)のホルマザンNiキレート化合物(1)とトリメチンシアニン色素(2)のみで記録層を形成した点以外は、実施例1と同様にして比較用のDVD+R光記録媒体を作成し評価した。
結果は後掲の表2に示す通りであり、光吸収率が655nmと670nmで変化するために、670nmにおいて記録に必要なレーザーパワー規格値15mW以下を満足できなかった。
また、図5に、波長と光吸収率の関係を示す。
【0053】
比較例2
実施例2における色素化合物(β)として、一般式(V)中、M2がZn、R11が2,4,6−トリメチルフェニルチオの色素化合物(14)を用い、色素化合物(3)と(14)の混合比をモル比で95:5とした点以外は、実施例1と同様にして比較用DVD+R光記録媒体を作成し、記録特性の評価を行った。結果は後掲の表2に示す通りであり、655nmにおける記録感度がレーザーパワー規格値15mWを満足できなかった。
【0054】
比較例3
実施例3における色素化合物(1)(2)(13)の混合比を、モル比で39:39:22とした点以外は、実施例1と同様にして比較用DVD+R光記録媒体を作成し、記録特性の評価を行った。
結果は後掲の表2に示す通りであり、光反射率が規格値である45%を満足できなかった。
【0055】
【表1】
【0056】
【表2】
【0057】
【表3】
【0058】
【発明の効果】
本発明1によれば、DVDドライブにて良好な記録感度が得られる光記録媒体を提供できる。
本発明2〜3によれば、本発明1の光吸収特性を容易に得ることが可能な光記録媒体を提供できる。
本発明4によれば、容易に本発明3で規定する色素記録層を持った光記録媒体を提供できる。
本発明5によれば、容易に本発明1の光吸収、光反射特性を満足する光記録媒体を提供できる。
本発明6によれば、ジッターの少ない良好な記録感度の光記録媒体を提供できる。
本発明7によれば、耐久性に優れ、かつDVDドライブにて良好な記録感度が得られる光記録媒体を提供できる。
本発明8によれば、更に信号特性の優れた光記録媒体を提供できる。
本発明9によれば、更にトラック情報再生にも優れ、ROM互換性を得やすい光記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の色素系材料を用いた光記録媒体の光吸収スペクトルを示す図。
【図2】DVD+R又はDVD−R媒体の層構成例を示す図。
【図3】基板1の表面に形成された案内溝を示す図。
【図4】本発明の光記録媒体の溝幅を説明するための図。
【図5】実施例1及び比較例1の光記録媒体の波長と光吸収率の関係を示す図。
【図6】実施例4の溝幅とジッターの関係を示す図。
【符号の説明】
1 基板
2 色素記録層(光吸収層)
3 反射層
4 保護層
5 接着層
6 カバー基板
7 案内溝
Claims (9)
- 表面にグルーブ及び/又はピットが形成された基板上に、少なくとも色素記録層と反射層を順次積層した光記録媒体において、真空中での波長λが645〜670nmの範囲の光に対して、光吸収率Lを10〜40%、光吸収率の波長特性L(λ)における最大値と最小値の比率を1.0〜2.0、光反射率を45〜85%としたことを特徴とする光記録媒体。
- 色素記録層が、光吸収率の波長特性の傾きdL/dλが互いに異なる2種以上の色素の混合物を含有することを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
- 色素記録層が、光吸収率の波長特性の傾きdL/dλが互いに正負異なる2種以上の色素の混合物を含有することを特徴とする請求項2記載の光記録媒体。
- 色素記録層が、少なくとも下記(i)の特性を有する色素化合物(α)と、下記(ii)の特性を有する色素化合物(β)を含有することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光記録媒体。
(i)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が550nm以上650nm未満である。
(ii)色素膜の光吸収スペクトルの最大吸収波長が650nm以上750nm以下である。 - 色素化合物(β)と色素化合物(α)の比率(β)/(α)が、モル比で0.005〜0.2であることを特徴とする請求項4記載の光記録媒体。
- 色素化合物(α)と色素化合物(β)の熱分解温度が共に400℃以下であり、かつ(α)と(β)の熱分解温度の差が100℃以下であることを特徴とする請求項4又は5記載の光記録媒体。
- 色素化合物(α)が下記一般式(I)で表されるホルマザンキレート化合物であることを特徴とする請求項4〜6の何れかに記載の光記録媒体。
- グルーブのトラックピッチが0.73〜0.75μm、かつ、溝深さが1450〜1650Å、溝幅が0.21〜0.31μmであることを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の光記録媒体。
- グルーブを略一定周波数で蛇行状にウォブリングさせることによりトラック情報が記録されていることを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載の光記録媒体。
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